JPH0222330B2 - - Google Patents
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- JPH0222330B2 JPH0222330B2 JP55160657A JP16065780A JPH0222330B2 JP H0222330 B2 JPH0222330 B2 JP H0222330B2 JP 55160657 A JP55160657 A JP 55160657A JP 16065780 A JP16065780 A JP 16065780A JP H0222330 B2 JPH0222330 B2 JP H0222330B2
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- Japan
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- solid particles
- discharges
- electrodes
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- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 18
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 8
- 238000010892 electric spark Methods 0.000 description 7
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/06—Investigating concentration of particle suspensions
- G01N15/0656—Investigating concentration of particle suspensions using electric, e.g. electrostatic methods or magnetic methods
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
液中の固体粒子の濃度の制御は、電極加工片と
電極工具との間に加工用流体を循還させながら電
極工具によつて電極加工片を電気スパーク浸食加
工する場合特に必要である。この場合、加工によ
つて生ずる、或は多分外部の源から到来する粒子
は放電の付勢に基本的な役割を果している。事
実、粒子の濃度が所定のレベルに到達した時にだ
け良好な加工を遂行できることが知られている。
従つて加工動作中に最大の浸食生成物が得られる
ようにこの濃度のレベルを精密に制御できるよう
にすることが重要である。加工用流体の汚濁を測
定し制御する若干の方法、例えばこの流体の透明
度を光学的手段によつて測定する方法が提案され
ている。しかし、この方法は精密ではなく、電気
スパーク加工に用いられる低濃度の測定には余り
適しているとは言えないものである。
電極工具との間に加工用流体を循還させながら電
極工具によつて電極加工片を電気スパーク浸食加
工する場合特に必要である。この場合、加工によ
つて生ずる、或は多分外部の源から到来する粒子
は放電の付勢に基本的な役割を果している。事
実、粒子の濃度が所定のレベルに到達した時にだ
け良好な加工を遂行できることが知られている。
従つて加工動作中に最大の浸食生成物が得られる
ようにこの濃度のレベルを精密に制御できるよう
にすることが重要である。加工用流体の汚濁を測
定し制御する若干の方法、例えばこの流体の透明
度を光学的手段によつて測定する方法が提案され
ている。しかし、この方法は精密ではなく、電気
スパーク加工に用いられる低濃度の測定には余り
適しているとは言えないものである。
一方、本考案による方法では、液中に懸濁する
粒子の濃度を精密に、しかも広範囲の濃度に亘つ
て測定することが可能である。
粒子の濃度を精密に、しかも広範囲の濃度に亘つ
て測定することが可能である。
液中に懸濁する導電性固体粒子の濃度を決定す
る本発明の方法は、導電性固体粒子の懸濁液を相
互から一定の距離に保つて配置した２つの電極の
所定の大きさの活動表面の間に循環させ、これら
の表面間に一定の電圧を加えてエネルギーレベル
の低い放電を発生させ、そしてこれらの放電の平
均付勢時間の関数として固体粒子の濃度を決定す
ることを特徴としている。
る本発明の方法は、導電性固体粒子の懸濁液を相
互から一定の距離に保つて配置した２つの電極の
所定の大きさの活動表面の間に循環させ、これら
の表面間に一定の電圧を加えてエネルギーレベル
の低い放電を発生させ、そしてこれらの放電の平
均付勢時間の関数として固体粒子の濃度を決定す
ることを特徴としている。
以下に添附図面を参照して本発明の実施例を説
明する。
明する。
第１図は、導電性流体中に懸濁する粒子の濃度
が変化するとこの流体を横切つて電極間に発生す
る放電の付勢時間の平均値がどのように変化する
かを、これらの電極を分離しているスパーキング
距離の関係として単位体積のパーセンテージで表
わしたものである。付勢時間とは、両電極間に電
圧を印加した時点から放電が開始される時点まで
