JPH02209923A - 新規ポリアミド - Google Patents

新規ポリアミド

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JPH02209923A
JPH02209923A JP3033589A JP3033589A JPH02209923A JP H02209923 A JPH02209923 A JP H02209923A JP 3033589 A JP3033589 A JP 3033589A JP 3033589 A JP3033589 A JP 3033589A JP H02209923 A JPH02209923 A JP H02209923A
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JP
Japan
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polyimide
polyamide
film
formula
polyamic acid
Prior art date
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Pending
Application number
JP3033589A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Furuya
浩行 古谷
Yoshifumi Okada
好史 岡田
Hitoshi Nojiri
仁志 野尻
Kosaku Nagano
広作 永野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP3033589A priority Critical patent/JPH02209923A/ja
Publication of JPH02209923A publication Critical patent/JPH02209923A/ja
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、耐熱樹脂として知られるポリイミドに関する
。詳しくは、吸湿膨張率が低く、耐湿性の改良されたポ
リイミドに関する。
[従来の技術] 一般に、ポリイミドは優れた耐熱性を有する重合体とし
て良く知られている。この重合体は、さらに優れた耐薬
品性、電気的特性1機械的特性を有している。
一般に、ポリイミド樹脂は、芳香族テトラカルボン酸二
無水物と芳香族ジアミンとを反応させて得られるポリイ
ミドから構成されている1代表的な例として、芳香族テ
トラカルボン酸として、ピロメリット酸二無水物、ジア
ミンとして、オキシジアニリンを使用したものがある。
このポリイミド樹脂の欠点として、吸湿性を有すること
があり。
このためポリイミド樹脂が電気絶縁材料等として使用さ
れる場合、高湿度下での絶縁特性に問題が生じることが
あった。
これに対し、吸湿性を改良する目的で検g;1されたも
のに、特開昭01−143435号公報に開示されたも
のがあり、その内容は芳香族テトラカルボン酸二無水物
としてビフェニルテトラカルボン酸二無水物を用い、ジ
アミンとして次の一般式[課題を解決するための手段] 本発明者等は、上記の課題を解決するため、鋭意検討の
結果9本発明に到達したものである。
即ち2本発明は、一般式 (A) で表される芳香族ジアミンを用いて得られるポリイミド
であり、この樹脂は吸湿膨張率が小さく耐湿性に富んで
いる。然しながら、これから得られるフィルムは弾性率
が低いなど、汎用されているピロメリット酸二無水物/
オキシジアニリンのポリイミドに比較して機械的強度が
不足しており。
取扱い難いという欠点を有していた。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、優れた吸湿性と優れた機械的性質とを
併せ持つポリイミドを提供することである。
(式中+ROは4価の有機基を示す) で表される反復単位を含有するポリイミドに関する。
本発明のポリイミドは、優れた吸湿性を有することはも
ちろん、優れた耐熱性、引張り特性等の機械的性質、熱
的寸法安定性等を併せ持っている。
このポリイミドが上記のような特徴を有する理由は明ら
かではないが、シクロヘキシル基の導入が効果的に耐湿
性を発現させたものと思われる。
上記一般式(A)におけるR、は4価の有機基である。
その代表例として。
等をあげることができる。これらを単独あるいは二種以
上組合せて用いても良い、好ましい基としては、芳香環
を形成する炭素原子が結合手を形成する芳香族基金a基
をあげることができる。
本発明の効果を得るのに好ましく。
本発明のポリイミドは1例えば、上記の基にカルボキシ
ル基が結合したテトラカルボン酸から誘導されるテトラ
カルボン酸二無水物と構造式CB)で表されるジアミン
とを重縮合あるいは共縮合することにより得られる。
また、ジアミン成分としては上記の構造式(B)で表さ
れる以外の公知の各種ジアミンを共重合成分として使用
することもできる。
この共重合ジアミン成分としては。
H2OCH3 等を例示することができる6 これらを単独あるいは二
種具トを組合せて用いても良い1重合方法としては2通
常のポリイミドを得る方法が適用できる。特にテトラカ
ルボン酸二無水物とジアミンから先ずポリアミド酸を合
成し、これを脱水する方法が一般的である。
ポリアミド酸の生成反応に使用される有機極性溶媒とし
ては1例えば、ジメチルスルフオキシド。
ジエチルスルフオキシド等のスルフオキシド系溶媒、N
、N”−ジメチルフォルムアミド、N。
N′〜ジエチルフォルムアミド等のフォルムアミド系溶
媒、N、N−−ジメチルアセトアミド、N。
N′−ジエチルアセトアミド等のアセトアミド系溶媒等
をあげることができ、これらを単独又は混合物として用
いることが好ましいが、より好ましくは、N、N”−ジ
メチルフォルムアミドを溶媒とし、前述のポリアミド酸
が5〜40重量%好ましくは10〜30重瓜%溶解され
ているものが取扱の面から好ましい。
本発明のポリイミドは、成形体やワニスなど各種の態様
で使用される。特に、フィルム状ポリイミドの形状の場
