JPH0238758A - 電着ベローズ、その製造方法、および密封型接点装置 - Google Patents

電着ベローズ、その製造方法、および密封型接点装置

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JPH0238758A
JPH0238758A JP18750188A JP18750188A JPH0238758A JP H0238758 A JPH0238758 A JP H0238758A JP 18750188 A JP18750188 A JP 18750188A JP 18750188 A JP18750188 A JP 18750188A JP H0238758 A JPH0238758 A JP H0238758A
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JP
Japan
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bellows
electrodeposited
film
contact
electrodeposition
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Pending
Application number
JP18750188A
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English (en)
Inventor
Yoshinobu Takegawa
竹川 禎信
Toru Fujiwara
徹 藤原
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、電着ベローズ、その製造方法、および、前
記電着ベローズを用いた密封型接点装置に関する。
C従来の技術〕 電磁開閉器、パワーリレーなどに用いられる接点装置と
して、水素、または、水素と窒素からなる混合ガスが封
入されている容器内に、固定接点および可動接点が設け
られている密封型の接点装置がある(たとえば、特開昭
61−078016号公報参照)。水素は、その熱伝導
率が大きく、アークを冷却する作用が強いので、接点開
離時に発生するアークを短時間で消滅させることができ
る。そのため、接点の消耗が少なくなり、接点寿命を延
ばすことができる。窒素は、水素を封入することにより
起こる絶縁性の低下を補う。また、密封型の接点装置は
、接点の酸化が進みにくいという利点もある。
密封型接点装置(または封止接点装置)には、電着方法
により作製され高い気密性を保ちながら伸び縮みする電
着ベローズが用いられている。この電着ベローズは、特
開昭50−26940号公報にその1例が記載されてい
る。その1つは、第7図および第8図にみるようにして
形成される。
前記電着ベローズは、第7図にみるアルミ材料の原型3
0を用いて作製される。この原型30の一部は第8図(
a)にあられされており、その一部を例にとって電着さ
れる様子を説明する。原型30の表面には、同図(bl
にみるように、内層としてニッケル膜(硬質金属膜)3
1が電着により形成される。その上に、同図(C1にみ
るように、銅1!* (軟質金属膜)32が同じく電着
により形成される。この銅膜32の表面には、同図(d
lにみるように、ニッケル膜33が電着により形成され
る。これら3つの膜31.32.33が形成されたのち
、内部の原型30はNaOH溶液で熔解されて、外部の
3つのIj131,32.33のみが残され、これによ
り1つの電着ベローズが得られる。得られた電着ベロー
ズは、電着により作製されるため、微細にわたる作製が
可能であって、1〜2鶴程度の微小なものでも作製でき
、板厚も、電着時間に基づいて大小に得ることができる
。したがって、ベローズの特性であるばね定数を、他の
ベローズよりも十分低くしたり、受圧面積や伸縮量等も
、他のベローズでは期待できない程度に得ることが可能
である。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、この電着ベローズは、前記のような特徴を有
するが、電着により極めて薄い膜のみからなっている。
この電着ベローズを、水素を封入した密封型接点装置な
どに用いる場合、封入しておいた水素ガスが長期使用の
間にベローズを透過して漏れていく。その結果、内部の
水素ガスの圧力が低下し、電気開閉特性が低下するとい
う問題が生じる。
このような事情に鑑みて、この発明は、水素透過性が、
ばね特性等を損なうことなく、低くなるようにした電着
ベローズを提供することを第1の課題とし、そのような
電着ベローズを容易に製造する方法を提供することを第
2の課題とし、接点周辺部に封入した水素ガスの漏れを
低減することにより、電気開閉特性が長期にわたって低
下しにくい密封型接点装置を提供することを第3の課題
とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記第1の課題を解決するため、請求項1の発明にかか
る電着ベローズは、原型の表面に電着により形成され前
記原型の溶解により残される少なくとも1層の電着膜で
構成され、内側および外側の各表面の少なくとも一方が
、有機高分子化合物からなる水素透過防止膜で覆われて
いるものとされている。
上記第2の課題を解決するため、請求項2の発明にかか
る電着ベローズの製造方法は、請求項1の発明にかかる
電着ベローズを製造するにあたり、水素透過防止膜の形
成が、電着を行う電解液に有機高分子化合物を添加して
おき、電着膜形成時に同電着膜表面に前記有機高分子化
合物を付着させることにより行われるものとされている
上記第3の課題を解決するため、請求項3の発明にかか
る密封型接点装置は、固定接点と可動接点を収容した容
器と前記可動接点の離接動作を行う接点端子との間を気
密に塞ぐベローズが、請求項1記載の電着ベローズとさ
れている。
〔作   用〕
請求項1の発明にかかる電着ベローズは、有機高分子化
合物からなる水素透過防止膜により、水素透過性が、ば
ね特性等を損なうことなく、低くなる。
請求項2の発明にかかる電着ベローズの製造方法は、電
着時に同時に水素透過防止膜を形成することができる。
請求項3の発明にかかる密封型接点装置は、電着ベロー
ズからの水素の透過量が低減するため、封入された水素
の漏れが低減する。
〔実 施 例〕
以下に、この発明を、その実施例を表す図面を参照しな
がら詳しく説明する。
第1図および第2図は、請求項2の発明にががる電着ベ
ローズの製造方法の1実施例を表し、第2図(C3は請
求項1の発明にかかる電着ベローズの1実施例も表す。
この電着ベローズ23は、第1図にみるように、アルミ
材料からなる原型230を用いて作製される。この原型
230は、その胴部が山部230a・・・と谷部230
b・・・とを備えた波形の断面形状をしていて、この胴
部が、ベローズの蛇腹部分を形成する。前記原型230
は、電着に先立って表面処理されて、電着が効果的に行
われるようにされる。この原型230の胴部の一部は、
第2図(alに拡大して示されていて、この−部を例に
とって電着される様子を説明する。前記原型230の表
面には、同図山)にみるように、最も内層となるニッケ
ル膜231が電着により形成される。その上に、同図(
C1にみるように、中間層である銅膜232が同じく電
着により形成される、このw41ff232の表面には
、同図(d)にみるように、ニッケル膜233が電着に
より形成される。
これら電着15!!231,232,233は、それぞ
れ、たとえば、20〜50nの厚みとされるが、もちろ
んこの範囲に限るものではない。このニッケル膜233
の表面を、同図(elにみるように水素透過防止膜23
4で覆う。水素透過防止膜は、たとえば、数十原子(ま
たは分子)層の厚みとされるが、これに限るものではな
い、水素透過防止膜234を形成したのち、内部の原型
230は、たとえば、NaOH溶液で溶解されて、外部
の4つの膜231,232,233,234が残り、こ
れにより電着ベローズ23が得られる。
前記水素透過防止膜234は、有機高分子化合物からな
り、電着ベローズの上記のような特性を活かしつつ、水
素透過量を低減させるものである。水素を透過させにく
くするためには、薄い皮膜で有効である。有機高分子化
合物としては、電着膜の強度に影響を与えないもの、た
とえば、糖類、樹脂、ゴムなどが使用できるが、これら
に限定されない。前記糖類としては、たとえば、アルデ
ヒド基を持つものが用いられる。これにあてはまる糖類
は、グリコールアルデヒド、グリセリンアルデヒド、ジ
オキシアセトン、エリスロース(エリトロース)、アラ
ビノース、キシロース、リボース、ブドウ糖、ガラクト
ース、果糖などが挙げられる。添加量は、0.01g/
il!〜1g/2が通する。この範囲よりも高濃度で、
めっき液(電解液)中に有機高分子化合物が含まれると
、電着膜にピント発生、密着不良、電着強度の低下等が
起こることがある。前記範囲よりも少ないと、水素透過
量を低減させられないことがある。
水素通過防止1’J234の形成方法は、特に限定はな
いが、たとえば、前記を機高分子化合物の溶液または分
散液に前記電着膜を形成したものを、あるいは、電着膜
形成後に原型230を溶解除去したものを?! ?i 
して付着させ、乾燥などにより皮膜とする方法が利用で
きる。最も外側の層となる電着膜を形成するための電解
液に前記有機高分子化合物を添加しておけば、電着と同
時に有機高分子化合物からなる膜も形成することができ
、請求項1の発明にかかる電着ベローズの製造が容易に
行われる。
上記実施例では、有機高分子化合物膜は、原型を熔解す
る前に形成していたので、電着ベローズの最も外側の層
として形成されていたが、これに限られず、原型を熔解
した後に、電着ベローズの最も内側および外側の層とし