の時間間隔のことである。スパーキング距離ｇが
一定であれば、平均付勢時間tDは粒子濃度とは逆
に変化していることが理解されよう。しかしこの
平均時間はスパークを発生させる表面及び放電の
付勢電圧の関数としても変化する。従つて第１図
の関係を用いて濃度を測定できるようにするため
には、これらの他の２つのパラメータを一定に保
つ必要もある。また平均付勢時間tDの変化範囲を
同一に保つには、スパーキング距離ｇの値を濃度
の変化範囲に対して選択すればよいことも理解さ
れよう。
が変化するとこの流体を横切つて電極間に発生す
る放電の付勢時間の平均値がどのように変化する
かを、これらの電極を分離しているスパーキング
距離の関係として単位体積のパーセンテージで表
わしたものである。付勢時間とは、両電極間に電
圧を印加した時点から放電が開始される時点まで
の時間間隔のことである。スパーキング距離ｇが
一定であれば、平均付勢時間tDは粒子濃度とは逆
に変化していることが理解されよう。しかしこの
平均時間はスパークを発生させる表面及び放電の
付勢電圧の関数としても変化する。従つて第１図
の関係を用いて濃度を測定できるようにするため
には、これらの他の２つのパラメータを一定に保
つ必要もある。また平均付勢時間tDの変化範囲を
同一に保つには、スパーキング距離ｇの値を濃度
の変化範囲に対して選択すればよいことも理解さ
れよう。
第２図は濃度測定装置の１実施例を示すもので
ある。この装置は、管の形状の第１の電極１及び
第１の電極１と同軸の第２の電極２を備えてお
り、第２の電極２の外面は第１の電極１の内面か
ら一定の距離にある。これらの電極は、電極１と
２との間に形成されているスパーキング空間３を
横切つて流体が通過できるように液圧回路（図示
せず）内に配置されている。直流電圧の源４が抵
抗Ｒを介して両電極１，２の間に接続されてい
る。抵抗Ｒの抵抗値は、源４から印加される電圧
によつて付勢される放電が維持されることなく、
浸食を招くことがないように充分に大きくしてお
く。実際にはミクロ放電であるこれらの放電は、
巾の短かい電圧パルスの形状で抵抗Ｒの両端に現
われる。
ある。この装置は、管の形状の第１の電極１及び
第１の電極１と同軸の第２の電極２を備えてお
り、第２の電極２の外面は第１の電極１の内面か
ら一定の距離にある。これらの電極は、電極１と
２との間に形成されているスパーキング空間３を
横切つて流体が通過できるように液圧回路（図示
せず）内に配置されている。直流電圧の源４が抵
抗Ｒを介して両電極１，２の間に接続されてい
る。抵抗Ｒの抵抗値は、源４から印加される電圧
によつて付勢される放電が維持されることなく、
浸食を招くことがないように充分に大きくしてお
く。実際にはミクロ放電であるこれらの放電は、
巾の短かい電圧パルスの形状で抵抗Ｒの両端に現
われる。
電極１と２との間には容量が存在しており、こ
の容量は抵抗Ｒを通して再充電されなければなら
ないから、電極１と２との間の電圧は徐々にしか
上昇しない。従つて連続する２つのミクロ放電を
分離している時間は付勢時間の増加関数であるの
で、単位時間をミクロ放電の数で割ると平均付勢
時間となる。このミクロ放電の数は装置５（第２
図）によつて計算される。装置５に含まれている
カウンタ６の入力は、源４と抵抗Ｒの共通端子に
接続されている。メモリ７はカウンタ６からの情
報を受けて、それを視覚示器８に伝送する。固定
周波数発振器９はカウンタ６及びメモリ回路７に
接続されていて、固定された時間間隔で、この時
間間隔内に発生したミクロ放電の記憶とカウンタ
６のリセツトとを制御している。
の容量は抵抗Ｒを通して再充電されなければなら
ないから、電極１と２との間の電圧は徐々にしか
上昇しない。従つて連続する２つのミクロ放電を
分離している時間は付勢時間の増加関数であるの
で、単位時間をミクロ放電の数で割ると平均付勢
時間となる。このミクロ放電の数は装置５（第２
図）によつて計算される。装置５に含まれている
カウンタ６の入力は、源４と抵抗Ｒの共通端子に
接続されている。メモリ７はカウンタ６からの情
報を受けて、それを視覚示器８に伝送する。固定
周波数発振器９はカウンタ６及びメモリ回路７に
接続されていて、固定された時間間隔で、この時
間間隔内に発生したミクロ放電の記憶とカウンタ
６のリセツトとを制御している。
第２図に示されている電極は、濃度のレベルに
応じてスパーキング距離を調整できるように、例
えば円錐形或は平板のような異なる形状であつて
もよい。この濃度測定方法は、第２図の測定用電
極の代りに電気スパーク浸食加工装置の電極加工
片と電極工具を用いて遂行することも可能であ
る。この場合、この測定はスパークを発生する表
面が一定の値を保つている（粗切断段階の後の）
仕上げ段階の途中においてでしか行なうことがで
きない。更に例えば浸食放電電圧のレベルを一定
値に保つために電極の前進を制御することによつ
て加工中のスパーキング距離を厳格に一定の値に
保つように、電極加工片のサーボ制御を行なう必
要がある。このようにすると、加工が行なわれて
いる特定の場所の濃度測定が行なわれるという長
所が得られる。
応じてスパーキング距離を調整できるように、例
えば円錐形或は平板のような異なる形状であつて
もよい。この濃度測定方法は、第２図の測定用電
極の代りに電気スパーク浸食加工装置の電極加工
