JPH02297005A - 位置合わせ装置 - Google Patents
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- JPH02297005A JPH02297005A JP1118986A JP11898689A JPH02297005A JP H02297005 A JPH02297005 A JP H02297005A JP 1118986 A JP1118986 A JP 1118986A JP 11898689 A JP11898689 A JP 11898689A JP H02297005 A JPH02297005 A JP H02297005A
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- mask
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 54
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 32
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 17
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 15
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 50
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7065—Production of alignment light, e.g. light source, control of coherence, polarization, pulse length, wavelength
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体などの露光装置に用い、マスクとウェ
ハとの位置合わせを行うための位置合わせ装置に関する
ものである。
ハとの位置合わせを行うための位置合わせ装置に関する
ものである。
従来の技術
従来、この種の位置合わせ装置として、特開昭６０−１
８８８４４号公報等に記載されている構成が知られてい
る。以下、上記従来の位置合わせ装置について図面を参
照しながら説明する。
８８８４４号公報等に記載されている構成が知られてい
る。以下、上記従来の位置合わせ装置について図面を参
照しながら説明する。
第３図において、１ｏ１は露光光源、１０２はマスク、
１０３はウェハ、１０４はマスク１０２を移動させ、所
定位置に固定させるマスクステージ、１０６はウェハ１
０３を移動させ、所定位置に固定させるウェハステージ
、１０６はマスク１０２のパターンをウェハ１０３に縮
小して転写するための投影レンズである。マスク１０２
にはこのマスク１０２を位置合わせするためのマーク１
ｏ７が形成され、ウェハ１０３にはこのウェハ１０３を
位置合わせするためのマーク１０８が形成されている。
１０３はウェハ、１０４はマスク１０２を移動させ、所
定位置に固定させるマスクステージ、１０６はウェハ１
０３を移動させ、所定位置に固定させるウェハステージ
、１０６はマスク１０２のパターンをウェハ１０３に縮
小して転写するための投影レンズである。マスク１０２
にはこのマスク１０２を位置合わせするためのマーク１
ｏ７が形成され、ウェハ１０３にはこのウェハ１０３を
位置合わせするためのマーク１０８が形成されている。
１０９はマスク１０２の上方に配置され、マスク１０２
のマーク１０７を位置合わせするための顕微鏡、１１０
は位置合わせ位置Ａにおいてウェハ１０３の上方に配置
され、マーク１０８を用いて位置合わせするための顕微
鏡、１１１はウェハステージ１０５の移動量を計測する
レーザ測長器である。
のマーク１０７を位置合わせするための顕微鏡、１１０
は位置合わせ位置Ａにおいてウェハ１０３の上方に配置
され、マーク１０８を用いて位置合わせするための顕微
鏡、１１１はウェハステージ１０５の移動量を計測する
レーザ測長器である。
次に上記従来の位置合わせ装置による位置合わせ動作に
ついて説明する。
ついて説明する。
まず、マスク１０２をマスクステージ１０４に設置し、
顕微鏡１０９でマーク１０７を観察して位置合わせを行
う。次に、ウェハ１０３を位置合わせ位置Ａにおいて、
顕微鏡１１０でマーク１０Ｂを観察して位置合わせを行
う。次に、ウェハステージ１０５を露光位置Ｂに移動さ
せ、上記観察結果からレーザ測長器１１１により移動量
を管理し、露光光源１０１からの光によりマスク１０２
のパターンをウェハ１０３に転写する。
顕微鏡１０９でマーク１０７を観察して位置合わせを行
う。次に、ウェハ１０３を位置合わせ位置Ａにおいて、
顕微鏡１１０でマーク１０Ｂを観察して位置合わせを行
う。次に、ウェハステージ１０５を露光位置Ｂに移動さ
せ、上記観察結果からレーザ測長器１１１により移動量
を管理し、露光光源１０１からの光によりマスク１０２
のパターンをウェハ１０３に転写する。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記従来例の構成では、マスク１０２と
ウェハ１０３を別の顕微鏡１０９．１１ｏを用いて位置
合わせしている。しかも、顕微ｍ１ｏｅ、１１ｏのよう
な画像では分解能に限界がある。更には、ウェハ１ｏ３
の位置合わせ位置Ａが実際の露光位置Ｂとは異なる。こ
のため、例えば６４ＭＢＤＲＡＭなど、ナノメーターオ
ーダーの位置合わせ精度を得ることができない。また、
従来、レーザ光の干渉を利用した位置合わせ方式も提案
されているが、マスクとウェハな２次元的に位置合わせ
することができない。
ウェハ１０３を別の顕微鏡１０９．１１ｏを用いて位置
合わせしている。しかも、顕微ｍ１ｏｅ、１１ｏのよう
な画像では分解能に限界がある。更には、ウェハ１ｏ３
の位置合わせ位置Ａが実際の露光位置Ｂとは異なる。こ
のため、例えば６４ＭＢＤＲＡＭなど、ナノメーターオ
ーダーの位置合わせ精度を得ることができない。また、
