JPH02222495A - 塩素化弗素化炭化水素系フラックス洗浄剤 - Google Patents
塩素化弗素化炭化水素系フラックス洗浄剤Info
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Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、プリント基板等に付着したフラックス類を除
去するために用いるフラックス洗浄剤に関するものであ
る。
去するために用いるフラックス洗浄剤に関するものであ
る。
[従来の技術]
半導体、IC1電子部品等を実装するプリント基板の組
み立て工程では、フラックス類が使われるが、これらが
付着したままでは、製品とはならない場合が多い、従っ
て、通常フラックスは、有機溶剤を用いて洗浄除去され
る。その有機溶剤としては、次に掲げるような種必の利
点から、1,1゜2−トリクロロ−1,2,2−)リフ
ルオロエタン(以下R113という)が広く使われてい
る。
み立て工程では、フラックス類が使われるが、これらが
付着したままでは、製品とはならない場合が多い、従っ
て、通常フラックスは、有機溶剤を用いて洗浄除去され
る。その有機溶剤としては、次に掲げるような種必の利
点から、1,1゜2−トリクロロ−1,2,2−)リフ
ルオロエタン(以下R113という)が広く使われてい
る。
R113は、不燃性で毒性が低く安定性も優れている。
しかも、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を
侵さずフラックスを選択的に溶解除去する性質がある。
侵さずフラックスを選択的に溶解除去する性質がある。
一般に、プリント配線板は、ガラス繊維強化プラスチッ
クと銅からなり、さらに金属、プラスチック、エラスト
マー等からなる各種部品を実装しており、従ってこの点
からもR113が有利であった。
クと銅からなり、さらに金属、プラスチック、エラスト
マー等からなる各種部品を実装しており、従ってこの点
からもR113が有利であった。
[発明が解決しようとする課題]
従来使用されていたR113が種々の利点を有するにも
かかわらず、対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏
に達し、ここで太陽光線により分解して塩素ラジカルを
発生し、このラジカルがオゾンと連鎖反応を起こし、オ
ゾン層を破壊するとのことから、R113の使用を規制
することとなった。このため、本発明は、これに対応す
べく、R113と同様な種々の利点を有し、同等にフラ
ックスの洗浄除去が行える新規のフラックス洗浄剤を提
供することを目的とするものである。
かかわらず、対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏
に達し、ここで太陽光線により分解して塩素ラジカルを
発生し、このラジカルがオゾンと連鎖反応を起こし、オ
ゾン層を破壊するとのことから、R113の使用を規制
することとなった。このため、本発明は、これに対応す
べく、R113と同様な種々の利点を有し、同等にフラ
ックスの洗浄除去が行える新規のフラックス洗浄剤を提
供することを目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
炭素数が4である塩素化弗素化炭化水素を有効成分とし
て含有するフラックス洗浄剤を提供するものである0本
発明の塩素化弗素化炭化水素としては、 1−クロロ−
1,1−ジフルオロブタン(b、 p、 55.5℃)
、3−クロロ−1,1,1−トリフルオロブタン(b、
p、 66℃)、1−クロロ−1,1,3,3−テト
ラフルオロブタン(b、 p、 70℃)、2−クロロ
−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブタン(b
、p、51℃)、 4−クロロ−1゜1、1.2.2.
