JPH02288139A - イオン処理装置 - Google Patents
イオン処理装置Info
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- JPH02288139A JPH02288139A JP1111098A JP11109889A JPH02288139A JP H02288139 A JPH02288139 A JP H02288139A JP 1111098 A JP1111098 A JP 1111098A JP 11109889 A JP11109889 A JP 11109889A JP H02288139 A JPH02288139 A JP H02288139A
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- carrier
- vacuum
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims abstract description 67
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 5
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims 4
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、処理室内でウェーハにイオンビームを照射
して当該ウェーハにイオン注入等の処理を施すイオン処
理装置に関する。
して当該ウェーハにイオン注入等の処理を施すイオン処
理装置に関する。
第3図は、従来のイオン処理装置の一例を部分的に示す
平面図である。
平面図である。
この例では二つの真空予備室6が、処理室2に、真空弁
(例えばゲート弁)4をそれぞれ介して隣接されている
。各真空予備室6と大気側との間には、真空弁を兼ねる
開閉扉14がそれぞれ設けられている。
(例えばゲート弁)4をそれぞれ介して隣接されている
。各真空予備室6と大気側との間には、真空弁を兼ねる
開閉扉14がそれぞれ設けられている。
処理室2は、ウェーハ12にイオンビームを照射してイ
オン注入等の処理を施すためのものであり、図示しない
真空排気装置によって真空排気される。
オン注入等の処理を施すためのものであり、図示しない
真空排気装置によって真空排気される。
各真空予備室6は、ウェーハ12を処理室2に出し入れ
するためのものであり、図示しない真空排気装置によっ
て、処理室2内よりかは低真空に排気される。
するためのものであり、図示しない真空排気装置によっ
て、処理室2内よりかは低真空に排気される。
各真空予備室6内には、複数枚(通常は25枚)のウェ
ーハ12を収納したユーザキャリア(ユーザが使用して
いる汎用のキャリア)10を設置できるキャリアステー
ジ8がそれぞれ設けられている。尚、キャリアあるいは
後述するカセットとは、周知のように、工程間の搬送を
目的として、複数枚のウェーハを収納する容器のことで
ある。
ーハ12を収納したユーザキャリア(ユーザが使用して
いる汎用のキャリア)10を設置できるキャリアステー
ジ8がそれぞれ設けられている。尚、キャリアあるいは
後述するカセットとは、周知のように、工程間の搬送を
目的として、複数枚のウェーハを収納する容器のことで
ある。
また処理室2内には、図示しないけれども、各真空予備
室6内のユーザキャリア10と処理室2内の処理場所と
の間でウェーハ12を搬送するウェーハ搬送手段が設け
られている。このウェーハ搬送手段は、例えば、ベルト
式のもの、あるいは所要の自由度を有するロボットアー
ム弐のものである。
室6内のユーザキャリア10と処理室2内の処理場所と
の間でウェーハ12を搬送するウェーハ搬送手段が設け
られている。このウェーハ搬送手段は、例えば、ベルト
式のもの、あるいは所要の自由度を有するロボットアー
ム弐のものである。
動作例を説明すると、一方の真空予備室6の開閉扉14
を開けて、当該真空予備室6内に、未処理のウェーハ1
2を収納したユーザキャリア10を入れてこれをキャリ
アステージ8上に設置する。
を開けて、当該真空予備室6内に、未処理のウェーハ1
2を収納したユーザキャリア10を入れてこれをキャリ
アステージ8上に設置する。
そして、開閉扉14を閉じた後、当該真空予備室6内の
