JPH0250531B2 - - Google Patents
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- JPH0250531B2 JPH0250531B2 JP8928281A JP8928281A JPH0250531B2 JP H0250531 B2 JPH0250531 B2 JP H0250531B2 JP 8928281 A JP8928281 A JP 8928281A JP 8928281 A JP8928281 A JP 8928281A JP H0250531 B2 JPH0250531 B2 JP H0250531B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/842—Coating a support with a liquid magnetic dispersion
- G11B5/845—Coating a support with a liquid magnetic dispersion in a magnetic field
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体の製造方法に関するもの
であり、更に詳細には、特に垂直磁化記録媒体を
得るためにその磁場配向処理を効果的に行うもの
である。
であり、更に詳細には、特に垂直磁化記録媒体を
得るためにその磁場配向処理を効果的に行うもの
である。
垂直磁化記録は従来の長手方向への磁気記録で
の記録密度の限界を越えるものとして近年急速に
研究が進められている。この垂直磁化記録媒体に
必要な特性としては、磁性塗膜面に対し垂直な方
向に磁気異方性を有することが必要である。しか
しながら、この垂直磁化記録という技術は現在で
は末だあくまでも研究途上にあるにすぎないた
め、記録媒体に関しても若干の報告があるにすぎ
ない。これらの報告によれば、垂直方向に磁化容
易軸を出させるためにCo−Cr合金のスパツタリ
ング法や蒸着法で生成された薄膜が実験に用いら
れている。しかしながら、スパツタリング法や蒸
着法によつて垂直磁化記録媒体を製造するのは作
成工程に制約がありどうしても製造原価が高くな
り実用上好ましくない。
の記録密度の限界を越えるものとして近年急速に
研究が進められている。この垂直磁化記録媒体に
必要な特性としては、磁性塗膜面に対し垂直な方
向に磁気異方性を有することが必要である。しか
しながら、この垂直磁化記録という技術は現在で
は末だあくまでも研究途上にあるにすぎないた
め、記録媒体に関しても若干の報告があるにすぎ
ない。これらの報告によれば、垂直方向に磁化容
易軸を出させるためにCo−Cr合金のスパツタリ
ング法や蒸着法で生成された薄膜が実験に用いら
れている。しかしながら、スパツタリング法や蒸
着法によつて垂直磁化記録媒体を製造するのは作
成工程に制約がありどうしても製造原価が高くな
り実用上好ましくない。
また、テープ、シートなどの塗布媒体を用いて
垂直磁化記録媒体を製造しようとしても、垂直方
向に磁化容易軸を有するものが作成できないので
今日までかかる例を見出すことができない。敢え
て針状磁性粒子または不定形磁性粒子を問わずバ
インダ−と混合して得られる磁性塗料を非磁性支
持体上に塗布して垂直磁化記録媒体を作成しよう
としても、どうしても何らかの方法で磁性粒子の
磁化容易軸をその磁性塗膜面に対して垂直に立た
せる操作を行わなければならない。即ち、塗布型
の垂直記録媒体において、磁性塗膜面に垂直方向
に磁化容易軸を並べるには、例えばγ−Fe2O3な
どの針状磁性粒子のような形状磁気異方性によつ
て抗磁力（Hc）を生じさせている粒子の場合に
は、その磁性粒子を膜面に対して垂直に並ぶよう
にしなければならないし、また、バリウムフエラ
イトなどのように、形状ではなく結晶磁気異方性
