JPH0252A - 高コントラストな画像形成方法 - Google Patents
高コントラストな画像形成方法Info
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- 125000005147 toluenesulfonyl group Chemical group C=1(C(=CC=CC1)S(=O)(=O)*)C 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/29—Development processes or agents therefor
- G03C5/30—Developers
- G03C5/3014—Hydrazine; Hydroxylamine; Urea; Derivatives thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は画像形成方法に関し、特に高コントラスト写真
画像を高感度で迅速に、かつ安定して与える銀画像形成
方法に関する。
画像を高感度で迅速に、かつ安定して与える銀画像形成
方法に関する。
一般に、写真製版工程では文字や網分解された写真像ま
た超精密写真製版工程では微細線画像の形成にコントラ
ストの高い写真画像が用いられている。このための成る
種のハロゲン化銀写真感光材料では、極めてコントラス
トの高い写真画像が形成できることが知られている。
た超精密写真製版工程では微細線画像の形成にコントラ
ストの高い写真画像が用いられている。このための成る
種のハロゲン化銀写真感光材料では、極めてコントラス
トの高い写真画像が形成できることが知られている。
従来、例えば平均粒子径が0.2μmで粒子分布が狭く
粒子の形も揃っていて、かつ塩化銀の含有率の高い(少
なくとも50モル%以上)塩臭化銀乳剤よりなる感光材
料を亜硫酸イオン濃度が低いアルカリ性ハイドロキノン
現像液で処理することにより高いコントラスト、高鮮鋭
度、高解像力の画像、例えば、網点画像あるいは微細線
画像を得る方法が行なわれている。
粒子の形も揃っていて、かつ塩化銀の含有率の高い(少
なくとも50モル%以上)塩臭化銀乳剤よりなる感光材
料を亜硫酸イオン濃度が低いアルカリ性ハイドロキノン
現像液で処理することにより高いコントラスト、高鮮鋭
度、高解像力の画像、例えば、網点画像あるいは微細線
画像を得る方法が行なわれている。
この種のハロゲン化銀感光材料はリス型感光材料として
知られている。
知られている。
写真製版過程には連続階調の原稿を網点画像に変換する
工程、すなわち原稿の連続階調の濃度変化を、該濃度に
比例する面積を有する網点の集合に変換する過程が含ま
れている。
工程、すなわち原稿の連続階調の濃度変化を、該濃度に
比例する面積を有する網点の集合に変換する過程が含ま
れている。
このために上記リス型感光材料を使用して、交線スクリ
ーン又はコンタクトスクリーンを介して原稿の撮影を行
ない、ついで現像処理を行なうことによって、網点像を
形成させるのである。
ーン又はコンタクトスクリーンを介して原稿の撮影を行
ない、ついで現像処理を行なうことによって、網点像を
形成させるのである。
このために、微粒子でかつ粒子サイズおよび粒子の形の
そろったハロゲン化銀乳剤を含有するハロゲン化銀写真
感光材料が用いられるが、この種のハロゲン化銀感光材
料を用いた場合でも、一般白黒用現像液で処理した場合
には、網点像形成等においてリス型現像液で現像した場
合より劣る。
そろったハロゲン化銀乳剤を含有するハロゲン化銀写真
感光材料が用いられるが、この種のハロゲン化銀感光材
料を用いた場合でも、一般白黒用現像液で処理した場合
には、網点像形成等においてリス型現像液で現像した場
合より劣る。
そのため、亜硫酸イオン濃度が極めて低く、現像主薬と
してハイドロキノン単薬であるリス型現像液と呼ばれる
現像液で処理される。しかしながら、リス型現像液は自
動酸化を受けやすいことから保恒性が極めて悪いため、
連続使用の際においても、現像品質を一定に保つ制御方
法が極力求められており、この現像液の保恒性を改良す
るために多大の努力がなされて来ている。
してハイドロキノン単薬であるリス型現像液と呼ばれる
現像液で処理される。しかしながら、リス型現像液は自
動酸化を受けやすいことから保恒性が極めて悪いため、
連続使用の際においても、現像品質を一定に保つ制御方
法が極力求められており、この現像液の保恒性を改良す
るために多大の努力がなされて来ている。
その改良する方法として、上記リスを現像液の保恒性を
維持するために現像処理による活性度の劣化分を補償す
る補充液(処理疲労補充)と経時による酸化劣化分を補
償する補充液(経時疲労補充)とを別々の補充液を使用
して補充する、いわゆる2液分離補充方式が、写真製版
用自動現像機等で一般的に広く採用されている。しかし
ながら、上記方法は2液の補充バランスのコントロール
を制御する必要があり、装置の点および操作の点で複雑
化するという欠点を有している。
維持するために現像処理による活性度の劣化分を補償す
る補充液(処理疲労補充)と経時による酸化劣化分を補
償する補充液(経時疲労補充)とを別々の補充液を使用
して補充する、いわゆる2液分離補充方式が、写真製版
用自動現像機等で一般的に広く採用されている。しかし
ながら、上記方法は2液の補充バランスのコントロール
を制御する必要があり、装置の点および操作の点で複雑
化するという欠点を有している。
また、リス型現像は現像によって画像が現われる迄の時
間(誘導期)が長いため、迅速に画像を得ることが出来
ない。
間(誘導期)が長いため、迅速に画像を得ることが出来
ない。
一方、上記のリス型現像液を使わずに迅速に、かつ高コ
ントラストの画像を得る方法が知られている。例えば米
国特許第2.419.975号、特開昭51−1662
3号及び特開昭51−20921号等に見られるように
、ハロゲン化銀感光材料中にヒドラジン化合物を含有せ
しめるものである。これらの方法によれば、現像液中に
亜硫酸イオン濃度を高く保つことができ、保恒性を高め
た状態で処理することが出来る。しかしながら、これら
の方法はいづれも硬調な画像を得るにはかなり高い現像
液のpHが必要であり、迅速にかつ高感度で画像を得る
技術としては現像液の安定性に問題がある。また、現像
液のpHが高いためカブリが発生し易く、このカブリを
抑えるために種々の有機抑制剤を高濃度に含有させる結
果感度が犠牲になるという欠点がある。
ントラストの画像を得る方法が知られている。例えば米
国特許第2.419.975号、特開昭51−1662
3号及び特開昭51−20921号等に見られるように
、ハロゲン化銀感光材料中にヒドラジン化合物を含有せ
しめるものである。これらの方法によれば、現像液中に
亜硫酸イオン濃度を高く保つことができ、保恒性を高め
た状態で処理することが出来る。しかしながら、これら
の方法はいづれも硬調な画像を得るにはかなり高い現像
液のpHが必要であり、迅速にかつ高感度で画像を得る
技術としては現像液の安定性に問題がある。また、現像
液のpHが高いためカブリが発生し易く、このカブリを
抑えるために種々の有機抑制剤を高濃度に含有させる結
果感度が犠牲になるという欠点がある。
そこで本発明の第1の目的は、硬調な画像を迅速に安定
して得られる画像形成方法を提供することである。
して得られる画像形成方法を提供することである。
本発明の第2の目的は、硬調な画像を感度損失が少なく
高感度で安定して得られる画像形成を提供することであ
る。
高感度で安定して得られる画像形成を提供することであ
る。
本発明の第3の目的は、硬調でカブリの少ない画像を与
える画像形成方法を提供することである。
える画像形成方法を提供することである。
本発明の第4の目的は、硬調で良好な網点品質を与える
画像形成方法を提供することである。
画像形成方法を提供することである。
本発明のその他の目的は本明細書の以下の記述によって
明らかになるであろう。
明らかになるであろう。
本発明の上記目的は、3−ピラゾリドン化合物及び/又
はジもしくはトリヒドロキシベンゼン系化合物を含有す
る少なくとも1層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する
感光材料を下記一般式[11、[2]、[3]で表わさ
れるヒドラジド化合物の少なくとも1種の存在下で、下
記(イ)、(ロ)及び(ハ)の成分を含有する現像液で
処理することを特徴とする画像形成方法により達成され
る。
はジもしくはトリヒドロキシベンゼン系化合物を含有す
る少なくとも1層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する
感光材料を下記一般式[11、[2]、[3]で表わさ
れるヒドラジド化合物の少なくとも1種の存在下で、下
記(イ)、(ロ)及び(ハ)の成分を含有する現像液で
処理することを特徴とする画像形成方法により達成され
る。
(イ)ジまたはトリヒドロキシベンゼン系化合物(ロ)
亜硫酸塩 (ハ)アミノ化合物 一般式[N (式中、R1及びR2はアリール基またはへテロ環基を
表し、Rは有機結合基を表し、nは0〜6、mは0また
はlを表し、nが2以上のときは、各Rは同じであって
も、異なっていてもよい。)一般式[2] (式中、R21は脂肪族基、芳香族基またはへテロ環基
を、Roは水素原子、置換してもよいアルコキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリールオキシ基
を表し、ol及びR2は水素原子、アシル基、またはス
ルフィン酸基を表す。)一般式[3] %式% (式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、R31は置換
アルキル基を表す。) 以下本発明の具体的構成について、更に詳細に説明する
。
亜硫酸塩 (ハ)アミノ化合物 一般式[N (式中、R1及びR2はアリール基またはへテロ環基を
表し、Rは有機結合基を表し、nは0〜6、mは0また
はlを表し、nが2以上のときは、各Rは同じであって
も、異なっていてもよい。)一般式[2] (式中、R21は脂肪族基、芳香族基またはへテロ環基
を、Roは水素原子、置換してもよいアルコキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリールオキシ基
を表し、ol及びR2は水素原子、アシル基、またはス
ルフィン酸基を表す。)一般式[3] %式% (式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、R31は置換
アルキル基を表す。) 以下本発明の具体的構成について、更に詳細に説明する
。
以下余白
以下一般式[1] 、[2] 、[3]について具体的
に説明する。
に説明する。
一般式[1]
式中、Ro及びR8はアリール基またはへテロ環基を表
わし、Rは2価の有機基を表わし、nはO〜6、■は0
またはlを表わす。
わし、Rは2価の有機基を表わし、nはO〜6、■は0
またはlを表わす。
ここで、R1及びR2で表わされるアリール基としては
フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、チ
エニル基等が挙げられるが、R1及びR8として好まし
くはアリール基である。
フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、チ
エニル基等が挙げられるが、R1及びR8として好まし
くはアリール基である。
R3及びR3で表わされるアリール基またはへテロ環基