真空引きを行い、所定の真空度に達した後、真空弁4を
開く。
真空引きを行い、所定の真空度に達した後、真空弁4を
開く。
そして、処理室2内の図示しないウェーハ搬送手段によ
って、ユーザキャリア10からウェーハ12を1枚ずつ
取り出してそれを処理室2内の処理場所へ搬送し、そこ
で当該ウェーハ12にイオンビームを照射してイオン注
入等の処理を施した後、再び元のユーザキャリア10内
へ搬入する。
って、ユーザキャリア10からウェーハ12を1枚ずつ
取り出してそれを処理室2内の処理場所へ搬送し、そこ
で当該ウェーハ12にイオンビームを照射してイオン注
入等の処理を施した後、再び元のユーザキャリア10内
へ搬入する。
ユーザキャリア10内の全てのウェーハ12の処理が終
了すると、真空弁4を閉じ、真空予備室6内を大気圧状
態に戻した後、開閉扉14を開いてユーザキャリア10
を取り出す。
了すると、真空弁4を閉じ、真空予備室6内を大気圧状
態に戻した後、開閉扉14を開いてユーザキャリア10
を取り出す。
以降は必要に応じて、上記と同様の動作が繰り返される
。
。
尚、この例では真空予備室6を二つ設けているので、一
方の真空予備室6内のユーザキャリア10からウェーハ
12取り出して処理している間に、他方の真空予備室6
内のユーザキャリア10を交換することができ、これに
よってスルーブツトの向上を図っている。
方の真空予備室6内のユーザキャリア10からウェーハ
12取り出して処理している間に、他方の真空予備室6
内のユーザキャリア10を交換することができ、これに
よってスルーブツトの向上を図っている。
ところが上記装置においては、例えば次のようなときは
、ユーザキャリア10を真空予備室6内に持ち込むこと
ができないという問題がある。
、ユーザキャリア10を真空予備室6内に持ち込むこと
ができないという問題がある。
■ ユーザキャリア10が汚れていたり、水分が付着し
たりしているとき。
たりしているとき。
これは、そのようなユーザキャリア10を持ち込むと、
真空予備室6内の真空排気に多くの時間がかかってスル
ープットが低下したり、ゴミがウェーハ12の表面に付
着したりするからである。
真空予備室6内の真空排気に多くの時間がかかってスル
ープットが低下したり、ゴミがウェーハ12の表面に付
着したりするからである。
■ ユーザキャリア10に、真空内へ持ち込むと不都合
な部品(例えばロフト番号を記入した紙等)が付属され
ているとき。
な部品(例えばロフト番号を記入した紙等)が付属され
ているとき。
そこでこの発明は、上記のようなユーザキャリアを真空
予備室内に持ち込まずに済むようにしたイオン処理装置
を提供することを主たる目的とする。
予備室内に持ち込まずに済むようにしたイオン処理装置
を提供することを主たる目的とする。
上記目的を達成するため、この発明のイオン処理装置は
、複数枚のウェーハをそれぞれ収納可能な複数のカセッ
トと、前記真空予備室内に設けられていて前記カセット
を1個設置できる第1のカセットステージと、前記真空
予備室の前方部に設けられていて前記カセットを複数個
並べて設置できかつ少なくとも左右にスライドする第2
のカセットステージと、この第2のカセットステージの
前方部に設けられていて、前記カセットを当該カセット
ステージ上と真空予備室内のカセットステージ上との間
で1個ずつ搬送するカセット搬送装置と、前記第2のカ
セットステージの前方部に並べて設けられていて、複数
枚のウェーハを収納したキャリアをそれぞれ設置できる
複数のキャリアステージと、この各キャリアステージと
前記第2のカセットステージとの間に設けられていて、
前者上の各キャリアと後者上の対応する各カセットとの
間でウェーハを筋送する複数のウェーハ搬送手段とを備
えることを特徴とする。
、複数枚のウェーハをそれぞれ収納可能な複数のカセッ
トと、前記真空予備室内に設けられていて前記カセット
を1個設置できる第1のカセットステージと、前記真空
予備室の前方部に設けられていて前記カセットを複数個
並べて設置できかつ少なくとも左右にスライドする第2
のカセットステージと、この第2のカセットステージの
前方部に設けられていて、前記カセットを当該カセット
ステージ上と真空予備室内のカセットステージ上との間
で1個ずつ搬送するカセット搬送装置と、前記第2のカ
セットステージの前方部に並べて設けられていて、複数
