JPH02209886A - エリスロオキセタノシルヌクレオシド誘導体の製造法 - Google Patents
エリスロオキセタノシルヌクレオシド誘導体の製造法Info
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- JPH02209886A JPH02209886A JP1028611A JP2861189A JPH02209886A JP H02209886 A JPH02209886 A JP H02209886A JP 1028611 A JP1028611 A JP 1028611A JP 2861189 A JP2861189 A JP 2861189A JP H02209886 A JPH02209886 A JP H02209886A
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Saccharide Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は医薬として期待されるプリン塩基およびピリミ
ジン塩基を有するエリスロオキセタノシルヌクレオシド
誘導体の製造法に関する。
ジン塩基を有するエリスロオキセタノシルヌクレオシド
誘導体の製造法に関する。
近年オキセタン環を糖部として有する異常ヌクレオシド
、オキセタノシン(下記式)が天然物として初めて単離
された( N、 Shimada、 et al、。
、オキセタノシン(下記式)が天然物として初めて単離
された( N、 Shimada、 et al、。
J’ Antibio tics、 1J−1623+
(1986)。
(1986)。
示す)で表わされる保護エリスロオキセタノース化合物
に官能基を保護したプリン塩基またはピリミジン塩基を
反応させ、次いで必要に応じて保護基を除去することに
より一般式(It)本物aは抗菌作用、抗1′フィルス
作用、抗腫瘍作用を有しており医薬品として期待されて
いる。
に官能基を保護したプリン塩基またはピリミジン塩基を
反応させ、次いで必要に応じて保護基を除去することに
より一般式(It)本物aは抗菌作用、抗1′フィルス
作用、抗腫瘍作用を有しており医薬品として期待されて
いる。
しかし2′−位ノル体、すなわちエリスロオキセタノシ
ル体は本物質からの誘導は困難であり、またその製造法
は全く知られていなし・。
ル体は本物質からの誘導は困難であり、またその製造法
は全く知られていなし・。
各種エリスロオキセ、タノシルヌクレオシド誘導体の製
造法の開発が望まれている。
造法の開発が望まれている。
本発明者らは種々検討した結果、一般式(1)(式中、
R+およびRzは同一またを、を異なってもよいアシル
基、R3は水素又は低級アルキル基を(式中、Bはプリ
ン塩基およびピリミジン塩基を示す) テ表b サれるエリスロオキセタノシルヌクレオシドが
得られることを見い出した。
R+およびRzは同一またを、を異なってもよいアシル
基、R3は水素又は低級アルキル基を(式中、Bはプリ
ン塩基およびピリミジン塩基を示す) テ表b サれるエリスロオキセタノシルヌクレオシドが
得られることを見い出した。
本発明は上記知見に基づいて完成されたものである。
本発明において、アシル基としてはアセチル、グロビオ
ニル、ブチロイル等のC1〜C4の低級アルキルアシル
基、シュウ酸エステル型ノアルコキシ力ルポニルアシル
基、マロン酸エステル型のアルコキシカルボニルメチル
アシル基およびベンゾイル、置換ベンゾイル等の芳香族
アシル基などがあげられる。
ニル、ブチロイル等のC1〜C4の低級アルキルアシル
基、シュウ酸エステル型ノアルコキシ力ルポニルアシル
基、マロン酸エステル型のアルコキシカルボニルメチル
アシル基およびベンゾイル、置換ベンゾイル等の芳香族
アシル基などがあげられる。
また低級アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロ
ピル基およびブチル基などがあげられる。
ピル基およびブチル基などがあげられる。
本発明化合物は以下のようにして製造することかできる
。
。
はピリミジン塩基とを通常不活性な有機溶媒好ましくは
