JPH02305642A - 巻取紙オフセット輪転機用連続乾燥装置とその運転方法 - Google Patents
巻取紙オフセット輪転機用連続乾燥装置とその運転方法Info
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- JPH02305642A JPH02305642A JP2014753A JP1475390A JPH02305642A JP H02305642 A JPH02305642 A JP H02305642A JP 2014753 A JP2014753 A JP 2014753A JP 1475390 A JP1475390 A JP 1475390A JP H02305642 A JPH02305642 A JP H02305642A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は特許請求の範囲第1項の上位概念に記載の巻取
紙オフセット輪転機の連続乾燥装置に関し、又、印刷及
びゴムシリンダー洗浄の際インキ、洗浄液蒸気及び燃焼
ガスを制御してこの種の連続乾燥装置を運転することに
関する。
紙オフセット輪転機の連続乾燥装置に関し、又、印刷及
びゴムシリンダー洗浄の際インキ、洗浄液蒸気及び燃焼
ガスを制御してこの種の連続乾燥装置を運転することに
関する。
この種の連続乾燥装置はウェブがロールから巻戻される
印刷ラインに用いられる。ウェブは印刷機内で正確に印
刷が印刷され、熱的に作用する連続乾燥装置を通じ折り
機へと製本するのに巻取紙から巻戻される。カール・ハ
イマンズ出版社、第241/19巻、1984年10月
発行の「印刷及び紙処理機械の連続乾燥装置の爆発保護
用安全制御」には、連続乾燥装置とその運転特性とが記
載されている。この本によれば連続乾燥装置内では溶剤
又はインキ等の溶剤を含む材料が導入され、この材料は
空気と共に爆発可能な溶剤蒸気と空気との混合物を形成
することがある。乾燥路方向に導入される加熱新気及び
循環空気を加熱する加熱器により、乾燥路と加熱室との
間には何ら気密性の分離が行われてない。連続乾燥装置
の作業者は限界温度を設定し、この温度を点火温度以下
(DIN51794参照)で燃焼発生の生じる自然発火
温度以下に置くべきである。この様に保護されていない
加熱は加熱空気流の温度が限界温度を越えないように設
定されている。すなわち、限界温度はDIN51794
で測定される点火温度の80%に設定されている。可燃
性材料には爆発下限値(以下UEGと称す)があり、こ
の下限値はガス及び蒸気の濃度の下限値により測定され
る。
印刷ラインに用いられる。ウェブは印刷機内で正確に印
刷が印刷され、熱的に作用する連続乾燥装置を通じ折り
機へと製本するのに巻取紙から巻戻される。カール・ハ
イマンズ出版社、第241/19巻、1984年10月
発行の「印刷及び紙処理機械の連続乾燥装置の爆発保護
用安全制御」には、連続乾燥装置とその運転特性とが記
載されている。この本によれば連続乾燥装置内では溶剤
又はインキ等の溶剤を含む材料が導入され、この材料は
空気と共に爆発可能な溶剤蒸気と空気との混合物を形成
することがある。乾燥路方向に導入される加熱新気及び
循環空気を加熱する加熱器により、乾燥路と加熱室との
間には何ら気密性の分離が行われてない。連続乾燥装置
の作業者は限界温度を設定し、この温度を点火温度以下
(DIN51794参照)で燃焼発生の生じる自然発火
温度以下に置くべきである。この様に保護されていない
加熱は加熱空気流の温度が限界温度を越えないように設
定されている。すなわち、限界温度はDIN51794
で測定される点火温度の80%に設定されている。可燃
性材料には爆発下限値(以下UEGと称す)があり、こ
の下限値はガス及び蒸気の濃度の下限値により測定され
る。
この場合点火後、点火源とは別の火炎が自動的に伝播し
ない、循環路内で無保護の加熱を行う連続乾燥装置では
、無保護の加熱を受ける直前での溶剤蒸気の濃度の限界
値を越えないのはUEGの25%から出発する。UEG
の含有値として、周知でない溶剤−蒸気濃度での溶剤は
20 g / ry?の値を用いる。
ない、循環路内で無保護の加熱を行う連続乾燥装置では
、無保護の加熱を受ける直前での溶剤蒸気の濃度の限界
値を越えないのはUEGの25%から出発する。UEG
の含有値として、周知でない溶剤−蒸気濃度での溶剤は
20 g / ry?の値を用いる。
乾燥装置を運転する際に限界温度を保持しなければなら
ないので、連続乾燥装置の加熱は温度制御、少なくとも
温度設定を行わなければならない。
ないので、連続乾燥装置の加熱は温度制御、少なくとも
温度設定を行わなければならない。
又、連続乾燥装置中の溶剤−蒸気−濃度の制限をガス警
報装置で監視゛シ、爆発性の雰囲気が危険範囲に達した
ときにこれを確実に検出するここも刊行物により周知で
ある。ガス警報装置の測定検出は各測定箇所で1方向少
なくとも5回は、実施すべきである。
報装置で監視゛シ、爆発性の雰囲気が危険範囲に達した
ときにこれを確実に検出するここも刊行物により周知で
ある。ガス警報装置の測定検出は各測定箇所で1方向少
なくとも5回は、実施すべきである。
上記周知技術により構成されたガス警報装置は時間間隔
毎で、又いわゆる代表的な位置から測定値を出力し、こ
れと共にウェブに付着した揮発性の物質の突然的な濃度
交換と材料的交換を行うという点を勘案していないとい
う問題がある。更に、乾燥装置の実効処理が有効なガス
乃至蒸気限度によっては実施されず、むしろ安全保護を
行わない加熱では点火温度に指向した温度制御プログラ
ムで実施されている。
毎で、又いわゆる代表的な位置から測定値を出力し、こ
れと共にウェブに付着した揮発性の物質の突然的な濃度
交換と材料的交換を行うという点を勘案していないとい
う問題がある。更に、乾燥装置の実効処理が有効なガス
乃至蒸気限度によっては実施されず、むしろ安全保護を
行わない加熱では点火温度に指向した温度制御プログラ
ムで実施されている。
連続乾燥装置内で生じる溶剤蒸気濃度を監視するために
、FTDを組込むことは周知である。ドイツ連邦共和国
特許第2150259号では低圧乾燥装置の吸出室に接
続したガス測定装置が記載されていて、このガス測定装
置で空気中のトルエンのガス成分を検出可能としている
。
、FTDを組込むことは周知である。ドイツ連邦共和国
特許第2150259号では低圧乾燥装置の吸出室に接
続したガス測定装置が記載されていて、このガス測定装
置で空気中のトルエンのガス成分を検出可能としている
。
周知のIR−測定装置は適用目的に応じて非常に相異っ
た構成を有している。ヨーロッパ特許第0123458
号による発明では測定すべきガスに対して小さなプロー