枚のウェーハを収納したキャリアをそれぞれ設置できる
複数のキャリアステージと、この各キャリアステージと
前記第2のカセットステージとの間に設けられていて、
前者上の各キャリアと後者上の対応する各カセットとの
間でウェーハを筋送する複数のウェーハ搬送手段とを備
えることを特徴とする。
上記構成によれば、各キャリアステージ上に、複数枚の
ウェーハを収納したキャリア(ユーザキャリア)をそれ
ぞれ設置すれば良い。
ウェーハを収納したキャリア(ユーザキャリア)をそれ
ぞれ設置すれば良い。
この各ユーザキャリア内のウェーハは、各ウェーハ搬送
手段によって、第2のカセットステージ上の各カセット
内へ移し替えることができる。
手段によって、第2のカセットステージ上の各カセット
内へ移し替えることができる。
また、各カセットは、カセット搬送手段によって、真空
予備室内の第1のカセットステージ上に搬送したり、そ
こから取り出して元のカセットステージ上に戻したりす
ることができる。
予備室内の第1のカセットステージ上に搬送したり、そ
こから取り出して元のカセットステージ上に戻したりす
ることができる。
従って、真空予備室内へユーザキャリア持ち込まずに済
む。
む。
第1図は、この発明の一実施例に係るイオン処理装置を
部分的に示す平面図である。尚、図中右側の真空予備室
6の前方部にも、左側の真空予備室6の前方部における
のと同様の機構36が設けられているが、ここではその
図示を省略している。
部分的に示す平面図である。尚、図中右側の真空予備室
6の前方部にも、左側の真空予備室6の前方部における
のと同様の機構36が設けられているが、ここではその
図示を省略している。
また、第3図の例と同一または相当する部分には同一符
号を付し、以下においては従来例との相違点を主に説明
する。
号を付し、以下においては従来例との相違点を主に説明
する。
この実施例においては、各真空予備室6に対して、複数
枚(例えば25枚)のウェーハ12をそれぞれ収納可能
な二つのカセット(以下シャ1−ルカセットと呼ぶ)2
0を備えている。
枚(例えば25枚)のウェーハ12をそれぞれ収納可能
な二つのカセット(以下シャ1−ルカセットと呼ぶ)2
0を備えている。
このシャトルカセット20は、ウェーハ12を前後方向
から出し入れ可能である(例えば実開昭61−1712
52号公報参照)。
から出し入れ可能である(例えば実開昭61−1712
52号公報参照)。
そして、各真空予備室6内に、シャトルカセット20を
1個設置できる第1のカセットステージ22をそれぞれ
設けている。
1個設置できる第1のカセットステージ22をそれぞれ
設けている。
また各真空予備室6と大気側との間は、この例では自動
化に対応することができるように、真空弁(例えばゲー
ト弁)24でそれぞれ仕切られている。
化に対応することができるように、真空弁(例えばゲー
ト弁)24でそれぞれ仕切られている。
そして、各真空予備室6の前方部に、この例では二つの
シャトルカセット20を左右に並べて設置できる第2の
カセットステージ26を設けている。このカセットステ
ージ26は、矢印へのように左右にスライドする他、こ
の例では更に上下(紙面表裏方向)に昇降する。
シャトルカセット20を左右に並べて設置できる第2の
カセットステージ26を設けている。このカセットステ
ージ26は、矢印へのように左右にスライドする他、こ
の例では更に上下(紙面表裏方向)に昇降する。
また、このカセットステージ26の前方部に、シャトル
カセット20をつかむカセットホルダ32を有しており
、それをこの例では上下および矢印Bのように前後に動
かして、シャトルカセット20をカセットステージ26
上と真空予備室6内のカセットステージ22上との間で
1個ずつ搬送するカセット搬送装置30を設けている。
カセット20をつかむカセットホルダ32を有しており
、それをこの例では上下および矢印Bのように前後に動
かして、シャトルカセット20をカセットステージ26
上と真空予備室6内のカセットステージ22上との間で
1個ずつ搬送するカセット搬送装置30を設けている。
また、カセットステージ26の前方部であってカセット
搬送装置30の左右に、前述したユーザキャリア10を
それぞれ設置でき、しかもこの例では上下に昇降する二
つのキャリアステージ34を並べて設けている。
搬送装置30の左右に、前述したユーザキャリア10を
