JPH02290502A - 干渉計 - Google Patents
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- JPH02290502A JPH02290502A JP2044254A JP4425490A JPH02290502A JP H02290502 A JPH02290502 A JP H02290502A JP 2044254 A JP2044254 A JP 2044254A JP 4425490 A JP4425490 A JP 4425490A JP H02290502 A JPH02290502 A JP H02290502A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 102
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 87
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 2
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 2
- 206010041662 Splinter Diseases 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004556 laser interferometry Methods 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02017—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations
- G01B9/02019—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations contacting different points on same face of object
-
- G—PHYSICS
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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-
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- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02027—Two or more interferometric channels or interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/45—Multiple detectors for detecting interferometer signals
-
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Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は直線的移動と回転角度とを測定するための、平
面鏡を利用した干渉計に関する．〔従来技術とその問題
点〕 ＩＣウェファ・ステッパーで使用するような精密移動ス
テージは、位置フィードバック・センサー用にレーザー
干渉計（ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ）を用いている
。代表的な応用例では、３つの自由度が測定される．そ
のうちの２つは、ＸおよびＹ軸方向のステージの直線的
変位である。３つ目は、偏揺れ（ ｙａｗ）、すなわち
Ｘ−Ｙ平面に直交するＺ軸のまわりのステージの回転で
ある。
面鏡を利用した干渉計に関する．〔従来技術とその問題
点〕 ＩＣウェファ・ステッパーで使用するような精密移動ス
テージは、位置フィードバック・センサー用にレーザー
干渉計（ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ）を用いている
。代表的な応用例では、３つの自由度が測定される．そ
のうちの２つは、ＸおよびＹ軸方向のステージの直線的
変位である。３つ目は、偏揺れ（ ｙａｗ）、すなわち
Ｘ−Ｙ平面に直交するＺ軸のまわりのステージの回転で
ある。
平面鏡干渉計は、一般に、これらの測定をするために使
用する．２つの測定鏡がステージ上に取り付けられ、そ
の１つはＸ軸と直交しもう１つはＹ軸と直交する．これ
らの平面鏡の長さは、主としてステージがＸおよびＹ両
方向を進む距離により決まる． 従来は、各自由度を測定するための別個の平面鏡干渉計
光学アセンブリが必要であった．その２つの光学アセン
ブリを使用してＸおよびＹ位置を測定する．偏揺れ角度
を測定するためには、ＸまたはＹ軸上に第三の光学アセ
ンブリが必要である．第三の干渉計は、別の位置測定、
例えばＸ位置測定から距離ｄにおけるＸ″を測定する。
用する．２つの測定鏡がステージ上に取り付けられ、そ
の１つはＸ軸と直交しもう１つはＹ軸と直交する．これ
らの平面鏡の長さは、主としてステージがＸおよびＹ両
方向を進む距離により決まる． 従来は、各自由度を測定するための別個の平面鏡干渉計
光学アセンブリが必要であった．その２つの光学アセン
ブリを使用してＸおよびＹ位置を測定する．偏揺れ角度
を測定するためには、ＸまたはＹ軸上に第三の光学アセ
ンブリが必要である．第三の干渉計は、別の位置測定、
例えばＸ位置測定から距離ｄにおけるＸ″を測定する。
Ｘ，Ｘ’およびｄ（ＸとＸ゜間の距離）から、次式によ
り偏ゆれ角度θを計算することができる。
り偏ゆれ角度θを計算することができる。
θ ＝Ａｒｃｔａｎ （（ Ｘ−Ｘ’）
／ ｄ） （ｌ冫ウエ
ファ・ステッパ・ステージをさらに正確に位置決めする
必要が多くなるにつれて、これらの代表的な測定値の他
に、ステージのピッチ（ｐｉｔｃｈ）およびロール（ｒ
ｏｌｌ）（各々ＸおよびＹ軸のまわりの回転）のそくて