ブ室が設けられている。吸収性の波長範囲のビームを生
じるためにフィルターが設けられている。ドイツ連邦共
和国特許出願公告第211835号公報による発明では
、分析すべきガス成分の吸収帯域に対して、干渉フィル
ターを適用している。レーザー光線により吸収範囲のみ
のスペクトルに限定したビームを用意する際、この構成
では1成分のみに適用でき、多成分のビーム範囲に対し
て適用する際にはコストがかかりすぎる。レーザー光線
での吸収装置は米国特許第4475816号にも記載さ
れている。
た構成を有している。ヨーロッパ特許第0123458
号による発明では測定すべきガスに対して小さなプロー
ブ室が設けられている。吸収性の波長範囲のビームを生
じるためにフィルターが設けられている。ドイツ連邦共
和国特許出願公告第211835号公報による発明では
、分析すべきガス成分の吸収帯域に対して、干渉フィル
ターを適用している。レーザー光線により吸収範囲のみ
のスペクトルに限定したビームを用意する際、この構成
では1成分のみに適用でき、多成分のビーム範囲に対し
て適用する際にはコストがかかりすぎる。レーザー光線
での吸収装置は米国特許第4475816号にも記載さ
れている。
測定室及びプローブ設置を行う発明は、ガス成分の測定
がその値から代表的なものではなく、更に遅すぎるとい
うことが欠点となる。FID−測定では測定値が遅すぎ
る。周知のIR−測定装置は1周知の構成要素と物理的
関係を有し、多数の測定課題を解決するが、運転制御測
定に対して周知のIR−測定装置は不適当な測定ヘッド
原理に指向し、他の周知のIR−測定装置は実験用の特
性を備えているにすぎない。
がその値から代表的なものではなく、更に遅すぎるとい
うことが欠点となる。FID−測定では測定値が遅すぎ
る。周知のIR−測定装置は1周知の構成要素と物理的
関係を有し、多数の測定課題を解決するが、運転制御測
定に対して周知のIR−測定装置は不適当な測定ヘッド
原理に指向し、他の周知のIR−測定装置は実験用の特
性を備えているにすぎない。
従って本発明は、周知様式の連続乾燥装置とこの種装置
を運転する際に揮発成分の濃度値に応じた燃焼制御を導
入して乾燥を実施し、その際成分値の検出を急速に行い
、同時にそれぞれの検出成分に対して良好な制御を実施
することを課題とする。
を運転する際に揮発成分の濃度値に応じた燃焼制御を導
入して乾燥を実施し、その際成分値の検出を急速に行い
、同時にそれぞれの検出成分に対して良好な制御を実施
することを課題とする。
この課題は特許請求の範囲第1項の特徴部分に記載した
構成により解決する。運転法に関する課題は特許請求の
範囲第2項の特徴部分の構成により解決する。
構成により解決する。運転法に関する課題は特許請求の
範囲第2項の特徴部分の構成により解決する。
本発明は次の利点を伴うものである。
IR−吸収についてのガス/蒸気測定+1FIDの様な
付加的なガスの供給を行のないで機能する。
付加的なガスの供給を行のないで機能する。
吸収測定に対して用意する光路は簡単に形成できる。そ
の理由は連続乾燥装置中の適正位置のガス/蒸気含有雰
囲気内に光を通すだけだからである。
の理由は連続乾燥装置中の適正位置のガス/蒸気含有雰
囲気内に光を通すだけだからである。
従って装置内の流路が適当である。光路は又加熱範囲の
近域、ガス燃焼型の係度していない加熱範囲では、高温
燃焼ガスを充分に含む循環空気の近域に設けられる。燃
焼及び排気ガスによって生じ吸収は、燃焼制御に用いら
れる。火炎にも光を通すことができる。
近域、ガス燃焼型の係度していない加熱範囲では、高温
燃焼ガスを充分に含む循環空気の近域に設けられる。燃
焼及び排気ガスによって生じ吸収は、燃焼制御に用いら
れる。火炎にも光を通すことができる。
光路は温度的に敏感である。光路又は光強さに変化を与
えることもある脱血又はレンズにくもりを与える成分は
付着温度以上の温度に加熱することにより除去できる。
えることもある脱血又はレンズにくもりを与える成分は
付着温度以上の温度に加熱することにより除去できる。
他方この汚染は自動的又は手で時折除去できる6
光の強さは温度を高めたり、出力を上げたりして向上で
き、検出目的を充足する。ゴムブランケットシリンダー
を洗浄する際にインキ及び洗浄液から蒸発した液体を捕
捉するために、先ずIR−スペクトルメーターにより被
測定成分(定性分析、組成分析)の基本的分別を実施で
きる。赤外線−スペクトルメーターは広い範囲のスペク
トルと、即ち多数の基本振動数のスペクトルを測定する
場合にフーリエ変項を伴って機能する。主たる成分を確
定した後この成分の検出に制限でき、このためこの成分
の吸収範囲に対して対応したフィルターを光路中に設置
するか、選択的に作動する検出器を設ける。この様にし
て、例えばインキを定着するために混入するオイル並び
に樹脂及び、例えばゴムブランケットシリンダー用の洗
浄液中に含まれている溶剤の種類及び量が設定できる。
き、検出目的を充足する。ゴムブランケットシリンダー
を洗浄する際にインキ及び洗浄液から蒸発した液体を捕
捉するために、先ずIR−スペクトルメーターにより被
測定成分(定性分析、組成分析)の基本的分別を実施で
きる。赤外線−スペクトルメーターは広い範囲のスペク
トルと、即ち多数の基本振動数のスペクトルを測定する
場合にフーリエ変項を伴って機能する。主たる成分を確
定した後この成分の検出に制限でき、このためこの成分
の吸収範囲に対して対応したフィルターを光路中に設置
するか、選択的に作動する検出器を設ける。この様にし
て、例えばインキを定着するために混入するオイル並び
に樹脂及び、例えばゴムブランケットシリンダー用の洗
浄液中に含まれている溶剤の種類及び量が設定できる。
簡単なIR−測定装置では、測定すべき成分に対応して
多数の幅狭い帯域の「窓」を設け、その際窓は又特定の
感度を有する検知器によっても形成できる。
多数の幅狭い帯域の「窓」を設け、その際窓は又特定の
感度を有する検知器によっても形成できる。
基本的には光制御には鏡又はレンズを使用できる。鏡、
平面鏡又は光線を収束する曲面鏡はレンズとして、又金
属製として形成できる。透過光線及び偏向光線中の光の
分配には、例えば半透明の鏡を用いることができる。光
制御は又可動なフィルター、鏡及びシールドでも実施で
きる。
平面鏡又は光線を収束する曲面鏡はレンズとして、又金
属製として形成できる。透過光線及び偏向光線中の光の
分配には、例えば半透明の鏡を用いることができる。光
制御は又可動なフィルター、鏡及びシールドでも実施で
きる。
定量的に評価するために、物質の特性帯域の吸収によっ
て弱められた強さが、その隣りの、帯域の比較的一定の
強さと比較される。ネットの最大吸収はキー帯域の最高