従来、レーザ光の干渉を利用した位置合わせ方式も提案
されているが、マスクとウェハな２次元的に位置合わせ
することができない。
本発明は、上記のような従来の課題を解決するもので、
マスクとウェハな２次元にナノメーターオーダーで高精
度に位置合わせすることができるようにした位置合わせ
装置を提供し、また、各素子の正確なアライメントを達
成することができるようにした位置合わせ装置を提供す
ることを目的とするものである。
マスクとウェハな２次元にナノメーターオーダーで高精
度に位置合わせすることができるようにした位置合わせ
装置を提供し、また、各素子の正確なアライメントを達
成することができるようにした位置合わせ装置を提供す
ることを目的とするものである。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するための本発明の技術的手段は、互い
にわずかに周波数が異なり、かつ偏光面が異なる２波長
の光を出射する光源と、この光源からの光を３方向に分
ける手段と、３つに分けた光をそれぞれ回折する第１、
第２、第３の基準回折格子と、これらの基準回折格子か
らの回折光を選択的に透過する第１、第２、第３の照明
光学系と、マスクとウェハにそれぞれ設けられ、上記各
照明光学系により照明される平行に配置された第１、第
２の回折格子およびこれら第１、第２の回折格子に対し
て直角方向に配置された第３の回折格子と、これら第１
、第２、第３の回折格子からの回折光の光ビート信号を
検出する第１、第２、第３の検出手段を備え、上記検出
手段から得られる光ビート信号の位相比較から得られる
位置ずれ信号により、上記マスクおよびウェハの相対位
置を制御するように構成したものである。
にわずかに周波数が異なり、かつ偏光面が異なる２波長
の光を出射する光源と、この光源からの光を３方向に分
ける手段と、３つに分けた光をそれぞれ回折する第１、
第２、第３の基準回折格子と、これらの基準回折格子か
らの回折光を選択的に透過する第１、第２、第３の照明
光学系と、マスクとウェハにそれぞれ設けられ、上記各
照明光学系により照明される平行に配置された第１、第
２の回折格子およびこれら第１、第２の回折格子に対し
て直角方向に配置された第３の回折格子と、これら第１
、第２、第３の回折格子からの回折光の光ビート信号を
検出する第１、第２、第３の検出手段を備え、上記検出
手段から得られる光ビート信号の位相比較から得られる
位置ずれ信号により、上記マスクおよびウェハの相対位
置を制御するように構成したものである。
そして、上記光源としてゼーマンレーザを用い、このゼ
ーマンレーザからのレーザ光を位相補償する１／４波長
板を備えることができる。
ーマンレーザからのレーザ光を位相補償する１／４波長
板を備えることができる。
また、上記光源からの光を３方向に分ける手段は、第１
、第２のビームスプリッタと、光を必要な方向に曲げる
複数個の反射ミラーとから構成することができる。
、第２のビームスプリッタと、光を必要な方向に曲げる
複数個の反射ミラーとから構成することができる。
また、上記各照明光学系は、上記各基準回折格子から０
０次および２次以降の回折光を除去する空間フィルター
と、±１次回折光の一方の位相を１８０度変更する位相
補償板を有し、少なくともマスク側でテレ七ントリック
に構成することができる。
０次および２次以降の回折光を除去する空間フィルター
と、±１次回折光の一方の位相を１８０度変更する位相
補償板を有し、少なくともマスク側でテレ七ントリック
に構成することができる。
また、上記各検出手段は、上記マスクとウェハの第１、
第２、第３の回折格子の再回折光を集める集光レンズと
、集光した回折光のうち、所望の偏光成分のみを選択す
る偏光素子と、選択された回折光のうち、マスクとウェ
ハからの回折光に分離するナイフェツジミラーと、分離
された回折光を受光する各２組のフォトディテクタとか
ら構成することができる。
第２、第３の回折格子の再回折光を集める集光レンズと
、集光した回折光のうち、所望の偏光成分のみを選択す
る偏光素子と、選択された回折光のうち、マスクとウェ
ハからの回折光に分離するナイフェツジミラーと、分離
された回折光を受光する各２組のフォトディテクタとか
ら構成することができる。
また、上記光源としてゼーマンレーザを用イ、このゼー
マンレーザからのレーザ光を位相補償する１／４波長板
を備え、上記光源からの光を３方向に分ける手段が第１
、第２のビームスプリッタと、光を必要な方向に曲げる
複数個の反射ミラーを備え、上記各照明光学系が基準回
折格子からの０次および２次以降の回折光を除去する空
間フィルターと、±１次回折光の一方の位相を１８０度
変更する位相補償板として１／２波長板を備え、少な（
ともマスク側でテレ七ントリックとなっており、上記各
検出手段がマスクとウェハの第１、第２、第３の回折路
、子の再回折光を集める集光レンズと、集光した回折光
のうち、所望の偏光成分のみを選択する偏光素子と、選
択された回折光のうち、マスクとウェハからの回折光に
分離するナイフェツジミラーと、分離された回折光を受
光する各一対のフォトディテクタを備え、そして、上記
ゼーマンレーザが光軸に対してあおり２軸と回転方向と
直交方向２軸を調整機構により調整され、上記ビームス
プリッタと反射ミラーが光軸に対してあおり２軸と回転
方向と水平１軸方向を調整機構により調整され、上記１
／４波長板、基準回折格子、１／２波長板および偏光素
子が光軸に対して回転方向を調整機構により調整され、
上記ナイフェツジミラーが上記マスクとウェハの再回折
光を切り分ける方向に調整機構により調整され、上記マ
スクとウェハが少なくとも直交方向に調整機構により調
整されるように構成することができる。
マンレーザからのレーザ光を位相補償する１／４波長板
を備え、上記光源からの光を３方向に分ける手段が第１
、第２のビームスプリッタと、光を必要な方向に曲げる
複数個の反射ミラーを備え、上記各照明光学系が基準回
折格子からの０次および２次以降の回折光を除去する空
間フィルターと、±１次回折光の一方の位相を１８０度
変更する位相補償板として１／２波長板を備え、少な（
