JPH02309321A - 配向処理装置 - Google Patents
配向処理装置Info
- Publication number
- JPH02309321A JPH02309321A JP13244889A JP13244889A JPH02309321A JP H02309321 A JPH02309321 A JP H02309321A JP 13244889 A JP13244889 A JP 13244889A JP 13244889 A JP13244889 A JP 13244889A JP H02309321 A JPH02309321 A JP H02309321A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- substrate
- laser
- ultraviolet laser
- oriented film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims abstract description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 11
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 11
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 7
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 7
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000399 orthopedic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は液晶表示素子の製造に利用され、特に、液晶分
子を液晶表示用基板に対して所定の方向に配向させるた
めの配向処理装置に関する。
子を液晶表示用基板に対して所定の方向に配向させるた
めの配向処理装置に関する。
本発明は、液晶分子を基板に対して所定の方向に配向せ
るための配向処理装置において、紫外線レーザ発生装置
から発射された紫外線レーザ゛を前記基板上の液晶配向
膜に照射して、前記紫外線レーザによる化学反応を用い
て配向処理を行うようにすることにより、 均一かつ再現性のよい配向処理が行われるようにしたも
のである。
るための配向処理装置において、紫外線レーザ発生装置
から発射された紫外線レーザ゛を前記基板上の液晶配向
膜に照射して、前記紫外線レーザによる化学反応を用い
て配向処理を行うようにすることにより、 均一かつ再現性のよい配向処理が行われるようにしたも
のである。
液晶表示素子では、液晶の電気光学的特性を制御するた
めに液晶分子を特定の方向に配向させる必要がある。一
般的には一1配向膜として例えばポリイミドのような高
分子樹脂が用いられ、特定の材料で特定の方向に擦る(
ラビング)方式が用いられる。
めに液晶分子を特定の方向に配向させる必要がある。一
般的には一1配向膜として例えばポリイミドのような高
分子樹脂が用いられ、特定の材料で特定の方向に擦る(
ラビング)方式が用いられる。
第4図はその代表例を示すもので、表面に布織布19を
有するローラー20を用い“C、ポリイミド配自模21
の表面を矢印の方向に擦る方式である。
有するローラー20を用い“C、ポリイミド配自模21
の表面を矢印の方向に擦る方式である。
前述した従来の配向処理方式では、ローラー表面の布織
布から繊維クズが発生する。通常ラビング後洗浄処理を
施すが、この繊維クズがとりきれず、ポリイミド配向膜
上に付着したまま次工程に進む場合もしばしば発生し、
2枚の基板間のギャップ不良をひきおこす。また、この
繊維クズの発生しないローラーのみを用いる清浄な配向
処理方式では、ローラーで擦るため、基板表面段差の影
響を受けやすく、隅々まで微細に配向処理を施すことが
困難である。
布から繊維クズが発生する。通常ラビング後洗浄処理を
施すが、この繊維クズがとりきれず、ポリイミド配向膜
上に付着したまま次工程に進む場合もしばしば発生し、
2枚の基板間のギャップ不良をひきおこす。また、この
繊維クズの発生しないローラーのみを用いる清浄な配向
処理方式では、ローラーで擦るため、基板表面段差の影
響を受けやすく、隅々まで微細に配向処理を施すことが
困難である。
すなわち、従来の配向処理装置には、均一で再現性のあ
る配向処理が困難である欠点がある。
る配向処理が困難である欠点がある。
本発明の目的は、前記の欠点を除去することにより、均
一で再現性のある配向処理ができる配向処理装置を提供