それぞれ設置でき、しかもこの例では上下に昇降する二
つのキャリアステージ34を並べて設けている。
更に、この各キャリアステージ34とカセットステージ
26との間に、キャリアステージ34上のユーザキャリ
ア1oとカセットステージ26上の対応する各シャトル
カセット2oとの間で矢印Cのようにウェーハ12を搬
送するウェーハ搬送手段の例として、この例では2系統
のウェーハ搬送ヘルド28をそれぞれ設けている。もっ
とも、ウェーハ搬送手段には、ウェーハ搬送ベルト28
の代わりに、所要の自由度を有するロボットアーム弐も
のを用いても良い。
26との間に、キャリアステージ34上のユーザキャリ
ア1oとカセットステージ26上の対応する各シャトル
カセット2oとの間で矢印Cのようにウェーハ12を搬
送するウェーハ搬送手段の例として、この例では2系統
のウェーハ搬送ヘルド28をそれぞれ設けている。もっ
とも、ウェーハ搬送手段には、ウェーハ搬送ベルト28
の代わりに、所要の自由度を有するロボットアーム弐も
のを用いても良い。
第1図の装置の全体的な動作例を、第2図を参照して説
明する。
明する。
まず第2図(A)に示すように、二つのキャリアステー
ジ24上に、未処理のウェーハ12を収納したユーザキ
ャリア1oをそれぞれ設置する。
ジ24上に、未処理のウェーハ12を収納したユーザキ
ャリア1oをそれぞれ設置する。
このとき、カセットステージ26上には二つの空のシャ
トルカセット20が設置されているものとする。
トルカセット20が設置されているものとする。
そしてこの状態で、左側のウェーハ搬送ベルト28によ
って、左右jりのユーザキャリア10内のつ工−ハ12
を左側のシャトルカセラ1−20内へ全校移し替える。
って、左右jりのユーザキャリア10内のつ工−ハ12
を左側のシャトルカセラ1−20内へ全校移し替える。
このとき、キャリアステージ34は、ウェーハ12を1
枚取り出す度にユーザキャリア10を1ピツチ降下させ
、カセットステージ26は、ウェーハ12を1枚収納す
る度にシャトルカセット20を1ピツチ上昇させる。尚
、これと同様のハンドリング方法が、例えば特開昭61
168934号公報に開示されている。そしてウェーハ
I2の上記移し替えが終了したら、カセットステージ2
6を右側へスライドさせる。
枚取り出す度にユーザキャリア10を1ピツチ降下させ
、カセットステージ26は、ウェーハ12を1枚収納す
る度にシャトルカセット20を1ピツチ上昇させる。尚
、これと同様のハンドリング方法が、例えば特開昭61
168934号公報に開示されている。そしてウェーハ
I2の上記移し替えが終了したら、カセットステージ2
6を右側へスライドさせる。
この時点では、真空予備室6の真空弁24が開いており
、そして第2図(B)に示すように、カセットステージ
26上の左側のシャトルカセット20を、カセット搬送
装置30によって、真空予備室6内に搬入してカセット
ステージ22上に設置する。そして真空弁24を閉じ、
真空予備室6内を真空引きする。またそれと並行して、
右側のウェーハ搬送ベルト28によって、上記左側の場
合と同様にして、右側のユーザキャリア10内のウェー
ハ12を右側のシャトルカセット20内へ全校移し替え
る。
、そして第2図(B)に示すように、カセットステージ
26上の左側のシャトルカセット20を、カセット搬送
装置30によって、真空予備室6内に搬入してカセット
ステージ22上に設置する。そして真空弁24を閉じ、
真空予備室6内を真空引きする。またそれと並行して、
右側のウェーハ搬送ベルト28によって、上記左側の場
合と同様にして、右側のユーザキャリア10内のウェー
ハ12を右側のシャトルカセット20内へ全校移し替え
る。
その間、真空予備室6内が所定の真空度に達したら、真
空弁4 (第1図参照)を開いて、処理室2内の図示し
ないウェーハ搬送手段によって、シャトルカセット20
内からウェーハ12を1枚ずつ取り出してそれを処理室
2内の処理場所へ搬送し、そこで当3亥ウェーハ12に
イオンビームを照射してイオン注入等の処理を施した後
、再び元のシャトルカセット20内へ搬入する。
空弁4 (第1図参照)を開いて、処理室2内の図示し
ないウェーハ搬送手段によって、シャトルカセット20
内からウェーハ12を1枚ずつ取り出してそれを処理室
2内の処理場所へ搬送し、そこで当3亥ウェーハ12に