ともマスク側でテレ七ントリックとなっており、上記各
検出手段がマスクとウェハの第１、第２、第３の回折路
、子の再回折光を集める集光レンズと、集光した回折光
のうち、所望の偏光成分のみを選択する偏光素子と、選
択された回折光のうち、マスクとウェハからの回折光に
分離するナイフェツジミラーと、分離された回折光を受
光する各一対のフォトディテクタを備え、そして、上記
ゼーマンレーザが光軸に対してあおり２軸と回転方向と
直交方向２軸を調整機構により調整され、上記ビームス
プリッタと反射ミラーが光軸に対してあおり２軸と回転
方向と水平１軸方向を調整機構により調整され、上記１
／４波長板、基準回折格子、１／２波長板および偏光素
子が光軸に対して回転方向を調整機構により調整され、
上記ナイフェツジミラーが上記マスクとウェハの再回折
光を切り分ける方向に調整機構により調整され、上記マ
スクとウェハが少なくとも直交方向に調整機構により調
整されるように構成することができる。
作用
上記技術的手段による作用は次のようになる。
光源からの光を３方向に分け、３つに分けた光をそれぞ
れ第１、第２、第３の基準回折格子により回折し、これ
ら基準回折格子からの回折光を第１、第２、第３の照明
光学系により選択的に透過させ、マスクとウェハにそれ
ぞれ平行に配置した第１、第２の回折格子およびこれら
第１、第２の回折格子と直角方向に配置した第３の回折
格子に照明させ、第１、第２、第３の回折格子からの回
折光の光ビート信号を第１、第２、第３の検出手段によ
り検出し、これらの検出手段から得られる光ビート信号
の位相比較から得られる位置ずれ信号によりマスクおよ
びウェハの相対位置を制御する。このように、マスクと
ウェハにそれぞれ平行に配置した第１、第２の回折格子
およびこれらと直角方向に配置した第３の回折格子を用
い、光の干渉を利用してマスクとウェハを位置合わせす
ることにより、２次元で位置合わせを行うことができる
。
れ第１、第２、第３の基準回折格子により回折し、これ
ら基準回折格子からの回折光を第１、第２、第３の照明
光学系により選択的に透過させ、マスクとウェハにそれ
ぞれ平行に配置した第１、第２の回折格子およびこれら
第１、第２の回折格子と直角方向に配置した第３の回折
格子に照明させ、第１、第２、第３の回折格子からの回
折光の光ビート信号を第１、第２、第３の検出手段によ
り検出し、これらの検出手段から得られる光ビート信号
の位相比較から得られる位置ずれ信号によりマスクおよ
びウェハの相対位置を制御する。このように、マスクと
ウェハにそれぞれ平行に配置した第１、第２の回折格子
およびこれらと直角方向に配置した第３の回折格子を用
い、光の干渉を利用してマスクとウェハを位置合わせす
ることにより、２次元で位置合わせを行うことができる
。
実施例
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図および第２図は本発明の一実施例における位置合
わせ装置を示し、第１図は全体の概略斜視図、第２図（
ａ）ないしくｅ）は各素子の調整機構の概略斜視図であ
る。
わせ装置を示し、第１図は全体の概略斜視図、第２図（
ａ）ないしくｅ）は各素子の調整機構の概略斜視図であ
る。
第１図において、１はゼーマンレーザであり、基本的に
はわずかに周波数が異なり、直交偏光された２波長を含
むレーザ光２を出射する。このレーザ光２は１部楕円偏
光されているので、反１４ ミラー３で反射された後、
１／４波長板４で位相補償を行う。位相補償されたレー
ザ光２は第１のビームスプリッタ６により光路を６と７
の２つに分ける。第１のビームスプリッタ６を透過した
レーザ光６は反射ミラー８で反射させ、第２のビームス
プＩＪ 、夕９で再び光路を１０と１１の２つに分ける
。第１のビームスプリッタ６で分けたレーザ光γは反射
ミラー１２により、一方、第２のビームスプリッタ９で
分けたレーザ光１ｏと１１はそれぞれ反射ミラー１３．
１４．１６と１６によりほぼ同じ方向に曲げる。３つに
分けられたレーザ光γ、１ｏ、１１は、位置合わせの基
準となる第１、第２、第３の基準回折格子１７．１８．
１９により回折する。各基準回折格子１Ｔ、１８．１９
で回折した各回折光は第１、第２、第３の照明光学系２
０．２１．２２により選択的に透過させる。各照明光学
系１９．２０．２１は空間フィルター２３、位相補償板
である１／／２波長板２４およびフーリエ変換レンズ２
６等の光学素子から構成されている。そして、各基準回
折格子１７．１８．１９で回折された各回折光のうち、
０次および２次以降の回折光は、各空間フィルター２３
により除去し、±１次回折光２６．２７のみを選択する
。各−１次回折光２γは１／／２波長板２４により位相
を１８０度変更Ｌ、各＋１次回折光２６はそのままでそ
れぞれフーリエ変換レンズ２６に入射させ、各フーリエ
変換レンズ２６により各士回折光２６．２７を再びマス
ク２８とウェハ２９上にそれぞれ設けられた位置合わせ
マークである第１、第２、第３の回折格子３０．３１．
３２と３３．３４．３６に集光させ、再回折する。マス
ク２８における対向する第１、第２の回折格子３０．３
１は平行に配置され、第３の回折格子３２は第１、第２
の回折格子３０．３１に対し直角方向に配置されている
。同様にウェハ２９における対向する第１、第２の回折
格子３３．３４は平行に配置され、第３の回折格子３６
は第１、第２の回折格子３３．３４に対し直角方向に配
置されている。第１、第２、第３の各回折格子３０．３
１．３２と３３．３４．３６からの回折光のうち、同一
方向に進む±１次回折光３６ ａ、３６ｂと３７ａ、３
７ｂを用いて第１、第２、第３の検出手段３８．３９．
４ｏにより光ビート信号を検出する。各検出手段３８．
３９．４ｏは、集光レンズ４１、偏光フィルター４２、
ナイフェツジミラー４３、一対の光電子倍増管等のフォ
トディテクタ４４．４６等から構成されている。そして
、各±１次回折光３６ａ、３６ｂと３７ａ、３７ｂを集
光レンズ４１により集光し、偏光フィルター４２に通し
て必要な偏光方向のみを選択する。集光部にはナイフェ
ツジミラー４３を設置し、このナイフェツジミラー４３