いも望まれている。従来のシステムでは、測定する追加
の各自由度に対して別個の平面鏡干渉計光学アセンブリ
が必要になる。
／ ｄ） （ｌ冫ウエ
ファ・ステッパ・ステージをさらに正確に位置決めする
必要が多くなるにつれて、これらの代表的な測定値の他
に、ステージのピッチ（ｐｉｔｃｈ）およびロール（ｒ
ｏｌｌ）（各々ＸおよびＹ軸のまわりの回転）のそくて
いも望まれている。従来のシステムでは、測定する追加
の各自由度に対して別個の平面鏡干渉計光学アセンブリ
が必要になる。
追加の各自由度を測定するために別個の干渉計光学アセ
ンブリを使用することには多くの短所がある．１つの短
所は、別個の干渉計、付随する取付装置、別個のビーム
配向光学装置、および付随するビーム配向光学装置を整
列させるために必要な労力である。
ンブリを使用することには多くの短所がある．１つの短
所は、別個の干渉計、付随する取付装置、別個のビーム
配向光学装置、および付随するビーム配向光学装置を整
列させるために必要な労力である。
他の短所はステージに影響を及ぼす。ある軸での別個の
測定に適応させるためには、測定平面鏡を距Ｍｄだけ長
くするか、別の鏡を追加しなければならない。ピッチま
たはロールを測定するためには、この鏡は長いだけでな
く高くなければならない．従来の平面鏡干渉計光学アセ
ンブリでは、ｄは、干渉計の寸法により最低６．３５セ
ンチである。
測定に適応させるためには、測定平面鏡を距Ｍｄだけ長
くするか、別の鏡を追加しなければならない。ピッチま
たはロールを測定するためには、この鏡は長いだけでな
く高くなければならない．従来の平面鏡干渉計光学アセ
ンブリでは、ｄは、干渉計の寸法により最低６．３５セ
ンチである。
ステージ上にもっと大きな鏡を取り付けると、その寸法
および質量により、ステージの慣性が増大するので望ま
しくない。また大きな鏡は、ステージ上の空気の流れを
さえぎる。
および質量により、ステージの慣性が増大するので望ま
しくない。また大きな鏡は、ステージ上の空気の流れを
さえぎる。
別個の干渉計光学アセンブリは、ステージ領域の空気の
流れをも妨害し、ウエファ・ステッパーにおいてステー
ジを精密に位置付ける別の必要性と相反する．ステージ
のまわりの温度および圧力勾配を最小にするために、製
造者は、ステージのまわりに層流を用い始めている。ス
テージのまわりで別個の干渉計により占められているス
ペースにより、ステージ上の空気流に乱流が引き起こる
ので、層流が途絶え、過熱点および圧力変動が生じる．
したがって、ステージのまわりの干渉計光学アセンブリ
の数を制限することが望ましい。
流れをも妨害し、ウエファ・ステッパーにおいてステー
ジを精密に位置付ける別の必要性と相反する．ステージ
のまわりの温度および圧力勾配を最小にするために、製
造者は、ステージのまわりに層流を用い始めている。ス
テージのまわりで別個の干渉計により占められているス
ペースにより、ステージ上の空気流に乱流が引き起こる
ので、層流が途絶え、過熱点および圧力変動が生じる．
したがって、ステージのまわりの干渉計光学アセンブリ
の数を制限することが望ましい。
本発明の目的は単一の光学アセンブリによって、移動ス
テージの直線的移動と角度とを測定する干渉計を提供す
ることである。
テージの直線的移動と角度とを測定する干渉計を提供す
ることである。
本発明の直線移動および角度測定平面鏡干渉計は、１つ
の干渉計光学アセンブリを用いて直線的移動および回転
角度の２つの自由度を測定する。
の干渉計光学アセンブリを用いて直線的移動および回転
角度の２つの自由度を測定する。
この干渉計は、別の応用において、ステージのビおよび
１つの従来の平面鏡干渉計を用いて、ステージのｘ，Ｙ
、および偏揺れを測定することができる。ステージのｘ
，ｙ，ピッチ、ロール、および偏揺れを測定するために
は、３つの干渉計。光測定を行うためには５つの従来形
平面鏡干渉計光本発明の干渉計は、１つの集積化光学ア
センブリを用い、測定ビームを分割し、ステージ上の測
定鏡の２つの位置に関する測定を行う。本発明では多く
の光学コンポーネントを共用して、単一の光学アセンブ
リにより２個の干渉計を構成している。この光学アセン
ブリは従来形平面鏡干渉計用の光学アセンブリよりもほ
んのわずかだけ大きい。
１つの従来の平面鏡干渉計を用いて、ステージのｘ，Ｙ
、および偏揺れを測定することができる。ステージのｘ
，ｙ，ピッチ、ロール、および偏揺れを測定するために
は、３つの干渉計。光測定を行うためには５つの従来形
平面鏡干渉計光本発明の干渉計は、１つの集積化光学ア
センブリを用い、測定ビームを分割し、ステージ上の測
定鏡の２つの位置に関する測定を行う。本発明では多く
の光学コンポーネントを共用して、単一の光学アセンブ
リにより２個の干渉計を構成している。この光学アセン
ブリは従来形平面鏡干渉計用の光学アセンブリよりもほ
んのわずかだけ大きい。
第一の実施例では、入力ビームが分割され、距Ｍｄだけ
離れた２つの位置において２つの別々の測定値Ｘおよび
Ｘ゛が得られ、Ｘの結果からＸ′の結果を減じてＸ−Ｘ
″が電子的に計算される。
離れた２つの位置において２つの別々の測定値Ｘおよび
Ｘ゛が得られ、Ｘの結果からＸ′の結果を減じてＸ−Ｘ
″が電子的に計算される。
もう１つの実施例では、検出器においてＸ−Ｘ′の直接
的測定値を光学的に生成する２人カビームは、Ｘに対す
る１つの干渉計測定を行い、次に生成した出力ビームの
一部の偏光を回転させ、回転したビーム部分が第２光路
を通り、第１光路測定から距離ｄだけオフセットされた
位置において干渉計測定を行う。生成した第２光路の出
力ビームは、検出器でｘ−ｘ’の直接的測定値を光学的
に生成する。本発明の干渉計は１つの光学アセンブリに
より、移動ステージの直接的移動および角度を測定する
ので、当該軸におけるもう１つの干渉計光学アセンブリ
が必要なくなった。これにより、ステージ領域の空気流
の妨害が減少し、また別個の光学素子数が少なくなった
のでシステムを整列（整合）する困難性も緩和された。
的測定値を光学的に生成する２人カビームは、Ｘに対す
