JPH0228518A - 変位測定装置 - Google Patents

変位測定装置

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JPH0228518A
JPH0228518A JP18002288A JP18002288A JPH0228518A JP H0228518 A JPH0228518 A JP H0228518A JP 18002288 A JP18002288 A JP 18002288A JP 18002288 A JP18002288 A JP 18002288A JP H0228518 A JPH0228518 A JP H0228518A
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哲 石井
Tetsuji Nishimura
西村 哲治
Masaaki Tsukiji
築地 正彰
Akira Ishizuka
公 石塚
Yoichi Kubota
洋一 窪田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、光学式リニアエンコーダや光学式ロータリー
エンコーダ等の、変位測定装置に関するものである。
〔従来技術〕
従来、例えばU、S、Pat、No、4,629,88
6やU、S、Pat、No、4,676.645に示さ
れる様に、リニアスケールにレーザ光を照射し、リニア
スケールからの光を光検出器で検出することにより、リ
ニアスケールが取付けられた被検物体の変位を測定する
装置が知られている。
上記のU、S、Patentsが示す変位測定装置は、
スケールを回折格子で形成し、レーザ光の照射によりス
ケールから射出する回折光で干渉縞を形成し、この干渉
縞を光電変換して得られる信号に基づいて被検物体若し
くはスケールの変位を測定するものであり、極めて分解
能の高い測定が可能である。しかしながら、被検物体の
移動に伴ないリニアスケールが有効長以上移動してしま
ったり、或いは、リニアスケールが変位の方向に対しで
ある程度以上傾いていたり、変位方向と直交する方向に
ずれている場合、レーザ光が読取りヘッドから外部に漏
れてしまう危険性があった。
〔発明の概要〕
本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであり
、レーザ光の読取りヘッドからの漏れを防止することが
可能な変位測定装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成する為に、本発明の変位測定装置は、光
学式スケールを形成した可動基板にレーザ光を照射し、
前記光学式スケールからの光を光検出器で検出すること
により前記可動基板の変位を測定する変位測定装置にお
いて、前記レーザ光の前記可動基板への入射位置と前記
光学式スケールの位置関係を検出する検出手段を有し、
該検出手段からの出力信号に基づいて前記レーザ光の照
射を制御することを特徴としている。
又、本発明の他の形態の変位測定装置は、光学式スケー
ルを形成した可動基板にレーザ光を照射し、前記光学式
スケールからの光を光検出器で検出することにより前記
可動基板の変位を測定する変位測定装置において、前記
レーザ光の前記可動基板への照射位置と前記光学式スケ
ールの位置関係を検出する検出手段を有し、該検出手段
からの出力信号に基づいて前記レーザ光を供給する光源
と前記光検出器とを含む読取りヘッドと前記可動基板の
位置関係を調整することを特徴としている。
本発明の更なる特徴と具体的な形態は後述する実施例に
記載されている。
〔実施例〕
第1図は本発明の変位測定装置の一実施例を示す光学系
概略図を示す。
第1図において、半導体レーザ1からの可干渉性を有す
るレーザ光をコリメーターレンズ2によって略平行光束
とし、偏光ビームスプリッタ−9に入射させ、偏光ビー
ムスプリッタ−9で互いに偏光方向が直交するP偏光の
透過光束とS偏光の反射光束の2つの光束に分割してい
る。このときレーザーlの出射光束の偏光方向が偏光ビ
ームスプリッタ−9の偏光面の偏光方位に対して45度
となるようにレーザーlの取付位置を調整している。こ
れにより偏光ビームスプリッタ−9からの透過光束と反
射光束の強度比が略l:lとなるようにしている。
そして偏光ビームスプリッタ−9からの反射光束と透過
光束を夫々1/4波長板51,5□を介して円偏光とし
、又、゛反、射鏡10.,102で反射させて、光学式
スケールを成す回折格子3に入射させた時、対象とする
回折格子3からのm次回舌先が回折格子3から略垂直に
反射するように入射させている。
即ち、回折格子3の格子ピッチをP1可干渉性光束の波
長をλ、mを整数とし、可干渉性光束の回折格子3への
入射角度をθ□としたとき0m  5in−’(mλ/
P)         (1)となるように入射させて
いる。
回折格子3は本測定装置の光学式スケールとなる部材で
あり、又、回折格子3は振幅型又は位相型の格子として
可動基板100上に形成されている。そして、基板10
