JPH02195507A - Head supporting device - Google Patents
Head supporting deviceInfo
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- JPH02195507A JPH02195507A JP1380289A JP1380289A JPH02195507A JP H02195507 A JPH02195507 A JP H02195507A JP 1380289 A JP1380289 A JP 1380289A JP 1380289 A JP1380289 A JP 1380289A JP H02195507 A JPH02195507 A JP H02195507A
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000002485 urinary effect Effects 0.000 description 1
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ヘッド支持装置に係り、特に記録媒体とヘッ
ドとの相対的な位置を移動制御する事によって、所定の
記録媒体とヘッドとの走査軌跡を得る様にした記録再生
装置のヘッド支持装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a head support device, and in particular, by controlling the movement of the relative positions of the recording medium and the head, the scanning trajectory of the recording medium and the head can be controlled. The present invention relates to a head support device for a recording/reproducing apparatus which is configured to obtain the following characteristics.
従来の技術
従来より、回転ヘッドを有するヘッドドラム外周面に記
録媒体（以下テープと記す）を螺旋状に巻は走行する事
により、テープに傾斜した記録トラックを形成するよう
になされた、いわゆるヘリカルスキャン型の磁気記録再
生装置（以下ＶＴＲと称す）においては、記録トラック
の傾斜角は、螺旋状に巻付けられたテープの傾斜角及び
テープの走行速度、ヘッドドラムの回転速度に応じて変
化する。従って記録時のテープ速度と異なる走行速度で
テープを走行させ再生を行う場合、ヘッドの走査軌跡は
記録されたトラックから外れてしまうことになる。そこ
で如何なる再生時においてもヘッド走査が記録トラック
上となる様に、前記ヘッドを上下方向に移動可能にした
ヘッド支持装置がされている。Conventional technology Traditionally, a so-called helical recording medium (hereinafter referred to as tape) was wound spirally around the outer peripheral surface of a head drum having a rotating head to form an inclined recording track on the tape. In a scan type magnetic recording/reproducing device (hereinafter referred to as a VTR), the inclination angle of a recording track changes depending on the inclination angle of a spirally wound tape, the running speed of the tape, and the rotational speed of a head drum. . Therefore, when reproducing by running the tape at a running speed different from the tape speed during recording, the scanning locus of the head will deviate from the recorded track. Therefore, a head support device is used which allows the head to move in the vertical direction so that the head scans on the recording track during any reproduction.
以下に従来の記録再生装置のヘッド支持装置について説
明する。A conventional head support device for a recording/reproducing device will be described below.
第３図は従来のヘッド支持装置の構成例を示すものであ
り、このヘッド支持装置には２枚の薄板状の圧電素子５
ａ、ｓｂをはり合わせた構造のいわゆるバイモルフ型圧
電素子６がヘッド７の支持部材として使用されている。FIG. 3 shows an example of the configuration of a conventional head support device, and this head support device includes two thin plate-like piezoelectric elements 5.
A so-called bimorph piezoelectric element 6 having a structure in which a and sb are glued together is used as a support member for the head 7.
８はヘッド７を一端に固着保持し他端をバイモルフ型圧
電素子６の一端に固着したヘッドベースである。バイモ
ルフ型圧電素子６の他端は、固定部材９ａ、９ｂにより
ドラムの一部に例えばねじ止め等の手段により取付けら
れている。又、バイモルフ型圧電素子５ａ。A head base 8 has the head 7 fixedly held at one end and the other end fixed to one end of the bimorph type piezoelectric element 6. The other end of the bimorph piezoelectric element 6 is attached to a part of the drum by fixing members 9a and 9b, for example, by screwing or the like. Also, a bimorph type piezoelectric element 5a.
５ｂには第３図ｄに示す様にそれぞれメツキ層１０ａ、
１ ｏｂ、１０ｃ、１ ｏａがｔｉとして被着されてい
る。このようなヘッド支持装置によれば、必要な電圧を
適当な方向に印加し、これによって生ずる電歪現象（圧
電効果）を利用してバイモルフ型圧電素子６を第３図す
、ｃに示すように上下方向にたわませるように構成され
ている。即ち、記録又は通常再生時には第３図６の如く
水平に維持しておき、メチル又はスローモーション再生
時のようにテープ走行速度を記録時の走行速度よりも遅
くする場合には、例えば第３図すに示すようにバイモル
フ型圧電素子６を水平位置から徐々に上方へたわませて
ヘッド７を上方へ移動させ、又倍速再生時のようにテー
プ走行速度を速くする場合には第３図Ｃに示すようにバ
イモルフ型圧電素子６を水平位置から下方にたわませて
ヘッド７を下方へ移動させる。これによってテープ走行
速度が記録時と異っても、ヘッド７がテープ１１に形成
された記録トラック上を正しく走査するように補正され
ることになる。5b has plating layers 10a and 10a, respectively, as shown in FIG. 3d.