る１つの干渉計測定を行い、次に生成した出力ビームの
一部の偏光を回転させ、回転したビーム部分が第２光路
を通り、第１光路測定から距離ｄだけオフセットされた
位置において干渉計測定を行う。生成した第２光路の出
力ビームは、検出器でｘ−ｘ’の直接的測定値を光学的
に生成する。本発明の干渉計は１つの光学アセンブリに
より、移動ステージの直接的移動および角度を測定する
ので、当該軸におけるもう１つの干渉計光学アセンブリ
が必要なくなった。これにより、ステージ領域の空気流
の妨害が減少し、また別個の光学素子数が少なくなった
のでシステムを整列（整合）する困難性も緩和された。
ビームスペースが小さいので測定鏡の寸法を小さくする
ことができ、また測定鏡の垂直寸法がより小さく、ステ
ージ上でさらに容易に調整することができるので、ロー
ルおよびピッチ測定を実用的にした。第二の実施例では
、ステージが回転するときだけＸ−Ｘ″検出器がカウン
トを記録する。これにより、ステージ制御電子装置が簡
素化された。
ことができ、また測定鏡の垂直寸法がより小さく、ステ
ージ上でさらに容易に調整することができるので、ロー
ルおよびピッチ測定を実用的にした。第二の実施例では
、ステージが回転するときだけＸ−Ｘ″検出器がカウン
トを記録する。これにより、ステージ制御電子装置が簡
素化された。
第１図は本発明の平面鏡干渉計の第一の実施例を示す。
この実施例では、光学アセンブリを通過する前に光ビー
ムが分割され、２個の別個な測定Ｘ，Ｘ が行われる
。光ｓｌｏを用いて、基準ビーム１１３と測定ビーム１
１５がら成る入力ビーム１１２を生成する。光源１１１
は、図面の面内に直線偏光された周波数ｆ１の基準ビー
ム１１３と、図面の面に垂直に直線偏光された周波数ｆ
！の測定ビームを生じる２周波数レーザであることが望
ましい。
ムが分割され、２個の別個な測定Ｘ，Ｘ が行われる
。光ｓｌｏを用いて、基準ビーム１１３と測定ビーム１
１５がら成る入力ビーム１１２を生成する。光源１１１
は、図面の面内に直線偏光された周波数ｆ１の基準ビー
ム１１３と、図面の面に垂直に直線偏光された周波数ｆ
！の測定ビームを生じる２周波数レーザであることが望
ましい。
入力ビーム１１２は、干渉計の光学アセンブリ１２０に
入る前に分割される。基準ビーム１１３および測定ビー
ム１１５は、２つの組、１１３ａと１１５ａおよび１１
３ｂと１１５ｂに分割される。基準ビーム１１３ａおよ
びｌＩ３ｂは、光学アセンブ１月２０を通り検出器１４
１および１４３までの固定長光路をたどる。測定ビーム
１１５ａおよび１１５ｂは、目的物１１０上の可動測定
鏡１２１への光路をたどる。この２つの測定ビームは、
距離ｄだけ離れた平行光路に沿う方向に向けられ、目的
物１１０までの距離の本質的に独立した２つの測定値を
生成する。可動鏡１２１の鏡表面１２２は、測定ビーム
を反射させ、ビームは光学アセンブリ１２０を通り検出
器１４１および１４３まで戻る。検出器１４１および１
４３は、混合偏光子を用いて基準および測定ビームを混
合し、そして光検出器を用いて測定ビームの光路長が変
化したときに生じる干渉しまの縁を検出する。
入る前に分割される。基準ビーム１１３および測定ビー
ム１１５は、２つの組、１１３ａと１１５ａおよび１１
３ｂと１１５ｂに分割される。基準ビーム１１３ａおよ
びｌＩ３ｂは、光学アセンブ１月２０を通り検出器１４
１および１４３までの固定長光路をたどる。測定ビーム
１１５ａおよび１１５ｂは、目的物１１０上の可動測定
鏡１２１への光路をたどる。この２つの測定ビームは、
距離ｄだけ離れた平行光路に沿う方向に向けられ、目的
物１１０までの距離の本質的に独立した２つの測定値を
生成する。可動鏡１２１の鏡表面１２２は、測定ビーム
を反射させ、ビームは光学アセンブリ１２０を通り検出
器１４１および１４３まで戻る。検出器１４１および１
４３は、混合偏光子を用いて基準および測定ビームを混
合し、そして光検出器を用いて測定ビームの光路長が変
化したときに生じる干渉しまの縁を検出する。
光学アセンブリ１２０は、入射光ビームと４５度の角度
をなすビーム分割表面１２４を有する偏光ビーム・スプ
リッタｌ２３、四分の一波長板１２５およびキューブ・
コーナ１２７ 、１２９ 、１３１，１３３から成る。
をなすビーム分割表面１２４を有する偏光ビーム・スプ
リッタｌ２３、四分の一波長板１２５およびキューブ・
コーナ１２７ 、１２９ 、１３１，１３３から成る。
四分の一波長板１２５は、透明であり、ビームが四分の
一波長板を二度横切るたびに、ビームの偏光面を効果的
に９０度だけ回転させる。
一波長板を二度横切るたびに、ビームの偏光面を効果的
に９０度だけ回転させる。
第一基準ビーム１１３ａおよび第一測定ビームｌ１５ａ
は、非偏光５０χビーム・スブリッタ１１７により送ら
れる入力ビーム１１２の一部である。第一基準ビーム１
１３ａは、周波数ｆ，であり、図面の面内に直線偏光さ
れている。ビーム１１３ａは、ビーム分割面１２４によ
りキューブ・コーナ１２７に反射され、キエープ・コー
ナ１２７では偏光ビーム・スプリンタ１２３に再び向け
られ、そしてビーム分割面１２４により検出器１４１に
向かう元の光路と平行な光路上に反射される。
は、非偏光５０χビーム・スブリッタ１１７により送ら
れる入力ビーム１１２の一部である。第一基準ビーム１
１３ａは、周波数ｆ，であり、図面の面内に直線偏光さ
れている。ビーム１１３ａは、ビーム分割面１２４によ
りキューブ・コーナ１２７に反射され、キエープ・コー
ナ１２７では偏光ビーム・スプリンタ１２３に再び向け
られ、そしてビーム分割面１２４により検出器１４１に
向かう元の光路と平行な光路上に反射される。
第一測定ビーム１１５ａは、周波数ｆ２であり、図面の
面と垂直に直線偏光されている。第一測定ビーム１１５
ａは、基準ビームと垂直に偏光されてすり、ビーム分割
面１２４および四分の一波長板１２５を通り可動鏡１２
１に達し、そこで光学アセンブリ１２０の方に逆に反射
され、再び四分の一波長板１２５を通る。このときビー
ム１１５ａは、ビーム分割面１２４によりキューブ・コ
