JPH02221918A - Transparent laser address type liquid crystal light modulation cell - Google Patents
Transparent laser address type liquid crystal light modulation cellInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の背景)
本発明は概略的に像投影用の光変調器として用いられる
液晶装置に関する。より詳細には本発明は以後の投影の
ための、情報がレーザビームによって書込み可能な液晶
セルに関する。この液晶セルはこれを直接通って投影が
なされる透過モードで動作する。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention generally relates to liquid crystal devices used as light modulators for image projection. More particularly, the invention relates to a liquid crystal cell in which information can be written by a laser beam for subsequent projection. This liquid crystal cell operates in transmission mode with projection being made directly through it.
この数十年に液晶材料を用いた装置が次第に一般的にな
ってきている。この液晶装置の大半はネマチック型の液
晶を用いている。このような装置はデータ蓄積ができず
、連続的なアドレスないしリフレッシュがなされなけれ
ばならない、しかしながらこれは所望のデイスプレーが
ダイナミック型のものであって連続的に、または頻繁に
アップデートされる場合には欠点とはならない。Devices using liquid crystal materials have become increasingly popular in recent decades. Most of these liquid crystal devices use nematic liquid crystal. Such devices cannot store data and must be continuously addressed or refreshed; however, this may be difficult if the desired display is dynamic and updated continuously or frequently. is not a drawback.
スメクチック型として知られる第2の種類の液晶材料は
像情報を一度だけ液晶セルに書込む必要があるという点
で蓄積能力を有している。その後に書込まれた情報は消
去されるまで実質的に永続的である。A second type of liquid crystal material, known as smectic, has storage capabilities in that image information only needs to be written once into the liquid crystal cell. Information subsequently written is substantially permanent until erased.
レーザ・アドレス型の液晶光変調器は高解像度の投影型
デイスプレー装置としてスメクチック材料を用いて開発
されている。この装置の書込み機構は主として熱的なも
のである。結像した赤外レーザビームがスメクチック液
晶材料を加熱するために用いられ、これを「融解」させ
て等方性の状態にする。その後に液晶がスメクチックの
状態にまで冷却され、散光性の領域を形成する。書込み
のなされた散光性の領域は特定の液晶材料のスメクチッ
ク温度範囲内で安定であり、書込まれた情報が保持され
るであろう。液晶セルは10’ V/CI程度の電場、
または加熱と電場付加との組合せによって消去される。Laser-addressed liquid crystal light modulators have been developed using smectic materials as high-resolution projection display devices. The writing mechanism of this device is primarily thermal. An imaged infrared laser beam is used to heat the smectic liquid crystal material, "melting" it into an isotropic state. The liquid crystal is then cooled to a smectic state, forming a diffused region. The written diffuse area is stable within the smectic temperature range of the particular liquid crystal material and will retain the written information. The liquid crystal cell has an electric field of about 10' V/CI,
Or it can be erased by a combination of heating and applying an electric field.
セルの書込みに続いてセルを通して可視光を投射するこ
とにより、書込まれたいかなる像もデイスプレー・スク
リーン、感光材料等に投影される。Following writing of the cell, any written image is projected onto a display screen, photosensitive material, etc. by projecting visible light through the cell.
このようなデイスプレー装置のいくつかが「光学技術(
Optical Engineering) J 23
(3)(1984年5〜6月号)第230〜240頁の
デューイによる「レーザによりアドレスされる液晶デイ
スプレー」において論じられている。Some of these display devices are based on optical technology (
Optical Engineering) J 23
(3) Discussed in "Laser Addressed Liquid Crystal Displays" by Dewey, May-June 1984, pp. 230-240.
レーザ・アドレス型の液晶光変調装置への2つのアプロ
ーチが赤外ダイオード・レーザと組合せて用いるように
開発されている。両方ともデューイの前記文献に記載さ
れている。一方の反射型装置として知られる装置は液晶
セルの支持層上に形成された薄膜赤外吸収体を用いてい
る。赤外ビームが吸収体層にわたって走査されると、放
射が熱に変換されてセル内に散光性の領域を生ぜしめる
。Two approaches to laser addressed liquid crystal light modulators have been developed for use in conjunction with infrared diode lasers. Both are described in Dewey, supra. One device, known as a reflective device, uses a thin film infrared absorber formed on the support layer of a liquid crystal cell. When the infrared beam is scanned across the absorber layer, the radiation is converted to heat creating a diffuse region within the cell.
しかしながら薄膜赤外吸収体は赤外放射だけでなく像を
投影する際に用いられる可視放射に対しても不透明であ
る。かくして液晶セルに書込まれた像はセルからの可視
放射の反射によって投影されなければならない、これは
また比較的複雑な光学系を用いる必要がある。However, thin film infrared absorbers are opaque not only to infrared radiation but also to the visible radiation used to project the image. The image thus written on the liquid crystal cell must be projected by reflection of visible radiation from the cell, which also requires the use of relatively complex optical systems.
液晶光変調装置への第2のアプローチは透過型装置であ
る。このような場合セルには赤外放射が吸収されて熱に
変換され可視放射が比較的少ない吸収が生ぜしめて透過
されるようにする手段が設けられる。もちろんこのよう
な装置の利点はセルの書込みとその後の像の投影とに必
要となる比較的単純な光学系である。A second approach to liquid crystal light modulators is a transmissive device. In such a case, the cell is provided with means for absorbing infrared radiation and converting it into heat and allowing visible radiation to be transmitted with relatively little absorption. Of course, the advantage of such a device is the relatively simple optical system required for writing the cell and subsequently projecting the image.
2つの異なる型の透過型セルが知られている。Two different types of transmission cells are known.
一方の染料型セルとして知られる装置は液晶材料内にド
ープされたレーザ波長に吸収ピークを有する赤外吸収染
料電食む、書込みビームでセルを走査すると、染料はレ
ーザ放射を吸収してこれを熱に変換する。染料は可視放
射の光にはほとんど作用しないか、あるいは全く作用し
ない、投影光は通常のスライド投影機に用いられている
のと同様にして単純に装置を通過する。しかしながらこ
のようなセルは時折用いられる高濃度染料による液晶材
料への有害な作用とともに書込みビームの全唆収以下の
ドツト不安定性を示すという点でいくつかの欠点を有し
ている。Devices known as dye-based cells, on the other hand, are doped into the liquid crystal material and electrolyzed with an infrared absorbing dye that has an absorption peak at the laser wavelength; when the writing beam scans the cell, the dye absorbs the laser radiation and heats it up. Convert to The dye has little or no effect on visible radiation; the projection light simply passes through the device in the same manner as is used in conventional slide projectors. However, such cells have some drawbacks in that they exhibit sub-integral dot instability of the writing beam as well as a deleterious effect on the liquid crystal material by the high concentrations of dyes that are sometimes used.