には種々の置換基が導入できる。置換基としては例えば
ハロゲン原子(例えば塩素、フッ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばメトキシ、エトキシ、インプロポキシ、ブト
キシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど)、アシル
アミノ基 (例えばアセチルアミノ、ピバリルアミノ、
ベンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、a−<2
.4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノなど
)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルア
ミノ、ブタンスルホニルアミノ ホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなど)、ウレ
ア基(例えば、フェニルウレア、エチルウレアなど)、
チオウレア基(例えば、フェニルチオウレア、エチルチ
オウレアなど)、ヒドロキシ基、アミン基、アルキルア
ミノ基(例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノなど)
、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基(例えば、エ
トキシカルボニル)、カルバモイル基、スルホ基などが
挙げられる。Rで表わされる2価の有機基としては、例
えばアルキレン基(例えば、メチレン、エチレン、トリ
メチレン、テトラメチレンなど)、アリーレン基(N,
tば、フェニレン、ナフチレンナト)、アラルキレン基
等が挙げられるがアルキレン基は結合中にオキシ基、チ
オ基、セレノ基、カルボニアリール基を表わす)、スル
ホニル基等を含んでも良い。Rで表わされる基には種々
の置換基が導入できる。
には種々の置換基が導入できる。置換基としては例えば
ハロゲン原子(例えば塩素、フッ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばメトキシ、エトキシ、インプロポキシ、ブト
キシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど)、アシル
アミノ基 (例えばアセチルアミノ、ピバリルアミノ、
ベンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、a−<2
.4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノなど
)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルア
ミノ、ブタンスルホニルアミノ ホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなど)、ウレ
ア基(例えば、フェニルウレア、エチルウレアなど)、
チオウレア基(例えば、フェニルチオウレア、エチルチ
オウレアなど)、ヒドロキシ基、アミン基、アルキルア
ミノ基(例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノなど)
、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基(例えば、エ
トキシカルボニル)、カルバモイル基、スルホ基などが
挙げられる。Rで表わされる2価の有機基としては、例
えばアルキレン基(例えば、メチレン、エチレン、トリ
メチレン、テトラメチレンなど)、アリーレン基(N,
tば、フェニレン、ナフチレンナト)、アラルキレン基
等が挙げられるがアルキレン基は結合中にオキシ基、チ
オ基、セレノ基、カルボニアリール基を表わす)、スル
ホニル基等を含んでも良い。Rで表わされる基には種々
の置換基が導入できる。
置換基としては例えば、−C0N11NllR4(R、
は上述したR8及びR3と同じ意味を表わす)、アルキ
ル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カ
ルボキシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられる。
は上述したR8及びR3と同じ意味を表わす)、アルキ
ル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カ
ルボキシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられる。
Rとして好ましくはアルキレン基である。
一般式[11で表わされる化合物のうち好ましくはR1
及びR2が置換または未置換のフェニル基であり、n=
m=1″′cRがアルキレン基を表わす化合物である。
及びR2が置換または未置換のフェニル基であり、n=
m=1″′cRがアルキレン基を表わす化合物である。
上記一般式[11で表される代表的な化合物を以下に示
す。
す。
以下余白
具体的化合物
tc.11.+
■
=17
OC12112@ n
■
■
l
tc、11.。
tに、11目
=54
tC,t+、。
■
次に一般式[21について説明する
R21で表わされる脂肪族基は、好ましくは、炭素数6
以上のものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐
まI;は環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル
基はその中に1つまたはそれ以上のヘテII原子を含ん
だ飽和のへテロ環を形成するように環化されてもよい。
以上のものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐
まI;は環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル
基はその中に1つまたはそれ以上のヘテII原子を含ん
だ飽和のへテロ環を形成するように環化されてもよい。
またこのアルキル基はアリール基アルコキシ基、スルホ
キシ基、等の置換基を有してもよい。
キシ基、等の置換基を有してもよい。
lRz+で表される芳香族基は単環または2環アリール
基または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ
環基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロア
リール基を形成してもよい。
基または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ
環基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロア
リール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピロラゾール環、キノリン環
、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピロラゾール環、キノリン環
、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。
Rflとして特に好ましいものはアリール基である。
R21のアリール基まl;は不飽和へテロ環基は置換さ
れていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素
数が1〜20の単環または2環のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミ7基(
好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたア
ミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30
を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数l
〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1
〜30を持つもの)などがある。
れていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素
数が1〜20の単環または2環のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミ7基(
好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたア
ミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30
を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数l
〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1
〜30を持つもの)などがある。
一般式[2]のR11で表される基のうち置換されても
よいアルコキシ基としては炭素数1〜20のものであっ
て、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていても
よい。
よいアルコキシ基としては炭素数1〜20のものであっ
て、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていても
よい。
一般式[2]においてRoで表される基のうち置換され
てもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基とし
ては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロゲ
ン原子アルキル基、アルコキ’i%、シアン基などがあ
る R2□で表される基のうちで好ましいものは、置換され
てもよいアルコキシ基またはアミン基である。
てもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基とし
ては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロゲ
ン原子アルキル基、アルコキ’i%、シアン基などがあ
る R2□で表される基のうちで好ましいものは、置換され
てもよいアルコキシ基またはアミン基である。
A、置換されてもよいアルキル基、アルコシ基または一
〇−−S−−N−基結合を含む環状構造であってもよい
。但しR1がヒドラジノ基であることはない。
〇−−S−−N−基結合を含む環状構造であってもよい
。但しR1がヒドラジノ基であることはない。
一般式〔21のRflまたはR22はその中にカプラー
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基が組み込まれているものでもよい。
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基が組み込まれているものでもよい。
バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、7ニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、7ニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