0がX方向に移動することにより回折格子3もX方向に
変位する。
回折格子3から略垂直に射出した2つのm次回舌先は光
学部材llに入射する。光学部材11の焦点面近傍には
反射膜12が施されているので、入射した光束は、反射
膜12で反射した後、元の光路を戻り光学部材11から
射出し、再度回折格子3に入射する。
そして回折格子3で再度回折されたm次の反射回折光は
元の光路を戻り、反射鏡10..102で反射し、1/
4波長板51,5□を透過し偏光ビームスプリッタ−9
に再入射する。
このとき再回折光は1/4波長板5I、5□を往復して
いる為、偏光ビームスプリッタ−9で最初反射した光束
は再入射するときは偏光ビームスプリッタ−9に対して
偏光方位が90度異なり、偏光ビームスプリッタ−9を
透過するようになる。逆に偏光ビームスプリッタ−9で
最初透過した光束は偏光ビームスプリッタ−9に再入射
したとき反射されるようになる。
こうして偏光ビームスプリッタ−9で2つの回折光を重
なり合わせ、ビームスプリッタ−31とl/4波長板5
3を介した後、円偏光とし、ビームスプリッタ−6で2
つの光束に分割し、各々偏光板71゜7□を介した後、
直線偏光とし受光素子8□、8゜に各々入射させている
尚、(1)式の角度θ□は回折光が集光系2oに入射し
、再度回折格子、3に入射出来る程度の範囲内であれば
良いことを示している。
本実施例においてm次の回折光の位相は回折格子が1ピ
ツ・チ移動すると2mπだけ変化する。従って受光素子
88,8□からは正と負のm次の回折を2回ずつ受けた
光束の干渉を受光している為、回折格子が格子の1ピッ
チ分移動すると4m個の正弦波信号が得られる。
例えば回折格子3のピッチ3.2μm1回折光として1
次(m = 1 )を利用したとすれば回折格子3が3
.2μm移動したとき受光素子81,8□からは4個の
正弦波信号が得られる。即ち正弦波1個当りの分解能と
して回折格子3のピッチの1/4、即ち3.2/4 =
 0.8μmが得られる。
又、1/4波長板58,5□、53及び偏光板7□、7
□の組み合わせによって受光素子81e8□からの出力
信号間に90度の位相差をつけ、回折格子3の移動方向
も判別出来るようにしている。
尚、単に移動量のみを測定するのであれば受光素子は1
つでも良(、又、1/4波長板53、ビームスプリッタ
−6は不要である。
尚、第1図において、回折格子3の変位を測定する為の
読取りヘッドを符号Rで示している。
本実施例において、基板100上には回折格子3と共に
所定の反射部が形成されている。この様子を第2図に示
す。
第2図中、符番35で示す部分が反射部であり、回折格
子3の格子配列方向(X方向)に長(延びた線状パター
ンが回折格子3に隣接して形成されている。この反射部
35は、レーザ光の基板100に対する入射位置と回折
格子3との位置関係を検出する為に設けられており、第
1図、に示す発光素子33と受光素子34の組から成る
反射部検出系Mと協力して、レーザ光が回折格子3に入
射する位置に基板lOOがあるか否かをモニターする。
第1図の発光素子33は、レーザとは異なり、人体に影
響のない光を放射する素子であり、本実施例ではLED
を使用している。発光素子33からの光は反射部35を
照射し、反射部35からの反射光が受光素子34で受光
される。
又、発光素子33と受光素子34とから成る反射部検出
系Mと前述の第1図で示す変位測定用光学系とは同一の
読取りヘッドRに格納されている。
ここでは、レーザ光の照射位置が回折格子3からはずれ
る場合に若しくはずれる手前で受光素子34で受光され
る反射光の強度が所定のしきい値以下になる様、レーザ
光の照射位置と発光素子33からの光の照射位置及び回
折格子3と反射部35の配置を決めている。
従って、レーザ光が回折格子3を照射しているか否かが
、発光素子33と受光素子34の組から成る検出系の出
力信号、即ち、受光素子34による光電変換信号に基づ
いて検出できる。この為、受光素子34からの信号の強
度変化をモニターし、この強度がしきい値以下となった
場合、例えばレーザ1の駆動を停止することにより、読
取りヘッドから外部ヘレーザ光が漏れるのを防ぐことが
できる。
第1図に戻り、ビームスプリッタ−31は偏光ビームス
プリッタ−9からの光束の一部を反射し、この一部の光
を受光素子32に向ける。偏光ビームスプリッタ−9か
らの光束は、互いに偏光方向が直交する回折光が重なり
合った光である為、回折格子3が移動しても強度の変化
は生じない。従って、受光素子32は回折格子3の移動
に関係なく、単に回折光の強度をモニターすることが可
能であり、レーザlの出力変動や、回折格子3と入射レ
ーザ光の相対的位置関係に依存する回折光の強度変化が
検出できる。
この受光素子32と前述の受光素子34からの出力信号
は、例えば第3図に示す回路により処理される。第3図
において、41と42は増幅器、43と44は比較器、
45と46と49と50は抵抗、47と48は基準電圧
電源、51と52はLEDなどから成る表示用発光素子