することにある。
一で再現性のある配向処理ができる配向処理装置を提供
することにある。
本発明は、液晶分子を基板に対して所定の方向に配向さ
せるための配向処理装置において、前記基板を取り付け
移動させるためのステージと、紫外線レーザ発生装置と
、この紫外線レーザ発生装置から発射された紫外線レー
ザを線状に整形する整形レンズと、前記紫外線レーザを
前記基板上の液晶配向膜に対して縞状に照射するための
マスクとを備えたことを特徴とする。
せるための配向処理装置において、前記基板を取り付け
移動させるためのステージと、紫外線レーザ発生装置と
、この紫外線レーザ発生装置から発射された紫外線レー
ザを線状に整形する整形レンズと、前記紫外線レーザを
前記基板上の液晶配向膜に対して縞状に照射するための
マスクとを備えたことを特徴とする。
紫外線レーザが照射された配向膜表面領域では、紫外線
レーザ照射で生成された雰囲気中のオゾンにより高分子
樹脂表面が酸化されて気化する。このため、紫外線レー
ザが照射された領域のみ表面が凹む。このように本発明
では、化学反応を利用して非接触で配向膜表面に凹凸を
設けるため、従来法で発生した繊維クズによる工程不良
および配向処理の不均一性の問題を解決でき、均一で再
現性のある配向処理を行うことが可能となる。
レーザ照射で生成された雰囲気中のオゾンにより高分子
樹脂表面が酸化されて気化する。このため、紫外線レー
ザが照射された領域のみ表面が凹む。このように本発明
では、化学反応を利用して非接触で配向膜表面に凹凸を
設けるため、従来法で発生した繊維クズによる工程不良
および配向処理の不均一性の問題を解決でき、均一で再
現性のある配向処理を行うことが可能となる。
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図は本発明の一実施例の構成を示す説明図である。
本実施例は、液晶分子を基板6に対して所定の方向に配
向させるた約の配向処理装置において、本発明の特徴と
するところの、基板6を取り付け移動させるためのX
−、Yステージ7と、紫外線レーザ発生装置1と、この
紫外線レーザ発生装置1から発射された紫外線レーザ8
を線状に整形する整形レンズ2と、この整形レンズ2に
よって整形された紫外線レーザ8を反射するミラー3と
、このミラー3により反射された紫外線レーザ8を基板
6上の液晶配向膜5に対して縞状に照射するためのマス
ク4とを備えている。
向させるた約の配向処理装置において、本発明の特徴と
するところの、基板6を取り付け移動させるためのX
−、Yステージ7と、紫外線レーザ発生装置1と、この
紫外線レーザ発生装置1から発射された紫外線レーザ8
を線状に整形する整形レンズ2と、この整形レンズ2に
よって整形された紫外線レーザ8を反射するミラー3と
、このミラー3により反射された紫外線レーザ8を基板
6上の液晶配向膜5に対して縞状に照射するためのマス
ク4とを備えている。
次に、本実施の構成の詳細と動作の概要について説明す
る。
る。
紫外線レーザ発生装置lからでた紫外線レーザ8を整形
レンズ2に通して線状ビームに整形する。
レンズ2に通して線状ビームに整形する。
本実施例では紫外線レーザとしてKrFエキシマレーザ
(波長248nm)を用いた。また、整形レンズ2によ
り幅2市長さ30+nmの線状に整形した。線状に整形
された紫外線レーザ8をミラー3で反射させた後、マス
ク4を通して基板6上の液晶配向膜5の表面に縞状に紫
外線レーザ8を照射させる。マスク4のパターン形状と
しては、基本的にラインアンドスペース状のものが用い
られる。本実施例では寸法として1μmピッチを用い、
マスク4のパターン領域の大きさとして40 mm X
20 m+nを用いた。
(波長248nm)を用いた。また、整形レンズ2によ
り幅2市長さ30+nmの線状に整形した。線状に整形
された紫外線レーザ8をミラー3で反射させた後、マス
ク4を通して基板6上の液晶配向膜5の表面に縞状に紫
外線レーザ8を照射させる。マスク4のパターン形状と
しては、基本的にラインアンドスペース状のものが用い
られる。本実施例では寸法として1μmピッチを用い、
マスク4のパターン領域の大きさとして40 mm X
20 m+nを用いた。
基板6は、X−Yステージ7上に載置され、基板6上の
必要領域に紫外線レーザが照射されるように基板6を移
動させる。
必要領域に紫外線レーザが照射されるように基板6を移
動させる。
第2図は本実施例の装置を用いて配向処理を行った一例
を示す基板断面図である。厚さ1.1n+mのガラス基
板ll上に、厚さ1000 AのITO膜からなる透明
電極10をスパッタリング法で形成し、透明電極、IO