によりマスク２８とウェハ２９からの同位相の回折光３
６ａｓ３γａと３６ｂ、 ３７ｂとに分離し、フォトデ
ィテクタ４４と４６に入射する。フォトディテクタ４４
．４６からの出力は回折光３６．３７の干渉した信号と
なり、ビート信号４６．４７として出力する。このビー
ト信号４６．４７は、マスク２８とウェハ２９の第１、
第２、第３の回折格子３０．３１．３２と３３．３４．
３５０間のそれぞれの位置ずれ量と相関関係があり、そ
の結果、マスク２８とウェハ２９の位置ずれ量を求める
ことができる。
はわずかに周波数が異なり、直交偏光された２波長を含
むレーザ光２を出射する。このレーザ光２は１部楕円偏
光されているので、反１４ ミラー３で反射された後、
１／４波長板４で位相補償を行う。位相補償されたレー
ザ光２は第１のビームスプリッタ６により光路を６と７
の２つに分ける。第１のビームスプリッタ６を透過した
レーザ光６は反射ミラー８で反射させ、第２のビームス
プＩＪ 、夕９で再び光路を１０と１１の２つに分ける
。第１のビームスプリッタ６で分けたレーザ光γは反射
ミラー１２により、一方、第２のビームスプリッタ９で
分けたレーザ光１ｏと１１はそれぞれ反射ミラー１３．
１４．１６と１６によりほぼ同じ方向に曲げる。３つに
分けられたレーザ光γ、１ｏ、１１は、位置合わせの基
準となる第１、第２、第３の基準回折格子１７．１８．
１９により回折する。各基準回折格子１Ｔ、１８．１９
で回折した各回折光は第１、第２、第３の照明光学系２
０．２１．２２により選択的に透過させる。各照明光学
系１９．２０．２１は空間フィルター２３、位相補償板
である１／／２波長板２４およびフーリエ変換レンズ２
６等の光学素子から構成されている。そして、各基準回
折格子１７．１８．１９で回折された各回折光のうち、
０次および２次以降の回折光は、各空間フィルター２３
により除去し、±１次回折光２６．２７のみを選択する
。各−１次回折光２γは１／／２波長板２４により位相
を１８０度変更Ｌ、各＋１次回折光２６はそのままでそ
れぞれフーリエ変換レンズ２６に入射させ、各フーリエ
変換レンズ２６により各士回折光２６．２７を再びマス
ク２８とウェハ２９上にそれぞれ設けられた位置合わせ
マークである第１、第２、第３の回折格子３０．３１．
３２と３３．３４．３６に集光させ、再回折する。マス
ク２８における対向する第１、第２の回折格子３０．３
１は平行に配置され、第３の回折格子３２は第１、第２
の回折格子３０．３１に対し直角方向に配置されている
。同様にウェハ２９における対向する第１、第２の回折
格子３３．３４は平行に配置され、第３の回折格子３６
は第１、第２の回折格子３３．３４に対し直角方向に配
置されている。第１、第２、第３の各回折格子３０．３
１．３２と３３．３４．３６からの回折光のうち、同一
方向に進む±１次回折光３６ ａ、３６ｂと３７ａ、３
７ｂを用いて第１、第２、第３の検出手段３８．３９．
４ｏにより光ビート信号を検出する。各検出手段３８．
３９．４ｏは、集光レンズ４１、偏光フィルター４２、
ナイフェツジミラー４３、一対の光電子倍増管等のフォ
トディテクタ４４．４６等から構成されている。そして
、各±１次回折光３６ａ、３６ｂと３７ａ、３７ｂを集
光レンズ４１により集光し、偏光フィルター４２に通し
て必要な偏光方向のみを選択する。集光部にはナイフェ
ツジミラー４３を設置し、このナイフェツジミラー４３
によりマスク２８とウェハ２９からの同位相の回折光３
６ａｓ３γａと３６ｂ、 ３７ｂとに分離し、フォトデ
ィテクタ４４と４６に入射する。フォトディテクタ４４
．４６からの出力は回折光３６．３７の干渉した信号と
なり、ビート信号４６．４７として出力する。このビー
ト信号４６．４７は、マスク２８とウェハ２９の第１、
第２、第３の回折格子３０．３１．３２と３３．３４．
３５０間のそれぞれの位置ずれ量と相関関係があり、そ
の結果、マスク２８とウェハ２９の位置ずれ量を求める
ことができる。
上記のように第１、第２のビームスプリッタ６．９によ
り３つに分けられた各レーザ光７．１ｏ、１１は、１軸
がＸ方向（第３の回折格子３２と３６）、他の２軸がこ
れと直角なＸ方向（第１、第２の回折格子３ｏ、３１と
３３．３４）に配置され、かつＸ方向の２軸が露光領域
４８に対して対向する構成となっている。
り３つに分けられた各レーザ光７．１ｏ、１１は、１軸
がＸ方向（第３の回折格子３２と３６）、他の２軸がこ
れと直角なＸ方向（第１、第２の回折格子３ｏ、３１と
３３．３４）に配置され、かつＸ方向の２軸が露光領域
４８に対して対向する構成となっている。
上記ゼーマンレーザ１は第２図（ａ）に示す調整機構４
９に支持されている。すなわち、調整機構４９は、フレ
ーム（図示省略）等に支持された一対のリング状の支持
部材６ｏにそれぞれ１２０度ごとに調整ねじ６１が放射
方向で進退可能に螺合され、各組の調整ねじ６１の内側
にゼーマンレーザ１が６点で支持されている。したがっ
て、各組の調整ねじ６１の操作により、光軸に対してゼ
ーマンレーザ１の左右方向と上下方向のあおり２軸と回
転方向と直交方向の２軸の調整を行うことができる。
９に支持されている。すなわち、調整機構４９は、フレ
ーム（図示省略）等に支持された一対のリング状の支持
部材６ｏにそれぞれ１２０度ごとに調整ねじ６１が放射
方向で進退可能に螺合され、各組の調整ねじ６１の内側
にゼーマンレーザ１が６点で支持されている。したがっ
て、各組の調整ねじ６１の操作により、光軸に対してゼ
ーマンレーザ１の左右方向と上下方向のあおり２軸と回
転方向と直交方向の２軸の調整を行うことができる。
上記第１、第２のビームスプリッタ６．９と各反射ミラ
ー３．８．１２．１３．１４．１５．１６はそれぞれ第
２図（ｂ）に示す調整機構６２に支持されている。すな
わち、各調整機構６２は基台６３上に可動台６４が矢印
Ｘ方向に移動可能に支持され、両者がねじ等を用いた移
動手段（図示省略）により連係され、可動台６４上に支
持部材６６が矢印θで示すように旋回機構６６を介して
旋回可能に支持され、支持部材６６の先端のリング状の
支持部６７に例えば上下２箇所に調整ねじ６８が対向方
