JPH0239155A - 着色パターンの形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野〕 本発明は、着色パターンの形成方法に関し、特に各種カ
ラー撮像素子およびカラー液晶デイスプレー用の色分解
フィルターのブラックストライプの形成に好適な着色パ
ターンの形成方法に関する。

〔従来の技術〕

近年、カラー液晶デイスプレーの表示品位が大幅に向上
し、小型カラーテレビが商品化されているが、従来のブ
ラウン管（ｃＲＴ）に匹敵する表示品位を得るためには
、より色再現性や表示コントラストの優れたものが要求
されている。

この表示品位をより向上させる手段として、色分解フィ
ルターの各表示画素以外の部分を黒１色のパターンで覆
いブラックストライプを形成し、光の漏れを防止するこ
とにより、表示コントラストを向上させる方法が知られ
ている。

このブランクスドライブの形成方法としては、色分解フ
ィルターの異なる色、例えば赤、青、緑を重ね合わせる
ことによって、黒く見えることを応用したブラックスト
ライプの形成方法が知られているが、位置合わせが困難
であったり、色分解フィルター表面の凹凸が激しくなっ
たりして必ずしも満足できる表示性能を得ることができ
ない。

また、色分解フィルターの量産化などを考え、可染性材
料からなるパターンを黒色で染色し、フラックストライ
ブを形成することが試みられているが、可染性パターン
形成材料として従来使用されているゼラチン、カゼイン
などでは、薄膜（１μｍ程度）で光線透過率の小さいブ
ラックストライブが作製できないという問題を有してい
る。

（発明が解決しようとする課題〕 本発明は、前記従来の技術的課題を背景になされたもの
で、薄膜で染色性に優れ、特に黒色の場合には光線透過
率が非常に小さく、かつ解像度の優れたブラックストラ
イプとして好適な着色パターンの形成方法を提供するこ
とを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、（ａ）ビニルラクタム類（以下「（ａ）成分
」ということがある）　、（ｂ）　４級アミンの構造を
有しかつ重合可能な不飽和結合を有する単量体（以下「
（ｂ）成分」ということがある）、および（ｃ）（メタ
）アクリル酸エステル（以下「（ｃ）成分」ということ
がある）との共重合体（以下、単に「共重合体」という
）を含有してなる可染性感放射線性樹脂を、基板に塗布
し、放射線を照射し、現像してパターンを形成させたの
ち、金属錯塩を有するアゾ系酸性染料で染色する着色パ
ターンの形成方法を提供するものである。

本発明の共重合体に使用されるｆａｌ成分としては、例
えば下記−機成（Ｉ）または（ＩＩ）で表される化合物
が挙げられる。

ＨＣ＝ＣＨ２ ／ （式中、Ｒ１、Ｒ７は、それぞれ同一でも異なっていて
もよく、水素原子またはメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基などの炭素数１〜５のアルキ
ル基を表す。） 前記（ａ）成分の具体例としては、Ｎ−ビニル−２ピロ
リドン、Ｎ−ビニル−５−メチル−２−ピロリドン、Ｎ
−ビニル−２−ピペリドンなどのＮ−ビニルラクタム類
を挙げることができる。

この（ａｌ成分のうち、特にＮ−ビニル−２−ピロリド
ンが好ましい。

また、（ｂｌ成分としては、例えば下記−機成（ＩＩＩ
）で表される化合物を挙げることができる。

／ ＼ Ｉ２ ・　・　・　・　・　・　・　（ＩＩＩ）（式中、Ｒ８
は水素原子またはメチル基、Ｒ９は２価の有機基、Ｒ”
〜Ｒ１３はそれぞれ同一でも異なっていてもよ（、水素
原子または１価の有機基、Ｚは酸素原子またはイミノ基
、Ｘ−はアンモニウム塩を形成しうるアニオン種を表す
。）−機成（１）において、Ｒ９としては、例えばメチ
レン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソ
ブチレン基、フェニレン基、キシリレン基などの２価の
脂肪族基、脂環族基および芳香族基を、またＲＩＧ〜Ｒ
′２としては、水素原子のほか、メチル基、エチル基、
プロピル基、フェニル基、ベンジル基などの１価の炭化
水素基を挙げることができる。