値に対する比較的一定または最大の透明度での基本値か
らの対数比乃至を対数値の微方値から求められる。帯域
深さが吸収成長によっては集束と光路長とが対数的に増
加するので、信号の増幅と基本帯域に対する吸収帯域を
よりよく除去できることは光路を長くすることにより達
成できる。このために、光路を多数のガス室通過で屈折
可能とする。
て弱められた強さが、その隣りの、帯域の比較的一定の
強さと比較される。ネットの最大吸収はキー帯域の最高
値に対する比較的一定または最大の透明度での基本値か
らの対数比乃至を対数値の微方値から求められる。帯域
深さが吸収成長によっては集束と光路長とが対数的に増
加するので、信号の増幅と基本帯域に対する吸収帯域を
よりよく除去できることは光路を長くすることにより達
成できる。このために、光路を多数のガス室通過で屈折
可能とする。
光源及び光受光器が対向して設けられていない場合に光
さ逆投射するために、機械的な調整でも比較的鈍感なレ
トロリフレクタ−1いわゆるキッツアイを設置できる。
さ逆投射するために、機械的な調整でも比較的鈍感なレ
トロリフレクタ−1いわゆるキッツアイを設置できる。
光路はこれにより最小間隔で平行に相互変化し戻される
。
。
基本的には連続乾燥装置内にIR−光路を形成するため
に光学的要素を設ける。この場合、光学的要素は蒸発性
の汚染雰囲気にさらされ、また温度、熱伸び及び応力を
受け、この条件で正確な光制御を行える。測定するため
に特定の赤外線スペクトル範囲、特に波数4000〜4
00の中間赤外線MIRを選択した後、適当な窓を設け
、この窓と高温乾燥装置とを空間的に気密にし、光学的
に透過可能であるが構造的に次の様に可変にする。
に光学的要素を設ける。この場合、光学的要素は蒸発性
の汚染雰囲気にさらされ、また温度、熱伸び及び応力を
受け、この条件で正確な光制御を行える。測定するため
に特定の赤外線スペクトル範囲、特に波数4000〜4
00の中間赤外線MIRを選択した後、適当な窓を設け
、この窓と高温乾燥装置とを空間的に気密にし、光学的
に透過可能であるが構造的に次の様に可変にする。
即ち、敏感な光学的要素を容易に保守可能とすると共に
安定して外部から装着可能とする。帯域を広く透過させ
る窓は外からフランジ付けされている。対物レンズの汚
染及び流れ中の懸濁物に対策して窓を比較的一様な流れ
と加熱される乾燥装置の部分内に設けられている。調節
を要する光学的要素は安定した支持体により保持されて
いる。IR−光源の他に、他の調節用の光源を設け、そ
の光路が光マトツクス上に照射され、所管−ビーム変化
からの偏差を信号化し、偏光により光学的要素の自動調
節を所望位置に行う。IR−測定路長はIR−測定光自
体にも調節装置を備えてもよい。
安定して外部から装着可能とする。帯域を広く透過させ
る窓は外からフランジ付けされている。対物レンズの汚
染及び流れ中の懸濁物に対策して窓を比較的一様な流れ
と加熱される乾燥装置の部分内に設けられている。調節
を要する光学的要素は安定した支持体により保持されて
いる。IR−光源の他に、他の調節用の光源を設け、そ
の光路が光マトツクス上に照射され、所管−ビーム変化
からの偏差を信号化し、偏光により光学的要素の自動調
節を所望位置に行う。IR−測定路長はIR−測定光自
体にも調節装置を備えてもよい。
60〜70%の溶剤に10〜30%の顔料を混入したイ
ンキは、鉱物油から分離したオイル及び樹脂を基準とす
るIR−スペクトルを生じる。製造プロセスによりイン
キに対する各種の要素に応じてインキのレセプターは同
じではない。乾燥装置中に気化溶剤は代表的で、部分的
に特定可能で、カタログにできる。帯域または帯域群を
湿す。これとは無関係に、インキに属するスペクトルダ
ラムは帯域位置及び帯域強さにより特定される。湿り液
、紙の案内不具合、乾燥制御の悪さ等の印刷性悪化作用
によるインキの材料は組成の変化は、スペクトルを分析
することにより判別できる。帯域の強さ、即ち蒸気相中
のインキの材料の濃度から数値値に成分及び揮発エネル
ギーが決定でき。
ンキは、鉱物油から分離したオイル及び樹脂を基準とす
るIR−スペクトルを生じる。製造プロセスによりイン
キに対する各種の要素に応じてインキのレセプターは同
じではない。乾燥装置中に気化溶剤は代表的で、部分的
に特定可能で、カタログにできる。帯域または帯域群を
湿す。これとは無関係に、インキに属するスペクトルダ
ラムは帯域位置及び帯域強さにより特定される。湿り液
、紙の案内不具合、乾燥制御の悪さ等の印刷性悪化作用
によるインキの材料は組成の変化は、スペクトルを分析
することにより判別できる。帯域の強さ、即ち蒸気相中
のインキの材料の濃度から数値値に成分及び揮発エネル
ギーが決定でき。
スペクトル値によりバインダーの組成及び蒸気物質に対
する情報が与えられる。
する情報が与えられる。
インキに関する所定の代表的なスペクトログラムはそれ
自体のインキの他のスペクトログラムまたは他のインキ
と比較され、その際光受光装置に後置された評価装置、
例えば自動相関法を用いる。
自体のインキの他のスペクトログラムまたは他のインキ
と比較され、その際光受光装置に後置された評価装置、
例えば自動相関法を用いる。
高温空気を発生するために開示された燃焼プロセスにつ
いては連続燃焼ガスを生成し、燃焼自体が不完全燃焼生
成物により分析されることにより燃焼が制御可能である
。燃焼ガス中にはTR−吸収に対してガス状の炭化水素
が存在している。乾燥装置の雰囲気中に炭化水素が存在
することは燃焼の制御をよりよくすることが必要である
。検証可能なC〇−成分は、化学当量的燃焼が得られて
いないことを示す、燃焼ガス中のガス状の炭化水素化合
物は、検出スペクトル中に所定の帯域を有し、その指示
点が燃焼に対する信号を発すると共に燃焼を定量化する
。例えばメタンCH,は小分子量であり明らかな帯域を
生じ、これは組成成分の特定時に発生する。
いては連続燃焼ガスを生成し、燃焼自体が不完全燃焼生
成物により分析されることにより燃焼が制御可能である
。燃焼ガス中にはTR−吸収に対してガス状の炭化水素
が存在している。乾燥装置の雰囲気中に炭化水素が存在
することは燃焼の制御をよりよくすることが必要である
。検証可能なC〇−成分は、化学当量的燃焼が得られて
いないことを示す、燃焼ガス中のガス状の炭化水素化合
物は、検出スペクトル中に所定の帯域を有し、その指示
点が燃焼に対する信号を発すると共に燃焼を定量化する
。例えばメタンCH,は小分子量であり明らかな帯域を
生じ、これは組成成分の特定時に発生する。
材料乃至帯域を特定する評価は、測定装置内に比較プロ
ーブとして導入され、または帯域乃至帯域群に関して計
算できる所定の材料に比べて分析するときに行われる。