1 ob, 10c, 1 oa are deposited as ti. According to such a head support device, a necessary voltage is applied in an appropriate direction, and the resulting electrostrictive phenomenon (piezoelectric effect) is utilized to form a bimorph piezoelectric element 6 as shown in FIG. 3c. It is configured to bend in the vertical direction. That is, during recording or normal playback, the tape is maintained horizontally as shown in FIG. As shown in FIG. 3, the bimorph piezoelectric element 6 is gradually bent upward from the horizontal position to move the head 7 upward, and when the tape running speed is increased as in double speed playback, As shown in FIG. 2, the bimorph piezoelectric element 6 is bent downward from the horizontal position to move the head 7 downward. As a result, even if the tape running speed is different from that during recording, the head 7 is corrected to correctly scan the recording track formed on the tape 11.
発明が解決しようとする課題 しかしながら上記の構成では、固定部材９ａ。Problems that the invention aims to solve However, in the above configuration, the fixing member 9a.
９ｂのバイモルフ型圧電素子６への取付は位置のずれお
よびバイモルフ型圧電素子６の長さ、＠。9b is attached to the bimorph piezoelectric element 6 due to the positional deviation and the length of the bimorph piezoelectric element 6, @.
厚み寸法のばらつき等によりバイモルフ型圧電素子６の
共振周波数が大きくばらつく。このためノ（イモルフ型
圧電素子６の共振周波数をバイモルフ型圧電素子６の上
下方向に変位させる制御の基本周波数とその高調波成分
の周波数を避けるように設定したとしても、バイモルフ
型圧電素子６の共振周波数が上記の如くばらつくため、
バイモルフ型圧電素子６の基本周波数の高調波成分のｎ
倍の周波数に一致し、バイモルフ型圧電素子６が共振現
象をおこして、再生時において記録トラックを正確に追
随できなくなってしまうという問題点が発生する。The resonant frequency of the bimorph piezoelectric element 6 varies greatly due to variations in thickness and the like. Therefore, even if the resonant frequency of the immorph type piezoelectric element 6 is set to avoid the fundamental frequency of the control for displacing the bimorph type piezoelectric element 6 in the vertical direction and the frequency of its harmonic components, the resonant frequency of the bimorph type piezoelectric element 6 is Since the resonant frequency varies as mentioned above,
n of the harmonic component of the fundamental frequency of the bimorph piezoelectric element 6
This causes a problem in that the bimorph piezoelectric element 6 causes a resonance phenomenon, making it impossible to accurately follow the recording track during reproduction.
このような問題の対策としては、バイモルフ型圧電素子
ｅの共振周波を制御の基本周波数の高調波成分の周波数
の影響を受けない十分に高い値に設定することが必要と
なるが、バイモμ）型圧電素子６の共振周波数を高く設
定すると、上下方向に変位量を十分に取れないという問
題や、バイモルフ型圧電素子６の厚みを増やす、長さを
短かく幅を広くするというような寸法形状にまつわる問
題点が逆に副作用として発生する。まだＶＴＲの高性能
化という面において、バイモルフ型圧電素子６の制御の
基本周波数が高くなると、バイモルフ型圧電素子６の共
振周波数をさらに高く設定しなければならなくなり、現
実には不可能である。As a countermeasure to this problem, it is necessary to set the resonant frequency of the bimorph piezoelectric element e to a sufficiently high value that is not affected by the frequency of the harmonic component of the fundamental frequency of control. If the resonant frequency of the bimorph piezoelectric element 6 is set high, there may be problems such as not being able to obtain a sufficient amount of displacement in the vertical direction, or problems such as increasing the thickness of the bimorph piezoelectric element 6, shortening the length, and widening the width. The problems associated with this actually occur as side effects. In terms of improving the performance of VTRs, if the fundamental frequency for controlling the bimorph piezoelectric element 6 becomes higher, the resonant frequency of the bimorph piezoelectric element 6 must be set even higher, which is actually impossible.
つまり従来の構成ではバイモルフ型圧電素子６の共振周
波数がばらつくという大きな問題をかかえていた。In other words, the conventional configuration had a major problem in that the resonant frequency of the bimorph piezoelectric element 6 varied.
本発明はかかる点に鑑み、バイモルフ型圧電素子の共振
周波数を一定の値に微調整できるヘッド支持装置を提供
することを目的とする。In view of this, an object of the present invention is to provide a head support device that can finely adjust the resonance frequency of a bimorph piezoelectric element to a constant value.