イオンビームを照射してイオン注入等の処理を施した後
、再び元のシャトルカセット20内へ搬入する。
シャトルカセット20内の全てのウェーハ12の処理が
終了すると、真空弁4を閉じ、真空予備室6内を大気圧
状態に戻した後、真空弁24を開き、そして第2図(C
)に示すように、真空予備室6内のシャトルカセット2
0をカセット搬送装置30によって取り出してカセット
ステージ26上に設置する。そして当該カセットステー
ジ26を左側へスライドさせる。
終了すると、真空弁4を閉じ、真空予備室6内を大気圧
状態に戻した後、真空弁24を開き、そして第2図(C
)に示すように、真空予備室6内のシャトルカセット2
0をカセット搬送装置30によって取り出してカセット
ステージ26上に設置する。そして当該カセットステー
ジ26を左側へスライドさせる。
次いで、第2図(D)に示すように、カセットステージ
26上の右側のシャトルカセット20を、カセット搬送
装置30によって真空予備室6内に搬入してカセットス
テージ22上に設置する。そして真空弁24を閉じ、真
空予備室6内を真空引きする。またそれと並行して、左
側のウェーハ搬送ベルト28によって、上記とは逆の動
作で、左側のシャトルカセット20内の処理済のウェー
ハ12を左側のユーザキャリア10内へ全校移し替える
。
26上の右側のシャトルカセット20を、カセット搬送
装置30によって真空予備室6内に搬入してカセットス
テージ22上に設置する。そして真空弁24を閉じ、真
空予備室6内を真空引きする。またそれと並行して、左
側のウェーハ搬送ベルト28によって、上記とは逆の動
作で、左側のシャトルカセット20内の処理済のウェー
ハ12を左側のユーザキャリア10内へ全校移し替える
。
その後は右側のシャトルカセット20およびユーザキャ
リア10についても上記と同様の動作が行われる。
リア10についても上記と同様の動作が行われる。
更にこれ以降は必要に応じて、上記と同様の動作が繰り
返される。
返される。
尚、この例では、第1図中に示すように真空予備室6を
二つ設けており、かつその右側の真空予備室6の前方部
にも前述したように左側と同様の機構36を設けている
ので、一方の真空予備室6内にあるシャトルカセット2
0内のウェーハ12を処理している間に、他方の真空予
備室6側において、処理済のウェーハ12を収納したシ
ャトルカセット20と未処理のウェーハ12を収納した
ジャトルカセント20との入れ替えを行うことができる
。従って、真空予備室6やその前方部の機構36が一つ
ずつの場合に比べてスループットが向上するが、もちろ
んこれらは一つずつでも良く、あるいは三つずつ以上設
けても良い。
二つ設けており、かつその右側の真空予備室6の前方部
にも前述したように左側と同様の機構36を設けている
ので、一方の真空予備室6内にあるシャトルカセット2
0内のウェーハ12を処理している間に、他方の真空予
備室6側において、処理済のウェーハ12を収納したシ
ャトルカセット20と未処理のウェーハ12を収納した
ジャトルカセント20との入れ替えを行うことができる
。従って、真空予備室6やその前方部の機構36が一つ
ずつの場合に比べてスループットが向上するが、もちろ
んこれらは一つずつでも良く、あるいは三つずつ以上設
けても良い。
以上のようにこの実施例の装置によれば、ユ−ザキャリ
ア10を真空予備室6内に持ち込まずに済むので、それ
がたとえ汚れていたり、水分が付着していたり、あるい
は真空内へ持ち込むと不都合な部品が付属されていたと
しても、従来例のような問題は生じない。
ア10を真空予備室6内に持ち込まずに済むので、それ
がたとえ汚れていたり、水分が付着していたり、あるい
は真空内へ持ち込むと不都合な部品が付属されていたと
しても、従来例のような問題は生じない。
また、上記のような動作は全て自動で行うことができる
ので、無人化対応も可能である。
ので、無人化対応も可能である。
尚、キャリアステージ34とカセットステージ26との
間におけるウェーハ12の各搬送経路途中に、ウェーハ
12のオリエンテーションフラットを一定方向に揃える
オリエンテーションフラット合わせ手段(例えば特開昭
61−268035号公報参照)を設けても良く、その
ようにすれば、ウェーハ12をシャトルカセット20に
収納するときにそのオリエンテーションフラットを一定
方向に揃えることができる。