3.3−ヘプタフルオロブタン(b、 p、 54℃)
、3.4−ジクロロ−1,1,1,2,2,3−ヘキサ
フルオロブタン(b、 p、 72℃)、2.3−ジク
ロロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブタン
(b、 p、 78℃)、 4.4−ジクロロ−1゜1
、1.2.2.3.3−ヘプタフルオロブタン (b、
p、 76、5℃)、1−クロロ−2,2,3,3−
テトラフルオロシクロブタン(b、 9.73℃)、1
.1−ジクロロ−2,2,3,3−テトラフルオロシク
ロブタン(b、 9.84℃)、 1−クロロ−2、2
,3,3,4,4−へキサフルオロシクロブタン(b、
p。
炭素数が4である塩素化弗素化炭化水素を有効成分とし
て含有するフラックス洗浄剤を提供するものである0本
発明の塩素化弗素化炭化水素としては、 1−クロロ−
1,1−ジフルオロブタン(b、 p、 55.5℃)
、3−クロロ−1,1,1−トリフルオロブタン(b、
p、 66℃)、1−クロロ−1,1,3,3−テト
ラフルオロブタン(b、 p、 70℃)、2−クロロ
−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブタン(b
、p、51℃)、 4−クロロ−1゜1、1.2.2.
3.3−ヘプタフルオロブタン(b、 p、 54℃)
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フルオロブタン(b、 p、 72℃)、2.3−ジク
ロロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブタン
(b、 p、 78℃)、 4.4−ジクロロ−1゜1
、1.2.2.3.3−ヘプタフルオロブタン (b、
p、 76、5℃)、1−クロロ−2,2,3,3−
テトラフルオロシクロブタン(b、 9.73℃)、1
.1−ジクロロ−2,2,3,3−テトラフルオロシク
ロブタン(b、 9.84℃)、 1−クロロ−2、2
,3,3,4,4−へキサフルオロシクロブタン(b、
p。
40℃)等の含水素塩素化弗素化炭化水素から選ばれる
1種叉は2種以上の混合物が好ましい。
1種叉は2種以上の混合物が好ましい。
本発明のフラックス洗浄剤には、各種の目的に応じてそ
の他の各種成分を含有させることができる0例えば、溶
解力を高めるために、炭化水素類、アルコール類、ケト
ン類、叉はハロゲン化炭化水素類等の有機溶剤から選ば
れる少なくとも1種を含有させることができる。これら
の有機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、0〜5
0重量%、好ましくは10〜40重量%、さらに好まし
くは20〜30重量%である0本発明の塩素化弗素化炭
化水素類と有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場
合には、その共沸組成での使用が特に好ましい。
の他の各種成分を含有させることができる0例えば、溶
解力を高めるために、炭化水素類、アルコール類、ケト
ン類、叉はハロゲン化炭化水素類等の有機溶剤から選ば
れる少なくとも1種を含有させることができる。これら
の有機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、0〜5
0重量%、好ましくは10〜40重量%、さらに好まし
くは20〜30重量%である0本発明の塩素化弗素化炭
化水素類と有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場
合には、その共沸組成での使用が特に好ましい。
炭化水素類としては、炭素数1〜15の直鎖叉は環状の
飽和又は不飽和炭化水素類が好ましく、n−ペンタン、
イソペンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、ネオヘキ
サン、2,3−ジメチルブタン、3−メチルペンタン、
n−へブタン、イソへブタン、3−メチルヘキサン、2
,4−ジメチルベンクン、n−オクタン、2−メチルへ
ブタン、3−メチルへブタン、4−メチルへブタン、2
.2−ジメチルヘキサン、2.5−ジメチルヘキサン、
3.3−ジメチルヘキサン、・2−メチル−3−エチル
ペンタン、3−メチル−3−エチルペンタン、2.3.
3− )ジメチルベンクン、2.3.4− )ジメチル
ベンクン、2.2.3− トリメチルペンタン、イソオ
クタン、ノナン、2.2.5− )ジメチルヘキサン、
デカン、 ドデカン、1−ペンテン、2−ペンテン、1
−ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、l−デセン、
シクロベンクン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビ
シクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペン
テン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナフタ
レン等から選ばれるものである。より好ましくはn−ペ
ンタン、ネオヘキサン、2.3−ジメチルブタン、n−
ヘキサン、シクロベンクン、シクロヘキサン、n−へブ
タン等である。
飽和又は不飽和炭化水素類が好ましく、n−ペンタン、
イソペンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、ネオヘキ
サン、2,3−ジメチルブタン、3−メチルペンタン、
n−へブタン、イソへブタン、3−メチルヘキサン、2
,4−ジメチルベンクン、n−オクタン、2−メチルへ
ブタン、3−メチルへブタン、4−メチルへブタン、2
.2−ジメチルヘキサン、2.5−ジメチルヘキサン、
3.3−ジメチルヘキサン、・2−メチル−3−エチル
ペンタン、3−メチル−3−エチルペンタン、2.3.