によつて抗磁力を生じさせている磁性粒子の場合
には、その異方性が磁性塗膜面に垂直に向くよう
にしなければならない。そのためには垂直方向に
磁場を印加する必要があるが、従来法において用
いられている磁場配向処理を施してたとえ磁性粒
子を塗膜面に対して垂直に配向した場合には、そ
の塗膜面が印加磁場方向に立ち上がる現象が生
じ、その表面が荒れてその表面性が著しく劣化し
てしまう。即ち、従来法によつては、得られる垂
直配向磁気テープの表面粗度はσ＞5μにもなり、
表面が著しく粗くなつている。このように著しい
表面性の劣化が生じると、磁気ヘツドとテープと
の間隔がばらついて再生方向力に大きく影響し、
特に短波長領域で用いる垂直磁化記録媒体として
使用できなくなる。
垂直磁化記録媒体を製造しようとしても、垂直方
向に磁化容易軸を有するものが作成できないので
今日までかかる例を見出すことができない。敢え
て針状磁性粒子または不定形磁性粒子を問わずバ
インダ−と混合して得られる磁性塗料を非磁性支
持体上に塗布して垂直磁化記録媒体を作成しよう
としても、どうしても何らかの方法で磁性粒子の
磁化容易軸をその磁性塗膜面に対して垂直に立た
せる操作を行わなければならない。即ち、塗布型
の垂直記録媒体において、磁性塗膜面に垂直方向
に磁化容易軸を並べるには、例えばγ−Fe2O3な
どの針状磁性粒子のような形状磁気異方性によつ
て抗磁力（Hc）を生じさせている粒子の場合に
は、その磁性粒子を膜面に対して垂直に並ぶよう
にしなければならないし、また、バリウムフエラ
イトなどのように、形状ではなく結晶磁気異方性
によつて抗磁力を生じさせている磁性粒子の場合
には、その異方性が磁性塗膜面に垂直に向くよう
にしなければならない。そのためには垂直方向に
磁場を印加する必要があるが、従来法において用
いられている磁場配向処理を施してたとえ磁性粒
子を塗膜面に対して垂直に配向した場合には、そ
の塗膜面が印加磁場方向に立ち上がる現象が生
じ、その表面が荒れてその表面性が著しく劣化し
てしまう。即ち、従来法によつては、得られる垂
直配向磁気テープの表面粗度はσ＞5μにもなり、
表面が著しく粗くなつている。このように著しい
表面性の劣化が生じると、磁気ヘツドとテープと
の間隔がばらついて再生方向力に大きく影響し、
特に短波長領域で用いる垂直磁化記録媒体として
使用できなくなる。
したがつて、本発明は、塗布型媒体に交流磁場
を印加することによつて垂直磁化記録媒体を得る
製造方法を提供することを目的としている。
を印加することによつて垂直磁化記録媒体を得る
製造方法を提供することを目的としている。
本発明に係る方法は、塗布型媒体のいずれにも
適用できるものであつて、テープ、シートなどの
非磁性支持体上に塗布される磁性粒子に何ら限度
されるものではなく、塗布型の磁気記録媒体に使
用される磁性粒子であれば何れも使用することが
できる。使用できる粒子としては、例えば、γ−
Fe2O3、Fe3O4、γ−Fe3O3とFe3O4との中間の酸
化状態の酸化鉄、Co含有γ−Fe2O3、Co含有
Fe3O4、Co含有のγ−Fe2O3とFe3O4との中間の
酸化状態の酸化鉄、CrO2、CoO2に１種またはそ
れ以上の金属元素、例えばTe、Sb、Fe、Biなど
を含有させた酸化物、バリウムフエライト、Fe、
Co、Niなどの金属、Fe−Co、Fe−Ni、Fe−Co
−Ni、Fe−Co−Ｂ、Fe−Co−Cr−Ｂ、Mn−
Bi、Mn−Al、Fe−Co−Ｖなどの合金、窒化鉄
などが挙げられる。
適用できるものであつて、テープ、シートなどの
非磁性支持体上に塗布される磁性粒子に何ら限度
されるものではなく、塗布型の磁気記録媒体に使
用される磁性粒子であれば何れも使用することが
できる。使用できる粒子としては、例えば、γ−
Fe2O3、Fe3O4、γ−Fe3O3とFe3O4との中間の酸
化状態の酸化鉄、Co含有γ−Fe2O3、Co含有
Fe3O4、Co含有のγ−Fe2O3とFe3O4との中間の