間におけるウェーハ12の各搬送経路途中に、ウェーハ
12のオリエンテーションフラットを一定方向に揃える
オリエンテーションフラット合わせ手段(例えば特開昭
61−268035号公報参照)を設けても良く、その
ようにすれば、ウェーハ12をシャトルカセット20に
収納するときにそのオリエンテーションフラットを一定
方向に揃えることができる。
また、各真空予備室6に対するシャトルカセット20の
数、カセットステージ26上に設置できるシャトルカセ
ット20の数およびキャリアステージ34の数は、それ
ぞれ二個ずつ以上としても良い。
数、カセットステージ26上に設置できるシャトルカセ
ット20の数およびキャリアステージ34の数は、それ
ぞれ二個ずつ以上としても良い。
また、上記カセットステージ26、キャリアステージ3
4更にはカセットステージ22を昇降式のものとするか
否かは、ウェーハ搬送手段やカセット搬送装置30を上
下動可能なものとするか否かとの対応で決めれば良い。
4更にはカセットステージ22を昇降式のものとするか
否かは、ウェーハ搬送手段やカセット搬送装置30を上
下動可能なものとするか否かとの対応で決めれば良い。
例えば、カセットステージ26およびキャリアステージ
34は、つ工−ハ搬送ベルト28の代わりに上下動可能
なつ工−ハ搬送手段を用いれば、必ずしも昇降式にする
必要は無い。また、カセットステージ22を昇降式のも
のにすれば、上記力セラI−R送装置30におけるカセ
ットホルダ32は必ずしも上下動させる必要は無い。
34は、つ工−ハ搬送ベルト28の代わりに上下動可能
なつ工−ハ搬送手段を用いれば、必ずしも昇降式にする
必要は無い。また、カセットステージ22を昇降式のも
のにすれば、上記力セラI−R送装置30におけるカセ
ットホルダ32は必ずしも上下動させる必要は無い。
以上のようにこの発明によれば、ユーザキャリア内のウ
ェーハをシャトルカセット内に移し替え、このシャトル
カセットを真空予備室内へ搬入することができるので、
ユーザキャリアを真空予備室内へ持ち込まずに済むよう
になる。従って、ユーザキャリアを真空予備室内へ持ち
込むことに伴う問題が発生するのを防止することができ
る。
ェーハをシャトルカセット内に移し替え、このシャトル
カセットを真空予備室内へ搬入することができるので、
ユーザキャリアを真空予備室内へ持ち込まずに済むよう
になる。従って、ユーザキャリアを真空予備室内へ持ち
込むことに伴う問題が発生するのを防止することができ
る。
第1図は、この発明の一実施例に係るイオン処理装置を
部分的に示す平面図である。第2図は、第1図の装置の
動作例を説明するための概略図である。第3図は、従来
のイオン処理装置の一例を部分的に示す平面図である。 2・・・処理室、6・・・真空予備室、10・・・ユー
ザキャリア、12・・・ウェーハ、20・・・ シャト
ルカセット、22・・・第1のカセットステージ、26
・、・第2のカセットステージ、2日・・・ウェーハ搬
送ベルト、30・・・カセット搬送装置、34・・、キ
ャリアステージ。
部分的に示す平面図である。第2図は、第1図の装置の
動作例を説明するための概略図である。第3図は、従来
のイオン処理装置の一例を部分的に示す平面図である。 2・・・処理室、6・・・真空予備室、10・・・ユー
ザキャリア、12・・・ウェーハ、20・・・ シャト
ルカセット、22・・・第1のカセットステージ、26
・、・第2のカセットステージ、2日・・・ウェーハ搬
送ベルト、30・・・カセット搬送装置、34・・、キ
ャリアステージ。
Claims (1)
- (1)ウェーハにイオンビームを照射して処理を施すた
めの処理室と、この処理室に真空弁を介して隣接されて
いてウェーハを処理室に出し入れするための真空予備室
とを備えるイオン処理装置において、複数枚のウェーハ
をそれぞれ収納可能な複数のカセットと、前記真空予備
室内に設けられていて前記カセットを1個設置できる第
1のカセットステージと、前記真空予備室の前方部に設
けられていて前記カセットを複数個並べて設置できかつ
少なくとも左右にスライドする第2のカセットステージ
と、この第2のカセットステージの前方部に設けられて
いて、前記カセットを当該カセットステージ上と真空予
備室内のカセットステージ上との間で1個ずつ搬送する
カセット搬送装置と、前記第2のカセットステージの前
方部に並べて設けられていて、複数枚のウェーハを収納