一般式[2]のR21またはRoはその中にハロゲン化
銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複
素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール
基などの米国特許第4.355゜105号に記載された
基があげられる。一般式[21で表される化合物のうち
下記一般式[2−alで表される化合物は特に好ましい
。
銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複
素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール
基などの米国特許第4.355゜105号に記載された
基があげられる。一般式[21で表される化合物のうち
下記一般式[2−alで表される化合物は特に好ましい
。
一般式[2−al
上記一般式[2−al中、
R13およびR24は水素原子、置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、2シアノエチル基、
2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基、
ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジ
ル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフ
チル基、α−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル基
、p−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プロ
ピル−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−2
−ピロリジル基)を表し、 R2,は水素原子または置換されてもよいベンジル基、
アルコキシ基及びアルキル基(例えばベンジル基、p−
メチルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エチル基
、ブチル基)を表し、R2・及びR27は2価の芳香族
基(例えばフェニレン基またはナフチレン基)を表し、
Yはイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合
基(例えば−5O2CIIzCIlaNII 502
Nll、 0CII、SO*NIl、−0−CIl−
N−)を表し、 RZaは−NR’R“または−0R2,を表し、R’、
R“及びRZSは水素原子、置換されてもよいアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、ドデシル基)、フェニ
ル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、p−
メトキシフェニル基)またはナフチル基(例えばα−す
7チル基、β−ナフチル基)を表し、 m、nは0または を表す。
キル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、2シアノエチル基、
2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基、
ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジ
ル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフ
チル基、α−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル基
、p−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プロ
ピル−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−2
−ピロリジル基)を表し、 R2,は水素原子または置換されてもよいベンジル基、
アルコキシ基及びアルキル基(例えばベンジル基、p−
メチルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エチル基
、ブチル基)を表し、R2・及びR27は2価の芳香族
基(例えばフェニレン基またはナフチレン基)を表し、
Yはイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合
基(例えば−5O2CIIzCIlaNII 502
Nll、 0CII、SO*NIl、−0−CIl−
N−)を表し、 RZaは−NR’R“または−0R2,を表し、R’、
R“及びRZSは水素原子、置換されてもよいアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、ドデシル基)、フェニ
ル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、p−
メトキシフェニル基)またはナフチル基(例えばα−す
7チル基、β−ナフチル基)を表し、 m、nは0または を表す。
R2,がOR,、を
一般式[2]の具体例
表すときYはイオウ原子を表すのが好ましい。
■
上記一般式[2]及び[2
alで表される代表的な
以1゛下余白
C=0
CF。
■
※→開11CCOCII2CIl□5OzCIliCI
IzOIIfi−N11N11L;L;υじ112Ul
鳳3)UII!L;l12Ut1■ ※ 巽 NIINIICCNIIC+ 2+l□次に、上記具体
的化合物のうち化合物2−45゜2−47を例にとって
、その合成法を示す。
IzOIIfi−N11N11L;L;υじ112Ul
鳳3)UII!L;l12Ut1■ ※ 巽 NIINIICCNIIC+ 2+l□次に、上記具体
的化合物のうち化合物2−45゜2−47を例にとって
、その合成法を示す。
化合物2−45の合成
合成スキーム
(B)
(E)
(A)
化合物4−ニトロフェニルヒドラジン1539と500
mQのジエチルオキザレートを混合し、1時間還流する
。反応を進めながらエタノールを除去していき、最後に
冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテルで数回洗
浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)のうち50
9を100011IQのメタノールで加温溶解し、pd
/C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psiのか加圧
したH2雰囲気で還元し、化合物(B)を得る。
mQのジエチルオキザレートを混合し、1時間還流する
。反応を進めながらエタノールを除去していき、最後に
冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテルで数回洗
浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)のうち50
9を100011IQのメタノールで加温溶解し、pd
/C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psiのか加圧
したH2雰囲気で還元し、化合物(B)を得る。
この化合物(B)22gをアセトニトリル200m+2
とピリジン169の溶液に溶かし室温で化合物(C)2
4gのアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別後
、濾液を濃縮し再結晶精製して化合物CD )319を
得た。
とピリジン169の溶液に溶かし室温で化合物(C)2
4gのアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別後
、濾液を濃縮し再結晶精製して化合物CD )319を
得た。
化合物(D)30gを上記と同様に水添をして化合物(
E)20gを得た。
E)20gを得た。
化合物(E)109をアセトニトリル100+oQに溶
解しエチルインチオシアネート3.Oyを加え、1時間
還流した。溶媒を留去後再結晶精製して化合物(F)7
.0gを得た。化合物CF )5.0gをメタノール5
0mαに溶解してメチルアミン(40%水溶液8m(2
)を加え攪拌した。メタノールを若干濃縮後、析出した
固体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を得た。
解しエチルインチオシアネート3.Oyを加え、1時間
還流した。溶媒を留去後再結晶精製して化合物(F)7
.0gを得た。化合物CF )5.0gをメタノール5
0mαに溶解してメチルアミン(40%水溶液8m(2
)を加え攪拌した。メタノールを若干濃縮後、析出した
固体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を得た。
化合物2−47の合成
合成スキーム
(C)
(D)
(E)
化合物2−47
化合物(B)22gをピリジン200m12に溶解し攪
拌すル中へ、p−ニトロベンゼンスルホニルクロライド
22gを加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固体
をとり出し化合物(C)を得た。この化合物(C)を合
成スキームに従って化合物2−45と同様の反応により
化合物2−47を得た。
拌すル中へ、p−ニトロベンゼンスルホニルクロライド
22gを加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固体
をとり出し化合物(C)を得た。この化合物(C)を合
成スキームに従って化合物2−45と同様の反応により
化合物2−47を得た。
次に一般式[31について説明する。
一般式[31。
菖
Ar NHNil CR31
一般式[3]中、Arは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着
促進基を少なくとも1つを含むアリール基を表わすが、
耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤にお
いて常用されているバラスト基が好ましい。バラスト基
は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性
な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニ
ル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフ
ェノキシ基などの中から選ぶことができる。
促進基を少なくとも1つを含むアリール基を表わすが、
耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤にお
いて常用されているバラスト基が好ましい。バラスト基
は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性
な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニ
ル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフ
ェノキシ基などの中から選ぶことができる。