また、−機成（ＩＩＩ）において、Ｘ−とじては、例え
ば塩素イオン、スルホン酸イオンなどの無機アニオン種
、カルボニウムイオン、スルホニウムイオンなどの有機
アニオン種を挙げることができる。

これらの−機成（Ｉ［Ｉ）で表されるｆｂｌ成分の具体
例としては、２−メタクリロイルオキシエチルトリメチ
ルアンモニウム、２−アクリロイルオキシエチルトリメ
チルアンモニウム、２−メタクリロイルオキシエチルト
リエチルアンモニウム、２アクリロイルオキシエチルト
リエチルアンモニウム、３−（Ｎ−メタクリロイル）ア
ミノプロピルトリメチルアンモニウム、３−（Ｎ−アク
リロイル）アミノプロピルトリメチルアンモニウム、３
（Ｎ−メタクリロイル）アミノプロピルトリエチルアン
モニウム、３−（Ｎ−アクリロイル）アミノプロピルト
リエチルアンモニウムなどと、無機アニオン種または有
機アニオン種の組み合わせから得られる化合物；２−メ
タクリ口イルオキシエチルジエチルアンモニオアセテー
ト、２−アクリロイルオキシエチルジエチルアンモニオ
アセテート、３−（Ｎ−メタクリロイル）アミノプロピ
ルジメチルアンモニオアセテート、３−（Ｎ−メタクリ
ロイル）アミノプロピルジエチルアンモニオアセテート
、３−（Ｎ−アクリロイル）アミノプロピルジエチルア
ンモニオアセテート、２−メタクリロイルオキシエチル
ジエチルアンモニオスルフェート、３−（Ｎ−メタクリ
ロイル）アミノプロピルジエチルアンモニオスルフェー
トなどと、無機アニオン種または有機アニオン種の組み
合わせから得られる化合物を挙げることができる。

これらのうち、染料の分散性、溶液の安定性、重合体の
塗膜形成性、現像性などの点で、２−アクリロイルオキ
シエチルトリメチルアンモニウムクロリド、２−メタク
リロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロリド
、３−（Ｎ−アクリロイル）アミノプロピルトリメチル
アンモニウムクロリド、３−（Ｎ−メタクリロイル）ア
ミノプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、２−メ
タクリロイルオキシエチルジエチルアンモニオアセテー
ト、３−（Ｎ−アクリロイル）アミノプロピルジエチル
アンモニオアセテートなどが特に好ましい。

これらの（ｂｌ成分は、１種単独で使用することも、ま
たは２種以上を併用することもできる。

さらに、（ｃ１成分は、本発明で使用される可染性感放
射線性樹脂を用いてパターンを形成する際に使用する現
像液に対する共重合体の溶解度を制御する目的で使用さ
れるものである。

この（ｃ）成分としては、下記−機成（ＩＶ）で表され
る化合物を例示することができる。

Ｉ３ （式中、ＲＩ３は水素原子またはメチル基、ＲＩ４は炭
素数１〜８の有機基を表す。） この（ｃ）成分を構成する前記−機成（ｒＶ）中のＲＩ
４である炭素数１〜８の有機基は、例えばメチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、フェニル基、２−
エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプ
ロピル基、ヒドロキシブチル基などであり、好ましくは
直鎖状アルキル基である。

ｔＣ）成分の具体例としては、アクリル酸メチル、メタ
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチ
ル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、メタクリ
ル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸フェニル、メタ
クリル酸フェニル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、ア
クリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸−２−ヒドロキ
シプロピル、メタクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、
アクリル酸−２−ヒドロキシブチル、メタクリル酸−２
−ヒドロキシブチルなどを挙げることができる。