酸化状態の酸化鉄、CrO2、CoO2に１種またはそ
れ以上の金属元素、例えばTe、Sb、Fe、Biなど
を含有させた酸化物、バリウムフエライト、Fe、
Co、Niなどの金属、Fe−Co、Fe−Ni、Fe−Co
−Ni、Fe−Co−Ｂ、Fe−Co−Cr−Ｂ、Mn−
Bi、Mn−Al、Fe−Co−Ｖなどの合金、窒化鉄
などが挙げられる。
前述したような磁性粒子を含有する磁性塗料を
常法に従つて非磁性支持体上に塗布した後、その
塗膜が末だ乾燥してなく流動しうる状態のとき
に、磁性粉の抗磁力に対して±20％の範囲の強さ
の交流磁場を配向方向に対して、それぞれ直角な
少なくとも２方向から印加して垂直配向処理が行
われる。この交流磁場は配向方向に対して直角と
なる方向に印加される。なお、磁場印加方向が配
向方向に対して直角といつても、実用上ある程度
の方向のずれは許容され、かかる方向のずれもこ
こでいう直角方向に包含されるものと解釈すべき
ことは当然である。かかる交流磁場は例えばソレ
ノイド交流磁石などの交流磁場発生装置によつて
発生することができる。本発明で使用されるソレ
ノイド交流磁石はその交流磁界が周波数50Hzで０
から約5KOeまでの範囲で可変できるものであ
る。なお、その周波数は約40Hz以上であるのが好
ましい。また、印加する磁場の強さは、使用する
磁性粒子の抗磁力（Hc）の近傍であり、Hcの±
20％程度の範囲内である。更に、磁場印加時間に
しても、約100msec以上であるのが好ましい。な
お、磁場印加時間は、使用するソレノイド交流磁
石のソレノイドの長さを変えたり、またはその交
流磁場を通過させるテープ走行速度などを適当に
調節することによつて行うことができる。
常法に従つて非磁性支持体上に塗布した後、その
塗膜が末だ乾燥してなく流動しうる状態のとき
に、磁性粉の抗磁力に対して±20％の範囲の強さ
の交流磁場を配向方向に対して、それぞれ直角な
少なくとも２方向から印加して垂直配向処理が行
われる。この交流磁場は配向方向に対して直角と
なる方向に印加される。なお、磁場印加方向が配
向方向に対して直角といつても、実用上ある程度
の方向のずれは許容され、かかる方向のずれもこ
こでいう直角方向に包含されるものと解釈すべき
ことは当然である。かかる交流磁場は例えばソレ
ノイド交流磁石などの交流磁場発生装置によつて
発生することができる。本発明で使用されるソレ
ノイド交流磁石はその交流磁界が周波数50Hzで０
から約5KOeまでの範囲で可変できるものであ
る。なお、その周波数は約40Hz以上であるのが好
ましい。また、印加する磁場の強さは、使用する
磁性粒子の抗磁力（Hc）の近傍であり、Hcの±
20％程度の範囲内である。更に、磁場印加時間に
しても、約100msec以上であるのが好ましい。な
お、磁場印加時間は、使用するソレノイド交流磁
石のソレノイドの長さを変えたり、またはその交
流磁場を通過させるテープ走行速度などを適当に
調節することによつて行うことができる。
また使用するソレノイド交流磁石などの交流磁
場発生装置は単数個であつても、複数個であつて
もよいが、いずれの場合もその交流磁場発生装置
は配向方向に対して直角に交流磁場を印加できる
ように配置する必要がある。即ち、従来方法にお
ける場合とは異つて、垂直配向方向に平行に、言
い換えれば磁気記録媒体のテープ長手方向に対し
て直角方向（即ちテープの厚み方向）に交流磁場
を印加しないように配置しなければならない。
場発生装置は単数個であつても、複数個であつて
もよいが、いずれの場合もその交流磁場発生装置
は配向方向に対して直角に交流磁場を印加できる
ように配置する必要がある。即ち、従来方法にお
ける場合とは異つて、垂直配向方向に平行に、言
い換えれば磁気記録媒体のテープ長手方向に対し
て直角方向（即ちテープの厚み方向）に交流磁場
を印加しないように配置しなければならない。