ハロゲン化銀吸着促進基としてはチオ尿素基、チオウレ
タン基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許第4゜385.108号に
記載された基が挙げられる。
タン基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許第4゜385.108号に
記載された基が挙げられる。
R3,は置換アルキル基を表わすが、アルキル基として
は、直鎖、分岐、環状のアルキル基を表わし、例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、ペン
チル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。
は、直鎖、分岐、環状のアルキル基を表わし、例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、ペン
チル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。
これらのアルキル基へ導入される置換基としては、アル
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリールオキ
シ(例えばフェノキシ、p−クロルフェノキシ等)、ペ
テロ環オキシ(例えばピリジルオキシ等)、メルカプト
、アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ等)、アリー
ルチオ(例えばフェニルチオ、p−クロルフェニルチオ
等)、ヘテロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ピリミジ
ルチオ、チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル
(例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、ア
リールスルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ヘ
テロ環スルホニル(例えばピリジルスルホニル、モルホ
リノスルボニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾ
イル等)、シアノ、クロル、臭素、アルコキシカルボニ
ル トキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル(例
えばフェノキシカルボニル等)、カルボキシ、カルバモ
イル、アルキルカルバモイル( 例,t tf.、N−
メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル等
)、アリールカルバモイル(例えば、N−7二二ルカル
バモイル等)、アミノ、アルキルアミノ(例えば、メチ
ルアミノ、N,N−ジメチルアミノ等)、アリールアミ
ノ(例えば、フェニルアミノ、ナフチルアミノ等)、ア
シルアミノ(例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ
等)、アルコキシカルボニルアミノ(例えば、エトキシ
カルボニルアミノ等)、アリールオキシカルボニルアミ
ノ(例えば、フェノキシカルボニルアミノ等)、アシル
オキシ(例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等
)、アルキルアミノカルボニルオキシ アミ7カルポニルオキシ等)、アリールアミノカルボニ
ルオキシ(例えば、フェニルアミノカルボニルオキシ等
)、スルホ、スルファモイル、アルキルスルファモイル
(例えば、メチルスルファモイル等)、アリールスルフ
ァモイル(例えハ、フェニルスルファモイル等)等の多
基が挙げられる。
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリールオキ
シ(例えばフェノキシ、p−クロルフェノキシ等)、ペ
テロ環オキシ(例えばピリジルオキシ等)、メルカプト
、アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ等)、アリー
ルチオ(例えばフェニルチオ、p−クロルフェニルチオ
等)、ヘテロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ピリミジ
ルチオ、チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル
(例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、ア
リールスルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ヘ
テロ環スルホニル(例えばピリジルスルホニル、モルホ
リノスルボニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾ
イル等)、シアノ、クロル、臭素、アルコキシカルボニ
ル トキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル(例
えばフェノキシカルボニル等)、カルボキシ、カルバモ
イル、アルキルカルバモイル( 例,t tf.、N−
メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル等
)、アリールカルバモイル(例えば、N−7二二ルカル
バモイル等)、アミノ、アルキルアミノ(例えば、メチ
ルアミノ、N,N−ジメチルアミノ等)、アリールアミ
ノ(例えば、フェニルアミノ、ナフチルアミノ等)、ア
シルアミノ(例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ
等)、アルコキシカルボニルアミノ(例えば、エトキシ
カルボニルアミノ等)、アリールオキシカルボニルアミ
ノ(例えば、フェノキシカルボニルアミノ等)、アシル
オキシ(例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等
)、アルキルアミノカルボニルオキシ アミ7カルポニルオキシ等)、アリールアミノカルボニ
ルオキシ(例えば、フェニルアミノカルボニルオキシ等
)、スルホ、スルファモイル、アルキルスルファモイル
(例えば、メチルスルファモイル等)、アリールスルフ
ァモイル(例えハ、フェニルスルファモイル等)等の多
基が挙げられる。
ヒドラジンの水素原子はスルホニル基(例えばメタンス
ルホニル、トルエンスルホニル等)、アシル基(例えば
、アセチル、トリフルオロアセチル等)、オキザリル基
(例えば、エトキザリル等)等)等の置換基で置換され
ていてもよい。
ルホニル、トルエンスルホニル等)、アシル基(例えば
、アセチル、トリフルオロアセチル等)、オキザリル基
(例えば、エトキザリル等)等)等の置換基で置換され
ていてもよい。
上記一般式[3]で表される代表的な化合物としては、
以下に示すものがある。
以下に示すものがある。
す
G
※−NIINIICCIIzOCII2CIhOC1l
zCIlxOI1次に化合物3− 5の合成例について述べる。
zCIlxOI1次に化合物3− 5の合成例について述べる。
化合物3−
5の合成
合成スキーム
化合物2−45の合成法に準じて化合物3を
得た。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含まれる一般式[
1]、[2]、[3]の化合物の量は、本発明のハロゲ
ン化銀写真感光材料中に含有されるノ10ゲン化銀1モ
ル当り、5 X 10−’ないし5 X 10−’モル
までが好ましく、更に好ましくは5 X 10−’ない
しl X 10−”モルの範囲である。
1]、[2]、[3]の化合物の量は、本発明のハロゲ
ン化銀写真感光材料中に含有されるノ10ゲン化銀1モ
ル当り、5 X 10−’ないし5 X 10−’モル
までが好ましく、更に好ましくは5 X 10−’ない
しl X 10−”モルの範囲である。
以1下余白
本発明の方法において、ヒドラジド化合物は感光材料及
び/又は現像液に含有させればよい。感光材料に含有さ
せる場合は3−ピラゾリドン化合物及びジまたはトリヒ
ドロキシベンゼン系化合物を含有する感光性ハロゲン化
銀乳剤層及び/又は少なくとも現像時までに該乳剤層へ
拡散して移動しうる支持体上の他の塗設層の少なくとも
1層に含有させればよい。感光材料に含有させる場合、
ヒドラジド化合物の量はハロゲン化銀1モル当りlo−
6〜1O−1モルの範囲が適当であり、好ましくはハロ
ゲン化銀1モル当り10−’〜10−’モルの範囲であ
る。その適量はハロゲン化銀の組成、粒径、化学熟成度
、バインダーである親水性コロイドの量、安定剤、抑制
剤、促進剤等の添加剤とのバランスを考慮して任意に決
めることができる。
び/又は現像液に含有させればよい。感光材料に含有さ
せる場合は3−ピラゾリドン化合物及びジまたはトリヒ
ドロキシベンゼン系化合物を含有する感光性ハロゲン化
銀乳剤層及び/又は少なくとも現像時までに該乳剤層へ
拡散して移動しうる支持体上の他の塗設層の少なくとも
1層に含有させればよい。感光材料に含有させる場合、
ヒドラジド化合物の量はハロゲン化銀1モル当りlo−
6〜1O−1モルの範囲が適当であり、好ましくはハロ
ゲン化銀1モル当り10−’〜10−’モルの範囲であ
る。その適量はハロゲン化銀の組成、粒径、化学熟成度
、バインダーである親水性コロイドの量、安定剤、抑制
剤、促進剤等の添加剤とのバランスを考慮して任意に決
めることができる。
ヒドラジド化合物を現像液へ含有させる場合、その添加
量は現像液lo当り10−’ −10−”モル、好まし
くは1O−4〜10−”モルであり、共存するアミノ化
合物、PHNカブリ抑制剤などのバランスのもとに適量
が決定される。
量は現像液lo当り10−’ −10−”モル、好まし
くは1O−4〜10−”モルであり、共存するアミノ化
合物、PHNカブリ抑制剤などのバランスのもとに適量
が決定される。
本発明の方法に用いられる感光材料に含まれる3−ピラ
ゾリドン化合物は次式により表わされる化合物である。
ゾリドン化合物は次式により表わされる化合物である。
R4+
式中%R41は置換されていてもよいアリール基を表わ
し、R4!、R、、及びR44は各々水素原子又は置換
されていてもよいアルキル基を表わす。RlIで表わさ
れるアリール基の置換基としては例えばメチル基、クロ
ロ基、アミノ基、メチルアミノ基、アセチルアミノ基、
メトキシ基及びメチルスルホンアミドエチル基のような
基が挙げられ、R41で表わされるアリール基としては
例えばフェニル基、p−アミノフェニル基、p−クロロ
フェニル基、p−アセトアミドフェニル基、p−メトキ
シフェニル基等が挙げられる。
し、R4!、R、、及びR44は各々水素原子又は置換
されていてもよいアルキル基を表わす。RlIで表わさ
れるアリール基の置換基としては例えばメチル基、クロ
ロ基、アミノ基、メチルアミノ基、アセチルアミノ基、
メトキシ基及びメチルスルホンアミドエチル基のような
基が挙げられ、R41で表わされるアリール基としては
例えばフェニル基、p−アミノフェニル基、p−クロロ
フェニル基、p−アセトアミドフェニル基、p−メトキ
シフェニル基等が挙げられる。
R42+R43及びR44で表わされるアルキル基は、
素数1〜8であり、その置換基としては例えIf’ヒド
ロキシ基、カルボキシ基、スルホ基等が挙げられ、例え