ーブとして導入され、または帯域乃至帯域群に関して計
算できる所定の材料に比べて分析するときに行われる。
比較プローブを与えるとき、比較ガスまたは比較ガス混
合物を封入した容器を光路内に設置する。比較測定には
、光路に設定した流量管もよく、これにより比較ガス、
不活性ガス又はトレーサーを封入する。乾燥装置の比較
ガスの充填は材料の導入量が高いときにはその影響は無
視できる。
合物を封入した容器を光路内に設置する。比較測定には
、光路に設定した流量管もよく、これにより比較ガス、
不活性ガス又はトレーサーを封入する。乾燥装置の比較
ガスの充填は材料の導入量が高いときにはその影響は無
視できる。
比較ガスを用いることは色々な観点から合目的である。
吸収のないガス、例えば窒素ガスを用いるとき、基準強
さが測定でき、又吸収のないガスに対して特定のガス/
蒸気の量の測定により、一連の測定を確立できる。
さが測定でき、又吸収のないガスに対して特定のガス/
蒸気の量の測定により、一連の測定を確立できる。
IR−スペクトルに漏された乾燥装置の雰囲気中の材料
の主要成分は、スペクトルを多数発生しているので、関
連した特性の帯域を評価することにより抽出可能である
。これは最も容易には表から得られ、他方インキ、洗浄
液、並びに燃焼ガスに関する物質は次の方法により処理
できる。
の主要成分は、スペクトルを多数発生しているので、関
連した特性の帯域を評価することにより抽出可能である
。これは最も容易には表から得られ、他方インキ、洗浄
液、並びに燃焼ガスに関する物質は次の方法により処理
できる。
−物質はそれ自体のものを示し、測定例では吸収と濃度
との間の標準曲線を生じる; −周知の濃度値の物質は運転測定中に測定光中に導入さ
れ、ここで一定の吸収を生じる。その定量的な考察は周
知の非拡散法により測定ガスフィルタで実施される; 一物質に対しては、帯域又は帯域群の高さで選択的に働
くフィルターを設ける。
との間の標準曲線を生じる; −周知の濃度値の物質は運転測定中に測定光中に導入さ
れ、ここで一定の吸収を生じる。その定量的な考察は周
知の非拡散法により測定ガスフィルタで実施される; 一物質に対しては、帯域又は帯域群の高さで選択的に働
くフィルターを設ける。
当然ながら、ウェブ上の被検物質のプローブ量を乾燥装
置中に導入して測定を実施する。この場合同時に、開放
型システムとして形成した連続乾燥装置のパラメーター
と、ウェブ速度、紙質等の別の作用量とに応じて、物質
の変化挙動も抽出できる。
置中に導入して測定を実施する。この場合同時に、開放
型システムとして形成した連続乾燥装置のパラメーター
と、ウェブ速度、紙質等の別の作用量とに応じて、物質
の変化挙動も抽出できる。
はとんど変えない一定の運転におけるFID−測定では
、測定装置で測定される全炭化水素の測定値はその時の
帯域強さと比較できる。
、測定装置で測定される全炭化水素の測定値はその時の
帯域強さと比較できる。
IR−吸収測定のオンライン測定値は合目的に記録され
、インキ、ゴム布及びバーナー用の液状の洗浄剤につい
て運転状態を比較データーまたは所望値データーと、組
合せ設定できる。
、インキ、ゴム布及びバーナー用の液状の洗浄剤につい
て運転状態を比較データーまたは所望値データーと、組
合せ設定できる。
単一の運転装置を伴う連続乾燥装置を固定した調整で一
定の運転を行う様に従来通り駆動できる一方、何らかの
変化により危険が生じる時をなくすために、ガス/蒸気
濃度の一定化を伴う乾燥装置の運転及び点火性の雰囲気
の調節を多面的に実施可能である。
定の運転を行う様に従来通り駆動できる一方、何らかの
変化により危険が生じる時をなくすために、ガス/蒸気
濃度の一定化を伴う乾燥装置の運転及び点火性の雰囲気
の調節を多面的に実施可能である。
ウェブの取りだし方向に区域から区域へと乾燥作用を分
割した複数の乾燥区域を設けている場合、濃度が区域か
ら区域へと測定可能であり、温度と流れの条件を組合せ
ると乾燥状態を目的に合せて設定できる。FIDの導入
を制限する炭化水素と酸素との化合物、CO2co2の
横方向の感度はIR−吸収測定では実施できない。光路
は鏡、フィルター等の光学的要素を動かすことにより色
んな要件に適合できる。通常の循環空気及び紙及び湿気
を含んだ材料の水蒸気及び燃焼ガスの水蒸気から帰納さ
れる水として検出される帯域は、水の発生が調整できる
限り発生する強さとしてプロセス制御に応じて相異って
出現する。プロセス制御は、ウェブ稼動中に、圧力、ウ
ェブ速さ、印刷強さ、乾燥濃度、燃焼ガス、供給空気、
排気及び循環空気等に応じて相異って実施される。IR
−光線は乾燥装置中に設けられた複数の表面によって吸
収/反射特性に応じて拡散及び損失しやすい。更にIR
−スペクトルメーターは装置の横断特性を示し、それぞ
れの有効な零強さに対する測定変化が関連している。零
強さは読出され又は変化乃至間欠的に確定される。印刷
の終り乃至ゴムプラン扮ットの洗浄の開始並びに印刷の
再開乃至洗浄の終了時には、インキ及び洗浄液に属する
炭化水素成分に対応した帯域強さが増加する。
割した複数の乾燥区域を設けている場合、濃度が区域か
ら区域へと測定可能であり、温度と流れの条件を組合せ
ると乾燥状態を目的に合せて設定できる。FIDの導入
を制限する炭化水素と酸素との化合物、CO2co2の
横方向の感度はIR−吸収測定では実施できない。光路
は鏡、フィルター等の光学的要素を動かすことにより色
んな要件に適合できる。通常の循環空気及び紙及び湿気
を含んだ材料の水蒸気及び燃焼ガスの水蒸気から帰納さ
れる水として検出される帯域は、水の発生が調整できる
限り発生する強さとしてプロセス制御に応じて相異って
出現する。プロセス制御は、ウェブ稼動中に、圧力、ウ
ェブ速さ、印刷強さ、乾燥濃度、燃焼ガス、供給空気、
排気及び循環空気等に応じて相異って実施される。IR
−光線は乾燥装置中に設けられた複数の表面によって吸
収/反射特性に応じて拡散及び損失しやすい。更にIR
−スペクトルメーターは装置の横断特性を示し、それぞ
れの有効な零強さに対する測定変化が関連している。零
強さは読出され又は変化乃至間欠的に確定される。印刷
の終り乃至ゴムプラン扮ットの洗浄の開始並びに印刷の
再開乃至洗浄の終了時には、インキ及び洗浄液に属する
炭化水素成分に対応した帯域強さが増加する。
第1図に示している印刷済側と未印刷側とを有するウェ
ブ(1)用の乾燥装置は、空気加熱器として形成した加
熱装置(2)と、上ノズル室(3,1)と、下ノズル室
(3,2)と、空気循環流装置(4)とからなる、空気
の給排は矢印の方向に行われる6乾燥装置内の循環空気
流は矢印(5)の方向に流れ、予熱されてノズル室(3
,1,3,2)を通じウェブ案内スリット(6)へ導入
される。ウェブ案内スリット(6)内で、空気流はウェ