3− )ジメチルベンクン、2.3.4− )ジメチル
ベンクン、2.2.3− トリメチルペンタン、イソオ
クタン、ノナン、2.2.5− )ジメチルヘキサン、
デカン、 ドデカン、1−ペンテン、2−ペンテン、1
−ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、l−デセン、
シクロベンクン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビ
シクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペン
テン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナフタ
レン等から選ばれるものである。より好ましくはn−ペ
ンタン、ネオヘキサン、2.3−ジメチルブタン、n−
ヘキサン、シクロベンクン、シクロヘキサン、n−へブ
タン等である。
アルコール類としては、炭素数1〜17の鎖状叉は、環
状の飽和叉は不飽和アルコール類が好ましく、メタノー
ル、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアル
コール、5ec−ブチルアルコール、tert−ブチル
アルコール、ペンチルアルコール、5ec−アミルアル
コール、1−エチル−1−プロパツール、2−メチル−
1−ブタノール、イソペンチルアルコール、tert−
ペンチルアルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネ
オペンチルアルコール、1−ヘキサノール、2−メチル
−1−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、
2−エチル−1−ブタノール、1−ヘプタツール、2−
ヘプタツール、3−ヘプタツール、1−オクタノール、
2−オクタツール、2−エチル−1−ヘキサノール、l
−ノナノール、3.5.5−)ジメチル−1−ヘキサノ
ール、1−デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデ
カノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール
、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、1−メチ
ルシクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノール
、3−メチルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘ
キサノール、α−テルピネオール、アとニチノール、2
.6−シメチルー4−ヘプタツール、トリメチルノニル
アルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルア
ルコール等から選ばれるものである。より好ましくは、
メタノール、エタ、ノール、イソプロピルアルコール等
である。
状の飽和叉は不飽和アルコール類が好ましく、メタノー
ル、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアル
コール、5ec−ブチルアルコール、tert−ブチル
アルコール、ペンチルアルコール、5ec−アミルアル
コール、1−エチル−1−プロパツール、2−メチル−
1−ブタノール、イソペンチルアルコール、tert−
ペンチルアルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネ
オペンチルアルコール、1−ヘキサノール、2−メチル
−1−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、
2−エチル−1−ブタノール、1−ヘプタツール、2−
ヘプタツール、3−ヘプタツール、1−オクタノール、
2−オクタツール、2−エチル−1−ヘキサノール、l
−ノナノール、3.5.5−)ジメチル−1−ヘキサノ
ール、1−デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデ
カノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール
、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、1−メチ
ルシクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノール
、3−メチルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘ
キサノール、α−テルピネオール、アとニチノール、2
.6−シメチルー4−ヘプタツール、トリメチルノニル
アルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルア
ルコール等から選ばれるものである。より好ましくは、
メタノール、エタ、ノール、イソプロピルアルコール等
である。
1〜9の飽和又は不飽和炭化水素基)のいずれかの一般
式で示されるものが好ましく、アセトン、メチルエチル
ケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサ
ノン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、
2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、ジイソブチルケトン
、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、ホロン、メ
チル−n−アミルケトン、エチルブチルケトン、メチル
へキシルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキ
サノン、イソホロン、2.4−ベンタンジオン、ジアセ
トンアルコール、アセトフェノン、フェンチョン等から
選ばれるものである。より好ましくは、アセトン、メチ
ルエチルケトン等である。
式で示されるものが好ましく、アセトン、メチルエチル
ケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサ
ノン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、
2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、ジイソブチルケトン
、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、ホロン、メ
チル−n−アミルケトン、エチルブチルケトン、メチル
へキシルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキ
サノン、イソホロン、2.4−ベンタンジオン、ジアセ
トンアルコール、アセトフェノン、フェンチョン等から
選ばれるものである。より好ましくは、アセトン、メチ
ルエチルケトン等である。
ハロゲン化炭化水素類としては、炭素数1〜4の飽和叉
は不飽和のハロゲン化炭化水素類が好ましく、ジクロロ
メタン、四塩化炭素、クロロホルム、1.1−ジクロロ
エタン、1.2−ジクロロエタン、1、1.1−トリク
ロロエタン、1.1.2−トリクロロエタン、1.1.