本発明において、前述したように、テープ厚み
方向ではない方向、即ち配向方向と直角方向に交
流磁場を印加することによつて、そのテープ厚み
方向、即ち垂直方向に配向する理由としては次の
ことが推論できる。印加する磁場の強さが磁性塗
料中の磁性粒子の抗磁力（Hc）以下の場合には、
磁化のスイツチングは起らないで単にその粒子が
交番磁界によつて回転運動を繰り返し、これが磁
場の大きさが増大するにつれて激しくなるけれど
も、その磁性粒子の抗磁力以上の磁場になると、
今度は磁化のスイツチングが起こるため、その磁
性粒子は大きな運動をすることはなくなり、交番
磁界によつて粒子の自発磁化の方向のみが反転す
ることになる。この磁界を大きくすると高い配向
度が得られることになる。長手方向磁化のスイツ
チングが起るか起らないかの磁性粒子の抗磁力
（Hc）近傍の交番磁界を１個のソレノイド交流磁
石をテープ長手方向に配置して印加した後、乾燥
して最終的に得られたテープ中の磁性粒子の配向
方向は、幅（Ｙ）−厚み（Ｚ）方向の平面内にあ
ることが認められた。これは、外部の交番磁界に
応じて回転運動を繰り返していた磁性粒子も、そ
の磁場を通過して磁性塗膜が乾燥してくるにつれ
て、粒子の運動がその周囲のバインダ−の粘性抵
抗を受けて阻止されてくるにつれて磁界に追随し
て回転できなくなつて、安定な姿勢である交番磁
界に対してほぼ90゜の向きに留つてしまうからで
あろうと推定できる。しかしながら、更に乾燥が
進んで磁性塗料中の溶剤が蒸発して塗膜厚が薄く
なり、Ｙ−Ｚ平面に分布していた粒子が塗膜厚の
減少と共に倒されてしまうので、最終的にはＹ方
向に揃つたような配向となり、最終的にはHc付
近の交流磁場を印加してもＺ方向の配向はかなり
の割合減少してしまうものと考えられる。
方向ではない方向、即ち配向方向と直角方向に交
流磁場を印加することによつて、そのテープ厚み
方向、即ち垂直方向に配向する理由としては次の
ことが推論できる。印加する磁場の強さが磁性塗
料中の磁性粒子の抗磁力（Hc）以下の場合には、
磁化のスイツチングは起らないで単にその粒子が
交番磁界によつて回転運動を繰り返し、これが磁
場の大きさが増大するにつれて激しくなるけれど
も、その磁性粒子の抗磁力以上の磁場になると、
今度は磁化のスイツチングが起こるため、その磁
性粒子は大きな運動をすることはなくなり、交番
磁界によつて粒子の自発磁化の方向のみが反転す
ることになる。この磁界を大きくすると高い配向
度が得られることになる。長手方向磁化のスイツ
チングが起るか起らないかの磁性粒子の抗磁力
（Hc）近傍の交番磁界を１個のソレノイド交流磁
石をテープ長手方向に配置して印加した後、乾燥
して最終的に得られたテープ中の磁性粒子の配向
方向は、幅（Ｙ）−厚み（Ｚ）方向の平面内にあ
ることが認められた。これは、外部の交番磁界に
応じて回転運動を繰り返していた磁性粒子も、そ
の磁場を通過して磁性塗膜が乾燥してくるにつれ
て、粒子の運動がその周囲のバインダ−の粘性抵
抗を受けて阻止されてくるにつれて磁界に追随し
て回転できなくなつて、安定な姿勢である交番磁
界に対してほぼ90゜の向きに留つてしまうからで
あろうと推定できる。しかしながら、更に乾燥が
進んで磁性塗料中の溶剤が蒸発して塗膜厚が薄く
なり、Ｙ−Ｚ平面に分布していた粒子が塗膜厚の
減少と共に倒されてしまうので、最終的にはＹ方
向に揃つたような配向となり、最終的にはHc付
近の交流磁場を印加してもＺ方向の配向はかなり
の割合減少してしまうものと考えられる。
そこで、更にもう１個の交流磁場装置を90゜方
向を変えて幅方向に交流磁場が印加できるよう配
置した場合には、テープの長手方向に配置したソ
レノイド交流磁石によつてＹ−Ｚ面内に向かされ
た磁性粒子は、それに後続して配置した別のソレ
ノイド交流磁石によつてテープ長手方向（Ｘ）−
Ｚ面内に向かされてより確実にＺ方向に向かされ
た粒子をＺ方向、即ち垂直方向に立たせることが