片と電極工具を用いて遂行することも可能であ
る。この場合、この測定はスパークを発生する表
面が一定の値を保つている（粗切断段階の後の）
仕上げ段階の途中においてでしか行なうことがで
きない。更に例えば浸食放電電圧のレベルを一定
値に保つために電極の前進を制御することによつ
て加工中のスパーキング距離を厳格に一定の値に
保つように、電極加工片のサーボ制御を行なう必
要がある。このようにすると、加工が行なわれて
いる特定の場所の濃度測定が行なわれるという長
所が得られる。
第３図は電気スパーク加工装置を示すものであ
つて、その加工用流体が本発明による方法によつ
て制御されているのである。
つて、その加工用流体が本発明による方法によつ
て制御されているのである。
電極１０はサーボ機構１２によつて加工片１１
に対して変位する。加工用放電は、直流源１３、
及びパルス発生器１５によつて制御されている断
続器１４によつて発生させられている。サーボ機
構１２は、電極１０と加工片１１との間に所定の
スパーク状態を維持するように調整回路３６によ
つて制御される。
に対して変位する。加工用放電は、直流源１３、
及びパルス発生器１５によつて制御されている断
続器１４によつて発生させられている。サーボ機
構１２は、電極１０と加工片１１との間に所定の
スパーク状態を維持するように調整回路３６によ
つて制御される。
加工用流体は注入ノズル１６によつて加工ゾー
ンに運ばれ、浴１７内に集められる。この流体を
循還させる流体回路は、ポンプ１８、バイパス２
０内に配置されているフイルタ１９、ノズル１６
の上流の注入通路内に配置されている２つの固定
電極２２及び２３を含む測定装置２１を備えてい
る。第２図に示したものと類似の測定回路５は単
位時間当りの平均放電数を表わす信号を発生す
る。この信号は演算増巾器２５によつてポテンシ
ヨメータ２４から与えられる基準信号と比較され
る。演算増巾器２５の出力信号はスイツチ２６を
介して弁２７或は弁２８を制御し、汚濁した流体
を直接加工ゾーンに再注入させたり、或はフイル
タ１９を通過したきれいな流体の供給を制御した
りする。この装置によれば加工ゾーン内に導かれ
る流体内の固体粒子の濃度を精密に制御すること
が可能である。
ンに運ばれ、浴１７内に集められる。この流体を
循還させる流体回路は、ポンプ１８、バイパス２
０内に配置されているフイルタ１９、ノズル１６
の上流の注入通路内に配置されている２つの固定
電極２２及び２３を含む測定装置２１を備えてい
る。第２図に示したものと類似の測定回路５は単
位時間当りの平均放電数を表わす信号を発生す
る。この信号は演算増巾器２５によつてポテンシ
ヨメータ２４から与えられる基準信号と比較され
る。演算増巾器２５の出力信号はスイツチ２６を
介して弁２７或は弁２８を制御し、汚濁した流体
を直接加工ゾーンに再注入させたり、或はフイル
タ１９を通過したきれいな流体の供給を制御した
りする。この装置によれば加工ゾーン内に導かれ
る流体内の固体粒子の濃度を精密に制御すること
が可能である。
この濃度測定は、加工ゾーンの下流の浴１７と
ポンプ１８との間において、或は一方或は他方の
電極を横切つて配置されている流体吸出しチヤン
ネルの出口において行なうこともできる。
ポンプ１８との間において、或は一方或は他方の
電極を横切つて配置されている流体吸出しチヤン
ネルの出口において行なうこともできる。
以上に本考案による方法を実施する一例とし
て、電気スパーク加工装置に本方法を使用するも
のとして説明した。しかし、本方法は電気スパー
ク加工以外に多くの応用分野があることは明白で
ある。即ち本方法は、機械工具の加工中に用いら
れる液体の充填材含有率を制御するのに最適であ
る。この測定によつて、例えば必要な液体の供給
を調整することができる。同様に、静止した、或
は乗物に搭載した内燃機関において潤滑油の粒子
含有率を周期的に或は連続的に制御することがで
き、この制御によつて機関から汚れた油を排出し
て新らしい油と交換する必要を生じた時点を決定
することが可能である。
て、電気スパーク加工装置に本方法を使用するも
のとして説明した。しかし、本方法は電気スパー
ク加工以外に多くの応用分野があることは明白で
ある。即ち本方法は、機械工具の加工中に用いら
れる液体の充填材含有率を制御するのに最適であ
る。この測定によつて、例えば必要な液体の供給
を調整することができる。同様に、静止した、或
は乗物に搭載した内燃機関において潤滑油の粒子
含有率を周期的に或は連続的に制御することがで
き、この制御によつて機関から汚れた油を排出し
て新らしい油と交換する必要を生じた時点を決定
することが可能である。
第２図の電極２は、電気スパーク浸食切断装置
の工具として使用されているワイヤーと置換する
ことが可能である。この場合管１は、例えば加工
ゾーン内に加工用流体を注入する或はこのゾーン
から流体を吸出す流路の端のようなスパーキン
グ・ゾーン附近に配置することができる。このよ
うにすると、加工用流体内に懸濁している粒子の
濃度を極めて精密に制御することができる。
の工具として使用されているワイヤーと置換する
ことが可能である。この場合管１は、例えば加工
ゾーン内に加工用流体を注入する或はこのゾーン
から流体を吸出す流路の端のようなスパーキン