上に液晶配向膜として厚さ1000人のポリイミド配向
膜9を印刷法により形成した。
を示す基板断面図である。厚さ1.1n+mのガラス基
板ll上に、厚さ1000 AのITO膜からなる透明
電極10をスパッタリング法で形成し、透明電極、IO
上に液晶配向膜として厚さ1000人のポリイミド配向
膜9を印刷法により形成した。
次に、ガラス基板11をX−Yステージ7上に載置し、
清浄な空気中で、ガラス基板11をマスク4のライン方
向に毎秒20mmの速度で移動させながら、KrFエキ
シマレーザをポリイミド配向膜9の表面に照射した結果
、深さ約200人、lJL[Ilピンチの表面凹凸が形
成された。
清浄な空気中で、ガラス基板11をマスク4のライン方
向に毎秒20mmの速度で移動させながら、KrFエキ
シマレーザをポリイミド配向膜9の表面に照射した結果
、深さ約200人、lJL[Ilピンチの表面凹凸が形
成された。
このような配向処理方式を用いて液晶ディスプレイパネ
ルを作成した。第3図は液晶表示セル構成を示す断面図
で、アクティブ素子層17とポリイミド配向膜A16と
が順次積層された構造を有するガラス基板18と、IT
Oからなる透明電極13と、ポリイミド配向膜B14が
順次積層された構造を有するガラス基板12との間に層
厚4μlの液晶15が封入されている。
ルを作成した。第3図は液晶表示セル構成を示す断面図
で、アクティブ素子層17とポリイミド配向膜A16と
が順次積層された構造を有するガラス基板18と、IT
Oからなる透明電極13と、ポリイミド配向膜B14が
順次積層された構造を有するガラス基板12との間に層
厚4μlの液晶15が封入されている。
このような液晶ディスプレイパネルを作成して光学特性
を評価した結果、従来のラビング処理方式で配向処理し
た場合よりも均一性の優れた良好な液晶配向状態が得ら
れた。またこのようなパネルを20個作成したところ、
いずれも良好な表示特性が得られ、再現性の点でも従来
の方式に比べて優れていた。
を評価した結果、従来のラビング処理方式で配向処理し
た場合よりも均一性の優れた良好な液晶配向状態が得ら
れた。またこのようなパネルを20個作成したところ、
いずれも良好な表示特性が得られ、再現性の点でも従来
の方式に比べて優れていた。
また、紫外線レーザとして^rFエキシマレーザ(波長
1931m)を用だ場合も検討したつ紫外線レーザ照射
時における基板6の移動速度20mm/secの場合に
、ポリイミド配向膜表面に深さ150A、1μ0ピツチ
の表面凹凸を形成できた。さらにこれを用いて液晶ディ
スプレイパネルを作成し、表示特性を評価した結果、良
好な液晶配向状態がv1認された。
1931m)を用だ場合も検討したつ紫外線レーザ照射
時における基板6の移動速度20mm/secの場合に
、ポリイミド配向膜表面に深さ150A、1μ0ピツチ
の表面凹凸を形成できた。さらにこれを用いて液晶ディ
スプレイパネルを作成し、表示特性を評価した結果、良
好な液晶配向状態がv1認された。
以上説明したように、本発明は、配向処理方式として紫
外線レーザによる化学反応を利用しているため、従来の
方式でみられたような繊維クズの発生が全くなく、従っ
て、このような異物に起因した表示不良発生率を従来に
比べて低減できる効果がある。
外線レーザによる化学反応を利用しているため、従来の
方式でみられたような繊維クズの発生が全くなく、従っ
て、このような異物に起因した表示不良発生率を従来に
比べて低減できる効果がある。
また、本発明では、配向処理後の洗浄が不要となり、工
程が簡略化できる効果がある。
程が簡略化できる効果がある。
さらに、従来の方式では基板表面の段差の影響を受けや
すいため、隅々まで微細な配向処理を施すことが困難で
、繊維クズのような異物がなくても局所的に配向不良が
生じやすかったが、本発明の装置を用いることにより、
このような問題からも解放され、従来よりも均一かつ再
現性良く配向処理を行うことができる効果がある。
すいため、隅々まで微細な配向処理を施すことが困難で
、繊維クズのような異物がなくても局所的に配向不良が
生じやすかったが、本発明の装置を用いることにより、
このような問題からも解放され、従来よりも均一かつ再
現性良く配向処理を行うことができる効果がある。
第1図は本発明の一実施例の構成を示す説明図。
第2図は本発明の一実施例による配向処理後の状態を示
す基板断面図。 第3図は本発明の一実施例による液晶表示セル断面図。 第4図は従来例の構成を示す説明図。 ■・・・紫外線レーザ発生装置、2・・・整形レンズ、
3・・・ミラー、4・・・マスク、5・・・液晶配向膜
、6・・・基板、7・・・X−Yステージ、8・・・紫
外線レーザ、9.21・・・ポリイミド配向膜、10.