これらの（ｃ）成分は、１種単独で使用することも、ま
たは２種以上を併用することもできる。

本発明の共重合体に使用される（ａ）成分、（ｂ）成分
および（ｃ１成分の共重合割合は、通常、（ａｌ成分が
３０〜９４モル％、好ましくは６０〜８０モル％、（ｂ
ｌ成分が５〜６０モル％、好ましくは１０〜３０モル％
、（ｃ）成分が１〜５０モル％、好ましくは５〜３０モ
ル％である。

（ａｌ成分が３０モル％未満ではパターン形成時の解像
性が低下したり、膜荒れが生じることがあり、一方９５
モル％を超えると（′ｂ）成分の割合が少なくなり染色
性が低下することがある。

また、（ｂｌ成分が５モル％未満では染色性が低（、膜
厚が１μｍ前後での光線透過率を小さくすることが困難
であり、一方６０モル％を超えると（ａｌ成分および（
ｃ１成分のモル比が少なくなり、パターン形成時の解像
性が低下したり、膜荒れが生じる場合がある。

さらに、（ｃ）成分が１モル％未満では、パターン形成
時の解像性が低下することがあり、一方５０モル％を超
えると膜荒れが生じやすくなる。

なお、前記共重合体自体に感放射線性を付与するために
、放射線感応性単量体、例えば４′−メタクリロイロキ
シカルコン、４′−アクリロイロキシカルコン、４−メ
タクリロイロキシカルコン、４−アクリロイロキシカル
コン、４′−メタクリロイコキシ−４−メトキシカルコ
ン、４′−アクソロイロキシ−４−メトキシ男ルコン、
４−メタクリロイワキシー４′−メトキシカルコン、４
−アクリロイロキシ−４′−メトキシカルコン、４′−
メタクリロイコキシ−４−ニトロカルコン、４′−アク
リロイロキシ−４′−ニトロカルコンなどのカルコン誘
導体を共重合することもできる。

これらのうち、共重合体の可視光線領域での透明性およ
び感放射線性の点で４′−メタクリロイロキシカルコン
、４′−メタクリロイコキシ−４−メトキシカルコンが
好ましい。

この放射線感応性単量体の共重合体中における共重合割
合は、通常、２〜６０モル％、好ましくは１０〜４０モ
ル％である。

なお、本発明で使用される共重合体の分子量は、特に制
限されるものではないが、通常、ポリスチレン換算重量
平均分子量が、５，０００〜１．０００，０００、好ま
しくは１０．０００〜５００．０００である。

また、前記共重合体の重合形態は特に制限されず、ラン
ダム共重合体、ブロック共重合体などのいずれでもよく
、また重合方法も溶液重合、乳化重合などのいずれでも
よいが、好ましくは溶液重合である。

この溶液重合では、共重合体を溶解しうる溶媒にｆａ）
〜（ｃ）成分、さらに必要に応じて放射線感応性単量体
を混合し、溶解させ、重合開始剤を用いて重合する。

この重合に用いられる溶媒は、共重合体を溶解しうる溶
媒であれば特に制限はなく、具体的には水；メタノール
、エタノールなどのアルコール系溶媒；メトキシエタノ
ール、エトキシエタノールなどのセロソルブ系溶媒；エ
チレングリコール、ジエチレングリコールなどのジオー
ル系溶媒；エチレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールエチルエーテルアセテートなど
のエステル系溶媒；Ｎ−メチルピロリドン、ＮＮ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、Ｔ−ブチロラクトンなどの非プロ
トン性極性溶媒を挙げることができ、これらは１種単独
であるいは２種以上を組み合わせて用いることもできる
。

溶媒は、単量体に対する重量比で、通常、溶媒／単量体
が１／１〜１０／１、好ましくは２／１〜４／１である
。

なお、これらの溶媒は、本発明で用いられる可染性感放
射線性樹脂を溶液とする際の溶媒としても使用される。

重合開始剤としては、ラジカル、アニオン、またはカチ
オンを発生させる化合物を用いることができ、例えばク
メンヒドロペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシ
ド、ナトリウムナフタレン、トリクロロ酢酸、トリフロ
ロホウ素、アゾビスイソブチロニトリルなどを挙げるこ
とができる。