ばメチル基、ヒドロキシメチル基、エチル基、プロピル
基等が挙げられる。
素数1〜8であり、その置換基としては例えIf’ヒド
ロキシ基、カルボキシ基、スルホ基等が挙げられ、例え
ばメチル基、ヒドロキシメチル基、エチル基、プロピル
基等が挙げられる。
上記3−ピラゾリドン化合物の代表的な具体例を以下に
示す。
示す。
(A−1)
(A−2)
(A−33
(A−4)
(A−5)
(A−6)
l−フェニル−3−ピラゾリドン
l−7エニルー4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン
1−7二二ルー4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3
−ピラゾリドン 1−フェニル−4,4−ジ(ヒドロキシメチル)−3−
ピラゾリドン l−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン 1−7二二ルー4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン 〔A−7) t−p−アミノフェニル−4−メチル−4プロピル−3
−ピラゾリドン 直鎖、分岐、環状の何れでもよく、好ましくは炭(A−
8) t−p−クロロフェニル−4−メチル−4エチル−3−
ピラゾリドン (A−9) 1−p−アセトアミドフェニル−4,
4−ジエチル−3−ピラゾリドン (A −10) 1−p−メトキシフェニル−4,
4−ジエチル−3−ピラゾリドン 本化合物の感光材料中の存在位置は感光性ハロゲン化銀
乳剤層中が望ましいが保護膜層、中間層、下引層又は裏
引層など非乳剤層中にあっても構わない。本化合物の添
加は一般に有機溶剤で溶解して行なえばよく、添加量は
ハロゲン化銀1モル当り10−’〜10− ’モル加え
られるが、lo−4〜1O−2モルの範囲が最も良い結
果を示す。
−ピラゾリドン 1−フェニル−4,4−ジ(ヒドロキシメチル)−3−
ピラゾリドン l−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン 1−7二二ルー4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン 〔A−7) t−p−アミノフェニル−4−メチル−4プロピル−3
−ピラゾリドン 直鎖、分岐、環状の何れでもよく、好ましくは炭(A−
8) t−p−クロロフェニル−4−メチル−4エチル−3−
ピラゾリドン (A−9) 1−p−アセトアミドフェニル−4,
4−ジエチル−3−ピラゾリドン (A −10) 1−p−メトキシフェニル−4,
4−ジエチル−3−ピラゾリドン 本化合物の感光材料中の存在位置は感光性ハロゲン化銀
乳剤層中が望ましいが保護膜層、中間層、下引層又は裏
引層など非乳剤層中にあっても構わない。本化合物の添
加は一般に有機溶剤で溶解して行なえばよく、添加量は
ハロゲン化銀1モル当り10−’〜10− ’モル加え
られるが、lo−4〜1O−2モルの範囲が最も良い結
果を示す。
本発明の画像形成方法に用いられる感光材料及び現像液
に含まれるジまたはトリヒドロキシベンゼン化合物は次
式により表わされる化合物である。
に含まれるジまたはトリヒドロキシベンゼン化合物は次
式により表わされる化合物である。
H
上式において、Rs、、R,2及びR53は各々水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基(置換されたアルキル基
を含む)、アリール基(置換されたアリール基を含む)
、ヘテロ環基(置換されたヘテロ環基を含む)、−0−
R,4又は−3R54を表わす。Rは水素原子、アルキ
ル基(置換されたアルキル基を含む)、アリール基(置
換されたアリール基を含む)、又はヘテロ環基(置換さ
れたヘテロ環基を含む)を表わす。nは0又は1を表わ
す。
子、ハロゲン原子、アルキル基(置換されたアルキル基
を含む)、アリール基(置換されたアリール基を含む)
、ヘテロ環基(置換されたヘテロ環基を含む)、−0−
R,4又は−3R54を表わす。Rは水素原子、アルキ
ル基(置換されたアルキル基を含む)、アリール基(置
換されたアリール基を含む)、又はヘテロ環基(置換さ
れたヘテロ環基を含む)を表わす。nは0又は1を表わ
す。
上記ジまたはトリヒドロキシベンゼン系化合物の具体的
な主な化合物を下記に示す。
な主な化合物を下記に示す。
(B=1) ハイドロキノン
CB−2) クロロハイドロキノン
〔B−31ブロムハイドロキノン
CB −4,) メチルハイドロキノン(:B−5)
2.3−ジクロロハイドロキノンCB−6)
2.5−ジベンゾイルアミノハイドロキノン CB−7) 没食子酸ブチルエステルCB−8)
没食子酸エチルエステル本化合物の感光材料中の存在位
置は感光性ハロゲン化銀乳剤層中が望ましいが、保護膜
層、中間層、下引層又は裏引層など非乳剤層中であって
も構わない。本化合物の添加は一般に水又はメタノール
、エタノール等のアルコール類、ジエチレングリコール
、トリエチレングリコール等のグリコール類、アセトン
のようなケトン類等の有機溶剤で溶解して行なえばよく
、添加量はハロゲン化銀1モル当り0.001−0.1
0モル加えられるが、好ましくは0.005〜0.03
モルである。
2.3−ジクロロハイドロキノンCB−6)
2.5−ジベンゾイルアミノハイドロキノン CB−7) 没食子酸ブチルエステルCB−8)
没食子酸エチルエステル本化合物の感光材料中の存在位
置は感光性ハロゲン化銀乳剤層中が望ましいが、保護膜
層、中間層、下引層又は裏引層など非乳剤層中であって
も構わない。本化合物の添加は一般に水又はメタノール
、エタノール等のアルコール類、ジエチレングリコール
、トリエチレングリコール等のグリコール類、アセトン
のようなケトン類等の有機溶剤で溶解して行なえばよく
、添加量はハロゲン化銀1モル当り0.001−0.1
0モル加えられるが、好ましくは0.005〜0.03
モルである。
本発明の方法に用いられる現像液中に含まれるジヒドロ
キシベンゼン系化合物は写真処理に広く用いられている
現像主薬であるハイドロキノンが最も好ましく、その添
加量は通常0.05〜0.5モル/Qである。
キシベンゼン系化合物は写真処理に広く用いられている
現像主薬であるハイドロキノンが最も好ましく、その添
加量は通常0.05〜0.5モル/Qである。
本発明の方法に用いられる現像液中に含まれる亜硫酸塩
はハロゲン化銀写真感光材料の現像液に通常用いられる
ものを用いることができ、その具体的な例としては亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸アンモニウム17重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸
カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどが
挙げられる。その濃度は空気酸化から現像液を保護し、
かつそれによって安定した写真性能かえられるに充分な
亜硫酸イオン濃度が得られる濃度であればよく、添加量
としては0.05モル/Q以上が必要であるが好ましく
は0.15モル/Q以上である。
はハロゲン化銀写真感光材料の現像液に通常用いられる
ものを用いることができ、その具体的な例としては亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸アンモニウム17重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸
カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどが
挙げられる。その濃度は空気酸化から現像液を保護し、
かつそれによって安定した写真性能かえられるに充分な
亜硫酸イオン濃度が得られる濃度であればよく、添加量
としては0.05モル/Q以上が必要であるが好ましく
は0.15モル/Q以上である。
更に本発明の方法に用いられる現像液中に含まれるアミ
ノ化合物は硬調化を促進し特に現像液のpHが比較的低
いレベルでも効果を強く出すことを目的に使用される。
ノ化合物は硬調化を促進し特に現像液のpHが比較的低
いレベルでも効果を強く出すことを目的に使用される。
本発明に有用なアミノ化合物は無機アミン及び有機アミ
ンの両者を包含している。有機アミンは、脂肪族アミン
、芳香族アミン、環状アミン、脂肪族−芳香族混合アミ
ン又は複素環式アミンであることができる。第1.第2
及び第3アミンならびに第4アンモニウム化合物はすべ
て有効であるということが判明した。
ンの両者を包含している。有機アミンは、脂肪族アミン
、芳香族アミン、環状アミン、脂肪族−芳香族混合アミ
ン又は複素環式アミンであることができる。第1.第2
及び第3アミンならびに第4アンモニウム化合物はすべ
て有効であるということが判明した。
本発明の目的に関して特に好ましいアルカノールアミン
は、次式により表わされる。
は、次式により表わされる。
aX
上式において、
R6+は、2〜lO個の炭素原子を有するヒドロキシア
ルキル基であり、そして、 Ra2及びR1,は、それぞれ、水素原子、1−10個
の炭素原子を有するアルキル基、2〜IO個の炭素原子
を有するヒドロキシアルキル基、ベンジル基又は次式の
基: ■ であり、上式中のnは、1−10の整数であり、モして
X及びYは、それぞれ、水素原子、1−10個の炭素原
子を有するアルキル基又は2〜lO個の炭素原子を有す
るヒドロキシアルキル基である。
ルキル基であり、そして、 Ra2及びR1,は、それぞれ、水素原子、1−10個
の炭素原子を有するアルキル基、2〜IO個の炭素原子
を有するヒドロキシアルキル基、ベンジル基又は次式の
基: ■ であり、上式中のnは、1−10の整数であり、モして
X及びYは、それぞれ、水素原子、1−10個の炭素原
子を有するアルキル基又は2〜lO個の炭素原子を有す
るヒドロキシアルキル基である。
別の好ましい部類に属するアミノ化合物は、アルキルア
ミン、特に次式により表わされる。
ミン、特に次式により表わされる。
上式において、
R6,は、1〜10個の炭素原子を有するアルキル基で
あり、そして R,s及びRaaは、それぞれ、水素原子であるかもし
くは1−10個の炭素原子を有するアルキル基である。
あり、そして R,s及びRaaは、それぞれ、水素原子であるかもし
くは1−10個の炭素原子を有するアルキル基である。
本発明を実施するに当って使用することのできる多数の
アミノ化合物のなかでも特に代表的なものの例を列挙す
ると下記の通りである。
アミノ化合物のなかでも特に代表的なものの例を列挙す
ると下記の通りである。
(C−1) トリエタノールアミン(C−2)
ジェタノールアミン (C−3) エタノールアミン (C−4) 2−ジエチルアミノ−1−エタノール
(C−5) 2−メチルアミノ−1−エタノール(
c−6) 3−ジエチルアミノ−1−プロパツール 5−アミノ−1−ペンタノール ジエチルアミン トリエチルアミン ジイソプロピルアミン 2−ジブチルアミノエタノール 14−シクロヘキサンビス(メチル アミン) (C−7) (C−8) (C−9) (C−10) CC−11) (C−12) 0−アミノ安東香酸 アミノブアニジンサル7エート 4−アミノ−1−ブタノール 3−ピロリジノ−1,2プロパンジオ ール 3−(ジメチルアミノ)−1,2−プ ロパンジオール 1.4−ピペラジノビス(エタンスル ホン酸) 3−ピペリジノ−1,2−プロパン ジオール なお、本発明に用いられるアミノ化合物の添加量は0.