13.22・・・透明電極、11.12.18.23・
・・ガラス基板、14・・・ポリイミド配向膜B115
・・・液晶、16・・・ポリイミド配向膜A117・・
・アクティブ素子層、19・・・布織布、20・・・ロ
ーラー〇
す基板断面図。 第3図は本発明の一実施例による液晶表示セル断面図。 第4図は従来例の構成を示す説明図。 ■・・・紫外線レーザ発生装置、2・・・整形レンズ、
3・・・ミラー、4・・・マスク、5・・・液晶配向膜
、6・・・基板、7・・・X−Yステージ、8・・・紫
外線レーザ、9.21・・・ポリイミド配向膜、10.
13.22・・・透明電極、11.12.18.23・
・・ガラス基板、14・・・ポリイミド配向膜B115
・・・液晶、16・・・ポリイミド配向膜A117・・
・アクティブ素子層、19・・・布織布、20・・・ロ
ーラー〇
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、液晶分子を基板に対して所定の方向に配向させるた
めの配向処理装置において、 前記基板を取り付け移動させるためのステージと、 紫外線レーザ発生装置と、 この紫外線レーザ発生装置から発射された紫外線レーザ
を線状に整形する整形レンズと、 前記紫外線レーザを前記基板上の液晶配向膜に対して縞
状に照射するためのマスクと を備えたことを特徴とする配向処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13244889A JPH02309321A (ja) | 1989-05-25 | 1989-05-25 | 配向処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13244889A JPH02309321A (ja) | 1989-05-25 | 1989-05-25 | 配向処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02309321A true JPH02309321A (ja) | 1990-12-25 |
Family
ID=15081599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13244889A Pending JPH02309321A (ja) | 1989-05-25 | 1989-05-25 | 配向処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02309321A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08122789A (ja) * | 1994-10-19 | 1996-05-17 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 液晶表示装置の製造装置、製造方法及び液晶表示装置 |
JPH095746A (ja) * | 1995-06-21 | 1997-01-10 | Nec Corp | 液晶表示素子の配向処理方法および装置 |
JP2002082336A (ja) * | 2000-09-08 | 2002-03-22 | Jsr Corp | 液晶配向処理方法および液晶表示素子 |
JP2003295188A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Jsr Corp | 光配向法および液晶表示素子 |
JP2006113180A (ja) * | 2004-10-13 | 2006-04-27 | Hitachi Displays Ltd | 光配向用偏光照射方法及びその装置 |
JP2006234922A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 液晶表示装置用光学素子の製造装置 |
JP2007102236A (ja) * | 1995-10-31 | 2007-04-19 | Rolic Ag | 光学部品用液晶セル |
JP2008191673A (ja) * | 1997-02-27 | 2008-08-21 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
US7768622B2 (en) | 1997-02-27 | 2010-08-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Alignment treatment of liquid crystal display device |
-
1989
- 1989-05-25 JP JP13244889A patent/JPH02309321A/ja active Pending
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08122789A (ja) * | 1994-10-19 | 1996-05-17 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 液晶表示装置の製造装置、製造方法及び液晶表示装置 |
JPH095746A (ja) * | 1995-06-21 | 1997-01-10 | Nec Corp | 液晶表示素子の配向処理方法および装置 |
JP2007102236A (ja) * | 1995-10-31 | 2007-04-19 | Rolic Ag | 光学部品用液晶セル |
US7916256B2 (en) | 1997-02-27 | 2011-03-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
JP4531124B2 (ja) * | 1997-02-27 | 2010-08-25 | シャープ株式会社 | 配向処理装置および配向処理方法 |
US8767155B2 (en) | 1997-02-27 | 2014-07-01 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method for producing liquid crystal display device |
US8120737B2 (en) | 1997-02-27 | 2012-02-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | Alignment treatment of liquid crystal display device |