ーナ１２９の方に反射され、キューブ・コーナ１２９で
ビーム分割面１２４まで戻され、そこで第一測定ビーム
１ １５ａは四分の一波長板１２５を通り逆方向に可動
測定鏡１２１の方に向けられ、そこで反射されて、再び
四分の一波長板１２５を通り逆方向に進む．偏光状態が
９０度だけ変わるので、測定ビーム１１５ａはビーム分
割面１２４を通り検出器１４１に進む。
面と垂直に直線偏光されている。第一測定ビーム１１５
ａは、基準ビームと垂直に偏光されてすり、ビーム分割
面１２４および四分の一波長板１２５を通り可動鏡１２
１に達し、そこで光学アセンブリ１２０の方に逆に反射
され、再び四分の一波長板１２５を通る。このときビー
ム１１５ａは、ビーム分割面１２４によりキューブ・コ
ーナ１２９の方に反射され、キューブ・コーナ１２９で
ビーム分割面１２４まで戻され、そこで第一測定ビーム
１ １５ａは四分の一波長板１２５を通り逆方向に可動
測定鏡１２１の方に向けられ、そこで反射されて、再び
四分の一波長板１２５を通り逆方向に進む．偏光状態が
９０度だけ変わるので、測定ビーム１１５ａはビーム分
割面１２４を通り検出器１４１に進む。
第二基準ビーム１１３ｂおよび第二測定ビーム１１５ｂ
は、非偏光５０χビーム・スプリッタ１１７により反ビ
ーム１１３ａおよびｌｌ５ａの光路と平行に偏光ビーム
・スプリッタ１２３に再び反射する。ビーム１１５ｂは
、ビーム１１５ａが測定鏡１２１に触れた箇所から距離
ｄだけ離れた位置で測定鏡１２１により反射される。
は、非偏光５０χビーム・スプリッタ１１７により反ビ
ーム１１３ａおよびｌｌ５ａの光路と平行に偏光ビーム
・スプリッタ１２３に再び反射する。ビーム１１５ｂは
、ビーム１１５ａが測定鏡１２１に触れた箇所から距離
ｄだけ離れた位置で測定鏡１２１により反射される。
この距１１ｄは、キューブ・コーナ１２９および１３３
の中心線間の手法により決まる。
の中心線間の手法により決まる。
第二基準ビーム１１３ｂは、ビーム分割面１２４により
反射されてキュープ・コーナ１３１に進み、このキュー
ブ・コーナ１３１で再び反射されて逆に進み偏光ビーム
・スブリッタ１２３を通り、ビーム分割面１２４により
反射されて元の光路と平行な光路上を検出器１４３の方
に進む。
反射されてキュープ・コーナ１３１に進み、このキュー
ブ・コーナ１３１で再び反射されて逆に進み偏光ビーム
・スブリッタ１２３を通り、ビーム分割面１２４により
反射されて元の光路と平行な光路上を検出器１４３の方
に進む。
第二測定ビームｌ１５ｂは、ビーム分割面１２４および
四分の一波長板１２５を通って可動鏡１２１に達し、そ
こで光学アセンブリ１２０の方へ逆に反射され、再び四
分の一波長板１２５を通る。このときビーム１１５ｂは
、ビーム分割面１２４によりキューブ・コーナ１３３の
方向に反射され、キューブ・コーナ１３３によりビーム
分割面１２４まで戻り、そこで第二測定ビーム１１５ｂ
は反射されて四分の一波長板１２５を通り逆方向に可動
測定鏡１２１の方に向けられ、そしてそこで反射されて
、再び四分の一波長板１２５を通り逆方向に進む。偏光
状態が９０度だけ変わるので、第二測定ビーム１１５ｂ
はビーム分割面１２４をれて第一出力ビーム１３５とな
り、第一検出器１４１の方に向けられる。第二基準ビー
ム１１３ｂと第二測定ビーム１１５ｂは、結合されて第
二出力ビーム１３７屯 となり、第二検＃＄１４ ３の方に向けられる。検出器
１４１および１４３は、混合偏光子を用いて基準および
測定ビームを混合し、そして光検出器を用いて測定ビー
ムの光路長が変わったときに生じる干渉しまの縁を検出
する。両検出器は、測定平面鏡１２１、即ち目的物１１
０までの距離の変化を測定する。しかし、この２つの測
定は距離ｄだけ離れて行うので、目的物１１０の回転（
偏揺れ）は、この２つの測定値の差から計算することが
できる。第一検出器１４１により行われる距離測定は、
Ｘ軸における直線的移動測定Ｘとして用いる。第二検出
器１４３により行われる測定Ｘ゜は、前に説明した式（
１）を用いて回転角θを計算するときに用いる：θ＝Ａ
ｒｃｔａｎ（（Ｘ−Ｘ’）／ｄ）回転角測定の分解能は
、他の要素の中で、長さｄに依存する。他の変数が一定
に保たれる場合、長さｄを２倍にすると分解能も２倍に
なる。ビーム波長が１／１２８のシステム分解能および
ビーム波長が６３３ナノメートルである代表的な干渉計
システムでは、長さｄが０．５インチのときに、回転角
測定に対する０．０８ａｒｃ秒の分解能となる。該シス
テムでｄを２倍、すなわち１．０インチにすると、分解
能は、それに比例して０．０４ａｒｃ秒に増加する。
四分の一波長板１２５を通って可動鏡１２１に達し、そ
こで光学アセンブリ１２０の方へ逆に反射され、再び四
分の一波長板１２５を通る。このときビーム１１５ｂは
、ビーム分割面１２４によりキューブ・コーナ１３３の
方向に反射され、キューブ・コーナ１３３によりビーム
分割面１２４まで戻り、そこで第二測定ビーム１１５ｂ
は反射されて四分の一波長板１２５を通り逆方向に可動
測定鏡１２１の方に向けられ、そしてそこで反射されて
、再び四分の一波長板１２５を通り逆方向に進む。偏光
状態が９０度だけ変わるので、第二測定ビーム１１５ｂ
はビーム分割面１２４をれて第一出力ビーム１３５とな
り、第一検出器１４１の方に向けられる。第二基準ビー
ム１１３ｂと第二測定ビーム１１５ｂは、結合されて第
二出力ビーム１３７屯 となり、第二検＃＄１４ ３の方に向けられる。検出器
１４１および１４３は、混合偏光子を用いて基準および
測定ビームを混合し、そして光検出器を用いて測定ビー
ムの光路長が変わったときに生じる干渉しまの縁を検出
する。両検出器は、測定平面鏡１２１、即ち目的物１１
０までの距離の変化を測定する。しかし、この２つの測
定は距離ｄだけ離れて行うので、目的物１１０の回転（
偏揺れ）は、この２つの測定値の差から計算することが
できる。第一検出器１４１により行われる距離測定は、
Ｘ軸における直線的移動測定Ｘとして用いる。第二検出
器１４３により行われる測定Ｘ゜は、前に説明した式（