第2の型の透過型セルは無機質型セルと称するものであ
る。単純な例ではこのようなセルは透明な支持層の間に
挟持された液晶層を含む。液晶層と少なくとも一方の支
持層との間に書込みビームの波長の光を選択的に吸収す
る材料の層が配置されている0通常この材料は赤外領域
の光を吸収するインジウム・錫の酸化物となろう。かく
して書込みビームが吸収層を通してセル上に向けられる
と、書込みビームの一部その層によって吸収され、熱に
変換される。それからこの熱が液晶材料に供給されて像
情報を書込む、吸収層は書込まれた像を投影するように
セルを通して向けられる投影ビームのかなりの部分に対
して透明である。無機質型のセルは書込みビームの放射
の利用効率がより悪くなり投影ビームの光を減衰させる
傾向にあるという欠点を有している。このようなセルは
感度が低く、小さい高コントラストの点または線を形成
し難い、このようなセルはまた表面アライメント層の非
一様性を受は易い蛍光にあり、書込まれた像が移し変え
られた後に「ゴースト」像効果を示し易い。The second type of transmission type cell is called an inorganic type cell. In a simple example, such a cell includes a liquid crystal layer sandwiched between transparent support layers. A layer of material that selectively absorbs light at the wavelength of the writing beam is disposed between the liquid crystal layer and at least one of the support layers.This material is typically an indium-tin oxide that absorbs light in the infrared region. Become a thing. Thus, when the writing beam is directed onto the cell through the absorption layer, a portion of the writing beam is absorbed by that layer and converted to heat. This heat is then supplied to the liquid crystal material to write image information, the absorbing layer being transparent to a significant portion of the projection beam directed through the cell to project the written image. Inorganic type cells have the disadvantage that they use the writing beam radiation less efficiently and tend to attenuate the projection beam. Such cells have low sensitivity and are difficult to form small high-contrast dots or lines; such cells are also susceptible to non-uniformity in the surface alignment layer, which may cause the written image to transfer. Prone to exhibit "ghost" image effects after being altered.
それゆえ必要なのは前述の染料型装置及び透過型装置の
両方の欠点を解消するレーザ・アドレス型の液晶光変調
器である。このような装置は書込み及び投影の光を効果
的に利用し、高解像度の像を記録でき、長い耐用期間を
有するものである。What is needed, therefore, is a laser-addressed liquid crystal light modulator that overcomes the disadvantages of both the dye-based and transmission-based devices discussed above. Such devices utilize writing and projection light effectively, can record high resolution images, and have a long service life.
(発明の概略)
前述の必要性に合致するように、本発明は書込み用レー
ザビームでセル上に書込まれた像を投影するように透過
モードで用いられる。レーザ・アドレス型の液晶セルを
提供するものである1本発明は染料型セル及び無機質型
セルの構造の組合せにより公知の透過型セルの欠点を解
消するものである。SUMMARY OF THE INVENTION In meeting the aforementioned needs, the present invention is used in transmission mode to project a written image onto a cell with a writing laser beam. The present invention, which provides a laser-addressed liquid crystal cell, overcomes the drawbacks of known transmission-type cells by combining the structures of dye-type cells and inorganic-type cells.
従ってこのレーザ・アドレス型の液晶セルはセルの外面
を形成するための第1及び第2の透明な基板層を含む、
スメクチック液晶材料が基板層の間に配置されている。This laser-addressed liquid crystal cell therefore includes first and second transparent substrate layers for forming the outer surface of the cell.
A smectic liquid crystal material is disposed between the substrate layers.
液晶材料は染料を混入しである。染料は少なくとも第1
の波長でかなりの吸光度を示し、また少なくとも第2の
波長でかなりの透過度を示す、第1の支持層と液晶層と
の間に第1の吸収手段が配置される。この吸収手段は少
な(とも第3の波長でかなりの吸光度を示し少なくとも
第4の波長でかなりの透過度を示すように形成され、′
ζいる。The liquid crystal material is dye-mixed. The dye is at least the first
A first absorption means is disposed between the first support layer and the liquid crystal layer, which exhibits significant absorbance at a wavelength of , and exhibits significant transmission at at least a second wavelength. This absorption means is formed in such a way that it exhibits a significant absorbance at the third wavelength and a significant transmittance at least at the fourth wavelength;
There is ζ.
多くの適用例で、染料が吸光度を示す第1の波長と吸収
手段が吸光度を示す第3の波長とは一敗するであろう、
さらにこれらの波長は赤外にあってもよい、しかしなが
らある場合には染料及び吸収手段が吸光度を示す波長が
異なってもよい。In many applications, the first wavelength at which the dye absorbs light and the third wavelength at which the absorbing means absorbs light will be at odds.
Furthermore, these wavelengths may be in the infrared; however, in some cases the dye and the absorbing means may exhibit absorbance at different wavelengths.
さらにまた染料及び吸収手段がある波長領域内で透過度
を示すのが最も通常のことと考えられ、この染料と吸収
手段との両方に係わる波長は可視スペクトルの範囲内に
ある。Furthermore, it is believed that it is most common for the dye and the absorbing means to exhibit transmission within a certain wavelength range, the wavelengths of which both the dye and the absorbing means are within the visible spectrum.
染料は二色性の染料であるのが好ましい。Preferably, the dye is a dichroic dye.
吸収手段は例えばインジウム・錫の酸化物のような単一
層の金属性材料で形成してもよい、あるいは吸収手段は
吸収すべき光を選択的に反射する層と、放射吸収材料の
層と、吸収材料と選択的に反射する層との間に配置され
た誘電体材料からなるスペーサ層とを含む多層構造であ
ってもよい。The absorption means may be formed of a single layer of metallic material, such as for example indium-tin oxide, or the absorption means may comprise a layer selectively reflecting the light to be absorbed, a layer of radiation-absorbing material, It may be a multilayer structure comprising a spacer layer of dielectric material disposed between an absorbing material and a selectively reflecting layer.
さらに他の構造として、液晶層に近接してその第1の吸
収手段に反対の側に第2の吸収手段を配置したちよい。In yet another construction, a second absorption means may be arranged adjacent to the liquid crystal layer and on the opposite side of the first absorption means.
(好ましい実施例の詳細な説明)
本発明をよりよく理解し評価するために、公知の型に透
過型セルを備えた書込み機構について検討しよう。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS To better understand and appreciate the present invention, consider a writing mechanism with transmissive cells of a known type.