無水溶媒中で通常O′C〜約100°C1好ましくは約
0°C〜30 ′Cの温度で、ルイス酸などの縮合剤の
存在下で反応を行ない、得られた化合物を必要に応じて
酸ある(・は塩基で脱保護することにより一般式(Il
lで示される化合物が製造される。
無水溶媒中で通常O′C〜約100°C1好ましくは約
0°C〜30 ′Cの温度で、ルイス酸などの縮合剤の
存在下で反応を行ない、得られた化合物を必要に応じて
酸ある(・は塩基で脱保護することにより一般式(Il
lで示される化合物が製造される。
無水の溶媒としては特に制限はなし・がアセ1−二トリ
ル、ハロゲノアルカン(例えばジクロルエタン)、キシ
レン、ニトロベンゼン、ジクロルベンゼンなどがあげら
れる。
ル、ハロゲノアルカン(例えばジクロルエタン)、キシ
レン、ニトロベンゼン、ジクロルベンゼンなどがあげら
れる。
縮合剤としてはルイス酸が使用され例えば四ハロゲノス
ズ(四塩化スズ、四臭化スズなど)、ハロゲノ第−又は
第二水銀(好ましくは臭化第−又は第二水銀、ヨウ化第
−又は第二水銀など)、トリ低級アルキル(C+〜C4
)シリルの酸結合体(例えばトリメチルシリルトリフル
オロメタンスルホネ−) すどのトリメチルシリルハロ
ケノメタンスルホネート、トリメチルシリル過塩素酸な
どのトリメチルシリル過ハロゲノ酸)などがあげられる
。
ズ(四塩化スズ、四臭化スズなど)、ハロゲノ第−又は
第二水銀(好ましくは臭化第−又は第二水銀、ヨウ化第
−又は第二水銀など)、トリ低級アルキル(C+〜C4
)シリルの酸結合体(例えばトリメチルシリルトリフル
オロメタンスルホネ−) すどのトリメチルシリルハロ
ケノメタンスルホネート、トリメチルシリル過塩素酸な
どのトリメチルシリル過ハロゲノ酸)などがあげられる
。
また官能基を保護したプリン塩基およびピリミジン塩基
としては例えばアミン基やオキシ基が保護された化合物
があげられ好ましくは下記一般式 (式中、R4および1(7は保護基、Rs 、 Raお
よびnsは−ORho (11(+oは保護基)または
−NH−R,。
としては例えばアミン基やオキシ基が保護された化合物
があげられ好ましくは下記一般式 (式中、R4および1(7は保護基、Rs 、 Raお
よびnsは−ORho (11(+oは保護基)または
−NH−R,。
(Rhは保護基)、R9は水素、ハロゲンまたは低級ア
ルキル基を示す) で表わされる官能基保護プリン塩基およびピリミジン塩
基があげられる。R4y RyおよびRhoの保護基と
してはアシル基、シリル保護基(低級アリルシリル、例
えばトリメチ2シリル、低級アルキルアリールシリル、
例えばイソプロピルジフェニルシリル、t−7”チルジ
フェニルシリル、t−ブチルジメチルシリル)などがあ
げられる。
ルキル基を示す) で表わされる官能基保護プリン塩基およびピリミジン塩
基があげられる。R4y RyおよびRhoの保護基と
してはアシル基、シリル保護基(低級アリルシリル、例
えばトリメチ2シリル、低級アルキルアリールシリル、
例えばイソプロピルジフェニルシリル、t−7”チルジ
フェニルシリル、t−ブチルジメチルシリル)などがあ
げられる。
Roの保護基としてはアミン基の保護に使用されるもの
は特に制限はなく、アシル基(例えばアセチル、グロビ
オニル、ハロゲノアセチル等の置換または非置換の低級
アルキルカルボニル、ベンゾイルなどの芳香族カルボニ
ルなどがあげられる。
は特に制限はなく、アシル基(例えばアセチル、グロビ
オニル、ハロゲノアセチル等の置換または非置換の低級
アルキルカルボニル、ベンゾイルなどの芳香族カルボニ
ルなどがあげられる。
本発明の一般式(Illで表わされる化合物はオキセタ
ノシンと同様抗ウィルス剤や制癌剤として期待できるも
の乎ある。
ノシンと同様抗ウィルス剤や制癌剤として期待できるも
の乎ある。
次に実施例を挙げて本発明の製造例を具体的に説明する
実施例1゜
N、N−ジベンゾイル−9−< 2’、 4’−ジー、
〇−ベンゾイルーβ−り一エリスロオキセタノシルアデ
ニン(化合物(2))の合成 化合物(11(6,83mg、0.018 mmole
)をジクロロエタン(1ml)に溶解し、モリキュジ
ーシープ4A(粉末60ff1g)を加えて室温にて1
.5時間撹拌した後、N−ベンゾイル−ビス−(トリメ