01〜1.0モル/aの範囲であり、好ましくは0、O
1〜0.04モル/Qである。
ジェタノールアミン (C−3) エタノールアミン (C−4) 2−ジエチルアミノ−1−エタノール
(C−5) 2−メチルアミノ−1−エタノール(
c−6) 3−ジエチルアミノ−1−プロパツール 5−アミノ−1−ペンタノール ジエチルアミン トリエチルアミン ジイソプロピルアミン 2−ジブチルアミノエタノール 14−シクロヘキサンビス(メチル アミン) (C−7) (C−8) (C−9) (C−10) CC−11) (C−12) 0−アミノ安東香酸 アミノブアニジンサル7エート 4−アミノ−1−ブタノール 3−ピロリジノ−1,2プロパンジオ ール 3−(ジメチルアミノ)−1,2−プ ロパンジオール 1.4−ピペラジノビス(エタンスル ホン酸) 3−ピペリジノ−1,2−プロパン ジオール なお、本発明に用いられるアミノ化合物の添加量は0.
01〜1.0モル/aの範囲であり、好ましくは0、O
1〜0.04モル/Qである。
本発明の方法に用いられる現像液には5(又は6)−二
トロインダゾールを含有させることが好ましい。これは
カブリ防止にはもつとも効果的で、高感度及び硬調は維
持される。その添加量は現像液N2当り0.0001〜
0.1モルの範囲が適当である。
トロインダゾールを含有させることが好ましい。これは
カブリ防止にはもつとも効果的で、高感度及び硬調は維
持される。その添加量は現像液N2当り0.0001〜
0.1モルの範囲が適当である。
なお、本発明の方法に用いられる現像液の中に(C−1
8) (C−17) (C−19) (C−13) (C−14) (C−15) (C−16) はジヒドロキシベンゼン系化合物の他に現像剤として3
−ピラゾリドン化合物又はオルソあるいはp−アミノフ
ェノール化合物が含有されてもよい。
8) (C−17) (C−19) (C−13) (C−14) (C−15) (C−16) はジヒドロキシベンゼン系化合物の他に現像剤として3
−ピラゾリドン化合物又はオルソあるいはp−アミノフ
ェノール化合物が含有されてもよい。
現像液のpHはlO〜12が望ましいがそのpHを維持
するため、アルカリ金属水酸化物又は炭酸塩をアルカリ
剤として添加することができる。更に、現像によるカブ
リ発生を抑制するために臭化カリウム等の無機抑制剤及
び5−メチルベンゾトリアゾール、5−クロロベンゾト
リア′ゾール等のトリアゾール化合物及び2−メルカプ
トベンツイミダゾール、l−フェニル−5−メルカプト
テトラゾール等のメルカプト化合物等の有機カブリ防止
剤を使用することができる。
するため、アルカリ金属水酸化物又は炭酸塩をアルカリ
剤として添加することができる。更に、現像によるカブ
リ発生を抑制するために臭化カリウム等の無機抑制剤及
び5−メチルベンゾトリアゾール、5−クロロベンゾト
リア′ゾール等のトリアゾール化合物及び2−メルカプ
トベンツイミダゾール、l−フェニル−5−メルカプト
テトラゾール等のメルカプト化合物等の有機カブリ防止
剤を使用することができる。
更に、本発明の方法に用いられる現像液中には前述の成
分の他に目的に応じて任意の添加剤を使用することが出
来る。例えば、溶剤、緩衝剤、金属イオン封鎖剤、現像
促進剤、粘調剤及び乳剤層膨潤抑制剤等である。
分の他に目的に応じて任意の添加剤を使用することが出
来る。例えば、溶剤、緩衝剤、金属イオン封鎖剤、現像
促進剤、粘調剤及び乳剤層膨潤抑制剤等である。
本発明の方法における現像処理は種々の条件で行なうこ
とができるが、現像温度は50℃以下が好ましく、特に
40°C前後が好ましく、又現像時間は3分以内に終了
することが一般的であるが、特に好ましくは2分以内が
好結果をもたらすことが多い。現像以外の処理工程とし
て例えば水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前
硬膜、中和等の工程を採用することは任意であり、これ
らは適宜省略することもできる。さらにまた、これらの
処理は皿現像、枠現像などいわゆる手現像処理でも良い
し、ローラー現像、ハンガー現像など機械現像であって
もよい。
とができるが、現像温度は50℃以下が好ましく、特に
40°C前後が好ましく、又現像時間は3分以内に終了
することが一般的であるが、特に好ましくは2分以内が
好結果をもたらすことが多い。現像以外の処理工程とし
て例えば水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前
硬膜、中和等の工程を採用することは任意であり、これ
らは適宜省略することもできる。さらにまた、これらの
処理は皿現像、枠現像などいわゆる手現像処理でも良い
し、ローラー現像、ハンガー現像など機械現像であって
もよい。
本発明に用いられる感光材料の7%ロゲン化銀乳剤には
、各種のハロゲン化銀を用いることができる。例えば塩
化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀又は塩沃臭化銀など
である。特に臭化銀及び沃臭化銀に対して本発明の効果
は顕著であり、沃化銀の少ない(Agl 5モル%以下
)高感度感光材料に対して特に効果的である。
、各種のハロゲン化銀を用いることができる。例えば塩
化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀又は塩沃臭化銀など
である。特に臭化銀及び沃臭化銀に対して本発明の効果
は顕著であり、沃化銀の少ない(Agl 5モル%以下
)高感度感光材料に対して特に効果的である。
本発明の方法で使用するハロゲン化銀乳剤の調製方法は
公知の方法により親水性コロイド中に懸濁させたハロゲ
ン化銀乳剤でよく、例えば中性法、アンモニア法でのシ
ングルジェット法、ダブルジェット法などによる乳剤調
製法が用いられる。
公知の方法により親水性コロイド中に懸濁させたハロゲ
ン化銀乳剤でよく、例えば中性法、アンモニア法でのシ
ングルジェット法、ダブルジェット法などによる乳剤調
製法が用いられる。
本発明に用いられる感光材料のノ10ゲン化銀乳剤層中
に含有せしめるノ\ロゲン化銀は平均粒子サイズ0.1
” LOp m、特に好ましくは0.1〜0.Lumで
、かつ全粒子数の少なくとも75%、特に好ましくは8
0%以上が平均粒径の0.7〜1.3倍の粒子サイズを
有するハロゲン化銀を含むことが好ましい。
に含有せしめるノ\ロゲン化銀は平均粒子サイズ0.1
” LOp m、特に好ましくは0.1〜0.Lumで
、かつ全粒子数の少なくとも75%、特に好ましくは8
0%以上が平均粒径の0.7〜1.3倍の粒子サイズを
有するハロゲン化銀を含むことが好ましい。
更に多価金属イオン(例えばイリジウム、ロジウム等)
が吸蔵されているハロゲン化銀乳剤として米国特許第3
,271.157号、同3,447.927号、同3゜
531.291号などによる乳剤も使用できる。ノ10
ゲン化銀乳剤は、通常行なわれるイオウ化合物、塩化金
酸塩、三塩化金などのような金化合物等を用いる化学増
感によって増感することができる。
が吸蔵されているハロゲン化銀乳剤として米国特許第3
,271.157号、同3,447.927号、同3゜
531.291号などによる乳剤も使用できる。ノ10
ゲン化銀乳剤は、通常行なわれるイオウ化合物、塩化金
酸塩、三塩化金などのような金化合物等を用いる化学増
感によって増感することができる。
本発明の適用されるハロゲン化銀乳剤は増感色素を用い
て所望の感光波長域に感色性を付与することができる。
て所望の感光波長域に感色性を付与することができる。
増感色素としてはシアニン、ヘミシアニン、ローダシア
ニン、メロシアニン、オキサノール、ヘミオキソノール
などのメチン色素及びスチリル色素など通常用いられる
ものを用いることができる。
ニン、メロシアニン、オキサノール、ヘミオキソノール
などのメチン色素及びスチリル色素など通常用いられる
ものを用いることができる。
上記色素は米国特許第2.742.833号、同2,7
56,148号、同3,567.458号、同3,61
5,517号、同3,615゜519号、同3,632
.340号、同3,155.519号、同3,384゜
485号、同4,232.115号、同3,796.5
80号、同4,028゜110号、同3,752.67
3号、特開昭55・45015号等の記載を参考にする
ことができる。
56,148号、同3,567.458号、同3,61
5,517号、同3,615゜519号、同3,632
.340号、同3,155.519号、同3,384゜
485号、同4,232.115号、同3,796.5
80号、同4,028゜110号、同3,752.67
3号、特開昭55・45015号等の記載を参考にする
ことができる。
本発明に用いられる感光材料のハロゲン化銀写真乳剤は