グ・ゾーン附近に配置することができる。このよ
うにすると、加工用流体内に懸濁している粒子の
濃度を極めて精密に制御することができる。
第１図は濃度測定に用いられる基本的な物理的
関係を示すものであり、第２図はこの濃度を測定
するための装置例を示すものであり、そして第３
図は第２図の装置を用いた電気スパーク浸食加工
装置を示すものである。 １……管状電極、２……同軸状電極、３……ス
パーキング空間、４……直流電圧源、５……濃度
測定装置、６……カウンタ、７……メモリ回路、
８……視覚指示器、９……固定周波数発振器、１
０……電極工具、１１……電極加工片、１２……
サーボ機構、１３……直流電圧源、１４……断続
器、１５……パルス発生器、１６……注入ノズ
ル、１７……浴、１８……ポンプ、１９……フイ
ルタ、２０……バイパス、２１……測定装置、２
２，２３……固定電極、２４……ポテンシヨメー
タ、２５……演算増巾器、２６……スイツチ、２
７，２８……弁、３６……調整回路、Ｒ……抵
抗。
関係を示すものであり、第２図はこの濃度を測定
するための装置例を示すものであり、そして第３
図は第２図の装置を用いた電気スパーク浸食加工
装置を示すものである。 １……管状電極、２……同軸状電極、３……ス
パーキング空間、４……直流電圧源、５……濃度
測定装置、６……カウンタ、７……メモリ回路、
８……視覚指示器、９……固定周波数発振器、１
０……電極工具、１１……電極加工片、１２……
サーボ機構、１３……直流電圧源、１４……断続
器、１５……パルス発生器、１６……注入ノズ
ル、１７……浴、１８……ポンプ、１９……フイ
ルタ、２０……バイパス、２１……測定装置、２
２，２３……固定電極、２４……ポテンシヨメー
タ、２５……演算増巾器、２６……スイツチ、２
７，２８……弁、３６……調整回路、Ｒ……抵
抗。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 導電性固体粒子の懸濁液を２つの電極の所定
の大きさの活動表面の間に循環させ、 これらの活動表面を相互から一定の距離に保ち
それらの表面間に一定の電圧を加えてエネルギー
レベルの低い放電を発生させ、そして これらの放電の平均付勢時間の関数として固体
粒子の濃度を決定する ことを特徴とする液中に懸濁する導電性固体粒
子の濃度を決定する方法。 ２ 所定の距離を置いて互いに他に対して向かい
合わせた活動表面を備えている２つの固定電極、 これらの活動表面間に導電性固体粒子を懸濁し
ている液を循環させる液圧回路、 これらの電極間に接続されていて、それらの活
動表面間に一定の電圧を加えて低レベル・エネル
ギーの放電を生じさせる連続電圧源、及び これらの放電の平均付勢時間の関数として固体
粒子の濃度を決定する測定回路 を備えていることを特徴とする液中に懸濁する導
電性固体粒子の濃度を決定する装置。 ３ 電極の活動表面が、平行で且つ同軸の回転体
表面である特許請求の範囲２に記載の装置。 ４ 測定回路が、所定の時間内に活動表面に発生
する放電の数を計数する手段を備えている特許請
求の範囲３に記載の装置。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH1023779A CH632340A5 (fr) | 1979-11-16 | 1979-11-16 | Procede et dispositif pour controler la concentration de particules solides en suspension dans un liquide. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5686335A JPS5686335A (en) | 1981-07-14 |
| JPH0222330B2 true JPH0222330B2 (ja) | 1990-05-18 |
Family
ID=4360956
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16065780A Granted JPS5686335A (en) | 1979-11-16 | 1980-11-14 | Method and device for controlling concentration of solid particle suspending in liquid |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4362989A (ja) |
| JP (1) | JPS5686335A (ja) |
| CH (1) | CH632340A5 (ja) |
| DE (1) | DE3041889A1 (ja) |
| FR (1) | FR2469706A1 (ja) |
| GB (1) | GB2065306B (ja) |
| IT (1) | IT1129833B (ja) |