この重合開始剤の使用量によって、共重合体の分子量を
調整することができ、その使用量は、通常、共重合する
単量体の総量１００重量部に対して０．０１〜５重量部
である。

また、重合温度は、通常、０〜２００℃、好ましくは５
０〜１００°Ｃである。

さらに、共重合体の分子量を調整する目的で、重合系に
連鎖移動剤または重合禁止剤を添加することもできる。

本発明に使用される可染性感放射線性樹脂は、このよう
にして得られた共重合体の重合溶液をそのまま、または
）農縮し、さらには希釈して使用することができ、また
共重合体を分離し、再溶解して用いることもできる。

本発明では、前記共重合体が感放射線性を付与されてい
ない場合、共重合体に感放射線性を付与するために感放
射線架橋剤が加えられるが、この感放射線架橋剤として
は、例えばビスアジド化合物などを挙げることができる
。

前記ビスアジド化合物としては、例えば４，４′−ジア
ジドスチルベン−２，２′−ジスルホン酸、４．４′−
ジアジドヘンザルアセトフェノン−２スルホン酸、４．
４′−ジアジドスチルヘンα−カルボン酸およびこれら
のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などの水
溶性ビスアジド化合物；ｐ−フェニレンビスアジド、４
，４′−ジアジドベンゾフェノン、４，４′−ジアジド
スチルヘン、４．４′−ジアジドジフェニルメタン、４
．４′−ジアジドベンザルアセトフェノン、２．６−ビ
ス−（４′−アジドベンザル）シクロヘキサノン、２，
６−ビス−（４′−アジドヘンザル）−４−メチルシク
ロヘキサノンなどの？由？容性ビスアジド化合物を挙げ
ることができる。

感放射線架橋剤の添加量は、可染性感放射線性樹脂が耐
溶剤性および接着性を有する塗膜となる範囲で任意に使
用できるが、通常、前記共重合体１００重量部に対して
、０．５〜２０重量部、好ましくは１〜１５重量部であ
り、０．５重量部未満では放射線架橋が生じ難く、一方
２０重量部を超えて使用すると放射線により分解した生
成物どうしの反応が起こり、さらに塗膜にした場合の安
定性が不充分になることがある。

なお、前記放射線感応性単量体を共重合した共重合体の
場合も、怒放射線架橋剤を併用することもできる。

また、本発明に使用される可染性感放射線性樹脂には、
該樹脂の粘度の調整、塗工性の改善、塗膜の基板に対す
る密着性改善、塗膜の平坦化性改善、現像特性の改善な
どを目的として、その他の添加物を配合することができ
る。

ここで、その他の添加物としては、充填剤、前記以外の
高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、
紫外線吸収剤、凝集防止剤、増感剤などを挙げることが
できる。

これらの添加物の具体例としては、ガラス、アルミナな
どの充填剤；ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、
ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフ
ロロアルキルアクリレートなどの高分子化合物；ノニオ
ン系、カチオン系、またはアニオン系界面活性剤；ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２
アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルト
リメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
３−グリシドキシプロビルメチルジメトキシシラン、２
−　（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシ
ラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカ
プトプロピルトリメトキシシランなどの密着促進剤；２
，２−チオビス（４−メチル６−ｔ−ブチルフェノール
）、２．．６−ジーｔブチルフエノールなどの酸化防止
剤１２−（３ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキ
シヘンシフエノンなどの紫外線吸収剤；ポリアクリル酸
ナトリウム、ポリメタクリル酸ナトリウムなどの凝集防
止剤；２−ジベンゾイルメチレン３−メチル−β−ナフ
トチアゾリン、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４−（４
−アミロキシフェニル）−２，６−ビス（４−メトキシ
フェニル）チアピリリウム過塩素酸などの増感剤を挙げ
ることができる。