硬膜剤として通常用いられる例えばアルデヒド類(ホル
ムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアルデヒド、
ムコクロル酸等)、N−メチロール化合物(ジメチロー
ル尿素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオキ
サン誘導体(2゜3−ジヒドロキシジオキサン等)、活
性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−へキ
サヒドロ−Sトリアジン、ビス(ビニルスルホニル)メ
チルエーテル等)、活性ハロゲン化物(2,4−ジクロ
ル−6−ヒドロキシ−s−トリア・ジン等)、等を単独
又は組合わせて用いることができ、また増粘剤、マット
剤、塗布助剤等として通常用いられるものiζ使用でき
る。また、結合剤としては通常用いられる保護コロイド
性を有する親水性結合剤を使用できる。
硬膜剤として通常用いられる例えばアルデヒド類(ホル
ムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアルデヒド、
ムコクロル酸等)、N−メチロール化合物(ジメチロー
ル尿素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオキ
サン誘導体(2゜3−ジヒドロキシジオキサン等)、活
性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−へキ
サヒドロ−Sトリアジン、ビス(ビニルスルホニル)メ
チルエーテル等)、活性ハロゲン化物(2,4−ジクロ
ル−6−ヒドロキシ−s−トリア・ジン等)、等を単独
又は組合わせて用いることができ、また増粘剤、マット
剤、塗布助剤等として通常用いられるものiζ使用でき
る。また、結合剤としては通常用いられる保護コロイド
性を有する親水性結合剤を使用できる。
更に本発明は目的に応じて感光材料中にカプラ紫外線吸
収剤、蛍光増白剤、画像安定剤、酸化防止剤、潤滑剤、
金属イオン封鎖剤、乳化分散剤等として通常用いられる
ものを添加することができる。
収剤、蛍光増白剤、画像安定剤、酸化防止剤、潤滑剤、
金属イオン封鎖剤、乳化分散剤等として通常用いられる
ものを添加することができる。
本発明の方法に用いられる感光材料にはハロゲン化銀乳
剤層以外の層として保護層、中間層、フィルター層、ア
ンチハレーション層、下引層、補助層、イラジェーショ
ン防止層、裏引層などを有してよく、使用される支持体
としてはバライタ紙、ポリエチレン被覆紙、セルロース
アセテート、セルロースナイトレート、ポリエチレンテ
レフタレートなどがそれぞれ感光材料の使用目的に応じ
て適宜選択できる。
剤層以外の層として保護層、中間層、フィルター層、ア
ンチハレーション層、下引層、補助層、イラジェーショ
ン防止層、裏引層などを有してよく、使用される支持体
としてはバライタ紙、ポリエチレン被覆紙、セルロース
アセテート、セルロースナイトレート、ポリエチレンテ
レフタレートなどがそれぞれ感光材料の使用目的に応じ
て適宜選択できる。
感光性ハロゲン化銀乳剤層又はその他の支持体上の塗設
層にアルキルアクリレート、アルキルメタアクリレート
、アクリル酸、グリシジルアクリレート等のホモ又はコ
ポリマーからなるポリマーラテックスを、写真材料の寸
度安定性の向上、膜物性の改良などの目的で含有せしめ
てよい。
層にアルキルアクリレート、アルキルメタアクリレート
、アクリル酸、グリシジルアクリレート等のホモ又はコ
ポリマーからなるポリマーラテックスを、写真材料の寸
度安定性の向上、膜物性の改良などの目的で含有せしめ
てよい。
感光性ハロゲン化銀乳剤中に安定剤またはカブリ防止剤
として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3゜3a、7
−チトラザインデン、l−フェニル−5−メルカプトテ
トラゾール、レゾルシノールオキシム、ハイドロキノン
アルドキシムをはじめ多くの化合物をハロゲン化銀1モ
ル当り1O−4〜1O−1モルの量で添加することがで
きる。
として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3゜3a、7
−チトラザインデン、l−フェニル−5−メルカプトテ
トラゾール、レゾルシノールオキシム、ハイドロキノン
アルドキシムをはじめ多くの化合物をハロゲン化銀1モ
ル当り1O−4〜1O−1モルの量で添加することがで
きる。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、こ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
実施例1
沃化銀1.5モル%含有する沃臭化銀粒子を調製した。
この粒子は平均粒子0.30μmの立方体であった。こ
れを金増感及び硫黄増感をした後、増感色素と安定剤4
−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a。
れを金増感及び硫黄増感をした後、増感色素と安定剤4
−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a。
7−チトラザインデンとを加え、ハロゲン化銀1モルづ
つ含まれるように13個に分割した。これらの乳剤に第
1表に示す種類及び量の3−ピラゾリドン化合物及びジ
またはトリヒドロキシベンゼン系化合物とを添加し、更
にサポニン、ホルマリン及びグリオキザールを加えて、
これらの乳剤をポリエチレンテレフタレート支持体上に
銀4.5g/m2になるように、更にこの乳剤層の上に
はゼラチン1.8g/m”となるように保護層を塗布し
、乾燥して感光材料の試料を得た。
つ含まれるように13個に分割した。これらの乳剤に第
1表に示す種類及び量の3−ピラゾリドン化合物及びジ
またはトリヒドロキシベンゼン系化合物とを添加し、更
にサポニン、ホルマリン及びグリオキザールを加えて、
これらの乳剤をポリエチレンテレフタレート支持体上に
銀4.5g/m2になるように、更にこの乳剤層の上に
はゼラチン1.8g/m”となるように保護層を塗布し
、乾燥して感光材料の試料を得た。
これらの試料を小片に断裁し、ステップウェッジの片側
にネガ用コンタクトスクリーン (100線/インチ)
を付してタングステン光で20秒間露光した。この試料
を下記現像液及び定着液を入れたコニカ自動現像機GR
−27(コニカ株式会社製)を用いて35℃で30秒間
現像処理を行なった。
にネガ用コンタクトスクリーン (100線/インチ)
を付してタングステン光で20秒間露光した。この試料
を下記現像液及び定着液を入れたコニカ自動現像機GR
−27(コニカ株式会社製)を用いて35℃で30秒間
現像処理を行なった。
このようにして得られた試料をコニカデジタル濃度計P
DP−65で測定し、試料No、1の濃度3.0に於け
る感度を100として相対感度で示し、更に濃度0.3
と3.0との正接をもってガンマ表示した。又、網点品
質の評価は100倍ルーペを用いて目視観察し、網点周
辺のフリンジが少なく、かつ辺がなめらかなものを10
級とし、フリンジの多い辺のガサつきの大きいものを1
級としてlO段階法によって表示した。
DP−65で測定し、試料No、1の濃度3.0に於け
る感度を100として相対感度で示し、更に濃度0.3
と3.0との正接をもってガンマ表示した。又、網点品
質の評価は100倍ルーペを用いて目視観察し、網点周
辺のフリンジが少なく、かつ辺がなめらかなものを10
級とし、フリンジの多い辺のガサつきの大きいものを1
級としてlO段階法によって表示した。
現像液処方
エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 1g亜硫酸
ナトリウム 60gハイドロキノ
ン 35g5−アミノ−1−
ペンタノール 50g臭化ナトリウム
2.5g5−メチルベンゾトリア
ゾール 0.3g1−フェニル−3−ピラゾリ
ドン 0.2g水を加えてtcとし、水酸化
ナトリウムにてpnll、5に調整する。
ナトリウム 60gハイドロキノ
ン 35g5−アミノ−1−
ペンタノール 50g臭化ナトリウム
2.5g5−メチルベンゾトリア
ゾール 0.3g1−フェニル−3−ピラゾリ
ドン 0.2g水を加えてtcとし、水酸化
ナトリウムにてpnll、5に調整する。
〈定着液処方〉
(組成A)
チオ硫酸アンモニウム
(72,5%W/V水溶液) 2
40mff亜硫酸ナトリウム
17g酢酸ナトリウム・3水塩 6.5
g硼 酸
6゜クエン酸ナトリウム・2水塩
2g(組成り) 純水(イオン交換水)17Illff 硫酸(50%W/Vの水溶液) 4.