１）を用いて回転角θを計算するときに用いる：θ＝Ａ
ｒｃｔａｎ（（Ｘ−Ｘ’）／ｄ）回転角測定の分解能は
、他の要素の中で、長さｄに依存する。他の変数が一定
に保たれる場合、長さｄを２倍にすると分解能も２倍に
なる。ビーム波長が１／１２８のシステム分解能および
ビーム波長が６３３ナノメートルである代表的な干渉計
システムでは、長さｄが０．５インチのときに、回転角
測定に対する０．０８ａｒｃ秒の分解能となる。該シス
テムでｄを２倍、すなわち１．０インチにすると、分解
能は、それに比例して０．０４ａｒｃ秒に増加する。
別の良く知られた分解能を増加させる方法は、測定ビー
ムが測定鏡に対して為す往復進行数を増やすことである
。この方法の短所は、高スルーレートを測定するための
干渉計システムの能力が低くなることである。
ムが測定鏡に対して為す往復進行数を増やすことである
。この方法の短所は、高スルーレートを測定するための
干渉計システムの能力が低くなることである。
第一図に示す実施例では、回転角θは、マイクロプロセ
ッサ（図示していない）などを使用して、２つの測定結
果から計算しなければならない。第２図に示し下記に詳
細を述べる別の実施例では、差ｘ−ｘ’を光学的に生成
し、検出器により直接測定するので、電子的な計算の必
要性が省かれる。
ッサ（図示していない）などを使用して、２つの測定結
果から計算しなければならない。第２図に示し下記に詳
細を述べる別の実施例では、差ｘ−ｘ’を光学的に生成
し、検出器により直接測定するので、電子的な計算の必
要性が省かれる。
回転角θの実際の値ではなく、誤差の表示だけが要求さ
れる場合は、差ｘ−ｘ’が充分な出力信号となりうるの
で、電子的計算の必要性が省かれる．第２図は本発明の
もう１つの実施例を示すものであり、人力ビーム２１２
は光学アセンブリ２２０を通る第１の光路を通り、そし
て生成する第一出力ビーム２３５が分割される。第一出
力ビームの２３５の一部は第一検出器２４１に向けられ
、Ｘ方向通路のＸ軸変位測定（値）が得られる．第一出
力ビーム２３５の他の部分は、第二入カビーム２１４に
なる．第二人カビーム２１４の偏光状態は、二分の一波
長板２４５により９０度回転され、ビーム２１４は次に
光学アセンブリ２２０を通るもう１つの光路を通過する
。目的物２１０への第二の光路は、Ｘ方向通路平行であ
りＸ方開通路から距離ｄだけずれたＸ゜にある。第二出
力ビームは、もう１つの検出器２４３の方に向けられる
． ビームのｆ，およびｆ２成分は、第一および第二光路の
上にある、距離ｄ だけ離れた基準および測定経路の両
方をそれぞれ通る．目的物２１０が回転しなければ、ｆ
，およびｆ２成分の光路長は同じである。測定鏡２２１
の偏揺れ回転があると、第二検出器２４３は光路長の差
および明らかな距離変化を測定する。第２図の光学アセ
ンブリは、第１図に示した光学システム１２０と類似し
ている。２つの相違点は、非偏光ビーム・スプリッタ２
１７の位置と、二分の一波長板２４５を追加したことで
ある。第１図の実施例の構成部分に対応する第２図の実
施例の構成部分には、ＩＸＸではな＜ ２ＸＸの照合番
号が付けてある。
れる場合は、差ｘ−ｘ’が充分な出力信号となりうるの
で、電子的計算の必要性が省かれる．第２図は本発明の
もう１つの実施例を示すものであり、人力ビーム２１２
は光学アセンブリ２２０を通る第１の光路を通り、そし
て生成する第一出力ビーム２３５が分割される。第一出
力ビームの２３５の一部は第一検出器２４１に向けられ
、Ｘ方向通路のＸ軸変位測定（値）が得られる．第一出
力ビーム２３５の他の部分は、第二入カビーム２１４に
なる．第二人カビーム２１４の偏光状態は、二分の一波
長板２４５により９０度回転され、ビーム２１４は次に
光学アセンブリ２２０を通るもう１つの光路を通過する
。目的物２１０への第二の光路は、Ｘ方向通路平行であ
りＸ方開通路から距離ｄだけずれたＸ゜にある。第二出
力ビームは、もう１つの検出器２４３の方に向けられる
． ビームのｆ，およびｆ２成分は、第一および第二光路の
上にある、距離ｄ だけ離れた基準および測定経路の両
方をそれぞれ通る．目的物２１０が回転しなければ、ｆ
，およびｆ２成分の光路長は同じである。測定鏡２２１
の偏揺れ回転があると、第二検出器２４３は光路長の差
および明らかな距離変化を測定する。第２図の光学アセ
ンブリは、第１図に示した光学システム１２０と類似し
ている。２つの相違点は、非偏光ビーム・スプリッタ２
１７の位置と、二分の一波長板２４５を追加したことで
ある。第１図の実施例の構成部分に対応する第２図の実
施例の構成部分には、ＩＸＸではな＜ ２ＸＸの照合番
号が付けてある。
第２図の実施例では、入力ビーム２１２は光学アセンブ
リ２２０を通る１つの光路を作り、生成する第一出力ビ
ーム２３５が分割される。したがって、非偏光ビーム・
スブリッタ２１７は、第１図の実施例のように人力ビー
ム２１２の光路上にはない。その代わりに、非偏光ビー
ム・スプリッタ２１７は、ビームが光学アセンブリ２２
０を通る１つの光路を作った後の、第一出力ビーム２３
５の光路上に置かれている。ビーム・スプリッタ２１７
は、第一出力ビーム２３５を分割して、その一部分が第
一検出器２４１に送られ、別の部分、すなわちビーム２
１４は、反射器２１９により反射され、二分の一波長板
２４５を通り、もう１つの光路のために光学アセンブリ
２２０の方に向けられ、第二出力ビーム２３７になる．
このビーム２３７は、目的物２１０の偏揺れ回転を測定
するために第二検出器２４３の方に向けられる。
リ２２０を通る１つの光路を作り、生成する第一出力ビ
ーム２３５が分割される。したがって、非偏光ビーム・
スブリッタ２１７は、第１図の実施例のように人力ビー
ム２１２の光路上にはない。その代わりに、非偏光ビー
ム・スプリッタ２１７は、ビームが光学アセンブリ２２
０を通る１つの光路を作った後の、第一出力ビーム２３
５の光路上に置かれている。ビーム・スプリッタ２１７
は、第一出力ビーム２３５を分割して、その一部分が第
一検出器２４１に送られ、別の部分、すなわちビーム２