可能である。更に別のソレノイド交流磁石を単数
個または複数個交互に後続して配置することもで
き、その場合にはより確実にＺ方向に配向させた
磁性粒子を配向させたままにすることができる。
しかしながら、余りに多くの交流磁場発生装置を
配置するのは実用的ではなく、経済性並びに垂直
磁化の程度などを考慮して適宜決定すればよい。
向を変えて幅方向に交流磁場が印加できるよう配
置した場合には、テープの長手方向に配置したソ
レノイド交流磁石によつてＹ−Ｚ面内に向かされ
た磁性粒子は、それに後続して配置した別のソレ
ノイド交流磁石によつてテープ長手方向（Ｘ）−
Ｚ面内に向かされてより確実にＺ方向に向かされ
た粒子をＺ方向、即ち垂直方向に立たせることが
可能である。更に別のソレノイド交流磁石を単数
個または複数個交互に後続して配置することもで
き、その場合にはより確実にＺ方向に配向させた
磁性粒子を配向させたままにすることができる。
しかしながら、余りに多くの交流磁場発生装置を
配置するのは実用的ではなく、経済性並びに垂直
磁化の程度などを考慮して適宜決定すればよい。
本発明の方法によつて、従来法で垂直配向させ
る場合に避けることができなかつた印加磁場方向
に磁性塗料が立ち上つてテープ塗膜表面が悪化し
て、その表面性が劣化するという現象が生じない
実用上極めて有利な垂直磁化記録媒体を得ること
ができる。
る場合に避けることができなかつた印加磁場方向
に磁性塗料が立ち上つてテープ塗膜表面が悪化し
て、その表面性が劣化するという現象が生じない
実用上極めて有利な垂直磁化記録媒体を得ること
ができる。
以下、本発明を実施例によつて更に詳細に説明
する。
する。
実施例 １
下記組成を有する磁性塗料を用いて磁気テープ
を作成した。
を作成した。
組 成 重量部
γ−Fe2O3（Hc＝380Oe） 100
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（商品名
「VAGH」） 15 ポリウレタン樹脂（商品名「エスタン5702」）
15 レシチン １ メチルエチルケトン：アノン（１：１）混合溶
剤 300 上記組成物を混練した後、この磁性塗料を常法
に従つてポリエチレンテレフタレートフイルム上
に塗布し、その塗膜が乾燥しない間に、第１図に
示すように、ソレノイド交流磁石１中を100msec
の速度でテープ２を通過させた。このソレノイド
交流磁石は50Hzcm2０〜5KOeの範囲で可変できる
ものであつて、かつ、その磁場の方向はテープ面
と平行になるように配置した。
「VAGH」） 15 ポリウレタン樹脂（商品名「エスタン5702」）
15 レシチン １ メチルエチルケトン：アノン（１：１）混合溶
剤 300 上記組成物を混練した後、この磁性塗料を常法
に従つてポリエチレンテレフタレートフイルム上
に塗布し、その塗膜が乾燥しない間に、第１図に
示すように、ソレノイド交流磁石１中を100msec
の速度でテープ２を通過させた。このソレノイド
交流磁石は50Hzcm2０〜5KOeの範囲で可変できる
ものであつて、かつ、その磁場の方向はテープ面
と平行になるように配置した。
なお、前述したような配向処理において、その
印加交流磁場の強さを種々変えて配向処理させて
得た磁気テープについてテープ長手方向（Ｘ方
向）、幅方向（Ｙ方向）および厚み（垂直）方向
（Ｚ方向）におけるそれぞれの角型比Rs（＝Br／
Bs）を測定し、その結果を第２図に示す。
印加交流磁場の強さを種々変えて配向処理させて
得た磁気テープについてテープ長手方向（Ｘ方
向）、幅方向（Ｙ方向）および厚み（垂直）方向
（Ｚ方向）におけるそれぞれの角型比Rs（＝Br／
Bs）を測定し、その結果を第２図に示す。
第２図によると、400Oe付近の配向磁場では、
磁性粒子がYZ面内に配列する現象が認められ、
厚み方向に向いた成分が極大となり、Ｚ方向の
Rsの値が約40％であつた。この値は、通常の単