ブ(1)の両面に到達し、ウェブ(1)から蒸発したイ
ンキ又は洗浄液の成分を付加されて加熱装置(2)へと
戻る。連続乾燥装置内での一定のガス/蒸気濃度の保持
は、空気の給排で調節される。その理由は流れのインキ
の量は印刷面及びインキの厚み並びにウェブの速度で変
化するからである。空気の給排を調節するために、給排
用のブロワ−(17,18)と付加的にフラップ弁を調
節可能とする。
ブ(1)用の乾燥装置は、空気加熱器として形成した加
熱装置(2)と、上ノズル室(3,1)と、下ノズル室
(3,2)と、空気循環流装置(4)とからなる、空気
の給排は矢印の方向に行われる6乾燥装置内の循環空気
流は矢印(5)の方向に流れ、予熱されてノズル室(3
,1,3,2)を通じウェブ案内スリット(6)へ導入
される。ウェブ案内スリット(6)内で、空気流はウェ
ブ(1)の両面に到達し、ウェブ(1)から蒸発したイ
ンキ又は洗浄液の成分を付加されて加熱装置(2)へと
戻る。連続乾燥装置内での一定のガス/蒸気濃度の保持
は、空気の給排で調節される。その理由は流れのインキ
の量は印刷面及びインキの厚み並びにウェブの速度で変
化するからである。空気の給排を調節するために、給排
用のブロワ−(17,18)と付加的にフラップ弁を調
節可能とする。
流れ、即ちガス/蒸気濃度の比較は流路の形状に主とし
て依存している。戻し流れの流路を短くし、流れの損失
を小さくするために、ノズル室(3,1,3,2)は横
方向X一方向がら見て省略中心に破孔(7)を有し、Z
一方向への流通と部会内循環とを可能としている。破孔
(7)の主軸はY一方向にある。
て依存している。戻し流れの流路を短くし、流れの損失
を小さくするために、ノズル室(3,1,3,2)は横
方向X一方向がら見て省略中心に破孔(7)を有し、Z
一方向への流通と部会内循環とを可能としている。破孔
(7)の主軸はY一方向にある。
IR−測定用に設けた光装置(11)は、光ビームの自
由透過横断面でガス/蒸気濃度の容量要素を備えている
。
由透過横断面でガス/蒸気濃度の容量要素を備えている
。
ガス/蒸気濃度は乾燥装置が撹拌条件を備えていても混
合流が強いので完全には等様に分配されない。部分的に
最大の濃度値は蒸発源、即ちウェブ(1)に又燃焼の場
合にはノ(−ナー(16)に隣接して生じる。濃縮は長
手方向Y方向に曲線で生じ、この曲線は乾燥装置の導入
スリット内に導入した後ウェブの加熱が進むにつれて増
加する。又紙の表面及びインキに対する加熱と蒸気の搬
送に伴って蒸発率は高くなる。
合流が強いので完全には等様に分配されない。部分的に
最大の濃度値は蒸発源、即ちウェブ(1)に又燃焼の場
合にはノ(−ナー(16)に隣接して生じる。濃縮は長
手方向Y方向に曲線で生じ、この曲線は乾燥装置の導入
スリット内に導入した後ウェブの加熱が進むにつれて増
加する。又紙の表面及びインキに対する加熱と蒸気の搬
送に伴って蒸発率は高くなる。
平均的濃度値はガス/蒸気源のない流れの位置、即ち空
気循環装置中の後方で排気筒(8)内に生じる。ウェブ
の出入ロスリット(9,10)が同様に濃縮流路ともな
る。
気循環装置中の後方で排気筒(8)内に生じる。ウェブ
の出入ロスリット(9,10)が同様に濃縮流路ともな
る。
光源(11,1)とセンサー(11,2)とを有する光
装置(11)は任意の方向で乾燥装置内に配置される。
装置(11)は任意の方向で乾燥装置内に配置される。
第2A図はY−主光方向の先験fi!(11)を示して
いる。この場合、光路内に配置された容量要素内に生じ
た部分的な濃縮値は光源(11゜1)の座標軸Y1から
センサー(11,2)の座標軸Y2迄を加算したもので
ある。
いる。この場合、光路内に配置された容量要素内に生じ
た部分的な濃縮値は光源(11゜1)の座標軸Y1から
センサー(11,2)の座標軸Y2迄を加算したもので
ある。
Y一方向とX一方向、即ちウェブの長手方向と横方向の
IR−吸収の重畳は、偏向鏡(11゜3)を設けている
ときに生じ、偏向鏡(11゜3)により、反射鏡(11
,4)によるX横側ビームがY光路へと偏向鏡(11,
3)を介して反転される。
IR−吸収の重畳は、偏向鏡(11゜3)を設けている
ときに生じ、偏向鏡(11゜3)により、反射鏡(11
,4)によるX横側ビームがY光路へと偏向鏡(11,
3)を介して反転される。
第2A、2B図による光装置(11)時原理的に次の様
に動作する。
に動作する。
光g(11,1)から発射された光はパラボラ又はエリ
プス状の形状に形成された鏡(11゜5)により反射さ
れて平行ビームとなる。センサー(11,2)上への平
行ビームの収束は同様なfi(11,5)により行われ
る。測定光路内に配置された反射鏡、特にレトロリフレ
クタ−(11,6)は測定光をセンサー側に戻すので、
光源(11,1)及びセンサー(11,2)は隣り合せ
又は同心に設けられる。構造的には同心構造が望ましい
。測定ビーム路内に取付は可能な偏向11(11,3)
は、ビーム路部分を別に設定する際には半透明鏡(11
,7)として形成し、この半透明j!(11,7)を通
して測定光の一部を透過し、一部を反射方向のX横側ビ
ームの光路に導入し、ここから反射鏡(11,4)を通
じて半透明鏡(11,7)に戻す。受入鏡(11,8)
は利用光を戻す。同時に、第2B図に示した受入鏡(1
1,8)は偏向鏡(11,3)がその有効偏向位置から
無効位置へと旋回可能であり、これと共にウェブ(1)
のX横方向の光路が無効とされ、X横方向の濃度が弱め
られることはない。
プス状の形状に形成された鏡(11゜5)により反射さ
れて平行ビームとなる。センサー(11,2)上への平
行ビームの収束は同様なfi(11,5)により行われ
る。測定光路内に配置された反射鏡、特にレトロリフレ
クタ−(11,6)は測定光をセンサー側に戻すので、
光源(11,1)及びセンサー(11,2)は隣り合せ
又は同心に設けられる。構造的には同心構造が望ましい
。測定ビーム路内に取付は可能な偏向11(11,3)
は、ビーム路部分を別に設定する際には半透明鏡(11
,7)として形成し、この半透明j!(11,7)を通
して測定光の一部を透過し、一部を反射方向のX横側ビ
ームの光路に導入し、ここから反射鏡(11,4)を通
じて半透明鏡(11,7)に戻す。受入鏡(11,8)
は利用光を戻す。同時に、第2B図に示した受入鏡(1
1,8)は偏向鏡(11,3)がその有効偏向位置から
無効位置へと旋回可能であり、これと共にウェブ(1)
のX横方向の光路が無効とされ、X横方向の濃度が弱め
られることはない。
凝結により汚れることもある光学的要素を問題なく機能
させるためには光学的要素にそれぞれ小さな加熱器を付
設可能とし、凝結を防いでいる。その制御温度な乾燥装