1.2−テトラクロロエタン、1.1.2.2−テトラ
クロロエタン、ペンタクロロエタン、1.1−ジクロロ
エチレン、trans−1,2−ジクロロエチレン、c
is−1,2−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン
、テトラクロロエチレン、l−クロロプロパン、2−ク
ロロプロパン、1−ブロモプロパン、2−ブロモプロパ
ン等から選ばれるものである。より好ましくは、ジクロ
ロメタン、1.1.1−トリクロロエタン、trans
−1,2−ジクロロエチレン、cis−1,2−ジクロ
ロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
ン、2−ブロモプロパン等である。
は不飽和のハロゲン化炭化水素類が好ましく、ジクロロ
メタン、四塩化炭素、クロロホルム、1.1−ジクロロ
エタン、1.2−ジクロロエタン、1、1.1−トリク
ロロエタン、1.1.2−トリクロロエタン、1.1.
1.2−テトラクロロエタン、1.1.2.2−テトラ
クロロエタン、ペンタクロロエタン、1.1−ジクロロ
エチレン、trans−1,2−ジクロロエチレン、c
is−1,2−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン
、テトラクロロエチレン、l−クロロプロパン、2−ク
ロロプロパン、1−ブロモプロパン、2−ブロモプロパ
ン等から選ばれるものである。より好ましくは、ジクロ
ロメタン、1.1.1−トリクロロエタン、trans
−1,2−ジクロロエチレン、cis−1,2−ジクロ
ロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
ン、2−ブロモプロパン等である。
本発明のフラックス洗浄剤には、各種の洗浄助剤や安定
剤あるいは、オゾン破壊に対する影響の少ない含水素塩
素化弗素化炭イヒ水素類をさらに添加混合してもよい、
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー法、揺動、
超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することがで
きる。
剤あるいは、オゾン破壊に対する影響の少ない含水素塩
素化弗素化炭イヒ水素類をさらに添加混合してもよい、
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー法、揺動、
超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することがで
きる。
[実施例]
実施例1〜27
下記第1表に示すフラックス洗浄剤を用いてフラックス
め洗浄除去試験を行なった。
め洗浄除去試験を行なった。
ガラスエポキシ製のプリント基板(50mmX 100
鳳■X 1.651℃厚)全面にフラックス(タムラF
−AI−4、■タムラ制作所製)を塗布し、200℃の
電気炉で2分間焼成後、フラックス洗浄剤に1分間浸漬
した。
鳳■X 1.651℃厚)全面にフラックス(タムラF
−AI−4、■タムラ制作所製)を塗布し、200℃の
電気炉で2分間焼成後、フラックス洗浄剤に1分間浸漬
した。
フラックスの除去の度合を第1表に示す。
第1表
[発明の効果]
本発明のフラックス洗浄剤は、実施例から明らかなよう
にフラックス類の洗浄除去効果の優れたものである。叉
、従来使用されていたR113と同様に適度な溶解力を
持つことから、金属、プラスチック、及びエラストマー
等から成る複合部品に悪影響を与えることなく、フラッ
クスを洗浄除去することができる。
にフラックス類の洗浄除去効果の優れたものである。叉
、従来使用されていたR113と同様に適度な溶解力を
持つことから、金属、プラスチック、及びエラストマー
等から成る複合部品に悪影響を与えることなく、フラッ
クスを洗浄除去することができる。
第1表(続き)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、炭素数が4である塩素化弗素化炭化水素を有効成分
として含有するフラックス洗浄剤。 2、塩素化弗素化炭化水素が1−クロロ−1,1−ジフ
ルオロブタン、3−クロロ−1,1,1−トリフルオロ
ブタン、1−クロロ−1,1,3,3−テトラフルオロ
ブタン、2−クロロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサ
フルオロブタン、4−クロロ−1,1,1,2,2,3
,3−ヘプタフルオロブタン、3,4−ジクロロ−1,
1,1,2,2,3−ヘキサフルオロブタン、2,3−
ジクロロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブ
タン、4,4−ジクロロ−1,1,1,2,2,3,3
−ヘプタフルオロブタン、1−クロロ−2,2,3,3
−テトラフルオロシクロブタン、1,1−ジクロロ−2
,2,3,3−テトラフルオロシクロブタン、1−クロ
ロ−2,2,3,3,4,4−ヘキサフルオロシクロブ
タンである請求項1に記載のフラックス洗浄剤。 3、フラックス洗浄剤中に、炭化水素類、アルコール類
、ケトン類、及びハロゲン化炭化水素類から選ばれる少
なくとも1種が含まれている請求項1に記載のフラック