合2本発明の効果が顕著である。
その厚みは、1〜250μmであり、好ましくは7〜2
50μm、より好ましくは12.5〜125μmの範囲
のものである。
このポリイミドの分子量は特に規制されるものではない
が、生成するポリイミド樹脂の強度を維持するためには
、数平均分子量が1万以上、さらには5万以上、特に1
2万以上が好ましい、ポリイミドの分子量は直接測定が
困難な場合がある。
このようなときには1間接的な方法1例えば、ポリアミ
ド酸を経由して製造する場合においては。
ポリアミド酸の分子量によって推測される。
吸湿性の一つの尺度である吸水率は、ASTMのD−5
70の方法に従い、約10c+nX10cmのフィルム
を20℃×24時間、水中に浸漬した後。
表面を拭き取り、直ちに測定した重量をA、浸漬前(乾
燥状態)に渭!定した重量をBとしたとき。
次の数式により算出した。
吸湿性の他の尺度である吸湿膨脂率は、以下の方法で測
定した。即ち、20X250mmのフィルムに約225
 ltaの間を取って直径約1關の2つの穴を開けたも
のをサンプルとした。そして、■ナガノ科学機械製作所
製恒温恒湿機LH−20−Tを用いて、23℃、30%
RHの雰囲気下に2時間静置した後、サンプル片の2点
間の穴の長さを■三豊製作所製三次元測定機AE112
を用いて精密に測定する(その値をAとする)1次に。
23℃、90%RHの雰囲気下に2時間静置し。
同様に2点間の長さを測定する(その値をBとする)、
吸湿膨脂率は、測定値を用いて1次のように計算によっ
て求める。
以上の測定は、それぞれ、n−10で繰返し。
その平均値によって比較した。
[実施例] 以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが1本
発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない
、また、実施例中で、PMDAはピロメリット酸二無水
物を、ODAは4,4°−オキシジアニリンを、BAP
Hは1.1−ビス(アミノフェニル)シクロヘキサンを
、DMFはジメチルフォルムアミドを、DMAcはジメ
チルアセトアミドを、それぞれ表す。
実施例I BAPH50,85gをDMF397.5gに溶解し、
氷冷した。別の容器に秤量したP M D A41.6
8gを粘度の上昇を確認しながら添加し。
壁に付着したPMDAは10.0gのDMFで流し入れ
、固体付濃度18.5重量%のポリアミド酸溶液を得た
。そのときのバルク粘度は3450ポイズであった。ポ
リアミド酸溶液をガラス板上に流延塗布し、約100℃
で約60分間乾燥の後。
ポリアミド酸塗膜をガラス板から剥がし、その塗膜を支
持枠に固定し、その後、約100℃で約30分間、約2
00℃で約60分間、約300℃で約60分間加熱し、
熱的に脱水乾燥後的450℃で延伸し、約25ミクロン
のポリイミド膜を得た6 このフィルムは表1の性質を
示した6実施例2 実施例1で得たポリアミド酸溶液100gに対して化学
的に閉環する目的でインキノリン、無水酢酸をそれぞれ
2.2g、17g添加した後、実施例1と同様の方法で
約25ミクロンのポリイミド膜を得た。このフィルムは
表1の性質を示した。
実施例3 0MAc407.5gを用いる以外は、実施例1と同様
の方法で約25ミクロンのポリイミド膜を得た。このフ
ィルムは表1の性質を示した。
実施例4 実施例3で得たポリアミド酸組成物を用い、実施例2に
示した方法で約25ミクロンのポリイミド膜を得た。こ
のフィルムは表1の性質を示した。
比較例I BAPH50,85gに代えて 0DA40.0g、PMDAを41.86gに代えて4
3.6g、DMFoを397.5gに代えて358g用
いる他は実施例1と同様の方法でポリアミド酸溶液を得
た。バルク粘度は2700ポイズであった。このポリア
ミド酸溶液から実施例1と同様の方法でポリイミド膜を
得た。このフィルムの性質を表1に示す。
比較例2 比較外2で得られたポリアミド酸溶液100gを用いる
以外は、実施例2と同様の方法でポリイミド膜を得た。
このフィルムの性質は表1の性質を示す。
表 手続補正書 鶏例I DMF  熱法 1.4 0.06 45実施
例2  DMAc   化学法  1.2  0.05
   51鶏例B DMF  熱法 1.0 0.05
 40実施例4  DMAc   化学法  0.9 
 0.03   46比較例I  DMF    熱 
法  2.6  0.12   52比較例2  DM
F    化学法  2.3  0.09   63[
発明の効果] 本発明のポリイミドは耐湿性に優れている1本発明のポ
リイミドから得られるフィルムは、湿度や気温の変化に
よるフィルムの寸法変化が極めて少ないことから、一般
磁気記録用や垂直磁気記録用の磁気テープ、磁気ディス
クなどの磁気記録材料用ベースフィルム、IC,LSI
、太陽電池等半導体素子のパッシベーション膜等の用途
において、従来のポリイミドフィルムに比べて、極めて
q用件が高い。
1、事件の表示 特願平1−30335号 2、発明の名称 新規ポリイミド 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 鐘淵化学工業株式会社 4、代理人 東京都千代田区霞が関3丁1目7番2号発明の名称を 「新規ポリイミ ド」 と訂正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ▲数式、化学式、表等があります▼(A) (式中、R_0は4価の有機基を示す) で表される反復単位を含有するポリイミド。 2 一般式(A)で表される反復単位を重合体1分子中
    に平均して50重量%以上含有する請求項1に記載のポ
    リイミド。 3 数平均分子量が5万以上である請求項1に記載のポ
    リイミド。 4 厚さが5〜150ミクロンのフィルムである請求項
    1に記載のポリイミド。
JP3033589A 1989-02-09 1989-02-09 新規ポリアミド Pending JPH02209923A (ja)

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