このようにして得られる可染性感放射線性樹脂溶液の粘
度は、共重合体の分子量、使用する溶媒などにより異な
るが、通常、２０〜ａｏｏｃｐｓ（２５°Ｃ）、好まし
くは５０〜２００ｃｐｓ　（２５℃）になるように調整
される。

なお、この際の可染性感放射線性樹脂溶液の固形分濃度
は、通常、５〜２０重量％程度である。

次に、本発明では、このようにして得られる可染性感放
射線性樹脂を用いて、基板上に、例えばスピンコーター
法、ロールコータ−法、スクリーン印刷法、スプレー法
などで任意の厚さ、例えば乾燥膜厚で１〜２μｍとなる
ように塗膜を形成し、例えば７０〜１５０°Ｃで１０〜
３０分程度乾燥する。

ここで、本発明で使用される可染性感放射線性樹脂の塗
膜が形成される基板としては、例えば液晶表示素子など
に用いられるソーダガラス、パイレックスガラス、石英
ガラスおよびこれらのガラスに透明導電膜を付着させた
ものや、固体撮像素子などに用いられる光電変換素子基
板、例えばシリコン基板などが挙げられる。

次に、パターンマスクを介して塗膜に、例えば１０〜１
，０ＯＯＩＴＩＪ／−の紫外線を照射し、次いで現像液
で現像する。

ここで、現像液としては、例えば水；メタノール、エタ
ノール、プロパツール、イソプロパツール、ブタノール
、イソブタノール、エチレングリコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル
、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノブチルエーテルなどのアルコール系溶媒を挙げる
ことができる。

前記現像は、デイフプ、スプレーなどの方法により、そ
れぞれ１〜５分程度行う。これらの工程ののち、塗膜を
充分乾燥させるために、通常、１００〜１８０℃で１５
〜６０分程度乾燥を行う。

次いで、このようにして形成されたパターンの染色を行
うために用いられる染料は、アゾ系の酸性染料でかつ金
属錯塩を有するものであり、例えば緑色染料、青色染料
、赤色染料、黒色染料などを挙げることができる。これ
らのうち、特に黒色染料は、薄膜で充分な遮光ができ、
ブラックストライプの形成に好適である。

このアゾ系酸性黒色染料としては、例えばラナシンブラ
・ツクＢＲＬ　（三菱化成側製）、カヤカランブラック
２ＲＬ　（日本化薬特製）、ブランク１８１　（日本化
薬■製）、ブラック２０５　（日本化薬■製）などが挙
げられるが、特に銅錯塩系染料の前記ブラック１８１お
よびブラック２０５が耐熱性の点で好ましい。

アゾ系酸性黒色染料のうちでも、その構造中に前述のよ
うに金属錯塩を有しないものでは、染色性が低いため、
薄膜において充分な遮光が困難である。

このアゾ系酸性黒色染料を用いる染色は、例えば該染料
の０・０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜２重量％
の水溶液に、前述のようにして形成されたパターンを有
する基板を、５〜９５℃、好ましくは４０〜８０℃で、
１〜３０分間程度浸清し、水洗後、乾燥することにより
行うことができる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこ
れらによって制限されるものではない。

なお、実施例中、部および％は、特に断らない限り重Ｍ
基準である。

実施例Ｉ Ｎ−ビニル−２−ピロリドン６０部、２−メタ／）　Ｉ
Ｊ　ロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロリ
ド２０部およびメタクリル酸メチル２ｏ部よりなる共重
合体１０部に、４，４′−ジアジドスチルベン−２，２
′−ジスルホン酸ナトリウム０．５部およびメチルセロ
ソルブ８９．５部を混合し、溶解させ、可染性感放射線
性樹脂溶液を作製した。