軸異方性を有する磁性粒子を従来法で処理した場
合に得られる22％程度のRsに比べて約２倍とい
う高い値であつて、垂直方向における残留磁束密
度もそれだけ高ことが示されている。
磁性粒子がYZ面内に配列する現象が認められ、
厚み方向に向いた成分が極大となり、Ｚ方向の
Rsの値が約40％であつた。この値は、通常の単
軸異方性を有する磁性粒子を従来法で処理した場
合に得られる22％程度のRsに比べて約２倍とい
う高い値であつて、垂直方向における残留磁束密
度もそれだけ高ことが示されている。
また、得られた磁気テープの表面粗度は、塗布
したままの状態で測定した場合でも、その振幅の
標準偏差値σ＝0.11μと極めて小さく、その表面
性は通常のテープ同様全く劣化していなかつた。
したままの状態で測定した場合でも、その振幅の
標準偏差値σ＝0.11μと極めて小さく、その表面
性は通常のテープ同様全く劣化していなかつた。
実施例 ２
実施例１で使用した磁性塗料と同じ塗料を用い
て実施例１と同様に、ベースフイルム上に塗布
し、その塗膜が乾燥しないうちにソレノイド交流
磁石中を通過させた。
て実施例１と同様に、ベースフイルム上に塗布
し、その塗膜が乾燥しないうちにソレノイド交流
磁石中を通過させた。
本例においては、第３図に示すように、３個の
ソレノイド交流磁石１中をテープ２を通過させ
た。その磁石は、第１番目の磁石がテープ長手方
向（Ｘ方向）に、第２番目の磁石がテープ幅方向
（Ｙ方向）に、そして、第３番目の磁石が第１番
目のものと同様にＸ方向に交流磁場を発生しうる
ように配置した。またこの場合の磁場印加時間は
３個のソレノイド交流磁石によつて印加された合
計として100msecであつた。
ソレノイド交流磁石１中をテープ２を通過させ
た。その磁石は、第１番目の磁石がテープ長手方
向（Ｘ方向）に、第２番目の磁石がテープ幅方向
（Ｙ方向）に、そして、第３番目の磁石が第１番
目のものと同様にＸ方向に交流磁場を発生しうる
ように配置した。またこの場合の磁場印加時間は
３個のソレノイド交流磁石によつて印加された合
計として100msecであつた。
なお前述したような配向処理を印加交流磁場の
強さを種々変えることによつて得られた磁気テー
プについて、それぞれ各方向におけるRs値を測
定し、その結果を第４図に示す。
強さを種々変えることによつて得られた磁気テー
プについて、それぞれ各方向におけるRs値を測
定し、その結果を第４図に示す。
第４図から明らかなように、磁性粒子の抗磁力
（Hc＝380Oe）付近でＺ方向のRsが著しく増大し
ているのが認められた。このＺ方向の残留磁束密
度は通常のテープに比べて約３倍と極めて高いも
のであつた。また、カレンダー処理を施さない状
態でのそのテープの表面は何ら異常が認められ
ず、かつ、その表面粗度も標準偏差値がσ＝
0.12μと小さく極めて表面性のよいものであつた。
（Hc＝380Oe）付近でＺ方向のRsが著しく増大し
ているのが認められた。このＺ方向の残留磁束密
度は通常のテープに比べて約３倍と極めて高いも
のであつた。また、カレンダー処理を施さない状
態でのそのテープの表面は何ら異常が認められ
ず、かつ、その表面粗度も標準偏差値がσ＝
0.12μと小さく極めて表面性のよいものであつた。
実施例 ３
抗磁力（Hc）が625OeのCo−被覆γ−Fe2O3
を磁性粒子として使用した以外は、実施例２と同
様にしてソレノイド交流磁石による交流磁場を印
加して配向処理を行つた。
を磁性粒子として使用した以外は、実施例２と同
様にしてソレノイド交流磁石による交流磁場を印
加して配向処理を行つた。
このようにして得た磁気テープでも、635Oe付
近でＺ方向のRsが増大する現象が認められ、そ
のRsは約60％と極めて高かつた。また、カレン
ダー処理を施さない前におけるテープの表面粗度
もσ＝0.11μと極めて小さかつた。
近でＺ方向のRsが増大する現象が認められ、そ