置の最高運転温度以上がよい。
させるためには光学的要素にそれぞれ小さな加熱器を付
設可能とし、凝結を防いでいる。その制御温度な乾燥装
置の最高運転温度以上がよい。
測定誤差を招く光学的汚れに対しても洗浄装置を設ける
こともできる。
こともできる。
光装置(11)による測定光路はウェブ又はウェブ縁に
対して平行なY一方向に形成されている。スリット(7
)に沿う測定光路はウェブの振動の悪影響を受けない。
対して平行なY一方向に形成されている。スリット(7
)に沿う測定光路はウェブの振動の悪影響を受けない。
横、即ちX一方向の測定ビームはノズル室(3,1,3
,2)の縁に平行又は排気孔を備えたノズル箱(3,l
。
,2)の縁に平行又は排気孔を備えたノズル箱(3,l
。
3.2)のノズル壁間に延在している。
第3図はウェブの前方と後方にそれぞれ設けたノズル箱
(3,1,3,2)を備えたガス火炎乾燥装置を示して
いる。ウェブ(1)は2度の乾燥作用を受ける。両乾燥
区域間には蒸気を含む空気が排気筒(8)を通じて排気
される。
(3,1,3,2)を備えたガス火炎乾燥装置を示して
いる。ウェブ(1)は2度の乾燥作用を受ける。両乾燥
区域間には蒸気を含む空気が排気筒(8)を通じて排気
される。
相異った位置での濃度の分散はそれぞれの測定路で測定
されればインキの蒸気及び洗浄液の蒸気の発生を説明す
ることができる。このためには、第1の測定路(12,
1)を第1のノズル室対(3,1,3,2)の高さに指
向させている。第2の測定路(12,2)は第2のノズ
ル室対(3,1,3,2)について設けている。
されればインキの蒸気及び洗浄液の蒸気の発生を説明す
ることができる。このためには、第1の測定路(12,
1)を第1のノズル室対(3,1,3,2)の高さに指
向させている。第2の測定路(12,2)は第2のノズ
ル室対(3,1,3,2)について設けている。
測定路(12,1,12,2)はこの様に相互に連結さ
れ、その際乾燥装置上に延在する光路内に鏡、例えばレ
トロリフレクタ−(キッツアイ)を旋回又は挿入され、
この様にして短くも長くも光透過路部分が形成できる。
れ、その際乾燥装置上に延在する光路内に鏡、例えばレ
トロリフレクタ−(キッツアイ)を旋回又は挿入され、
この様にして短くも長くも光透過路部分が形成できる。
光源(LL、1)とセンサー(LL、2)を備え主及び
副光路に分割する光路分岐の原理は第2B図に示してい
る。
副光路に分割する光路分岐の原理は第2B図に示してい
る。
測定路(12,3)は排気の透過率を検出し、排気中に
は全てのガス/蒸気が集合している。
は全てのガス/蒸気が集合している。
乾燥装置内で循環するガス部分の多かれ少なかれ滞留し
た後、排気筒内に存在するガス部分の平均滞留時間は最
高となる。従って測定路(12,3)は1発生するガス
/蒸気の測定には役立たない、しかし、この測定路(1
2,3)は簡潔な構造とガス/蒸気部分の概算を行うこ
とから特に有効である。
た後、排気筒内に存在するガス部分の平均滞留時間は最
高となる。従って測定路(12,3)は1発生するガス
/蒸気の測定には役立たない、しかし、この測定路(1
2,3)は簡潔な構造とガス/蒸気部分の概算を行うこ
とから特に有効である。
測定路(12,4)は係度されていない加熱器、ここで
はバーナー(16)の前方の流れ中に設置されている。
はバーナー(16)の前方の流れ中に設置されている。
ここの流れは、別の補助手段で制御されて、再生されな
がら流れる。
がら流れる。
拡散法により作動し、干渉計を含むFTIR−スペクト
ルメーターは、不可避的組合せ帯域を除いて全ての吸収
性の部分を評価する。第4A図はこのFTIR−スペク
トルメーターの原理を示している。このスペクトルメー
ターのハウジング内には邸動される1!(13)が設け
られている。コンピューターは鏡(13)の開動に応じ
て増減する最大干渉の光強さを処理する。
ルメーターは、不可避的組合せ帯域を除いて全ての吸収
性の部分を評価する。第4A図はこのFTIR−スペク
トルメーターの原理を示している。このスペクトルメー
ターのハウジング内には邸動される1!(13)が設け
られている。コンピューターは鏡(13)の開動に応じ
て増減する最大干渉の光強さを処理する。
光強さはフーリエ変換される。IR−範囲で測定可能な
スペクトルにより、全ての吸収性ガス/蒸気部分が多少
共相互に評価される。第4A。
スペクトルにより、全ての吸収性ガス/蒸気部分が多少
共相互に評価される。第4A。
4B図に示したプローブ部分(14)は測定路(12,
1〜12.4)に対応している。ビーム束出力(e)は
プローブ部分(14)に達し。
1〜12.4)に対応している。ビーム束出力(e)は
プローブ部分(14)に達し。
ここで特定の吸収が生じ、ビーム束出力(a)としてセ
ンサー(11,2)に達する。
ンサー(11,2)に達する。
第4B図により非拡散型でスペクトルメーターを構成と
、センサー(11,2)が選択するが、フィルター(1
1,10)が選択するために光路内に設けられていて特
定の波長に制限する。補正、比較及び測定目的のため、
目的ガス。
、センサー(11,2)が選択するが、フィルター(1
1,10)が選択するために光路内に設けられていて特
定の波長に制限する。補正、比較及び測定目的のため、
目的ガス。
洗浄液の主要炭化水素等の目的測定ガス及びトレーサー
ガス等が光装置t (11)の光路内に挿入可能である
。フィルター状の比較器(11゜11)を参照せよ。
ガス等が光装置t (11)の光路内に挿入可能である
。フィルター状の比較器(11゜11)を参照せよ。
第4B図によるセンサー(11,2)の出力信号はプロ
セッサー(P)に送られて、プロセッサー(P)はこれ
を評価する。プロセッサー(P)の後には1表示器、限
界値発信器、増幅回路が設けられ、これ等が乾燥装置、
洗浄機器及び印刷装置のサーボ機器に接続されている。
セッサー(P)に送られて、プロセッサー(P)はこれ
を評価する。プロセッサー(P)の後には1表示器、限
界値発信器、増幅回路が設けられ、これ等が乾燥装置、
洗浄機器及び印刷装置のサーボ機器に接続されている。
コンピューターが管理システムに結合され、ここで溶剤
の炭化水素蒸気によるインキの評価が出力される。
の炭化水素蒸気によるインキの評価が出力される。
第5A、5B及び5c図は乾燥装置の装置的に限定を受
ける容量要素に関して光路の構成を示し、容量要素が管
又は容器又は導管の壁間に設けられている。第5A図に
よれば光線束Leta)は窓(11,9)を通じレトロ
リフレクタ−(11,6)に達し、このリフレクタ−(
11,6)は光線束(a)を発光側に戻す。
ける容量要素に関して光路の構成を示し、容量要素が管