チルシリル)アデニ7(23mg、 0.04mmol
e)および塩化スズ(IVI (0,15+++A!、
8.17 X I Q−’mmole)を加え氷水浴中
にて45分間撹拌した。飽和重曹水を加え10分間撹拌
した後、反応液を濾過し、F液を減圧濃縮し、得られる
残渣を分取薄層クロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エ
チル−1:4)を用いて精製した。こうして得られた結
晶物質をメタノールC0,75m1)に溶解し0.2規
定ナトリ九ムメトモサイド(sodiummethox
ide ) (0,25ml )を加え、室温にて1時
間撹拌した後、減圧濃縮し、得られる残渣をりooメタ
ン(1mA’)に溶解し、氷水浴中にてピリミジ7(0
,1ml、1.236 mmole)及びヘンソイルク
ロライド(0,1ml、 0.862 mmole )
を加え、8℃にて15時間放置した。反応液を酢酸エチ
ルで希釈しl規定塩酸で洗浄した後、有機層を水で洗浄
し、飽和重曹水で洗浄した。有機層を再び水で洗浄し、
飽和食塩水で洗浄した後、芒硝乾燥し、減圧濃縮して得
られる残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル3
0■;ヘキサン:酢酸エチル=3 : ] )を用いて
精製し、N、N−ジベンジル−4−<2’、4’−ジー
0−ベンゾイル−β−D−エリスロオキセタノイルアデ
ニン(化合物(2) ) (2,57ff1g)(3工
程全収率22.8%)を得た。
〇−ベンゾイルーβ−り一エリスロオキセタノシルアデ
ニン(化合物(2))の合成 化合物(11(6,83mg、0.018 mmole
)をジクロロエタン(1ml)に溶解し、モリキュジ
ーシープ4A(粉末60ff1g)を加えて室温にて1
.5時間撹拌した後、N−ベンゾイル−ビス−(トリメ
チルシリル)アデニ7(23mg、 0.04mmol
e)および塩化スズ(IVI (0,15+++A!、
8.17 X I Q−’mmole)を加え氷水浴中
にて45分間撹拌した。飽和重曹水を加え10分間撹拌
した後、反応液を濾過し、F液を減圧濃縮し、得られる
残渣を分取薄層クロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エ
チル−1:4)を用いて精製した。こうして得られた結
晶物質をメタノールC0,75m1)に溶解し0.2規
定ナトリ九ムメトモサイド(sodiummethox
ide ) (0,25ml )を加え、室温にて1時
間撹拌した後、減圧濃縮し、得られる残渣をりooメタ
ン(1mA’)に溶解し、氷水浴中にてピリミジ7(0
,1ml、1.236 mmole)及びヘンソイルク
ロライド(0,1ml、 0.862 mmole )
を加え、8℃にて15時間放置した。反応液を酢酸エチ
ルで希釈しl規定塩酸で洗浄した後、有機層を水で洗浄
し、飽和重曹水で洗浄した。有機層を再び水で洗浄し、
飽和食塩水で洗浄した後、芒硝乾燥し、減圧濃縮して得
られる残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル3
0■;ヘキサン:酢酸エチル=3 : ] )を用いて
精製し、N、N−ジベンジル−4−<2’、4’−ジー
0−ベンゾイル−β−D−エリスロオキセタノイルアデ
ニン(化合物(2) ) (2,57ff1g)(3工
程全収率22.8%)を得た。
化合物(2)の白色結晶物質
’H−NMR(400M H2,CDCl2. TMS
) :δ4556(IH,dd、J=2.44,11
.23Hz )、4.683(l H,dd、 J=4
゜88.4.23H2)、5.775(IH,m)、6
.264 (IH,br、s )、6.473(IH,
d、 J=1.47Hz )、 7.335−7.
410(6H,Complex )、 7.451−
7.545 (6H。
) :δ4556(IH,dd、J=2.44,11
.23Hz )、4.683(l H,dd、 J=4
゜88.4.23H2)、5.775(IH,m)、6
.264 (IH,br、s )、6.473(IH,
d、 J=1.47Hz )、 7.335−7.