向で進退可能に支持され、この調整ねじ６８の内側に反
射ミラー３等が支持されている。したがって、支持部材
６５等を可動台６４に対する旋回と調整ねじ５８の操作
により、光軸に対して反射ミラー３等の左右方向（矢印
θＩ）と上下方向（矢印θ２）のあおり２軸を調整する
ことができ、また、調整ねじ５８の後退操作により、光
軸に対して反射ミラー３等の回転方向（矢印θ）の調整
を行うことができ、また、可動台６４等の基台６３に対
する移動操作により、光軸に対して反射ミラー３等の水
平１軸方向（矢印Ｙ）の調整を行うことができる。上記
１／４波長板４、第１、第２、第３の基準回折格子１７
．１８．１９、各１／／２波長板２４、各偏光フィルタ
ー４２はそれぞれ第２図（Ｃ）に示す調整機構６９に支
持されている。すなわち、各調整機構６９はフレーム等
に支持されたリング状の支持部材６０の複数箇所に調整
ねじｅｌが放射方向で進退可能に螺合され、これら調整
ねじ６１の内側に１／４波長板４等が支持されている。
ー３．８．１２．１３．１４．１５．１６はそれぞれ第
２図（ｂ）に示す調整機構６２に支持されている。すな
わち、各調整機構６２は基台６３上に可動台６４が矢印
Ｘ方向に移動可能に支持され、両者がねじ等を用いた移
動手段（図示省略）により連係され、可動台６４上に支
持部材６６が矢印θで示すように旋回機構６６を介して
旋回可能に支持され、支持部材６６の先端のリング状の
支持部６７に例えば上下２箇所に調整ねじ６８が対向方
向で進退可能に支持され、この調整ねじ６８の内側に反
射ミラー３等が支持されている。したがって、支持部材
６５等を可動台６４に対する旋回と調整ねじ５８の操作
により、光軸に対して反射ミラー３等の左右方向（矢印
θＩ）と上下方向（矢印θ２）のあおり２軸を調整する
ことができ、また、調整ねじ５８の後退操作により、光
軸に対して反射ミラー３等の回転方向（矢印θ）の調整
を行うことができ、また、可動台６４等の基台６３に対
する移動操作により、光軸に対して反射ミラー３等の水
平１軸方向（矢印Ｙ）の調整を行うことができる。上記
１／４波長板４、第１、第２、第３の基準回折格子１７
．１８．１９、各１／／２波長板２４、各偏光フィルタ
ー４２はそれぞれ第２図（Ｃ）に示す調整機構６９に支
持されている。すなわち、各調整機構６９はフレーム等
に支持されたリング状の支持部材６０の複数箇所に調整
ねじｅｌが放射方向で進退可能に螺合され、これら調整
ねじ６１の内側に１／４波長板４等が支持されている。
したがって、調整ねじ６１の後退操作により、光軸に対
して１／４波長板４等の回転方向（矢印θ）の調整を行
うことができる。上記各ナイフェツジミラー４３は第２
図（ｄ）に示すようにねじ軸を用いた調整機構６２の操
作により、光軸に対してマスク２８とウェハ２９の再回
折光３６．３７を分離する方向、すなわち２軸方向に調
整することができる。上記マスク２８とウェハ２９はそ
れぞれ第２図（ｅ）に示す調整機構６３に支持されてい
る。すなわち、各調整機構ｅ３は基台６４上にＸ軸可動
台６６が移動可能に支持され、両者がねじ等を用いた移
動手段（図示省略）により連係され、Ｘ軸可動台６６上
にＹ軸可動台ｅ６が移動可能に支持され、両者がねじ等
を用いた移動手段（図示省略）により連係され、Ｙ軸可
動台６６上にマスク２８等が支持されている。したがっ
て、Ｘ軸可動台６６とＹ軸可動台６ｅの移動操作により
、マスク２８等をＸ１Ｙ軸の直交２方向に調整すること
ができる。
して１／４波長板４等の回転方向（矢印θ）の調整を行
うことができる。上記各ナイフェツジミラー４３は第２
図（ｄ）に示すようにねじ軸を用いた調整機構６２の操
作により、光軸に対してマスク２８とウェハ２９の再回
折光３６．３７を分離する方向、すなわち２軸方向に調
整することができる。上記マスク２８とウェハ２９はそ
れぞれ第２図（ｅ）に示す調整機構６３に支持されてい
る。すなわち、各調整機構ｅ３は基台６４上にＸ軸可動
台６６が移動可能に支持され、両者がねじ等を用いた移
動手段（図示省略）により連係され、Ｘ軸可動台６６上
にＹ軸可動台ｅ６が移動可能に支持され、両者がねじ等
を用いた移動手段（図示省略）により連係され、Ｙ軸可
動台６６上にマスク２８等が支持されている。したがっ
て、Ｘ軸可動台６６とＹ軸可動台６ｅの移動操作により
、マスク２８等をＸ１Ｙ軸の直交２方向に調整すること
ができる。
以上の構成において、以下、マスク２８とウェハ２９の
位置合わせ動作について説明する。
位置合わせ動作について説明する。
まず、ゼーマンレーザ１を調整機構４９（第２図（ａ）
参照）により調整して位置決めし、反射ミラー３．８．
１３を調整機構５２（第２図（ｂ）参照）により調整し
て位置決めし、レーザ光２のアライメントを行う。この
レーザ光２の光路中に第１、第２のビームスプリッタ６
．９と反射ミラー１２．１４．１５．１６を調整機構５
２（第２図（ｂ）参照）により調整、位置決めしてアラ
イメントする。次に１／４波長板４の偏光方向を調整機
構６９（第２図（Ｃ）参照）により調整して位置決めす
る。第１、第２のビームスプリッタ６．９により３方向
に分けられたレーザ光７．１０，１１に対して第１、第
２、第３の各基準回折格子１７．１８．１９、各１／／
２波長板２４および各偏光フィルター４１を調整機構６
９（第２図（ｃ）参照）により調整して位置決めする。
参照）により調整して位置決めし、反射ミラー３．８．
１３を調整機構５２（第２図（ｂ）参照）により調整し
て位置決めし、レーザ光２のアライメントを行う。この
レーザ光２の光路中に第１、第２のビームスプリッタ６
．９と反射ミラー１２．１４．１５．１６を調整機構５
２（第２図（ｂ）参照）により調整、位置決めしてアラ
イメントする。次に１／４波長板４の偏光方向を調整機
構６９（第２図（Ｃ）参照）により調整して位置決めす
る。第１、第２のビームスプリッタ６．９により３方向
に分けられたレーザ光７．１０，１１に対して第１、第
２、第３の各基準回折格子１７．１８．１９、各１／／
２波長板２４および各偏光フィルター４１を調整機構６
９（第２図（ｃ）参照）により調整して位置決めする。
また、マスク２８とウェハ２９の再回折光３６．３７を