て2層形成されてもよく、その形成の仕方には限定はな
い。
以上述べた構造の電着ベローズは、たとえば、密封型接
点装置(以下、単に「接点装置」と言う)に用いられる
第3〜5図は、請求項3の発明にかかる接点装置の1実
施例を表す。この接点装置1は、たとえば、タングステ
ンで形成された略円板状の固定接点2と可動接点3が収
容されている容器を備えている。固定接点2と可動接点
3は、両者を接触させたとき、その頂部において線接触
するように配置されている。この実施例では、容器は、
胴部4、下板5、上板6および支持筒7から構成されて
いる。これら各部材が気密に接合されていることはいう
までもない、胴部2は、アルミナなどのセラミックで形
成され、下Fi5および上板6は、たとえば、無酸素銅
、または、42アロイのような導電性金属材料で形成さ
れている。下板5と上板6の内側には、それぞれ、絶縁
部材10.22が設けられている。
固定接点2は、無酸素銅などからなる接点端子8の先端
に固着されている。接点端子8は、下板5にカシメなど
により固定されている。下板5には、封入ガスの充填に
用いられた導電性の通気管9が取り付けられている。固
定接点2は、固定端子8、下板5および通気管9の3つ
の導電性部材を通して外部と電気的に接続されている。
この実施例では、通気管9が導電性端子として利用され
ているのである。
可動接点3は、無酸素銅などからなる接点端子21の先
端(一端)に固着されている。接点端子21の後端(他
端)は、孔22aと孔6aを通って容器外に出ている。
容器の一部である支持筒7と接点端子21の間は上記電
着ベローズ23により気密に塞がれている。電着ベロー
ズ23の一端23aは支持筒7へ、他端23bは接点端
子21にそれぞれ気密に接合されている。接点端子21
は、可動接点3を固定接点2と離接させる方向に移動可
能になっている。接点端子2Iが矢印A向きに移動する
と、可動接点3が引き上げられ、接点開離がなされる。
リレーなどの場合、接点端子21は電磁石(図示省略)
により移動させられる構成となっている。電着ベローズ
23は、この接点端子21を移動可能な状態にして、し
かも、気密に接合するために使用されている。
気密に接合するためには、たとえば、溶接が利用される
が、これに限るものではない。
容器内に封入されるガスは、通気管9内から下板5の通
孔5aと絶縁部材IOの通気孔10aを経て密封空間1
1に到る経路で導入される。封入ガスの導入が終わると
、通気管9は気密に封止される。封入ガスとしては、た
とえば、水素が2気圧程度と少し加圧気味に単独で封入
されることもあるし、たとえば、窒素とともに封入され
ることもある。水素と窒素の混合ガスが用いられる場合
、窒素の混合比率が20〜97%であることが好ましい
なお、下板5は、U字形に屈曲したものであって、その
伸延端5b、5bに配設されている永久磁石24.25
は、その磁力でもって、接点開離時に発生するアークを
固定接点2の先端から下側に移動させる。このようにす
ることにより、アークが引き伸ばされてアーク電圧が高
まり、アーク消滅が早められる。これらの永久磁石24
.25は設置されなくてもよい。
この発明は、上記実施例に限定されない。この発明にか
かる電着ベローズは、接点装置に利用されることに限ら
ず、他の用途にも使用してもよい、また、この発明にか
かる接点装置も、上記のものに限られない、接点装置で
は、接点を封止した容器にも水素透過防止膜を設けるよ
うにして、水素の漏れをさらに低減することも可能であ
る。水素透過防止膜は、水素の透過を完全に防止するも
ののみをいうのではなく、水素の透過量を低減させるも
のをも含む。また、水素透過防止膜は、電着ベローズの
内側表面のみを覆うように形成されていてもよいし、外
側表面のみを覆うように形成されていてもよいし、内側
および外側の両表面を覆うように形成されていてもよい
。また、電着膜の材質も上記のものに限らない。通常の
態様としては、ニッケルやクロム等の硬質金属材料に、
銅、金あるいは銀等の軟質金属材料を挟む構造とされる
。また、電着膜の層数は、1以上であれば限定されない
以下に、より具体的な実施例および比較例を示すが、こ
の発明は下記実施例に限られない。
−実施例− 第1図および第2図に示す手順に従って電着ベローズを
作製した。なお、ニッケル膜231,233を形成する
ための電解液(めっき液)に、ブドウ塘を0.05g/
j!となるように添加しておいた。この場合、内側のニ
ッケル膜231の表面にも有機高分子化合物が付着する
が、極めて薄いため、そのすぐ上に電着膜が形成される
のを阻害しなかった。
ニッケル膜231は厚み16n、銅膜232は厚み3μ
l、ニッケルIii!233は厚み16n重であった。
水素透過防止M(J234は、厚み1〜数環原子程度で
あった。水素透過防止膜234を電着ベローズ23の内
側表面および外側表面に設けたもの、外側表面にのみ設
けたもの、の両方得た。
−比較例− 実施例において、ニッケルLJ231,233を形成す