410(6H,Complex )、 7.451−
7.545 (6H。
Complex )、 7.815−7.885 (
4H,Complex)。
4H,Complex)。
8.079−8.135(4H,Complex )、
8.405(IH,s)、 8.617(IH
,s)。
8.405(IH,s)、 8.617(IH
,s)。
実施例2゜
■−<2’、4′−ジーO−ベンゾイルーα−D−エリ
スロオキセタノシル)ウラシル(化合物(41)の合成 化合物(3) (9,53■、0.258 mmole
)をジクo。
スロオキセタノシル)ウラシル(化合物(41)の合成 化合物(3) (9,53■、0.258 mmole
)をジクo。
エタン(1+++Aりに溶解し、モリキュラーシーフγ
4A(粉末、50■)を加え文ルゴン雰囲気下室温にて
80分間撹拌した後、ビス−〇−(トリメチルシリル)
ウラシル(過剰量)及び塩化スズGV)(過剰量)を加
え、40分間撹拌した。
80分間撹拌した後、ビス−〇−(トリメチルシリル)
ウラシル(過剰量)及び塩化スズGV)(過剰量)を加
え、40分間撹拌した。
飽和重曹水を加え、10分間撹拌した後、反応液を濾過
し、炉液を減圧濃縮して得られる残渣な、分取薄層クロ
マトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:3)を用
いて精製し、1−(2:4−ジー0−ベンゾイル〜α−
D−エリスロオキセタノシル)ウラシル(化合物(4i
)(1,85■、収率17.0%)を得た。
し、炉液を減圧濃縮して得られる残渣な、分取薄層クロ
マトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:3)を用
いて精製し、1−(2:4−ジー0−ベンゾイル〜α−
D−エリスロオキセタノシル)ウラシル(化合物(4i
)(1,85■、収率17.0%)を得た。
化合物(4) 白色結晶物質
ca〕I)5−31..0 < C,0,09,CH
Czi)IR(7(ルム) : 1730r 169
0.1600 (””’)’H−NMR(400MHz
、 CDCl2. TMS ) :δ4.706−4.
74 1 (2((、Complex)、 5.
082(IH,dd、 J=2.93.3.79Hz
)、 5.859(IH,m)、 6.047 (IH
,d、 J=6.84B(z)。
Czi)IR(7(ルム) : 1730r 169
0.1600 (””’)’H−NMR(400MHz
、 CDCl2. TMS ) :δ4.706−4.
74 1 (2((、Complex)、 5.
082(IH,dd、 J=2.93.3.79Hz
)、 5.859(IH,m)、 6.047 (IH
,d、 J=6.84B(z)。
6.195 (IH,d、 、J=2.93Hz )、
7.372−7.553 (4H,Complex
)、 7.573−7.582(:H−1,Compl
ex )、 7.808−7.841 C2H。
7.372−7.553 (4H,Complex
)、 7.573−7.582(:H−1,Compl
ex )、 7.808−7.841 C2H。
(’omplex )、 7.985−8.006
(2H,Complex )。
(2H,Complex )。
8.070 (IH,m)。
Claims (2)
- (1)一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、R_1およびR_2は同一または異なってもよ
いアシル基、R_3は水素又は低級アルキル基を示す)
で示される保護エリスロオキセタノース誘導体に官能基
を保護したプリン塩基又はピリミジン塩基を反応させ、
次いで必要に応じ保護基を除去することを特徴とする下
記一般式(II)で表わされるエリスロオキセタノシルヌ
クレオシド誘導体の製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Bはプリン型塩基およびピリミジン型塩基を示
す) - (2)一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Bはピリミジン型塩基を示す) で表わされるエリスロオキセタノシルヌクレオシド誘導
体およびその塩
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1028611A JPH02209886A (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | エリスロオキセタノシルヌクレオシド誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1028611A JPH02209886A (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | エリスロオキセタノシルヌクレオシド誘導体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02209886A true JPH02209886A (ja) | 1990-08-21 |
Family
ID=12253365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1028611A Pending JPH02209886A (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | エリスロオキセタノシルヌクレオシド誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02209886A (ja) |
-
1989
- 1989-02-09 JP JP1028611A patent/JPH02209886A/ja active Pending
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