分離することができるようにナイフェツジミラー４３を
調整機構６２（第２図（ｄ）参照）により調整して位置
決めする。その他の光学部品も各々の調整機構を用いて
光路中に調整する。
分離することができるようにナイフェツジミラー４３を
調整機構６２（第２図（ｄ）参照）により調整して位置
決めする。その他の光学部品も各々の調整機構を用いて
光路中に調整する。
以上のようにアライメントした位置合わせ装置を用いて
マスク２８とウェハ２ｅの位置合わせを行うには、まず
、マスク２８とウェハ２９をそれぞれ調整機構６３のＹ
軸可動台６６（第２図（ｅ）参照）に装着し、光学手段
（図示省略）を用いて概略のアライメントを行う。その
後、上記のようにゼーマンレーザ１から互いにわずかに
周波数が異なり、かつ偏光面が異なるレーザ光２を出射
させ、このレーザ光２を反射ミラー３．８を介して第１
、第２のビームスプリッタ６．９により３方向のレーザ
光７．１０．１１に分ける。各レーザ光７．１０゜１１
は反射ミラー１２．１３．１４．１６．１６によりその
光路を曲げ、第１、第２、第３の基準回折格子１７．１
８．１９へ入射させて回折する。そして、空間フィルタ
ー２３．１／２波長板２４、フーリエ変換レンズ２６か
らなる第１、第２、第３の照明光学系２０，２１．２２
により±１次回折光２６．２７をマスク２８とウェハ２
９の位置合わせマークである第１、第２、第３の回折格
子３ｏ、３１．３２と３３．３４．３６に入射させる。
マスク２８とウェハ２ｅの位置合わせを行うには、まず
、マスク２８とウェハ２９をそれぞれ調整機構６３のＹ
軸可動台６６（第２図（ｅ）参照）に装着し、光学手段
（図示省略）を用いて概略のアライメントを行う。その
後、上記のようにゼーマンレーザ１から互いにわずかに
周波数が異なり、かつ偏光面が異なるレーザ光２を出射
させ、このレーザ光２を反射ミラー３．８を介して第１
、第２のビームスプリッタ６．９により３方向のレーザ
光７．１０．１１に分ける。各レーザ光７．１０゜１１
は反射ミラー１２．１３．１４．１６．１６によりその
光路を曲げ、第１、第２、第３の基準回折格子１７．１
８．１９へ入射させて回折する。そして、空間フィルタ
ー２３．１／２波長板２４、フーリエ変換レンズ２６か
らなる第１、第２、第３の照明光学系２０，２１．２２
により±１次回折光２６．２７をマスク２８とウェハ２
９の位置合わせマークである第１、第２、第３の回折格
子３ｏ、３１．３２と３３．３４．３６に入射させる。
これら第１、第２、第３の回折格子３０．３１．３２と
３３．３４．３６からの各再回折光３６ａ、３６ｂと３
了ａ、３７１）を用いて集光レンズ４１、偏光フィルタ
ー４２、ナイフェツジミラー４３および一対のフォトデ
ィテクタ４４．４６からなる第１、第２、第３の検出手
段で光ビート信号を検出する。すなわち、各±１次回折
光３６ａ、３６ｂと３了ａ、３７ｂを集光レンズ４１に
より集光し、偏光フィルター４２に通して必要な偏光方
向のみを選択し、ナイフェツジミラー４３によりマスク
２Ｂとウェハ２９からの同位相の回折光３６ａ、３７ａ
と３６ｂ、３７ｂとに分離し、フォトディテクタ４４と
４６に入射させる。フォトディテクタ４４．４６からの
出力は回折光３６．３７の干渉した信号となり、ビート
信号４６．４７として出力する。このビート信号４ｅ１
４アは、マスク２８とウェハ２９の第１、第２、第３の
回折格子３０．３１．３２と３３．３４．３６０間のそ
れぞれの位置ずれ量と相関関係があり、その結果、マス
ク２８とウェハ２９の位置ずれ量を求めることができる
。すなわち、サフィックスｙとθによりｘｙ座標系にお
ける水平出しとｙ座標を測定し、サフィックスＸにより
Ｘ座標を測定する。そしてマスクｚ８とウェハ２９それ
ぞれの信号の位相差を０にするように第２図（ｅ）に示
す調整機構６３におけるＸ軸可動台６６とＹ軸可動台６
６の少なくとも一方を駆動することによりマスク２８と
ウェハ２９を位置合わせすることができる。
３３．３４．３６からの各再回折光３６ａ、３６ｂと３
了ａ、３７１）を用いて集光レンズ４１、偏光フィルタ
ー４２、ナイフェツジミラー４３および一対のフォトデ
ィテクタ４４．４６からなる第１、第２、第３の検出手
段で光ビート信号を検出する。すなわち、各±１次回折
光３６ａ、３６ｂと３了ａ、３７ｂを集光レンズ４１に
より集光し、偏光フィルター４２に通して必要な偏光方
向のみを選択し、ナイフェツジミラー４３によりマスク
２Ｂとウェハ２９からの同位相の回折光３６ａ、３７ａ
と３６ｂ、３７ｂとに分離し、フォトディテクタ４４と
４６に入射させる。フォトディテクタ４４．４６からの
出力は回折光３６．３７の干渉した信号となり、ビート
信号４６．４７として出力する。このビート信号４ｅ１
４アは、マスク２８とウェハ２９の第１、第２、第３の
回折格子３０．３１．３２と３３．３４．３６０間のそ
れぞれの位置ずれ量と相関関係があり、その結果、マス
ク２８とウェハ２９の位置ずれ量を求めることができる
。すなわち、サフィックスｙとθによりｘｙ座標系にお
ける水平出しとｙ座標を測定し、サフィックスＸにより
Ｘ座標を測定する。そしてマスクｚ８とウェハ２９それ
ぞれの信号の位相差を０にするように第２図（ｅ）に示
す調整機構６３におけるＸ軸可動台６６とＹ軸可動台６
６の少なくとも一方を駆動することによりマスク２８と
ウェハ２９を位置合わせすることができる。
このように、第１、第２のビームスプリッタ６．９によ
り３つに分けられた各レーザ光７．１０．１１を、マス
ク２８とウェハ２９において、それぞれ平行に配置した
第１、第２の回折格子３０．３１と３３．３４およびこ
れらと直角方向に配置した第３の回折格子３２と３３で
回折させ、第１、第２、第３の検出手段３８．３９．４
０で位置ずれ量を求めるので、マスク２８とウェハ２９
の２次元のアライメントがナノメーターのオーダーの高
精度で可能になる。
り３つに分けられた各レーザ光７．１０．１１を、マス
ク２８とウェハ２９において、それぞれ平行に配置した
第１、第２の回折格子３０．３１と３３．３４およびこ
れらと直角方向に配置した第３の回折格子３２と３３で