又は容器又は導管の壁間に設けられている。第5A図に
よれば光線束Leta)は窓(11,9)を通じレトロ
リフレクタ−(11,6)に達し、このリフレクタ−(
11,6)は光線束(a)を発光側に戻す。
このようにして、光線源(11,1)と光線センサー(
11,2)とは一つの装置として形成できる。第5B図
によれば、光学的バンクは光路を形成する。装置部分(
15)のそれぞれの側に設けられた偏向[(11,3)
はガス/蒸気とは接触しない。
11,2)とは一つの装置として形成できる。第5B図
によれば、光学的バンクは光路を形成する。装置部分(
15)のそれぞれの側に設けられた偏向[(11,3)
はガス/蒸気とは接触しない。
窓(11,9)のフランジは加熱体(19)を備えてい
る。
る。
第5c図は位置固定に設けられたレトロリフレクタ−(
11,6)を有していて、第5Aの変形例を示している
。この構成はレトロリフレクタ−(11,6)が装置部
分(15)の加熱及び伸びによって変位するのを減少し
ている。
11,6)を有していて、第5Aの変形例を示している
。この構成はレトロリフレクタ−(11,6)が装置部
分(15)の加熱及び伸びによって変位するのを減少し
ている。
従って光学的部分は安定している。
特定の帯域が検出スペクトルから(第6A図参照)又は
ろ過されたスペクトルの幅狭い帯域範囲から検出され、
評価されるとは無関係に。
ろ過されたスペクトルの幅狭い帯域範囲から検出され、
評価されるとは無関係に。
吸収損失を示す一定の強さ帯域が一定の価と比較される
。特に独立して明確に確定すべき吸収帯域についての問
題の帯域強さは比較的一定の価である。この強さは又最
大透過性に結びつく基準線によっても設定できる。ガス
/蒸気濃度に比例した吸収性は、略々基$線の作成に関
連した評価法しこ基づいて対数商TB/T’により近似
される。又数値的評価なしに、*域強さが、乾燥プロセ
ス中にガス/蒸気濃度の増減を示している。
。特に独立して明確に確定すべき吸収帯域についての問
題の帯域強さは比較的一定の価である。この強さは又最
大透過性に結びつく基準線によっても設定できる。ガス
/蒸気濃度に比例した吸収性は、略々基$線の作成に関
連した評価法しこ基づいて対数商TB/T’により近似
される。又数値的評価なしに、*域強さが、乾燥プロセ
ス中にガス/蒸気濃度の増減を示している。
吸収スペクトルから全てのIR検出材料乃至物質が人為
的、数学的(フーリエ分析)又は光学的に検証可能であ
る。比較的明らかに確定可能なC〇−帯域はバーナー(
16)内の燃焼度を示す。燃焼ガスの別の検出帯域は燃
焼が完全であるかどうかを示す。
的、数学的(フーリエ分析)又は光学的に検証可能であ
る。比較的明らかに確定可能なC〇−帯域はバーナー(
16)内の燃焼度を示す。燃焼ガスの別の検出帯域は燃
焼が完全であるかどうかを示す。
FID−1定法が全体の炭化水素に指向し、この場合−
酸化炭素も検出する一方1本発明による乾燥装置中のI
R−測定装置では燃焼、インキ蒸気及び洗浄液蒸気から
離脱した材料中の分離を可能とする。
酸化炭素も検出する一方1本発明による乾燥装置中のI
R−測定装置では燃焼、インキ蒸気及び洗浄液蒸気から
離脱した材料中の分離を可能とする。
乾燥装置の運転パラメーターを調節することにより乾燥
装置内の雰囲気乃至ガス/蒸気相中に含まれる濃度に応
じて、測定された帯域強さがそのまま又は評価しなおさ
れて乾燥装置の制御装置に送られる。処理技術的に変化
する濃度値は、インキ調整についてのインキ、洗浄体の
洗浄液供給についてのゴムブランケットでの供給材料の
計量に関連させるので、測定された帯域強さにより材料
の組成それぞれの定量用の制御信号が導き出される。爆
発性の蒸気濃度にならないように供給材料の組成それぞ
れを定量する他、供給空気及び循環空気流並びに温度を
低下することにより濃度を低減することも併用する。
装置内の雰囲気乃至ガス/蒸気相中に含まれる濃度に応
じて、測定された帯域強さがそのまま又は評価しなおさ
れて乾燥装置の制御装置に送られる。処理技術的に変化
する濃度値は、インキ調整についてのインキ、洗浄体の
洗浄液供給についてのゴムブランケットでの供給材料の
計量に関連させるので、測定された帯域強さにより材料
の組成それぞれの定量用の制御信号が導き出される。爆
発性の蒸気濃度にならないように供給材料の組成それぞ
れを定量する他、供給空気及び循環空気流並びに温度を
低下することにより濃度を低減することも併用する。
検出した帯域強さと印刷プロセス及び乾燥装置制御装置
の調節値とから繰返して作動する運転も含めた連続運転
に対する制御値を計算することができる。
の調節値とから繰返して作動する運転も含めた連続運転
に対する制御値を計算することができる。
第1図は連続乾燥装置の横断面略図であり、第2A図は
連続乾燥装置の斜視略図であり、第2B図はIR−光線
装置と光路を含む連続乾燥装置の幾何学的説明図であり
、第3図は連続乾燥装置の縦断面略図であり、第4A図
はFTIR−スペクトルメーターの略図であり、第4B
図は非拡散型の光線装置用の光路を示し、第5A図は連
続乾燥装置の装置壁で光線を案内し、管体内の窓を通じ
てレトロ反射を行う光線を示し、第5B図は同2個の壁
の窓を通じて光線を偏向する偏向光線を示し、第5C図
は同位置固定に設けたレトロリフレクタ−を有するレト
ロ反射光線を示し、第6A図は任意の炭化水素に対する
波数と透過率とを示した線図であり、第6B図は基準線
に対する帯域強さを評価する図である。 図中参照番号の説明 1・・・ウェブ、 2・・・加熱装置、3.1,3
.2・・・ノズル室、4・・・空気循環装置。 11・・・光装置、 11.1・・・光線、11.
2・・・検出器、 11.3・・・偏向鏡、11.4・
・・反射鏡、 11.5・・・集光鏡、11.6・・
・レトロリフレクタ−1 11,7・・・半透明鏡、11.8・・・集光鏡。
連続乾燥装置の斜視略図であり、第2B図はIR−光線
装置と光路を含む連続乾燥装置の幾何学的説明図であり
、第3図は連続乾燥装置の縦断面略図であり、第4A図
はFTIR−スペクトルメーターの略図であり、第4B
図は非拡散型の光線装置用の光路を示し、第5A図は連
続乾燥装置の装置壁で光線を案内し、管体内の窓を通じ
てレトロ反射を行う光線を示し、第5B図は同2個の壁
の窓を通じて光線を偏向する偏向光線を示し、第5C図
は同位置固定に設けたレトロリフレクタ−を有するレト
ロ反射光線を示し、第6A図は任意の炭化水素に対する
波数と透過率とを示した線図であり、第6B図は基準線
に対する帯域強さを評価する図である。 図中参照番号の説明 1・・・ウェブ、 2・・・加熱装置、3.1,3
.2・・・ノズル室、4・・・空気循環装置。 11・・・光装置、 11.1・・・光線、11.