7g硫酸アルミニウム CkQ、O,換算含量が8.1%W/Vの水溶液)
26.5g定着液の使用時に水500mQ中に上記組成
A1組成りの順に溶かし、lQに仕上げて用いた。この
定着液のpnは酢酸で6に調整した。
40mff亜硫酸ナトリウム
17g酢酸ナトリウム・3水塩 6.5
g硼 酸
6゜クエン酸ナトリウム・2水塩
2g(組成り) 純水(イオン交換水)17Illff 硫酸(50%W/Vの水溶液) 4.
7g硫酸アルミニウム CkQ、O,換算含量が8.1%W/Vの水溶液)
26.5g定着液の使用時に水500mQ中に上記組成
A1組成りの順に溶かし、lQに仕上げて用いた。この
定着液のpnは酢酸で6に調整した。
第1表から明らかなように、本発明の化合物を用いると
硬調で高品質の網点が形成できることが分かる。
硬調で高品質の網点が形成できることが分かる。
実施例2
臭化銀含有率が6モル%、ロジウムを銀1モル当りlX
l0−’モル含有する塩臭化銀乳剤を調製した。この粒
子は平均粒径0.22μmの立方体であった。これを4
−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a。
l0−’モル含有する塩臭化銀乳剤を調製した。この粒
子は平均粒径0.22μmの立方体であった。これを4
−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a。
7−チトラザインデンの存在下で硫黄増感をした後、本
発明の化合物D −10をIg/AgX1モル加え、更
に安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,
3a、7−チトラザインデンと5−メルカプトテトラゾ
ールとを加え、ハロゲン化銀1モルづつ含むように11
個に分割した。これらの乳剤に第2表に示す量の3−ピ
ラゾリドン化合物、ジまたはトリヒドロキシベンゼン化
合物を添加し、更にサポニン及びムコクロル酸を加えて
これらの乳剤をポリエチレンテレフタレート支持体上に
銀3.5g/iとなるように、更にこの乳剤層の上には
ゼラチン1.5g/’m”となるように保護層を設は塗
布し乾燥して感光材料の試料を得た。
発明の化合物D −10をIg/AgX1モル加え、更
に安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,
3a、7−チトラザインデンと5−メルカプトテトラゾ
ールとを加え、ハロゲン化銀1モルづつ含むように11
個に分割した。これらの乳剤に第2表に示す量の3−ピ
ラゾリドン化合物、ジまたはトリヒドロキシベンゼン化
合物を添加し、更にサポニン及びムコクロル酸を加えて
これらの乳剤をポリエチレンテレフタレート支持体上に
銀3.5g/iとなるように、更にこの乳剤層の上には
ゼラチン1.5g/’m”となるように保護層を設は塗
布し乾燥して感光材料の試料を得た。
これらの試料を小片に断裁し、ステップウェッジを付し
てタングステン光で30秒間露光した。この試料を下記
現像液を入れたコニカ自動現像機GR−27(コニカ株
式会社製)を用いて35℃で30秒間現像処理を行なっ
た。なお、試料No、3〜N0.6およびNo、8〜N
o、11は現像液に更に第2表に示す量のl −7二ニ
ルー5−メルカプトテトラゾールを追加添加した現像液
を用いた。
てタングステン光で30秒間露光した。この試料を下記
現像液を入れたコニカ自動現像機GR−27(コニカ株
式会社製)を用いて35℃で30秒間現像処理を行なっ
た。なお、試料No、3〜N0.6およびNo、8〜N
o、11は現像液に更に第2表に示す量のl −7二ニ
ルー5−メルカプトテトラゾールを追加添加した現像液
を用いた。
このようにして得られた試料と実施例1と同じ方法で評
価した。
価した。
現像液処方
エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 1g亜硫酸ナ
トリウム 60gハイドロキノン
25g1−フェニル−4−
メチル−4ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン
0.3g5−メチルベンゾトリアゾール 臭化カリウム 2gトリエタ
ノールアミン 40g水を加えて1
aとし、水酸化カリウムでpH 1’2.3に調整する
。
トリウム 60gハイドロキノン
25g1−フェニル−4−
メチル−4ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン
0.3g5−メチルベンゾトリアゾール 臭化カリウム 2gトリエタ
ノールアミン 40g水を加えて1
aとし、水酸化カリウムでpH 1’2.3に調整する
。
以0苓−
第2表から明らかなように、
本発明のヒ
ト゛ラ
ン
ド化合物を用いると硬調で高感度の写真特性が得られる
ことが分かる。
ことが分かる。
本発明の方法により、
迅速にかつ安定に、
カブ
リが少なく硬調な画像及び良好な網点品質の画像を得る
ことができる。
ことができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 3−ピラゾリドン化合物及び/又はジもしくはトリヒ
ドロキシベンゼン系化合物を含有する少なくとも1層の
感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する感光材料を下記一般
式[1]、[2]、[3]で表わされるヒドラジド化合
物の少なくとも1種の存在下で下記(イ)、(ロ)及び
(ハ)の成分を含有する現像液で処理することを特徴と
する画像形成方法。 (イ)ジまたはトリヒドロキシベンゼン系化合物 (ロ)亜硫酸塩 (ハ)アミノ化合物 一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びR_2はアリール基またはヘテロ環
基を表し、Rは有機結合基を表し、nは0〜6、mは0
または1を表し、nが2以上のときは、各Rは同じであ
つても、異なっていてもよい。) 一般式[2] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_2_1は脂肪族基、芳香族基またはヘテロ
環基を、R_2_2は水素原子、置換してもよいアルコ
キシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリー
ルオキシ基を表し、P_1及びP_2は水素原子、アシ
ル基、またはスルフィン酸基を表す。) 一般式[3] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、R_3_1は
置換アルキル基を表す。)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP357688A JPH0252A (ja) | 1987-10-01 | 1988-01-11 | 高コントラストな画像形成方法 |
US07/287,438 US4988603A (en) | 1988-01-11 | 1988-12-21 | Method for the formation of high-contrast images using a developer comprising a hydrazine derivative |
EP19890100221 EP0324391A3 (en) | 1988-01-11 | 1989-01-07 | Method for the formation of high-contrast images |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24931787 | 1987-10-01 | ||
JP62-249317 | 1987-10-01 | ||
JP357688A JPH0252A (ja) | 1987-10-01 | 1988-01-11 | 高コントラストな画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0252A true JPH0252A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=26337199
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP357688A Pending JPH0252A (ja) | 1987-10-01 | 1988-01-11 | 高コントラストな画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0252A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4963443A (en) * | 1988-06-23 | 1990-10-16 | Fuji Electric Co., Ltd. | Fuel cell system and the method for operating the same |
US5329338A (en) * | 1991-09-06 | 1994-07-12 | Xerox Corporation | Optical transparency detection and discrimination in an electronic reprographic printing system |
KR100830312B1 (ko) * | 2006-08-30 | 2008-05-16 | 인하대학교 산학협력단 | 토목섬유제품의 화학저항성 시험장치 |
KR100839027B1 (ko) * | 2006-12-01 | 2008-06-17 | 경상대학교산학협력단 | OsGlu2 유전자를 이용한 도열병 저항성 및 수량 증진형질전환 식물체 |
KR100909572B1 (ko) * | 2008-11-17 | 2009-07-24 | 주식회사 티지 바이오텍 | 오보바톨 및 그 합성 유도체들을 유효성분으로 함유하는 당뇨와 대사증후군 질환 예방 및 치료용 조성물 |
-
1988
- 1988-01-11 JP JP357688A patent/JPH0252A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR100909572B1 (ko) * | 2008-11-17 | 2009-07-24 | 주식회사 티지 바이오텍 | 오보바톨 및 그 합성 유도체들을 유효성분으로 함유하는 당뇨와 대사증후군 질환 예방 및 치료용 조성물 |
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