回折させ、第１、第２、第３の検出手段３８．３９．４
０で位置ずれ量を求めるので、マスク２８とウェハ２９
の２次元のアライメントがナノメーターのオーダーの高
精度で可能になる。
発明の効果
以上述べたように光源からの光を３方向に分け、３つに
分けた光をそれぞれ第１、第２、第３の基準回折格子に
より回折し、これら基準回折格子からの回折光を第１、
第２、第３の照明光学系により選択的に透過させ、マス
クとウェハにそれぞれ平行に配置した第１、第２の回折
格子およびこれら第１、第２の回折格子と直角方向に配
置した第３の回折格子に照明させ、第１、第２、第３の
回折格子からの回折光の光ビート信号を第１、第２、第
３の検出手段により検出し、これらの検出手段から得ら
れる光ビート信号の位相比較から得られる位置ずれ信号
によりマスクおよびウェハの相対位置を制御するように
している。このように、マスクとウェハにそれぞれ平行
に配置した第１、第２の回折格子およびこれらと直角方
向に配置した第３の回折格子を用い、光の干渉を利用し
てマスクとウェハを位置合わせすることにより、マスク
、ウェハの位置合わせを２次元で精密に行うことが可能
である。
分けた光をそれぞれ第１、第２、第３の基準回折格子に
より回折し、これら基準回折格子からの回折光を第１、
第２、第３の照明光学系により選択的に透過させ、マス
クとウェハにそれぞれ平行に配置した第１、第２の回折
格子およびこれら第１、第２の回折格子と直角方向に配
置した第３の回折格子に照明させ、第１、第２、第３の
回折格子からの回折光の光ビート信号を第１、第２、第
３の検出手段により検出し、これらの検出手段から得ら
れる光ビート信号の位相比較から得られる位置ずれ信号
によりマスクおよびウェハの相対位置を制御するように
している。このように、マスクとウェハにそれぞれ平行
に配置した第１、第２の回折格子およびこれらと直角方
向に配置した第３の回折格子を用い、光の干渉を利用し
てマスクとウェハを位置合わせすることにより、マスク
、ウェハの位置合わせを２次元で精密に行うことが可能
である。
また、各光学素子を光軸に対して調整機構により調整す
るようにしているので、正確なアライメントを達成する
ことができる。
るようにしているので、正確なアライメントを達成する
ことができる。
第１図および第２図は本発明の一実施例における位置合
わせ装置を示し、第１図は全体の概略斜視図、第２図（
ａ）ないしくｅ）は各素子の調整機構の概略斜視図、第
３図は従来の位置合わせ装置を示す概略説明図である。 １・・・ゼーマンレーザ、６．９・・・ビームスフリツ
タ、１７，１Ｂ、１９・・・基準回折格子、２０，２１
．２２・・・照明光学系、２３・・・空間フィルター、
２４・・・１／／２波長板、２６・・・フーリエ変換レ
ンズ、２８・・・マスク、２９・・・ウェハ、３０．３
１．３２．３３．３４．３６・・・回折格子、３８．３
９．４ｏ・・・検出手段、４１・・・集光レンズ、４２
・・・偏光フィルター４３・・・ナイフェツジミラー、
４４．４６・・・フォトディテクタ、４９．５２．６９
．６２．６３・・・調整機構。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名第 図 第 図
わせ装置を示し、第１図は全体の概略斜視図、第２図（
ａ）ないしくｅ）は各素子の調整機構の概略斜視図、第
３図は従来の位置合わせ装置を示す概略説明図である。 １・・・ゼーマンレーザ、６．９・・・ビームスフリツ
タ、１７，１Ｂ、１９・・・基準回折格子、２０，２１
．２２・・・照明光学系、２３・・・空間フィルター、
２４・・・１／／２波長板、２６・・・フーリエ変換レ
ンズ、２８・・・マスク、２９・・・ウェハ、３０．３
１．３２．３３．３４．３６・・・回折格子、３８．３
９．４ｏ・・・検出手段、４１・・・集光レンズ、４２
・・・偏光フィルター４３・・・ナイフェツジミラー、
４４．４６・・・フォトディテクタ、４９．５２．６９
．６２．６３・・・調整機構。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名第 図 第 図
Claims (7)
- （１）互いにわずかに周波数が異なり、かつ偏光面が異
なる２波長の光を出射する光源と、この光源からの光を
３方向に分ける手段と、３つに分けた光をそれぞれ回折
する第１、第２、第３の基準回折格子と、これらの基準
回折格子からの回折光を選択的に透過する第１、第２、
第３の照明光学系と、マスクとウェハにそれぞれ設けら
れ、上記各照明光学系により照明される平行に配置され
た第１、第２の回折格子およびこれら第１、第２の回折
格子に対して直角方向に配置された第３の回折格子と、
これら第１、第２、第３の回折格子からの回折光の光ビ
ート信号を検出する第１、第２、第３の検出手段を備え
、上記検出手段から得られる光ビート信号の位相比較か
ら得られる位置ずれ信号により、上記マスクおよびウェ
ハの相対位置を制御するように構成したことを特徴とす
る位置合わせ装置。 - （２）光源としてゼーマンレーザを用い、このゼーマン
レーザからのレーザ光を位相補償する１／４波長板を備
えた請求項１記載の位置合わせ装置。 - （３）光源からの光を３方向に分ける手段が第１、第２
のビームスプリッタと、光を必要な方向に曲げる複数個
の反射ミラーを備えた請求項１または２記載の位置合わ
せ装置。 - （４）各照明光学系が基準回折格子からの０次および２
次以降の回折光を除去する空間フィルターと、±１次回
折光の一方の位相を１８０度変更する位相補償板を有し
、少なくともマスク側でテレセントリックとなつている
請求項１ないし３のいずれかに記載の位置合わせ装置。 - （５）各検出手段がマスクとウェハの第１、第２、第３
の回折格子の再回折光を集める集光レンズと、集光した
回折光のうち、所望の偏光成分のみを選択する偏光素子
と、選択された回折光のうち、マスクとウェハからの回
折光に分離するナイフエッジミラーと、分離された回折
光を受光する各一対のフォトディテクタを備えた請求項
１ないし４のいずれかに記載の位置合わせ装置。 - （６）光源としてゼーマンレーザを用い、このゼーマン