第1図を参照すると単純な無機質型の液晶セルが示され
ている。基板層lO及び12は水晶またはガラスのよう
な適当な透明材料で形成されている。Referring to FIG. 1, a simple inorganic type liquid crystal cell is shown. Substrate layers IO and 12 are formed of a suitable transparent material such as quartz or glass.
CBOA等のスメクチック液晶材料14の層が基板層1
0と12との間に配置されている。一方の基板層10と
液晶層14との間に吸収層16が配置されている。吸収
層16は書込みビームの波長の光を選択的に吸収する材
料で形成されている。赤外書込みレーザの場合層16は
インジウム・錫の酸化物の薄い層で形成されよう。A layer of smectic liquid crystal material 14 such as CBOA is the substrate layer 1.
It is located between 0 and 12. An absorption layer 16 is arranged between one substrate layer 10 and the liquid crystal layer 14. The absorption layer 16 is made of a material that selectively absorbs light at the wavelength of the writing beam. In the case of an infrared writing laser, layer 16 would be formed of a thin layer of indium-tin oxide.
例えばNd : YAGレーザ(図示せず)からの書込
みビームが概略的に矢印18で示される方向からセル上
に向けられる。ビームは基板層12及び液晶層14を通
過し吸収層16に入る。赤外ビームのかなりの部分が層
16に吸収されて熱に変換される。この熱は伝導によっ
て吸収層16から液晶層14内に通過する。熱工、ネル
ギーが層L4の面から液晶材料に入ると、液晶材料は等
方的状態にまで加熱されてこの領域の液晶を融解させる
。かくして書込まれる1画素だけの像からなる書込まれ
た点が形成される。A writing beam from, for example, a Nd:YAG laser (not shown) is directed onto the cell from the direction generally indicated by arrow 18. The beam passes through substrate layer 12 and liquid crystal layer 14 and enters absorption layer 16 . A significant portion of the infrared beam is absorbed by layer 16 and converted to heat. This heat passes from the absorption layer 16 into the liquid crystal layer 14 by conduction. When thermal energy enters the liquid crystal material from the plane of layer L4, the liquid crystal material is heated to an isotropic state and melts the liquid crystal in this region. A written point is thus formed consisting of an image of only one pixel being written.
動作の1つの理論ないしモデルに従って比較的大きい点
が第1図に20で示されている。このような点を形成す
るためにかなり大きい熱が吸収層内に、さらに液晶層内
に向けられる。これによって液晶材料の融解した部分が
液晶層のずっと内側に達するようになる。第1図に22
で示される小さい点は吸収層16から液晶材料に入る比
較的少量の熱の結果非常に幅狭いものとなろう、かくし
てこのような点は光学的なコントラストが低いであろう
。According to one theory or model of operation, a relatively large point is indicated at 20 in FIG. To form such spots a considerable amount of heat is directed into the absorption layer and further into the liquid crystal layer. This allows the melted portion of the liquid crystal material to reach far inside the liquid crystal layer. 22 in Figure 1
The small dots shown at will be very narrow as a result of the relatively small amount of heat entering the liquid crystal material from the absorption layer 16, and thus such dots will have low optical contrast.
またこのような幅の狭い点は液晶材料と吸収材料との間
の境界に沿って非一様性の問題及び汚損を増強する傾向
にある表面境界条件に大きく影響されよう、結局液晶材
料の熱伝導率が比較的低いので入射するレーザのエネル
ギーの多くが支持層及びセルの他の部分内への損失とな
る。Such a narrow spot would also be highly influenced by surface boundary conditions that would tend to enhance non-uniformity problems and fouling along the interface between the liquid crystal material and the absorbing material, which would ultimately result in thermal degradation of the liquid crystal material. Because of the relatively low conductivity, much of the incident laser energy is lost into the support layer and other parts of the cell.
第2図を参照すると典型的な染料型のセルが示されてい
る。支持l1124及び26は液晶11i2Bを含んで
いる1層28は染料がドーピングされたスメクチシク液
晶材料で形成されている。このような液晶材料に用いる
ための適切な染料は例えば米国特許第4.465.33
8号を参照すればよい、また「光学技術(Optica
l Engineering) J 23(3)、23
0(1984年5〜6月号)第239〜240頁のデュ
ーイによる「レーザ・アドレス型の液晶デイスプレー」
とその参照文献とを参照するとよい。Referring to FIG. 2, a typical dye type cell is shown. The supports 1124 and 26 are formed of a dye-doped smectic liquid crystal material, one layer 28 of which contains a liquid crystal 11i2B. Suitable dyes for use in such liquid crystal materials are described, for example, in U.S. Pat. No. 4.465.33.
8, and ``Optica Technology (Optica)''.
l Engineering) J 23(3), 23
0 (May-June 1984 issue), pages 239-240, "Laser Addressable Liquid Crystal Display" by Dewey
and its references.
この型のセル動作の1つの理論ないしモデルによれば、
レーザビームからの情報が矢印30によって概略的に示
される方向からセル上に向けられる。According to one theory or model of this type of cell operation:
Information from the laser beam is directed onto the cell from the direction shown schematically by arrow 30.
レーザ放射は無機質型セルの場合表面近くだけでなく液
晶材料内部で吸収され熱に変換される。かくして大小の
点32及び34は液晶層2日の大部分にわたる円筒のよ
うになる。基板層24及び26はヒートシンクとして作
用するので、液晶層の表面近くの領域は内部はどすぐに
融解することはないであろう、か(して形成された点構
造の深さは非常に大きくそれに応じて高い光学的コント
ラストとなるが、点構造は液晶表面に強(係止されない
であろう、液晶構造は個々の層内で非常に流体状になっ
た多くの平行な層からなる。それゆえ書込まれた点は収
縮したり合着したりする傾向をもち得る。In the case of inorganic cells, laser radiation is absorbed not only near the surface but also inside the liquid crystal material and converted into heat. The large and small points 32 and 34 thus form a cylinder that spans most of the liquid crystal layer 2. Since the substrate layers 24 and 26 act as heat sinks, the regions near the surface of the liquid crystal layer will not melt quickly inside (the depth of the point structure formed will be very large). Although the optical contrast is correspondingly high, the point structure will not be strongly (anchored) to the liquid crystal surface; the liquid crystal structure consists of many parallel layers that are highly fluid within the individual layers. Therefore, the written points may have a tendency to shrink or coalesce.