１４は、反射器２１９により反射され、二分の一波長板
２４５を通り、もう１つの光路のために光学アセンブリ
２２０の方に向けられ、第二出力ビーム２３７になる．
このビーム２３７は、目的物２１０の偏揺れ回転を測定
するために第二検出器２４３の方に向けられる。
二分の一波長板２４５は、ビーム２１４のｆ，およびｆ
２成分の偏光を９０度だけ回転させる。その結果、第一
光路上の基準光路をたどったビーム２１４のｆ，成分が
、今度は測定鏡２２１への測定光路をたどり再び戻って
くる。第一光路上の測定経路をたどったビーム２１４の
ｆｔ部分は、今度は基準光路をたどる。目的物２１０が
Ｘ軸方向の純粋な移動を受けると、ｆ１経路が、光学ア
センブリ２２０を通るビームの第一光路で変わり、ｆｔ
経路長は、それに応じて光学アセンブリ２２０を通るビ
ームの第二光路上で変わる。この２つの変化は打ち消し
合うので、検出器２４３には何も表れない．目的物２１
０が 偏揺れ回転を受けるとｆ１およびｆｔ経路長は異
なって変化し、第二検出器２４３で変化が表れる。
２成分の偏光を９０度だけ回転させる。その結果、第一
光路上の基準光路をたどったビーム２１４のｆ，成分が
、今度は測定鏡２２１への測定光路をたどり再び戻って
くる。第一光路上の測定経路をたどったビーム２１４の
ｆｔ部分は、今度は基準光路をたどる。目的物２１０が
Ｘ軸方向の純粋な移動を受けると、ｆ１経路が、光学ア
センブリ２２０を通るビームの第一光路で変わり、ｆｔ
経路長は、それに応じて光学アセンブリ２２０を通るビ
ームの第二光路上で変わる。この２つの変化は打ち消し
合うので、検出器２４３には何も表れない．目的物２１
０が 偏揺れ回転を受けるとｆ１およびｆｔ経路長は異
なって変化し、第二検出器２４３で変化が表れる。
第一検出器２４１で行う距離測定は、Ｘ軸方向の直線的
変位測定Ｘとして用いられる。第二検出器２４３の行う
測定は、ｆ，およびｆ２成分の光路切換えにより、ｘ−
ｘ’の直接測定値である。このｘ−ｘ’測定値は、式（
１）を用いて回転角θを計算したり、誤差表示として用
いることができる。
変位測定Ｘとして用いられる。第二検出器２４３の行う
測定は、ｆ，およびｆ２成分の光路切換えにより、ｘ−
ｘ’の直接測定値である。このｘ−ｘ’測定値は、式（
１）を用いて回転角θを計算したり、誤差表示として用
いることができる。
第３および第４は、特開昭６３−２２８００３号に記載
の「干渉計」を利用した、高熱安定性を有する本発明の
さらに２つの実施例を示す。第３図は第１図の実施例を
応用し、第４図は第２図の実施例を応用したものである
。第３および４図の実施例では、第１．２図の２つのキ
ュープ・コーナが、各々、四分の一波長板３２５および
４２５と同じ光学的厚さを有する反射四分の一の波長板
３５１および４５１と置き換わっている。反射四分の一
波長板の置換により基準光路が変わり、基準および測定
ビームは異なるが、熱平衡にある光学素子を通る光学的
に同等な経路をたどる。すなわち、光学装置の高屈折率
媒体を通る経路長は同じ長さであるが、同じ経路はたど
らない。
の「干渉計」を利用した、高熱安定性を有する本発明の
さらに２つの実施例を示す。第３図は第１図の実施例を
応用し、第４図は第２図の実施例を応用したものである
。第３および４図の実施例では、第１．２図の２つのキ
ュープ・コーナが、各々、四分の一波長板３２５および
４２５と同じ光学的厚さを有する反射四分の一の波長板
３５１および４５１と置き換わっている。反射四分の一
波長板の置換により基準光路が変わり、基準および測定
ビームは異なるが、熱平衡にある光学素子を通る光学的
に同等な経路をたどる。すなわち、光学装置の高屈折率
媒体を通る経路長は同じ長さであるが、同じ経路はたど
らない。
第３図では、四分の一波長板４５１が、第１図のキュー
ブ・コーナ１２７および１３１と置き換わっている。第
４図では、四分の一波長板３５１が、第２図のキュープ
・コーナ２２７および２３１ と置き換わっている。
ブ・コーナ１２７および１３１と置き換わっている。第
４図では、四分の一波長板３５１が、第２図のキュープ
・コーナ２２７および２３１ と置き換わっている。
第１および２図の実施例のように、第３図の実施例では
、回転角θは、２つの測定結果ＸおよびＸ゜から計算し
なければならない。第４図に示す実施例では、差ｘ−ｘ
’が光学的に得られ、検出器により直接測定されるので
、電子的計算の必要性が省かれる。回転角θの実際の値
ではなく、誤差表示だけが要求される場合は、差ｘ−ｘ
’が充分な出力信号になりうるので、電子的計算の必要
性が省かれる。第３図の基準ビーム３１３ａおよび３１
３ｂおよび測定ビーム３１５ａおよび３１５ｂの光路を
調べると、光学アセンブリから測定鏡までの光路を除き
、ビームが共通でない経路をたどる場合、それらの長お
よびｄは、測定ビーム３１５ａおよび３１５ｂの光路ａ
′、ｂ″、Ｃ′およびｄ′と同じ長さである。
、回転角θは、２つの測定結果ＸおよびＸ゜から計算し
なければならない。第４図に示す実施例では、差ｘ−ｘ
’が光学的に得られ、検出器により直接測定されるので
、電子的計算の必要性が省かれる。回転角θの実際の値
ではなく、誤差表示だけが要求される場合は、差ｘ−ｘ
’が充分な出力信号になりうるので、電子的計算の必要
性が省かれる。第３図の基準ビーム３１３ａおよび３１
３ｂおよび測定ビーム３１５ａおよび３１５ｂの光路を
調べると、光学アセンブリから測定鏡までの光路を除き
、ビームが共通でない経路をたどる場合、それらの長お
よびｄは、測定ビーム３１５ａおよび３１５ｂの光路ａ
′、ｂ″、Ｃ′およびｄ′と同じ長さである。
第４図の第一人カビームおよび第二人カビームの基準お
よび測定部分の光路を調べると、光学アセンブリから測
定鏡までの光路を除き、ビームが４図のビーム４１２お
よび４１４の基準部分４２１ａ、４１４ａの光路ａ，
ｂ， ｃおよびｄは、ビーム４１２および４１４の測定
部分４１２ｂ、４１４ｂの光路＋、ｂ’、Ｃ゛およびｄ
′と同じ長さである。
よび測定部分の光路を調べると、光学アセンブリから測
定鏡までの光路を除き、ビームが４図のビーム４１２お