レーザからのレーザ光を位相補償する１／４波長板を備
え、光源からの光を３方向に分ける手段が第１、第２の
ビームスプリッタと、光を必要な方向に曲げる複数個の
反射ミラーを備え、各照明光学系が基準回折格子からの
０次および２次以降の回折光を除去する空間フィルター
と、±１次回折光の一方の位相を１８０度変更する位相
補償板として１／２波長板を備え、少なくともマスク側
でテレセントリックとなつており、各検出手段がマスク
とウェハの第１、第２、第３の回折格子の再回折光を集
める集光レンズと、集光した回折光のうち、所望の偏光
成分のみを選択する偏光素子と、選択された回折光のう
ち、マスクとウェハからの回折光に分離するナイフエッ
ジミラーと、分離された回折光を受光する各２組のフォ
トディテクタを備えた請求項１記載の位置合わせ装置。 - （７）ゼーマンレーザが光軸に対してあおり２軸と回転
方向と直交方向２軸を調整機構により調整され、ビーム
スプリッタと反射ミラーが光軸に対してあおり２軸と回
転方向と水平１軸方向を調整機構により調整され、１／
４波長板、基準回折格子、１／２波長板および偏向素子
が光軸に対して回転方向を調整機構により調整され、ナ
イフエッジミラーがマスクとウェハの再回折光を分離す
る方向に調整機構により調整され、マスクとウェハが少
なくとも直交方向に調整機構により調整される請求項６
記載の位置合わせ装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1118986A JPH02297005A (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | 位置合わせ装置 |
| US07/518,420 US5025168A (en) | 1989-05-12 | 1990-05-03 | Alignment apparatus including three beams and three gratings |
| DE69010978T DE69010978T2 (de) | 1989-05-12 | 1990-05-11 | Ausrichtvorrichtung. |
| EP90305127A EP0397530B1 (en) | 1989-05-12 | 1990-05-11 | Alignment apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1118986A JPH02297005A (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | 位置合わせ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02297005A true JPH02297005A (ja) | 1990-12-07 |
Family
ID=14750178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1118986A Pending JPH02297005A (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | 位置合わせ装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5025168A (ja) |
| EP (1) | EP0397530B1 (ja) |
| JP (1) | JPH02297005A (ja) |
| DE (1) | DE69010978T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5321502A (en) * | 1991-07-11 | 1994-06-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Measuring method and measuring apparatus |
| US5404220A (en) * | 1991-10-03 | 1995-04-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Measuring method and measuring apparatus for determining the relative displacement of a diffraction grating with respect to a plurality of beams |
| CN106092038A (zh) * | 2016-06-06 | 2016-11-09 | 宁波大学 | 一种探测激光二维方位及波长的装置及方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2913755B2 (ja) * | 1990-04-25 | 1999-06-28 | 株式会社ニコン | 位置合わせ方法及び装置 |
| WO2018156702A1 (en) * | 2017-02-23 | 2018-08-30 | Nikon Corporation | Measurement of a change in a geometrical characteristic and/or position of a workpiece |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6378004A (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 位置合せ方法および露光装置 |
| JPS6489323A (en) * | 1987-09-29 | 1989-04-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Alignment device |
Family Cites Families (5)
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