本発明は無機質型のセルと染料型のセルとを単一のセル
に結合させることにより得られる0本発明の1つの実施
例が第3図に示されている。ここでも透明な基板層36
及び38がセルの外面をなし、基板層の間に液晶材料の
層40が設けられている。The present invention is obtained by combining an inorganic type cell and a dye type cell into a single cell. One embodiment of the present invention is shown in FIG. Again, the transparent substrate layer 36
and 38 form the outer surfaces of the cell, with a layer 40 of liquid crystal material provided between the substrate layers.
液晶材料は好ましくは二色性染料のような染料でドーピ
ングされている。この実施例においてニッケル等の金属
材料の薄い層のような吸収層42が基板層36と液晶層
40との間に配置されている。The liquid crystal material is preferably doped with a dye, such as a dichroic dye. In this embodiment an absorbing layer 42, such as a thin layer of a metallic material such as nickel, is disposed between the substrate layer 36 and the liquid crystal layer 40.
動作時に好ましくは830na赤外レーザ・ダイオード
(図示せず)からのレーザ書込みビームが概略的に矢印
44で示される方向からセル上に向けられよう、ビーム
は液晶の層40を通過し、ここでビームの一部が染料に
よって吸収され、液晶材料を加熱する。大小の点46及
び48が形成され、その各々は第2図のセル内に形成さ
れた点と同様なほぼ円筒形の液晶の層40の内部にわた
る部分を有している。In operation, a laser writing beam, preferably from an 830na infrared laser diode (not shown), will be directed onto the cell from the direction generally indicated by arrow 44, the beam passing through a layer of liquid crystal 40, where A portion of the beam is absorbed by the dye, heating the liquid crystal material. Small and large dots 46 and 48 are formed, each having a portion that spans the interior of the generally cylindrical layer of liquid crystal 40 similar to the dots formed within the cell of FIG.
液晶層内の染料は赤外の書込みビームのかなりの部分が
吸収されずに通過できるようにするので、ビームの残り
の部分は吸収層42上に向けられる。The dye in the liquid crystal layer allows a significant portion of the infrared writing beam to pass through unabsorbed, so that the remaining portion of the beam is directed onto the absorbing layer 42.
そこで残りのビームのかなりの部分が吸収され、熱に変
換される。この熱は伝導によって液晶層40内に通過し
、ここで液晶材料の一部が第1図のセルで示されている
のと同様にして融解する。この融解した部分は液晶JI
40の内部の円筒形の融解した部分に接合され、それに
よって完全に吸収層・液晶層の境界まで達する点46及
び48を形成する。There, a significant portion of the remaining beam is absorbed and converted into heat. This heat passes by conduction into the liquid crystal layer 40 where a portion of the liquid crystal material melts in a manner similar to that shown in the cell of FIG. This melted part is liquid crystal JI
40, thereby forming points 46 and 48 which extend completely to the absorber/liquid crystal layer boundary.
第3図のセルはまた矢印50で示される方向からセル内
に書込みビームを向けて用いてもよい。この場合書込み
ビームのかなりの部分は最初に液晶層40内に通過する
前に層42によって吸収される。The cell of FIG. 3 may also be used with the writing beam directed into the cell from the direction indicated by arrow 50. In this case a significant portion of the writing beam is first absorbed by layer 42 before passing into liquid crystal layer 40.
それから残りのビームのかなりの部分が二色性の染料に
よって吸収される。しかしながら矢印44で示されるよ
うに書込みビームを向けることの利点は吸収層42が液
晶層40でも吸収層42でも吸収されない書込みビーム
の一部を反射させようとし、それによって書込みビーム
の液晶層へのダブルパス作用をなす。これはセルの書込
み効率を増大させる1頃向になろう。A significant portion of the remaining beam is then absorbed by the dichroic dye. However, the advantage of directing the writing beam as shown by arrow 44 is that the absorbing layer 42 tends to reflect the portion of the writing beam that is not absorbed by either the liquid crystal layer 40 or the absorbing layer 42, thereby causing the writing beam to be directed toward the liquid crystal layer. It acts as a double pass. This would go a long way towards increasing the writing efficiency of the cell.
他の実施例として第3図のセルは液晶層40の各側に含
まれる吸収層を含むようにしてもよい、このような構造
(図示せず)は完全に各側の層の境界まで達する液晶層
内の点を助長するであろう。As an alternative embodiment, the cell of FIG. 3 may include an absorbing layer included on each side of the liquid crystal layer 40; such a structure (not shown) may extend completely to the layer boundaries on each side of the liquid crystal layer 40. It would help the points within.
染料と無機質吸収体構造との両方を用いた書込みビーム
の吸収から多くの利点が生ずる。第1に形成された点が
液晶層内部にわたって形成された円筒形部分を含むので
、セルは小さい、高コントラストの細部を記録できるで
あろう、第2に前述のセルは染料型セルまたは無機質型
セルの一方だけのものより効果的であろう、染料型のセ
ルは無機質型のセルより感度が高い傾向にあるが、用い
るべき高い染料濃度から他に好ましくない効果を生せし
めることな(書込みビームを完全に吸収するのは困難で
ある0本発明において無機質の層の付加により残りの書
込みビームのエネルギーを完全に用いることが可能にな
り、かくしてセルの効率が改善される。Many benefits result from absorption of the writing beam using both dyes and inorganic absorber structures. Firstly, because the dots formed include cylindrical portions formed over the interior of the liquid crystal layer, the cell will be able to record small, high-contrast details; secondly, said cells may be dye-type cells or inorganic-type cells. Dye-based cells tend to be more sensitive than inorganic-based cells, which may be more effective than having only one side of the cell, but there are no other undesirable effects from the high dye concentrations that should be used (the writing beam In the present invention, the addition of an inorganic layer makes it possible to fully utilize the energy of the remaining writing beam, thus improving the efficiency of the cell.
さらに本発明において用いられる、典型的に染料型のセ
ル内で用いられる染料はアライメントのなされた液晶材
料での二色性のものであることが多い、その結果染料の
吸収効率は液晶の一部が等方性の状態まで加熱されるま
で低くなっている。Furthermore, the dyes used in the present invention, typically used in dye-type cells, are often dichroic in the aligned liquid crystal material, so that the absorption efficiency of the dye is limited to a fraction of the liquid crystal. is lowered until it is heated to an isotropic state.
この時点で放射吸収が増大し、従って点の書込み速度が
増大する0本発明において無機質の吸収体層があるので
液晶材料の状態にかかわらず一定の効率で動作する。か
くして液晶は液晶層と吸収層との境界の近くで比較的迅
速に融解可能である。At this point the radiation absorption increases and therefore the point writing speed increases. In the present invention, there is an inorganic absorber layer so that it operates at a constant efficiency regardless of the state of the liquid crystal material. The liquid crystal can thus melt relatively quickly near the boundary between the liquid crystal layer and the absorption layer.