したキャリアをそれぞれ設置できる複数のキャリアステ
ージと、この各キャリアステージと前記第2のカセット
ステージとの間に設けられていて、前者上の各キャリア
と後者上の対応する各カセットとの間でウェーハを搬送
する複数のウェーハ搬送手段とを備えることを特徴とす
るイオン処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1111098A JP2639093B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | イオン処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1111098A JP2639093B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | イオン処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02288139A true JPH02288139A (ja) | 1990-11-28 |
JP2639093B2 JP2639093B2 (ja) | 1997-08-06 |
Family
ID=14552338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1111098A Expired - Lifetime JP2639093B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | イオン処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2639093B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5430271A (en) * | 1990-06-12 | 1995-07-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method of heat treating a substrate with standby and treatment time periods |
US5655277A (en) * | 1995-10-17 | 1997-08-12 | Balzers Aktiengesellschaft | Vacuum apparatus for the surface treatment of workpieces |
JP2009081032A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Axcelis Technologies Inc | リボン形ビームを用いたイオン注入クラスターツール |
-
1989
- 1989-04-28 JP JP1111098A patent/JP2639093B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5430271A (en) * | 1990-06-12 | 1995-07-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method of heat treating a substrate with standby and treatment time periods |
US5655277A (en) * | 1995-10-17 | 1997-08-12 | Balzers Aktiengesellschaft | Vacuum apparatus for the surface treatment of workpieces |
JP2009081032A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Axcelis Technologies Inc | リボン形ビームを用いたイオン注入クラスターツール |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2639093B2 (ja) | 1997-08-06 |
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