よび４１４の基準部分４２１ａ、４１４ａの光路ａ，
ｂ， ｃおよびｄは、ビーム４１２および４１４の測定
部分４１２ｂ、４１４ｂの光路＋、ｂ’、Ｃ゛およびｄ
′と同じ長さである。
第５図は、ＸおよびＹ軸方向の直線的変位、および偏揺
れ（Ｚ軸まわりの回転）を測定するための、１つの直線
的移動および角度測定干渉計と１つの従来形平面鏡干渉
計を組み入れたレーザ干渉測定システムの略図を示す。
れ（Ｚ軸まわりの回転）を測定するための、１つの直線
的移動および角度測定干渉計と１つの従来形平面鏡干渉
計を組み入れたレーザ干渉測定システムの略図を示す。
この２つの干渉計のためのビームは、３３χビーム・ス
ブリック５１３を通してレーザ５１１により与えられる
。直線的移動および角度測定干渉計５１５は、Ｙ軸上に
置かれ、検出器５２１でステージ５１０のＹ変位を測定
し、偏揺れを決定するために検出器５２３でＹ−Ｙ”を
測定する。従来形平面鏡干渉計５１７はＸ軸上に置かれ
、検出器５２５でステージ５１０のＸ変位を測定する。
ブリック５１３を通してレーザ５１１により与えられる
。直線的移動および角度測定干渉計５１５は、Ｙ軸上に
置かれ、検出器５２１でステージ５１０のＹ変位を測定
し、偏揺れを決定するために検出器５２３でＹ−Ｙ”を
測定する。従来形平面鏡干渉計５１７はＸ軸上に置かれ
、検出器５２５でステージ５１０のＸ変位を測定する。
ＸおよびＹ変位測定は、ステージ５１０の上の光学コラ
ム（図示してない）の中心線上で行われる。
ム（図示してない）の中心線上で行われる。
第６図は、ＸおよびＹ軸方向の線形変位、ピッチ、ロー
ルおよび偏揺れ（各々、Ｘ，ＹおよびＺ軸まわりの回転
）を測定するための、２つの直線的移動および角度測定
干渉計と１つの従来形平面鏡干渉計を組み入れたレーザ
干渉計測定システムの略図を示す。この３つの干渉計の
ためのビームは、３３χビーム・スプリッタ５１３およ
び５１４を通してレーザ５１１により与えられる。従来
形平面鏡干渉形５１７は、Ｙ軸上にあり、検出器６２１
でステージ５１０のＹ変位を測定する。１つの直線的移
動および角度測定干渉計５１５は、Ｙ軸上にあり、検出
器５２３でＹ”を、および検出器５２５でＹ”を測定す
る ｙ ｌおよびＹ”測定は、Ｘ軸方向についてＹ測定
からオフセットされた位置で行われる。
ルおよび偏揺れ（各々、Ｘ，ＹおよびＺ軸まわりの回転
）を測定するための、２つの直線的移動および角度測定
干渉計と１つの従来形平面鏡干渉計を組み入れたレーザ
干渉計測定システムの略図を示す。この３つの干渉計の
ためのビームは、３３χビーム・スプリッタ５１３およ
び５１４を通してレーザ５１１により与えられる。従来
形平面鏡干渉形５１７は、Ｙ軸上にあり、検出器６２１
でステージ５１０のＹ変位を測定する。１つの直線的移
動および角度測定干渉計５１５は、Ｙ軸上にあり、検出
器５２３でＹ”を、および検出器５２５でＹ”を測定す
る ｙ ｌおよびＹ”測定は、Ｘ軸方向についてＹ測定
からオフセットされた位置で行われる。
Ｙ”およびＹ”測定は、Ｚ軸方向の距離ｄだけお互いに
オフセットされている。したがってＹ−Ｙ’はステージ
５１０の偏揺れを決定し、Ｙ’−Ｙ”はステージ５１０
のピッチを決定するために用いることができる。第二の
直線的移動および角度測定干渉計５１７は、Ｘ軸上に置
かれ、検出器５２７でステーだけお互いにオフセットさ
れているので、ｘ−ｘ’はステージ５１０のロールを決
定するために用いることができる。２つの平面測定鏡６
３１および６３３は、ピッチおよびロール測定をするこ
とのできるように、Ｚ軸方向においてｄ よりも大きく
なければならない。
オフセットされている。したがってＹ−Ｙ’はステージ
５１０の偏揺れを決定し、Ｙ’−Ｙ”はステージ５１０
のピッチを決定するために用いることができる。第二の
直線的移動および角度測定干渉計５１７は、Ｘ軸上に置
かれ、検出器５２７でステーだけお互いにオフセットさ
れているので、ｘ−ｘ’はステージ５１０のロールを決
定するために用いることができる。２つの平面測定鏡６
３１および６３３は、ピッチおよびロール測定をするこ
とのできるように、Ｚ軸方向においてｄ よりも大きく
なければならない。
本発明の光学アセンブリは、装置の二−ズに適合させる
ために、第１〜４図に示すような“ストレート・スルー
′゜アライメント、または第５および６図に示すような
“直角”アライメントで構成することができる。
ために、第１〜４図に示すような“ストレート・スルー
′゜アライメント、または第５および６図に示すような
“直角”アライメントで構成することができる。
以上説明したように、本発明による干渉計は単一の光学
アセンブリにより、可動ステージの直線的移動（変位）
と角度との両方を測定することができ、その軸について
の別の干渉計用光学アセンブリを必要としない。そして
ステージ領域における空気流を乱すことも少なく、シス
テム整列（アライメント）の困難性も減少できる。
アセンブリにより、可動ステージの直線的移動（変位）
と角度との両方を測定することができ、その軸について
の別の干渉計用光学アセンブリを必要としない。そして
ステージ領域における空気流を乱すことも少なく、シス
テム整列（アライメント）の困難性も減少できる。
第１図は本発明の一実施例による干渉計のブロック図、
第２図、第３図および第４図は本発明の他の実施例によ
る干渉計のブロック図。 第５図は本発明による干渉計１個と従来の平面鏡干渉計
１個とを使用したレーザ干渉計測定システムのブロック
図。 第６図は本発明による干渉計２個と従来の平面鏡干渉計
１個とを使用したレーザ干渉計測定システムのブロック
図である。 ｌ１１：レーザ光源１１２：入力ビームｌ１３：基準ビ
ーム１１５：測定ビーム１１７：非偏光５０χビーム分
割器、１１９：反射鏡 １２０：光学アセンブリ、１２
７ 、１２９、１３１ 、１３３：キューブコーナ、１
２５：１／４波長板ｌ２１：測定鏡１１０： 目的物、
１４１ ， １４３：検出器、２４５：１／２波長板３
５ｌ：反射１７４波長板５１１： レーザ、５１３：ビ