液晶の一部が等方性の相にあるので、染料があるために
点が液晶材料内部を通って急速に成長するであろう0本
発明のセルによって示される、より高い効率は、より安
価なレーザ及び他の装置部分でより高い書込み速度が得
られることを意味している。Since a portion of the liquid crystal is in the isotropic phase, the higher efficiency exhibited by the cell of the present invention is less expensive because the dye will cause the dots to grow rapidly through the interior of the liquid crystal material. This means higher writing speeds can be obtained with the laser and other parts of the device.
染料型のセルは書込まれた点の安定性が低くなる傾向に
ある。しかしながら本発明において液晶層・吸収層の境
界に点が強く係止され、それゆえ書込まれた点の合着が
減少するであろう、同時に液晶層の内部を通って延びる
点の部分によって生ずる高コントラストにより他の通常
の有害な表面効果が書込まれた像に大きく寄与するのが
防止されよう、これは典型的に無機質型のセルに関連し
た「ゴースト」の問題を減少させるものと考えられる。Dye-based cells tend to have lower written point stability. However, in the present invention the dots are strongly anchored at the liquid crystal layer/absorbing layer boundary, and therefore the coalescence of the written dots will be reduced, caused by the part of the dots extending through the interior of the liquid crystal layer at the same time. The high contrast would prevent other normal deleterious surface effects from contributing significantly to the written image, which is thought to reduce the "ghosting" problem typically associated with inorganic type cells. It will be done.
このような場合に、以前に書込まれた像が時折セルに見
られる。書込まれた液晶層内部で散乱する強い光でいか
なるゴースト像も目立たなくなろう。In such cases, previously written images are sometimes seen in the cells. The strong light scattered inside the written liquid crystal layer will make any ghost images less noticeable.
第4図を参照するとさらに本発明のより複雑な構造の実
施例が示されている。1対の透明な基板層54及び56
がセルの外面をなしている。セル内に液晶材料の層58
が収容され、この液晶材料は適当な染料でドーピングさ
れている。無機質の吸収手段60が層58と基板層56
との間に液晶材料58に近接して配置されている。前述
の実施例のように、概略的に矢印62で示される方向か
ら赤外の書込みビームがセル上に向けられる。このビー
ムは液晶層58内部の染料と無機質の吸収手段60との
両方によって吸収され、大小の点64及び66が液晶層
58に書込まれるようにする。Referring to FIG. 4, a more complex embodiment of the invention is illustrated. A pair of transparent substrate layers 54 and 56
forms the outer surface of the cell. A layer 58 of liquid crystal material within the cell
is contained, and this liquid crystal material is doped with a suitable dye. An inorganic absorption means 60 is formed between layer 58 and substrate layer 56.
The liquid crystal material 58 is disposed between the liquid crystal material 58 and the liquid crystal material 58 . As in the previous embodiment, an infrared writing beam is directed onto the cell from the direction generally indicated by arrow 62. This beam is absorbed by both the dye and the inorganic absorption means 60 within the liquid crystal layer 58, causing small and large dots 64 and 66 to be written in the liquid crystal layer 58.
この実施例において、吸収手段60は誘電体と金属との
薄いフィルムの3層の積層からなる。吸収手段60は誘
電体の波長選択ミラー68、吸収層70、それらの間に
配置されたスペーサ層72を含む、これらの3層は全体
として適切に同調したときに入射レーザ光に対して高い
吸収性となり得る干渉空胴をなす、吸収手段60は可視
光に対して部分的に透明なままである。In this embodiment, the absorption means 60 consists of a three-layer stack of dielectric and metal thin films. The absorption means 60 includes a dielectric wavelength selective mirror 68, an absorption layer 70, and a spacer layer 72 disposed therebetween, these three layers collectively exhibiting a high absorption for the incident laser light when properly tuned. The absorption means 60, which may constitute an interference cavity, remains partially transparent to visible light.
3層の吸収手段60において吸収層70は入射する赤外
放射を受入れるようにスペーサ72と協働する。In the three-layer absorption means 60, the absorption layer 70 cooperates with the spacer 72 to receive the incident infrared radiation.
吸収層70と液晶材料58との境界面で一部の光が反射
され、残りの光が吸収層70を通過してスペーサ層72
内に入る。それからこの光はミラー68で反射され、そ
り後に吸収層・液晶の境界面に戻り、この境界面で反射
された光と干渉する。スペーサ層72の光学的な厚さを
同調させる二七によって正味の反射光の量が最少になさ
れる。このようにしての入射する書込みビーム放射の9
0%以上が吸収される。Part of the light is reflected at the interface between the absorbing layer 70 and the liquid crystal material 58, and the remaining light passes through the absorbing layer 70 and passes through the spacer layer 72.
Go inside. This light is then reflected by the mirror 68, returns to the absorption layer/liquid crystal interface after warping, and interferes with the light reflected at this interface. By tuning the optical thickness of spacer layer 72, the amount of net reflected light is minimized. 9 of the incident writing beam radiation in this way.
More than 0% is absorbed.
ミラー68は誘電体層の積層体からなる多層構造として
形成されるのが好ましい。このようなミラーは書込みビ
ーム放射に対して95〜99%程度の高い反射率を与え
るが、可視光に対しては実質的に透明である。ミラーの
層は2種類の異なる材料で形成され、交互に積層される
。好ましい実施例において、積層体の奇数番号の層は高
い廂折率を有する材料で形成される。一実施例において
これらの層に適した材料は二酸化チタンである。偶数番
号の層は各々比較的低い屈折率を有する材料で形成され
る。このような材料の好ましい例として二酸化ケイ素が
ある。積層体の各々の層は書込みビームの光の4分の1
波長に等しい光学的厚さを有するように形成される。こ
のようにしてミラーは入射する放射に対して特定の同調
状態にされる。Mirror 68 is preferably formed as a multilayer structure consisting of a stack of dielectric layers. Such mirrors provide a high reflectivity for the writing beam radiation, on the order of 95-99%, but are substantially transparent to visible light. The layers of the mirror are made of two different materials and stacked one on top of the other. In a preferred embodiment, the odd numbered layers of the stack are formed of a material with a high index of refraction. In one embodiment, a suitable material for these layers is titanium dioxide. Each even numbered layer is formed of a material having a relatively low refractive index. A preferred example of such a material is silicon dioxide. Each layer of the stack absorbs one quarter of the light of the writing beam.
It is formed to have an optical thickness equal to the wavelength. In this way the mirror is brought into a specific state of tuning with respect to the incident radiation.