この可染性感放射線性樹脂溶液を、ガラス板にスピンコ
ーターを用いて乾燥膜厚がｌＩＪｍになるように塗布し
、これを１４０℃で３０分間乾燥したのち、所定のパタ
ーンを有するマスクを介して４０　ｍ　Ｊ　／　ｃｉの
紫外線を照射し、超純水に１分間浸漬して現像を行い、
所定のパターンを得た。

このガラス板を１８０℃で３０分間乾燥したのち、ブラ
ック１８１　（日本化薬■製、アゾ系酸性黒色染料）の
０．５％水溶液で７０℃で１０分間染色することにより
、黒色のパターンを有するガラス板が得られた。

得られた黒色パターンの膜厚は１．２μｍであり、黒色
パターンの４００〜７００ｎｍの光線透過率はすべて１
％以下であった。

また、黒色パターンの膜荒れやパターンの崩れは全くな
く、瘉めて優れたパターン形状を有していた。

比較例１ 実施例１の可染性感放射線性樹脂の代わりに、ゼラチン
と重クロム酸アンモニウムとを溶解させた溶液を用いて
、実施例１と同様に乾燥膜厚が１μｍになるようにガラ
ス板に塗布し、乾燥し、次いで露光＜　１００　ｍ　Ｊ
　／　ｃｔＡの紫外ｖＡ）Ｌ、現像（超純水、１分間浸
漬）し、乾燥（１５０“Ｃ１３０分間）し、実施例１と
同一条件で染色を行い、黒色パターンを得た。

得られた黒色パターンの膜厚は１．１μｍであり、黒色
パターンの４００〜７００ｎｍの光線透過率は、２０〜
７０％であった。

比較例２ 実施例１の可染性感放射線性樹脂の代わりに、カゼイン
と重クロム酸アンモニウムとを溶解させた溶液を用いて
、比較例１と同様の方法で黒色パターンを得た。

得られた黒色パターンの膜厚は１．１μｍであり、黒色
パターンの４００〜７００ｎｍの光線透過率は、２０〜
７０％であった。

実施例２ 実施例１において、ブラック１８１の代わりにブランク
２０５　（日本化薬■製、アゾ系酸性黒色染料）を用い
た以外は、実施例１と同様にして黒色パターンを得た。

得られた黒色パターンの膜厚は１．２μｍであり、黒色
パターンの４００〜７００　ｎｍの光線透過率は１％以
下であった。

実施例３ Ｎ−ビニル−２−ピロリドン５０部、３−（Ｎ−メタク
リロイル）アミノプロピルトリメチルアンモニウムクロ
リド３０部およびアクリル酸エチル２０部よりなる共重
合体１０部に、４，４′ジアジドカルコン０．５部およ
びエチルセロソルブ８９．５部を混合し、溶解させ、可
染性感放射線性樹脂溶液を作製した。

この可染性感放射線性樹脂溶液を用いて、実施例１と同
様の操作により黒色パターンを得た。

得られた黒色パターンの膜厚は１、ｌｕｍであり、黒色
パターンの４００〜７００ｎｍの光線透過率は、１％以
下であった。

〔発明の効果〕

本発明は、可染性材料からなるパターンを染色して着色
パターンを形成するにもかかわらず、膜厚が１μｍ前後
でも高い染色性を有しており、従来のゼラチン、カゼイ
ンなどの可染性感光性材料では不可能であった色分解用
フィルターの品質向上が図れ、特に黒色で染色すること
によって遮光性に優れたブラックストライプを形成する
ことが可能となる。

特許出願人　日本合成ゴム株式会社 代理人　　弁理士　白　井　重　隆

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）（ａ）ビニルラクタム類、（ｂ）４級アミンの構
   造を有しかつ重合可能な不飽和結合を有する単量体、お
   よび（ｃ）（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体を
   含有してなる可染性感放射線性樹脂を、基板に塗布し、
   放射線を照射し、現像してパターンを形成させたのち、
   金属錯塩を有するアゾ系酸性染料で染色する着色パター
   ンの形成方法。