ス洗浄剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4157989A JPH02222495A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 塩素化弗素化炭化水素系フラックス洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4157989A JPH02222495A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 塩素化弗素化炭化水素系フラックス洗浄剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02222495A true JPH02222495A (ja) | 1990-09-05 |
Family
ID=12612355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4157989A Pending JPH02222495A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 塩素化弗素化炭化水素系フラックス洗浄剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02222495A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5348681A (en) * | 1992-08-21 | 1994-09-20 | Elf Atochem S.A. | Composition based on 1,1,1,3,3-pentafluorobutane and methylene chloride, for the cleaning and/or drying of solid surfaces |
US5350534A (en) * | 1992-08-21 | 1994-09-27 | Elf Atochem S.A. | Composition based on 1,1,1,3,3-pentafluorobutane, methylene chloride and methanol, for the cleaning and/or drying of solid surfaces |
KR100523435B1 (ko) * | 1997-07-31 | 2006-01-27 | 아르끄마 | 고체표면처리를위한1,1,1,3,3-펜타플루오로부탄,메틸렌클로라이드및메탄올을기재로한준공비혼합물 |
WO2007016359A2 (en) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Great Lakes Chemical Corporation | Production processes and systems, compositions, surfactants, monomer units, metal complexes, phosphate esters, glycols, aqueous film forming foams, and foam stabilizers |
-
1989
- 1989-02-23 JP JP4157989A patent/JPH02222495A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5348681A (en) * | 1992-08-21 | 1994-09-20 | Elf Atochem S.A. | Composition based on 1,1,1,3,3-pentafluorobutane and methylene chloride, for the cleaning and/or drying of solid surfaces |
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KR100523435B1 (ko) * | 1997-07-31 | 2006-01-27 | 아르끄마 | 고체표면처리를위한1,1,1,3,3-펜타플루오로부탄,메틸렌클로라이드및메탄올을기재로한준공비혼합물 |
WO2007016359A2 (en) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Great Lakes Chemical Corporation | Production processes and systems, compositions, surfactants, monomer units, metal complexes, phosphate esters, glycols, aqueous film forming foams, and foam stabilizers |
WO2007016359A3 (en) * | 2005-07-28 | 2008-11-27 | Great Lakes Chemical Corp | Production processes and systems, compositions, surfactants, monomer units, metal complexes, phosphate esters, glycols, aqueous film forming foams, and foam stabilizers |
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