吸収手段60の構造に関するさらに詳細な説明はここで
参照文献にあげる米国特許第4,787.313号に見
られる。A more detailed description of the structure of absorbent means 60 can be found in US Pat. No. 4,787,313, which is incorporated herein by reference.
吸収手段60の高い効率のために、入射する書込みビー
ム放射はセル上に向けられて最初に液晶層58を通過し
それから吸収手段60に入る。液晶層58内の染料は入
射する書込みビームの全部を吸収しないが、吸収手段6
0は染料によって通過した光の全部を収集するのに非常
に効果的となろう、他の実施例(図示せず)として、イ
ンジウム・錫の酸化物のような材料の単純な吸収層を支
持層54と液晶層58との間に配置することができよう
、この層は入射する書込みビーム放射の一部を液晶層5
8内に入る前に吸収するであろう、このような構造は両
側で液晶層の境界に係止された書込まれた点を与えるで
あろう、この実施例で反射層と基板層54との間の境界
面に反射防止コーティングを施すことが必要となろう。Due to the high efficiency of the absorption means 60, the incident writing beam radiation directed onto the cell first passes through the liquid crystal layer 58 and then enters the absorption means 60. The dye in the liquid crystal layer 58 does not absorb all of the incident writing beam, but the absorbing means 6
Another example (not shown) would be to support a simple absorbing layer of a material such as indium-tin oxide, which would be very effective at collecting all of the light passed by the dye. This layer could be disposed between layer 54 and liquid crystal layer 58, which layer directs a portion of the incident writing beam radiation to liquid crystal layer 5.
8, such a structure would give the written points anchored to the boundaries of the liquid crystal layer on both sides, in this embodiment the reflective layer and the substrate layer 54. It may be necessary to apply an anti-reflective coating to the interface between the two.
本発明のセルは像を投影するための、好ましくは像を感
光媒体上に投影するための光学系の一部として用いられ
る。このような光学系の一例が第5図を参照して理解さ
れる。前述の実施例のいずれかによって形成されたセル
76が投影系の中心部をなしている。書込みレーザビー
ムはレーザ発光源によって生ずるが、これは例えば83
0n11の赤外領域の波長を有するレーザビームを発生
させる従来のレーザダイオードでもよい。ビームはこれ
をセル76上に形成すべき像に従ってビームを変調する
適当な変調器80を通過する。The cell of the invention is used as part of an optical system for projecting an image, preferably onto a photosensitive medium. An example of such an optical system can be understood with reference to FIG. A cell 76 formed according to any of the previously described embodiments forms the center of the projection system. The writing laser beam is generated by a laser emitting source, for example 83
It may also be a conventional laser diode that generates a laser beam with a wavelength in the infrared range of 0n11. The beam passes through a suitable modulator 80 which modulates the beam according to the image to be formed on cell 76.
ガルボミラー82はセル76の全面に書込みがなされる
ようにレーザビームを走査する。ミラー82からビーム
が書込みビーム放射を反射するダイクロイック・ミラー
84に向けられ、それからビームは液晶セル76に向け
られる。Galvo mirror 82 scans the laser beam so that the entire surface of cell 76 is written. From mirror 82, the beam is directed to dichroic mirror 84, which reflects the writing beam radiation, and then the beam is directed to liquid crystal cell 76.
セルフ6上に像を完全に書込んだ後に像が投影光R86
からの光を用いて投影されよう、光源86はまた例えば
タングステン・ランプのような適当な投影光源のいずれ
でもよい。コンデンサーレンズ88が投影ビームを平行
光束化し、これがダイクロイック・ミラー84を透過し
液晶内セルフ6内に入る。After the image is completely written on the self 6, the image is projected by the projection light R86.
The light source 86 may also be any suitable projection light source, such as a tungsten lamp. A condenser lens 88 collimates the projection beam, which passes through the dichroic mirror 84 and enters the liquid crystal self 6 .
セル76を通過する際に投影ビームは最初にセル76に
書込まれた像に対応する像情報を取込む、投影光学系9
0は開口91を通じて散乱光を排除するように投影ビー
ムを結像させ、ビームを適当なスクリーン94によって
支持された感光媒体92上に向ける。媒体92は用いら
れる投影光に対する適当ないずれの感光媒体でもよい、
感光媒体の好ましい例として米国特許第4,399,2
09号に開示されたマイクロカプセル化した媒体がある
。As it passes through cell 76, the projection beam picks up image information corresponding to the image originally written in cell 76, projection optics 9.
0 images the projection beam to exclude scattered light through an aperture 91 and directs the beam onto a photosensitive medium 92 supported by a suitable screen 94. Media 92 may be any photosensitive medium suitable for the projection light used.
A preferred example of a photosensitive medium is U.S. Pat. No. 4,399,2.
There is a microencapsulated medium disclosed in No. 09.
本発明によってセル76を形成することにより、セルは
無機質の赤外吸収体及び赤外吸収染料の両方を含む、多
くの場合無機質の吸収体及び染料の両方はレーザ光源7
8によって生ずる赤外放射に感度を有するように選択さ
れよう。液晶材料内に通常用いられる多くの染料は63
3naまたは780ns+のレーザ放射に対して感度を
有する。第4図の実施例に関して説明した吸収手段の1
つの利点はこの吸収手段の構造が問題となる染料に対応
する波長を含むいかなる所望の波長にも同調可能なこと
である。By forming the cell 76 in accordance with the present invention, the cell includes both an inorganic infrared absorber and an infrared absorbing dye, often both the inorganic absorber and the dye are included in the laser light source 76.
8 may be selected to be sensitive to infrared radiation produced by 8. Many dyes commonly used in liquid crystal materials are 63
Sensitive to 3na or 780ns+ laser radiation. 1 of the absorption means described in connection with the embodiment of FIG.
One advantage is that the structure of this absorption means is tunable to any desired wavelength, including the wavelength corresponding to the dye in question.