JP2008191673A (ja) * | 1997-02-27 | 2008-08-21 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
JP2010134486A (ja) * | 1997-02-27 | 2010-06-17 | Sharp Corp | 配向処理装置および配向処理方法 |
US7768622B2 (en) | 1997-02-27 | 2010-08-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Alignment treatment of liquid crystal display device |
US8085374B2 (en) | 1997-02-27 | 2011-12-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Alignment treatment of liquid crystal display device |
US8054425B2 (en) | 1997-02-27 | 2011-11-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Alignment treatment of liquid crystal display device |
US7924381B2 (en) | 1997-02-27 | 2011-04-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method for producing liquid crystal display device |
JP4664384B2 (ja) * | 1997-02-27 | 2011-04-06 | シャープ株式会社 | 配向処理装置、配向処理方法、及び液晶表示装置の製造方法 |
JP2002082336A (ja) * | 2000-09-08 | 2002-03-22 | Jsr Corp | 液晶配向処理方法および液晶表示素子 |
JP2003295188A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Jsr Corp | 光配向法および液晶表示素子 |
JP2006113180A (ja) * | 2004-10-13 | 2006-04-27 | Hitachi Displays Ltd | 光配向用偏光照射方法及びその装置 |
JP4603387B2 (ja) * | 2005-02-22 | 2010-12-22 | 大日本印刷株式会社 | 液晶表示装置用光学素子の製造装置 |
JP2006234922A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 液晶表示装置用光学素子の製造装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5889571A (en) | Ultraviolet irradiating device for photo-alignment process and an irradiating method using the same | |
US20010052957A1 (en) | Liquid crystal display device and polarized light irradiation method as well as apparatus thereof device | |
JPH06222366A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
KR940018686A (ko) | 액정 표시 장치와 그 장치의 제조 방법 및 기판 | |
JPH02309321A (ja) | 配向処理装置 | |
US6331381B1 (en) | Method for making a liquid crystal alignment layer | |
KR100865978B1 (ko) | 광 배향 방법 | |
JPH05224206A (ja) | 液晶用配向膜の配向処理装置および方法 | |
JPH01210932A (ja) | 液晶表示装置の配向処理方法 | |
JP2007226097A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
JP2002287156A (ja) | 液晶パネルの製造方法および製造装置 | |
JP2838945B2 (ja) | 液晶ディスプレイパネルの製造方法 | |
JPH09230351A (ja) | 配向膜の配向処理方法 | |
JPH01169428A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
JP4046427B2 (ja) | 大面積偏光板を採り入れた偏光装置 | |
KR20050121674A (ko) | 밀봉재 경화 방법 및 밀봉재 경화 장치 | |
KR20090084954A (ko) | 밀봉재 경화 방법 및 밀봉재 경화 장치 | |
CN105607349A (zh) | Pi液涂布方法 | |
JPH10333160A (ja) | 紫外光硬化型樹脂用の紫外光照射装置および紫外光照射方法と紫外光照射装置を備えた基板貼り合わせ処理システム | |
US6924860B2 (en) | Polarized UV light irradiation method for liquid crystal display device | |
TWI272440B (en) | Method of manufacturing liquid crystal display panel | |
US9200369B2 (en) | Apparatus for treating thin film and method of treating thin film | |
JPH0389320A (ja) | 液晶パネル用スペーサの製造方法 | |
JPH0784266A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
JP3083316B2 (ja) | 液晶表示素子の製造方法 |