るための電解液に、ブドウ糖を添加しなかったこと以外
は、実施例と同様にして、第7図および第8図の手順に
従って、電着ベローズを作製した。
実施例および比較例の各電着ベローズを上述の接点装置
に組み込み、容器内に水素ガスを2気圧封入し、温度を
上昇させて水素透過量を測定した。その結果を第6図に
示した。第6図にみるように、実施例の電着ベローズを
用いた方(実1jl B )は、比較例(実ill C
)に比べて、水素透過量が低減しており、特に、250
℃以下では、極めて水素透過量が少ない。これは、電解
液中に含まれる糖類が、電着膜表面に付着し、水素透過
を阻害しているためと考えられる。なお、250℃から
高温で、水素透過量が増加しているのは、糖類が蒸発す
るためであると考えられる。水素透過量以外の特性は、
実施例および比較例の各電着ベローズとも、同等であっ
た。第6図の破線りは、水素透過量の検出限界の下限で
ある。
〔発明の効果〕
請求項1の簡明にかかる電着ベローズは、以上のような
ものであるので、電着ベローズの特性が活かされ、しか
も、水素透過性能が低減したものとなっている。
請求項2の発明にかかる電着ベローズの製造方法は、以
上のようなものであるので、従来の電着ベローズの製造
方法に新たに作製手順を増やすことなく、水素透過性能
の低い電着ベローズを得ることができる。
請求項3の発明にかかる接点装置は、以上のようなもの
であるので、封入された水素ガスが漏れに<<、電気開
閉特性が長期にわたって低下しにくいものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は請求項1の発明にかかる電着ベローズの作製に
用いられる原型の1実施例を表す断面図、第2図(al
ないしく1141は請求項2の発明にかかる電着ベロー
ズの製造方法を順を追って表した断面図、第3図は請求
項3の発明にかかる接点装置の断面図、第4図はそのn
−n断面図、第5図は電着ベローズと接点端子の接合の
様子の1例を表す模式的説明図、第6図は温度による水
素透過量の変化を表すグラフ、第7図は従来の電着ベロ
ーズの作製に用いられる原型の1例を表す断面図、第8
図ia)ないしfd)は従来の電着ベローズの製造方法
の1例を順を追って表した断面図である。 ■・・・接点装置 2・・・固定接点 3・・・可動接
点21・・・(可動接点の)接点端子 23・・・電着
ベローズ 230・・・原型 231・・・ニッケル膜
 232・・・銅1*233・・・ニッケル膜 234
・・・水素透過防止膜

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 原型の表面に電着により形成され前記原型の溶解に
    より残される少なくとも1層の電着膜で構成された電着
    ベローズにおいて、内側および外側の各表面の少なくと
    も一方が、有機高分子化合物からなる水素透過防止膜で
    覆われていることを特徴とする電着ベローズ。 2 水素透過防止膜の形成が、電着を行う電解液に有機
    高分子化合物を添加しておき、電着膜形成時に同電着膜
    表面に前記有機高分子化合物を付着させることにより行
    われる請求項1記載の電着ベローズの製造方法。 3 固定接点と可動接点が容器に収容され、一端に前記
    可動接点を有し他端が前記容器外に出ている接点端子が
    前記可動接点を前記固定接点と離接させる方向に移動可
    能に設けられていて、同接点端子の移動に伴い接点離接
    動作がなされるようになっており、前記容器と接点端子
    の間を気密に塞ぐベローズが前記接点端子へ接合されて
    いるとともに、少なくとも水素ガスが前記容器に封入さ
    れてなる密封型接点装置において、前記ベローズが、請
    求項1記載の電着ベローズであることを特徴とする密封
    型接点装置。
JP18750188A 1988-07-26 1988-07-26 電着ベローズ、その製造方法、および密封型接点装置 Pending JPH0238758A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008017599A1 (de) * 2008-04-07 2009-10-08 Witzenmann Gmbh Mehrlagiger Metallbalg und Verfahren zu dessen Herstellung

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008017599A1 (de) * 2008-04-07 2009-10-08 Witzenmann Gmbh Mehrlagiger Metallbalg und Verfahren zu dessen Herstellung

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