また異なる波長に対応する染料吸収体及び無機質の吸収
体を用いることも可能である。このような場合2つの吸
収体が対応する波長のレーザビームを発生させる2つの
レーザ光源を用いる必要があろう。このような光学系が
第6図に示されており、ここでレーザ光源78は第1の
波長のレーザビームを発生させ、またレーザ光源96は
第2の波長を有するレーザビームを発生させる。ビーム
は適当なビームスプリッタ98を通じて結合して、結合
したビームが単一の走査ミラー82によって液晶セル上
に走査されよう。最も単純な場合結合したビームは第6
図に100で示されるように配置された変調手段で一体
的に変調されよう。あるいは各々のレーザ光源78及び
96はそれぞれ自身の変調器102、104を有するで
あろう、これはまた液晶層の表面におけるセル内と液晶
層内部との点の書込みを別個に制御することを可能にし
、それによって書込まれている像の特性に対してより大
きな制御を行うことになる。染料型のセルは無機質型の
セルより感度が高いので、無機質の吸収層による吸収の
ためのダイオード・レーザと併せて対応する染料に対し
て標準的なヘリウム・ネオンまたはアルゴン・イオンの
レーザを用いるのがよいであろう、このようなアプロー
チの利点はガス・レーザによって生ずるより短い波長に
感度を有する染料をより安定させるとともにガス・レー
ザの出力により密接した結像を容易に行うことを含む。It is also possible to use dye absorbers and inorganic absorbers that correspond to different wavelengths. In such a case it would be necessary to use two laser sources, with two absorbers producing laser beams of corresponding wavelengths. Such an optical system is shown in FIG. 6, where laser source 78 generates a laser beam with a first wavelength and laser source 96 generates a laser beam with a second wavelength. The beams would be combined through a suitable beam splitter 98 and the combined beam would be scanned onto the liquid crystal cell by a single scanning mirror 82. In the simplest case the combined beam is the sixth
It will be integrally modulated by modulation means arranged as shown at 100 in the figure. Alternatively, each laser light source 78 and 96 may have its own modulator 102, 104, which also allows the writing of points within the cell and within the liquid crystal layer at the surface of the liquid crystal layer to be controlled separately. , thereby providing greater control over the characteristics of the image being written. Since dye-based cells are more sensitive than inorganic-based cells, a standard helium-neon or argon-ion laser is used for the corresponding dye in conjunction with a diode laser for absorption by the inorganic absorption layer. Advantages of such an approach include making dyes sensitive to shorter wavelengths produced by gas lasers more stable and facilitating closer imaging of the gas laser's output.
前述の装置の形態は本発明の好ましい実施例をなすもの
であるが、本発明は装置の詳細な形態に限定されるもの
ではなく、発明の範囲を逸脱せずに改変をなし得ること
がわかるであろう。Although the configuration of the device described above constitutes a preferred embodiment of the invention, it will be appreciated that the invention is not limited to the detailed configuration of the device and that modifications may be made without departing from the scope of the invention. Will.
第1図は無機質型に典型的なセルの動作の理論を示す液
晶セルの一部の断面図である。
第2図は染料型に典型的なセルの動作の理論を示す液晶
セルの一部の断面図である。
第3図はセルの動作の理論を示す本発明によって形成さ
れた液晶セルの一部の断面図である。
第4図は本発明の他の実施例を示す第3図と同様なセル
の断面図である。
第5図は本発明の液晶セルを用いた像投影用の光学系の
概略図である。
第6図は2つのレーザ光源が用いられた光学系を示す第
5図と同様の図である。
図中
10.12,24,26,36,38,54.56・・
・基板層14.28,40.58・・・液晶層
16.42.60・・・吸収層。
20.32,34.46.48,64.66・・・点(
ドツト)76・・・液晶セル
フ8、96・・・レーザ光源
(外4名)FIG. 1 is a cross-sectional view of a portion of a liquid crystal cell illustrating the theory of operation of a typical inorganic type cell. FIG. 2 is a cross-sectional view of a portion of a liquid crystal cell illustrating the theory of operation of a cell typical of the dye type. FIG. 3 is a cross-sectional view of a portion of a liquid crystal cell formed in accordance with the present invention illustrating the theory of operation of the cell. FIG. 4 is a cross-sectional view of a cell similar to FIG. 3 showing another embodiment of the present invention. FIG. 5 is a schematic diagram of an optical system for image projection using the liquid crystal cell of the present invention. FIG. 6 is a diagram similar to FIG. 5 showing an optical system using two laser light sources. In the figure 10.12, 24, 26, 36, 38, 54.56...
- Substrate layers 14.28, 40.58...Liquid crystal layer 16.42.60...Absorption layer. 20.32, 34.46.48, 64.66... points (
dot) 76...LCD selfie 8, 96...laser light source (4 people in addition)
Claims (1)
面を形成するための第1及び第2の透明な基板層と、 内部に染料を混入され、該染料が少なくとも第1の波長
におけるある程度の吸光度と少なくとも第2の波長にお
けるある程度の透過度とを示す、上記基板層の間に配置
されたスメクチック液晶材料からなる液晶層と、 少なくとも第3の波長におけるある程度の吸光度と少な
くとも第4の波長におけるある程度の透過度とを示すよ
うに形成された、上記第1の基板層と上記液晶層との間
に配置された第1の吸収手段と、 からなることを特徴とするレーザ・アドレス型液晶セル
。 2、請求項1に記載の液晶セルにして、上記染料がある
程度の吸光度を示す上記第1の波長が赤外領域内にある
ことを特徴とするレーザ・アドレス型液晶セル。 3、請求項2に記載の液晶セルにして、上記染料が複数
の第2の波長においてある程度の透過度を示し、該第2
の波長が可視領域にあることを特徴とするレーザ・アド
レス型液晶セル。 4、請求項1に記載の液晶セルにして、上記吸収手段が
ある程度の吸光度を示す波長が赤外領域内にあることを
特徴とするレーザ・アドレス型液晶セル。 5、請求項4に記載の液晶セルにして、上記吸収手段が
複数の第2の波長においてある程度の透過度を示し、該
第2の波長が可視領域にあることを特徴とするレーザ・
アドレス型液晶セル。 6、請求項1に記載の液晶セルにして、上記第1の波長
及び第3の波長が同一であることを特徴とするレーザ・
アドレス型液晶セル。 7、請求項1に記載の液晶セルにして、上記第1の波長
及び第3の波長が異なることを特徴とするレーザ・アド
レス型液晶セル。 8、請求項6に記載の液晶セルにして、上記染料及び吸
収手段がそれぞれ複数の同等である第2及び第4の波長
においてある程度の透過度を示し、該第2及び第4の波
長が可視領域にあることを特徴とするレーザ・アドレス
型液晶セル。 9、請求項1に記載の液晶セルにして、上記吸収手段が
金属材料の層で形成されていることを特徴とするレーザ
・アドレス型液晶セル。 10、請求項9に記載の液晶セルにして、上記金属材料
がインジウム・錫の酸化物(110)であることを特徴
とするレーザ・アドレス型液晶セル。 11、請求項1に記載の液晶セルにして、上記染料が二
色性染料であることを特徴とするレーザ・アドレス型液
晶セル。 12、請求項1に記載の液晶セルにして、上記吸収手段
が上記液晶層に近接して配置された放射吸収材料の層と
、上記第3の波長の光に対して選択的に反射性を有し上
記第4の波長の光に対して透明である層と、上記材料の
層と上記選択的に反射性を有する層との間に配置された
誘電体材料のスペーサ層と、を含むことを特徴とするレ
ーザ・アドレス型液晶セル。 13、上記第2の基板層と上記液晶層との間に配置され
た第2の吸収手段をさらに含み、該第2の吸収手段が少
なくとも上記第3の波長におけるある程度の吸光度と少
なくとも上記第4の波長におけるある程度の透過度とを
示すように形成されていることを特徴とするレーザ・ア
ドレス型液晶セル。 14、液晶セルの外面をなす第1及び第2の透明な基板
層と、 染料を混入され、該染料が少なくとも第1の波長におけ
るある程度の吸光度と少なくとも第2の波長におけるあ
る程度の透過度とを示す、上記基板層の間に配置された
スメクチック液晶材料からなる液晶層と、 少なくとも第3の波長におけるある程度の吸光度と少な
くとも上記第2の波長におけるある程度の透過度とを示
すように形成された、上記第1の基板と上記液晶層との
間に配置された第1の吸収手段と、 を含む液晶セルと、 上記第1の波長及び第3の波長の少なくとも一方のレー
ザビームを発生させ該当ビームを、上記液晶セルの第1
及び第2の基板層上に向けるためのレーザ手段と、 上記レーザビームを上記セル上に走査するための走査手
段と、 投影すべき像に従って上記レーザビームを変調するため
の変調手段と、 少なくとも上記第2の波長の投影ビームを発生させ該投
影ビームを上記第1及び第2の基板層の一方に向けるた
めの投影ビーム手段と、 からなることを特徴とする像の投影装置。 15、請求項14に記載の投影装置にして、上記第1の
波長と上記第3の波長とが同一であることを特徴とする
投影装置。 16、請求項14に記載の投影装置にして、上記第1の
波長と上記第3の波長とが異なり、上記レーザビーム手
段が上記第1の波長の第1のレーザビームと上記第3の