を示す。又、53. 54は比較器43゜44からの“
HIGH”又は“LOW″の信号を後段の制御回路(不
図示)へ入力する為の端子であり、例えば図示する様に
、比較器44からの信号は、レーザ1の駆動回路を制御
する為に使用される。
受光素子32.34で発生する光強度に応じた電流は、
増幅器41.42および抵抗45.46により光強度に
応じた電圧に変換される。これを各々所定の基準電圧(
しきい値)47.48と比較器43゜44で比較し、強
度が所定の値より大きいとき出力端子53.54をLO
W電圧とし、LED51.52を点灯させる。強度が所
定の値より小さいときは出力端子53.54はHIGH
電圧となりLEDは消灯する。これにより、各受光素子
32.34が受光した光の強度を知ることができる。発
光素子33からの光束は径が大きく、しかも指向性がな
いので、受光素子34に入射する光の強度の変化は基板
100が本来の位置に対し多少Y方向に変位しても小さ
くなる。これに対し、受光素子32に入射するレーザ光
の強度は、ビーム径が小さいこと、はぼ平行光であるこ
と、光路が長いことなどから、基板100のY方向の変
位に対して大きく変化するので基板100へのレーザ光
入射位置の最適な範囲がせま(なる。従つて、まず、受
光素子34に入射する光の強度をモニタしながら、基板
100即ち回折格子3の位置の粗調整を行い、次に受光
素子32に入射する光の強度をモニタしながら回折格子
3の位置の微調整を行うようにすれば、調整が非常に行
いやすく、容易に最適位置に基板1OO1即ち回折格子
3を追い込み、レーザ光を回折格子3に入射させること
ができる。
また、先に述べた様に受光素子34に入射する光の強度
がある所定の値に達しないときはレーザlの動作を停止
させ、ある所定の値に達したときにレーザ1を駆動する
ようにしておけば、回折格子3がレーザ光の入射位置に
ない状態のまま不用意に電源を投入したり、或いは変位
測定中に回折格子3がその有効長以上移動したりしても
レーザー光が射出されない。従って、安全である。
この制御は端子54の出力をレーザ1の駆動回路に作用
させ、端子54の出力がHIGH電圧のときレーザlの
発光を停止させ、端子54の出力がLOW電圧のときレ
ーザ1を駆動するようにする。これにより、回折格子3
がレーザ光の入射位置にないときに、不用意に、レーザ
lからレーザー光が発せられることがなくなる。
又、各光強度の変化は増幅器41.42の出力電圧を直
接モニタしてもよいことはいうまでもない。
以上説明した動作をまとめると、次の表1の様になる。
表 発光素子33から基板100の反射部35へ照射する光
束の入射角度は特に限定されず、第4図(A)の様にほ
ぼ垂直方向から入射させてもよい。又、検出系は、第4
図(B)に示す様に発光・受光容素子がペアでパッケー
ジに入れられたものでもよい。また、発光素子33は、
LED以外にも、安全性の高いものであれば何でもよい
し、受光素子34もフォトダイオード、フォトトランジ
スタ等特に限定されない。
また、第3図で示した回路で得られる2つの信号の表示
は、エンコーダの読取りヘッドで表、示させたり、読取
りヘッドから得られる信号を処理するインターフェイス
ユニット内に表示させたりすることができるが、どこで
表示しても本発明の趣旨から外れるものではない。
また、第1図において、ビームスプリッタ31の配置は
この位置に限定されず、たとえば1/4波長板53とビ
ームスプリッタ6との間にありてもよい。
〔発明の効果〕
以上、本発明によれば、レーザ光の可動基板への入射位
置と可動基板に、形成された回折格子等の光学式スケー
ルとの位置関係を検出する検出手段を設け、この検出手
段からの出力信号に基づいてレーザ光の照射を制御する
ことにより、読取りヘッドからレーザ光が漏れることの
ない、安全性の高い変位測定装置とすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の変位測定装置の一実施例を示す光学
系概略図。 第2図は基板上の回折格子と反射部を示す上面図。 第3図は2つの受光素子からの出力信号を処理する処理
回路を示す回路図。 第4図(A)、(B)は反射部検出系の変形例を示す図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 光学式スケールを形成した可動基板にレーザ光を照射し
    、前記光学式スケールからの光を光検出器で検出するこ
    とにより前記可動基板の変位を測定する変位測定装置に
    おいて、前記レーザ光の前記可動基板への入射位置と前
    記光学式スケールの位置関係を検出する検出手段を有し
    、該検出手段からの出力信号に基づいて前記レーザ光の
    照射を制御することを特徴とする変位測定装置。
JP63180022A 1988-05-10 1988-07-18 変位測定装置 Expired - Fee Related JPH076811B2 (ja)

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