ーム分割器、５２１、５２３、５２５：検出器５ｌＯ：
ステージ、５１５：直線的移動および角度測定干渉計、
５１７：平面鏡干渉計 出１９Ｊ１人１：ユーレット・パッカード・カンパニ龜
第２図、第３図および第４図は本発明の他の実施例によ
る干渉計のブロック図。 第５図は本発明による干渉計１個と従来の平面鏡干渉計
１個とを使用したレーザ干渉計測定システムのブロック
図。 第６図は本発明による干渉計２個と従来の平面鏡干渉計
１個とを使用したレーザ干渉計測定システムのブロック
図である。 ｌ１１：レーザ光源１１２：入力ビームｌ１３：基準ビ
ーム１１５：測定ビーム１１７：非偏光５０χビーム分
割器、１１９：反射鏡 １２０：光学アセンブリ、１２
７ 、１２９、１３１ 、１３３：キューブコーナ、１
２５：１／４波長板ｌ２１：測定鏡１１０： 目的物、
１４１ ， １４３：検出器、２４５：１／２波長板３
５ｌ：反射１７４波長板５１１： レーザ、５１３：ビ
ーム分割器、５２１、５２３、５２５：検出器５ｌＯ：
ステージ、５１５：直線的移動および角度測定干渉計、
５１７：平面鏡干渉計 出１９Ｊ１人１：ユーレット・パッカード・カンパニ龜
Claims (3)
- （１）光ビームを発生する光源と、目的物に関連して配
置され前記光ビームを反射する反射手段と、前記反射手
段との間の第１軸に沿った第１光路と前記反射手段との
間の前記第１軸に沿った第２光路とに沿って前記光ビー
ムを進行させ、前記反射手段において前記第１、第２光
路の位置は所定距離だけ離れているようにする光学アセ
ンブリと、前記第１光路の長さの変化を測定する第１測
定手段と、前記第１光路の長さの変化と前記第２光路の
長さの変化との差を求め且つ前記第１軸に直交する第２
軸の回わりの前記目的物の回転角度を求める第２測定手
段とより成る干渉計。 - （２）前記第１測定手段は前記第１光路を通過後の前記
光ビームを受信する第１検出手段を有し、前記第２測定
手段は前期第２光路を通過後の前記光ビームを受信して
前記第２光路長さの変化を測定する第２検出手段と、前
記第１、第２検出手段の出力に応答する計数手段とを有
する請求項第１項記載の干渉計。 - （３）前記光源は、第１偏光成分と該成分に直交する第
２偏光成分とを有する光ビームを発生し、前記第１測定
手段は前記第１光路を通過後の前記光ビームを受信する
第１検出手段を有し、前記第２測定手段は前記第１、第
２偏光成分を９０°だけ回転させる光学手段と、前記第
２光路に関する第１光路の長さの変化を決定する第２検
出手段とを有する請求第１項記載の干渉計。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/314,348 US5064289A (en) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | Linear-and-angular measuring plane mirror interferometer |
| US314,348 | 1989-02-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02290502A true JPH02290502A (ja) | 1990-11-30 |
| JP3143663B2 JP3143663B2 (ja) | 2001-03-07 |
Family
ID=23219603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02044254A Expired - Fee Related JP3143663B2 (ja) | 1989-02-23 | 1990-02-23 | 干渉計 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5064289A (ja) |
| EP (1) | EP0388594B1 (ja) |
| JP (1) | JP3143663B2 (ja) |
| CA (1) | CA2007560C (ja) |
| DE (1) | DE69024833T2 (ja) |
| HK (1) | HK210296A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005525539A (ja) * | 2002-01-28 | 2005-08-25 | ザイゴ コーポレーション | 多自由度干渉計 |
| JP2006308594A (ja) * | 2005-04-29 | 2006-11-09 | Agilent Technol Inc | 低い非線形誤差の変位測定干渉計 |
| JP2020085704A (ja) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | 株式会社東京精密 | 多軸レーザ干渉測長器 |
Families Citing this family (70)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991017409A1 (en) * | 1990-04-30 | 1991-11-14 | International Business Machines Corporation | Two axis plane mirror interferometer |
| JPH0587518A (ja) * | 1990-06-12 | 1993-04-06 | Zygo Corp | 直線および上下左右の変位測定用干渉計 |
| NL9100215A (nl) * | 1991-02-07 | 1992-09-01 | Asm Lithography Bv | Inrichting voor het repeterend afbeelden van een maskerpatroon op een substraat. |
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