のRsは約60％と極めて高かつた。また、カレン
ダー処理を施さない前におけるテープの表面粗度
もσ＝0.11μと極めて小さかつた。
第１図は実施例１で用いた配向処理の具体例を
示す略図、第２図は実施例１で得た磁気テープの
３方向のRs値を示すグラフ、第３図は実施例２
で使用した配向処理の具体例を示す略斜視図、第
４図は実施例２で得た磁気テープの３方向のRs
値を示すグラフである。 なお、図面において用いた符号のうち １……
ソレノイド交流磁石、２……テープである。
示す略図、第２図は実施例１で得た磁気テープの
３方向のRs値を示すグラフ、第３図は実施例２
で使用した配向処理の具体例を示す略斜視図、第
４図は実施例２で得た磁気テープの３方向のRs
値を示すグラフである。 なお、図面において用いた符号のうち １……
ソレノイド交流磁石、２……テープである。
Claims (1)
- １ 非磁性支持体上に磁性粒子を含有する磁性塗
料を塗布して塗膜を形成した後、該塗膜が未乾燥
の状態で、磁性粉の抗磁力に対して±20％の範囲
の強さの交流磁場を配向方向に対して、それぞれ
直角な少くとも２方向から印加することにより垂
直磁化記録媒体を得ることを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8928281A JPS57205827A (en) | 1981-06-10 | 1981-06-10 | Manufacture of magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8928281A JPS57205827A (en) | 1981-06-10 | 1981-06-10 | Manufacture of magnetic recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57205827A JPS57205827A (en) | 1982-12-17 |
| JPH0250531B2 true JPH0250531B2 (ja) | 1990-11-02 |
Family
ID=13966350
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8928281A Granted JPS57205827A (en) | 1981-06-10 | 1981-06-10 | Manufacture of magnetic recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57205827A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5812135A (ja) * | 1981-07-13 | 1983-01-24 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6150217A (ja) * | 1984-08-17 | 1986-03-12 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP4112809B2 (ja) * | 2001-01-31 | 2008-07-02 | 株式会社東芝 | 垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置及びディスク製造方法 |
-
1981
- 1981-06-10 JP JP8928281A patent/JPS57205827A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57205827A (en) | 1982-12-17 |
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