2・・・検出器、 11.3・・・偏向鏡、11.4・
・・反射鏡、 11.5・・・集光鏡、11.6・・
・レトロリフレクタ−1 11,7・・・半透明鏡、11.8・・・集光鏡。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、印刷されたウェブを乾燥するための巻取紙オフセッ
ト輪転機の連続乾燥装置にして;加熱補助ガス、特に空
気流をウェブ案内溝内を案内されるウェブに与える乾燥
区域と、乾燥装置内に設けられて供給空気、循環空気及
び排気を含む空気流の測定装置を含み、制御装置に接続
可能な加熱、流れ、通気用のサーボ装置と、乾燥装置外
に設けられ、インキ、湿し液の導入並びにウェブ速度と
洗浄液の供給用のサーボ装置と、炭化水素の発生ガス/
蒸気の上限濃度を計量する少なくとも1個のガス警告装
置とを備えている連続乾燥装置において、空気流中のI
R−ビーム源とIR−センサーとの間に延在し、光学的
要素(11.1〜11.11)を備えたビーム通路が測
定区域(12.1〜12.4)として設けられているこ
とを、センサーにより感知された濃度の変化からその時
折の所定のガス/蒸気成分を属する特定の帯域又は帯域
群がその濃度に関して測定及び評価回路により定量化可
能でることと、例えば基準線変化等の定量評価方により
帯域濃度値が標準化可能であり、従って比較可能な相対
的伝達又は減衰値を得ることと、連続的な特定の帯域の
オンラインで測定された濃度が所定の選択された減衰値
と比較可能であることと、調節装置が特定のガス/蒸気
のガス/蒸気濃度に対応した減衰の所定の導入変化を備
えていることと、現在と導入すべきガス/蒸気濃度との
間の所定値と実際値の比較量によりサーボ装置を操作可
能とすることを特徴とする巻取紙オフセット輪転機の連
続乾燥装置。 2、移動するウェブを印刷し、シリンダー洗浄する際に
巻取紙オフセット輪転機を連続乾燥する乾燥装置の運転
法において、特定のガス帯域強さが、印刷及びシリンダ
ーはゴムブランケットシリンダーの洗浄中にオンライン
で連続的に定量化可能であることと、ガス/蒸気濃度に
対応した減衰の実際値がサーボ要素を操作することによ
り減衰又は濃縮制御量値に変化され、その際、制御量値
は上限値以下であることと、印刷に関する制御量の変化
が少なくとも1個のインキ成分のガス/蒸気濃度に対応
した吸収性に基づいていることと、ゴムブランケットの
洗浄サイクルについての別の制御量の変化が、少なくと
も1個の洗浄液の成分、特にナフサのガス/蒸気濃度に
対応した吸収性に基づいていることと、制御装置が上記
制御量変化を実施するように形成されていることとを特
徴とする乾燥装置の運転方法。 3、乾燥装置内の乾燥雰囲気の加熱かバーナー内の燃焼
ガスの開放燃焼により実施される請求項1に記載の巻取
紙オフセット輪転機の連続乾燥装置の運転法において、
特定の帯域又は帯域群の強さが少なくとも燃焼ガスの/
成分、例えばCH_4及び/又は排気の/成分、例えば
COにより定量化されることと、強さが相対的透明又は
吸収として周知の定量評価法により表示されることとバ
ーナー(16)の調整に応じた燃焼と乾燥装置のサーボ
装置の調整値に関連した温度とが吸収値に基づいて、燃
焼残渣と一酸化炭素なしの完全燃焼を得ながら制御可能
であり、その際、入力吸収値を処理する調整装置によっ
てバーナー(16)のサーボ装置が操作可能であること
を特徴とする連続乾燥装置の運転方法。 4、請求項1に記載の印刷中の巻取紙オフセット輪転機
の連続乾燥装置の運転方法において、IR−測定路(1
2.1〜12.4)により帯域又は帯域群の強さがイン
キの成分からオンラインで定量化可能であることと、強
さが相対的に透明性又は吸収性として周知の評価法によ
り表示可能であることと、連続的に測定された帯域強さ
、又は吸収値が、所定の記録された値と比較可能である
ことと、比較値に対する、吸収値に対応した溶剤の濃度
値との差が調整可能であることと、インキの蒸発成分の
乾燥制御が調整装置によりバーナー(16)及び通風装
置の弁及び回転数のサーボ装置のサーボ値を変化して適
合可能であることを特徴とする連続乾燥装置の運転方法
。 5、請求項1に記載の連続乾燥装置において、光線路が
空気流路に設けられ、光線路が:(イ)ウェブ(1)に
沿って縦方向、Y−方向に、 (ロ)ウェブ(1)に沿って横方向、X−方向に (ハ)加熱装置(2、16)の直接前後に、 (ニ)排気流に、 (ホ)循環流に、 選択的に設けられていることを特徴とする連続乾燥装置
。 6、請求項5に記載の連続乾燥装置において、測定路(
12.1、12.2)がノズル光(3.1、3.2)の
ノズル板間でX−方向の空間内に設けられていることを
特徴とする連続乾燥装置。 7、請求項1に記載の連続乾燥装置において、乾燥装置
内に設けられた光学的要素(11.1〜11.11)が
加熱体(19)により乾燥温度以上に加熱可能であるこ
とを特徴とする連続乾燥装置。 8、請求項1に記載の連続乾燥装置において、光路(1
1)内に設けられた反射鏡(11.4)がレトロリフレ
クター(11.6)として形成され、光線を分割するの
に半透明の鏡(11.7)が設けられていることと、光
学的要素 (11.1〜11.11)が旋回、摺動及び反転可能で
あることを特徴とする連続乾燥装置。 9、請求項1に記載の連続乾燥装置において、IR−ス
ペクトルの特定の帯域、例えば4000〜400cm^
−^1がフィルター(11.10)、比較器(11.1
1)及びセンサー(11.1)により選択的に分離及び
評価可能であり、その際センサー(11.2)が、相異
なる波長を選択する多数の要素をマトリックス状に有し
ていることを特徴とする連続乾燥装置。 10、請求項1及び2に記載の連続乾燥装置の運転方法
において、サーボ装置に作用する調整装置が印刷からゴ
ムブランケットの洗浄に移行する際、調整装置に入力す
る印刷用のサーボパラメータがゴムブランケット洗浄用
の調整パラメーターへ切換可能であることを特徴とする
連続乾燥装置の運転方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3902180 | 1989-01-25 | ||
DE3939190.6 | 1989-11-27 | ||
DE3939190A DE3939190A1 (de) | 1989-01-25 | 1989-11-27 | Durchlauftrockner von rollenrotationsdruckmaschinen und betrieb eines derartigen durchlauftrockners bei fortdruck und beim zylinderwaschen mit laufender bahn |
DE3902180.7 | 1989-11-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02305642A true JPH02305642A (ja) | 1990-12-19 |
JPH0741712B2 JPH0741712B2 (ja) | 1995-05-10 |
Family
ID=25877137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014753A Expired - Lifetime JPH0741712B2 (ja) | 1989-01-25 | 1990-01-24 | 巻取紙オフセット輪転機用連続乾燥装置とその運転方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5060572A (ja) |
EP (1) | EP0379891B1 (ja) |
JP (1) | JPH0741712B2 (ja) |
AT (1) | ATE107014T1 (ja) |
DE (2) | DE3939190A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105936177A (zh) * | 2016-06-20 | 2016-09-14 | 中山松德印刷机械有限公司 | 一种节能减排高速印刷机 |
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