波長の第2のレーザビームとを発生させ、該第1及び第
2のビームがともに上記液晶セル上に向けられるように
したことを特徴とする投影装置。 17、請求項16に記載の投影装置にして、上記変調手
段が上記第1及び第2のレーザビームを投影すべき像に
従って独立的に変調するようにしたことを特徴とする投
影装置。[Claims] 1. A laser-addressed liquid crystal cell, comprising first and second transparent substrate layers forming the outer surface of the cell; a dye mixed therein; a liquid crystal layer of a smectic liquid crystal material disposed between said substrate layers exhibiting some absorbance at a wavelength of at least a certain degree of transmission at least at a second wavelength; a first absorption means arranged between the first substrate layer and the liquid crystal layer, the first absorption means being formed so as to exhibit a certain degree of transmittance at a fourth wavelength;・Address type liquid crystal cell. 2. The laser addressed liquid crystal cell according to claim 1, wherein the first wavelength at which the dye exhibits a certain degree of absorbance is in the infrared region. 3. The liquid crystal cell according to claim 2, wherein the dye exhibits a certain degree of transmittance at a plurality of second wavelengths;
A laser-addressed liquid crystal cell characterized by having wavelengths in the visible range. 4. A laser-addressed liquid crystal cell according to claim 1, wherein the wavelength at which the absorption means exhibits a certain degree of absorbance is within the infrared region. 5. The liquid crystal cell according to claim 4, wherein the absorption means exhibits a certain degree of transmittance at a plurality of second wavelengths, and the second wavelengths are in the visible region.
Address type liquid crystal cell. 6. The liquid crystal cell according to claim 1, wherein the first wavelength and the third wavelength are the same.
Address type liquid crystal cell. 7. A laser addressed liquid crystal cell according to claim 1, wherein the first wavelength and the third wavelength are different. 8. A liquid crystal cell according to claim 6, wherein the dye and the absorbing means each exhibit a degree of transparency at a plurality of equivalent second and fourth wavelengths, the second and fourth wavelengths being visible. A laser-addressed liquid crystal cell characterized by being located in the area. 9. A laser-addressed liquid crystal cell according to claim 1, wherein the absorption means is formed of a layer of metal material. 10. A laser-addressed liquid crystal cell according to claim 9, wherein the metal material is indium-tin oxide (110). 11. The laser-addressed liquid crystal cell according to claim 1, wherein the dye is a dichroic dye. 12. The liquid crystal cell according to claim 1, wherein the absorption means comprises a layer of radiation absorbing material disposed in close proximity to the liquid crystal layer and selectively reflective to light of the third wavelength. and a spacer layer of dielectric material disposed between the layer of material and the selectively reflective layer. A laser-addressed liquid crystal cell featuring: 13. further comprising a second absorption means disposed between the second substrate layer and the liquid crystal layer, the second absorption means having at least a certain degree of absorbance at the third wavelength and at least a certain degree of absorbance at the fourth wavelength; 1. A laser-addressed liquid crystal cell, characterized in that the cell is formed so as to exhibit a certain degree of transmittance at a wavelength of . 14. first and second transparent substrate layers forming the outer surfaces of the liquid crystal cell; and a dye is incorporated therein, the dye having a certain degree of absorbance at least at a first wavelength and a degree of transmittance at least at a second wavelength. a liquid crystal layer made of a smectic liquid crystal material disposed between said substrate layers and formed to exhibit some degree of absorbance at least at the third wavelength and some degree of transmission at least at said second wavelength a first absorption means disposed between the first substrate and the liquid crystal layer; a liquid crystal cell that generates a laser beam having at least one of the first wavelength and the third wavelength; , the first of the above liquid crystal cells
and laser means for directing the laser beam onto the second substrate layer; scanning means for scanning the laser beam onto the cell; modulation means for modulating the laser beam in accordance with the image to be projected; and projection beam means for generating a projection beam of a second wavelength and directing the projection beam onto one of the first and second substrate layers. 15. The projection device according to claim 14, wherein the first wavelength and the third wavelength are the same. 16. The projection apparatus according to claim 14, wherein the first wavelength and the third wavelength are different, and the laser beam means has a first laser beam having the first wavelength and the third wavelength. a second laser beam, and both the first and second beams are directed onto the liquid crystal cell. 17. The projection apparatus according to claim 16, wherein the modulating means independently modulates the first and second laser beams according to the image to be projected.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH02221918A true JPH02221918A (en) | 1990-09-04 |
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Family Applications (1)
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JP33251989A Pending JPH02221918A (en) | 1988-12-21 | 1989-12-21 | Transparent laser address type liquid crystal light modulation cell |
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- 1989-12-21 JP JP33251989A patent/JPH02221918A/en active Pending
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