| SE (1) | SE445957B (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4140322C1 (en) * | 1991-12-06 | 1993-06-03 | Siemens Ag, 8000 Muenchen, De | Gas bubble detection system for transformer oil-cooling circuit - responds to electrical discharge between spaced transformers inserted in transformer cooling oil circulation path |
| JP3393885B2 (ja) * | 1992-11-02 | 2003-04-07 | 信之 高橋 | 粉末分散放電加工液および放電加工法 |
| DE19536705A1 (de) * | 1995-09-30 | 1997-04-03 | Guenther Prof Dr Ing Hauser | Partikel-Meßverfahren und Vorrichtung |
| US5922221A (en) * | 1996-02-02 | 1999-07-13 | Sodick Co., Ltd. | Electric discharge machining method and electric discharge machining fluid |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5225277A (en) * | 1975-08-20 | 1977-02-25 | Hitachi Cable Ltd | Heat-proof wire |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1977607U (de) * | 1961-11-20 | 1968-01-25 | Toa Tokushu Denki Kabushiki Ka | Messgefaess fuer eine einrichtung zum zaehlen von suspendierten teilchen. |
| US3628139A (en) * | 1970-06-11 | 1971-12-14 | Ikor Inc | Method and apparatus for sensing particulate matter |
| US3650888A (en) | 1970-06-11 | 1972-03-21 | Combustion Eng | Pollution controlled polysulfide recovery process |
| US3758851A (en) * | 1970-10-27 | 1973-09-11 | Chiyoda Chem Eng Construct Co | Method for detecting small particles in a tank and apparatus for carrying out said method |
| FR2279096A1 (fr) * | 1975-03-05 | 1976-02-13 | Poclain Sa | Procede de detection d'impuretes dans un fluide et detecteur faisant application du procede |
-
1979
- 1979-11-16 CH CH1023779A patent/CH632340A5/fr not_active IP Right Cessation
-
1980
- 1980-10-30 GB GB8034953A patent/GB2065306B/en not_active Expired
- 1980-11-03 US US06/203,719 patent/US4362989A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-11-05 FR FR8023641A patent/FR2469706A1/fr active Granted
- 1980-11-06 DE DE19803041889 patent/DE3041889A1/de active Granted
- 1980-11-11 IT IT68721/80A patent/IT1129833B/it active
- 1980-11-14 JP JP16065780A patent/JPS5686335A/ja active Granted
- 1980-11-14 SE SE8007988A patent/SE445957B/sv not_active IP Right Cessation
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5225277A (en) * | 1975-08-20 | 1977-02-25 | Hitachi Cable Ltd | Heat-proof wire |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2065306B (en) | 1984-07-25 |
| FR2469706A1 (fr) | 1981-05-22 |
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