JPH02267844A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
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- JPH02267844A JPH02267844A JP8900489A JP8900489A JPH02267844A JP H02267844 A JPH02267844 A JP H02267844A JP 8900489 A JP8900489 A JP 8900489A JP 8900489 A JP8900489 A JP 8900489A JP H02267844 A JPH02267844 A JP H02267844A
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- JP
- Japan
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- copper
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- Pending
Links
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Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はターゲットに電子線を照射してＸａを発生する
Ｘｄ発生装置のターゲット材に関する。
Ｘｄ発生装置のターゲット材に関する。
［課題を解決する為の手段］
上記課題を解決するために、本発明は、Ｘ線発生装置に
関し、ターゲット材にダイヤモンドを用いる手段をとる
。
関し、ターゲット材にダイヤモンドを用いる手段をとる
。
［従来の技術］
従来、Ｘｄ発生装置のターゲット材には、鋼材が用いら
れて（・た。又、ターゲット方式は、回転型やコーン・
ケープ型の固定型等にて、水冷等して用いられていた。
れて（・た。又、ターゲット方式は、回転型やコーン・
ケープ型の固定型等にて、水冷等して用いられていた。
［実施例］
以下、実施例により本発明を詳述する。
いま、従来の銅製回転ターゲットに替え、Ｃ■Ｄ膜形成
にて成型したダイヤモンド体から成る回転ターゲットを
用い、該回転ターゲットを水冷しながら用いると、５０
ＫＷｉ度の電子ビーム入力に対してもターゲットの融解
等も発生せず、従来の２倍程度の１８強度を得る事がで
きる。
にて成型したダイヤモンド体から成る回転ターゲットを
用い、該回転ターゲットを水冷しながら用いると、５０
ＫＷｉ度の電子ビーム入力に対してもターゲットの融解
等も発生せず、従来の２倍程度の１８強度を得る事がで
きる。
尚ダイヤモンド体は、電子ビームの照射される要部にの
み形成され、他は鋼材であっても良い事は云うまでもな
い。
み形成され、他は鋼材であっても良い事は云うまでもな
い。
更に、回転ターゲットのみならずコーン・ケープ型の固
定ターゲットにダイヤモンド体を用いて水冷しても良い
事も云うまでもない。
定ターゲットにダイヤモンド体を用いて水冷しても良い
事も云うまでもない。
更に、ＣｖＤダイヤモンド膜の銅製ターゲットの表面や
内面等に形成して用いても良い。
内面等に形成して用いても良い。
更に、合成又は天然ダイヤモンド体を銅製ターゲットに
埋め込んで用いても良い。
埋め込んで用いても良い。
［発明の効果コ
本発明の如く、ダイヤモンドをターゲット材に適用する
事によりＸ５強度の大なるＸ線発生装置を提供すること
ができる効果がある。
事によりＸ５強度の大なるＸ線発生装置を提供すること
ができる効果がある。
以上
出願人 セイコーエプソン株式会社
Claims (1)
- ターゲット材にはダイヤモンドを用いた事を特徴とする
Ｘ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8900489A JPH02267844A (ja) | 1989-04-08 | 1989-04-08 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8900489A JPH02267844A (ja) | 1989-04-08 | 1989-04-08 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02267844A true JPH02267844A (ja) | 1990-11-01 |
Family
ID=13958686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8900489A Pending JPH02267844A (ja) | 1989-04-08 | 1989-04-08 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02267844A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05343193A (ja) * | 1992-06-03 | 1993-12-24 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 無機化合物／金属薄膜二層構造ｘ線対陰極 |
| US5657365A (en) * | 1994-08-20 | 1997-08-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | X-ray generation apparatus |
| US5878110A (en) * | 1994-08-20 | 1999-03-02 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | X-ray generation apparatus |
| WO2007119715A1 (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Takasago Thermal Engineering Co., Ltd. | 軟ｘ線発生装置および除電装置 |
-
1989
- 1989-04-08 JP JP8900489A patent/JPH02267844A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05343193A (ja) * | 1992-06-03 | 1993-12-24 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 無機化合物／金属薄膜二層構造ｘ線対陰極 |
| US5657365A (en) * | 1994-08-20 | 1997-08-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | X-ray generation apparatus |
| US5878110A (en) * | 1994-08-20 | 1999-03-02 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | X-ray generation apparatus |
| WO2007119715A1 (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Takasago Thermal Engineering Co., Ltd. | 軟ｘ線発生装置および除電装置 |
| US7907700B2 (en) | 2006-04-11 | 2011-03-15 | Casio Computer Co., Ltd. | Soft X-ray generation apparatus and static elimination apparatus |
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