課題を解決するだめの手段
この目的を達成するだめに本発明のヘッド支持装置は、
一端にヘッドが固着されたバイモルフ型圧電素子と、バ
イモルフ型圧電素子の他端を取付ける取付基体と、バイ
モルフ型圧電素子を取付基体に固定する固定部材とを備
え、取付基体又は、固定部材と、バイモルフ型圧電素子
の一部に互いに対応する案内部を設けることによってバ
イモルフ型圧電素子を取付基体又は固定部材の案内部に
そって移動可能とし、バイモルフ型圧電素子の固定端か
ら先端までの長さ（以下有効長と記す）を調整可能に構
成したものである。Means for Solving the Problem To achieve this object, the head support device of the present invention comprises:
A bimorph piezoelectric element having a head fixed to one end, a mounting base for attaching the other end of the bimorph piezoelectric element, and a fixing member for fixing the bimorph piezoelectric element to the mounting base, the mounting base or the fixing member; By providing mutually corresponding guide parts in a part of the bimorph piezoelectric element, the bimorph piezoelectric element can be moved along the guide part of the mounting base or the fixed member, and the length from the fixed end to the tip of the bimorph piezoelectric element can be adjusted. (hereinafter referred to as effective length) is configured to be adjustable.
作用
本発明は上記した構成により、バイモルフ型圧電素子が
その案内部と対応する取付基体又は、固宇部材の案内部
にそって移動すると、バイモルフ型圧電素子の有効長が
変化する。つまりバイモルフ型圧電素子の有効長を変化
させることによってバイモルフ型圧電素子の共振周波数
を一定の粒に微調することができる。Operation According to the above-described configuration, the effective length of the bimorph piezoelectric element changes when the bimorph piezoelectric element moves along the guide portion of the mounting base or the solid member corresponding to the guide portion thereof. In other words, by changing the effective length of the bimorph piezoelectric element, the resonant frequency of the bimorph piezoelectric element can be finely tuned to a constant grain.
実施例
以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説明
する。EXAMPLE An example of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第１図は本実施例におけるヘッド支持装置の分解斜視図
を示し、第２図は要部拡大図を示すものである。第１図
において、１はバイモルフ型圧電素子である。第２図に
おいて、バイモルフ型圧電素子１は、第２図（ｄ）に示
すように圧電素子２ａ。FIG. 1 shows an exploded perspective view of the head support device in this embodiment, and FIG. 2 shows an enlarged view of the main parts. In FIG. 1, 1 is a bimorph piezoelectric element. In FIG. 2, the bimorph piezoelectric element 1 is a piezoelectric element 2a as shown in FIG. 2(d).
２ｂから構成され、圧電素子２ａ上にメツキされたそれ
ぞれの電極３ａ、３ｂ、圧電素子２ｂ上にメツキされた
電極４ａ、４ｂが被着されている。2b, each electrode 3a, 3b is plated on the piezoelectric element 2a, and electrodes 4a, 4b are plated on the piezoelectric element 2b.
又圧電素子２ａ、２ｂはそれぞれの電極部３ｂ。Moreover, the piezoelectric elements 2a and 2b each have an electrode portion 3b.
４ａではシ合わされて構成されている。第１図において
、バイモルフ型圧電素子１は、その有効長方向と直角方
向、すなわち図中ＣＤ方向を長軸とする長穴１３と、端
面に案内部１２ａと１２ｂが設けられている。１４はへ
ラドベースで、バイモルフ型圧電素子１の一端に接着等
の方法により固着されている。１５はヘッドで、ヘッド
ベース１４の一端に接着等の方法により固着されている
。１６は取付基体で、バイモルフ型圧電素子１の取付基
準面１７と、穴１８とが設けられ、ドラムの一部に、例
えばねじ止等の手段により取付けられている。穴１８は
バイモルフ型圧電素子１を取付基体１６の取付基準面１
７に取付けだ時、長穴１３の矢印Ｅ方向からの投影面内
に設けられている。１９は固定部材で、バイモルフ型圧
電素子１の案内部１２ａ、１２ｂに対応する案内部２０
ａ、 ２ｏｂが設けられ、バイモルフ型圧電素子１をビ
ス２１によって取付基体１６の取付基準面１７に固定さ
れる。２２はバイモルフ型圧電素子１の有効長を調整す
る調整用治具で、第１の円筒部２３と第１の円筒部２３
の径よシ大きい径を有する第２の円筒部２４を有し、第
１の円筒部２３の中心と第２の円筒部２４の中心は偏心
している。調整用治具２２は、第１の円筒部２３を穴１
８に軸支し、第２の円筒部２４を長穴１３に対応させ、
第１の円筒部２３を軸として回転させると、第２の円筒
部２４の外周面が長穴１３の端面を押し、バイモルフ型
圧電素子１をその有効長方向、即ちＡＢ力方向移動させ
ることができる。In 4a, they are assembled together. In FIG. 1, a bimorph type piezoelectric element 1 is provided with an elongated hole 13 having a long axis in a direction perpendicular to its effective length direction, that is, in the CD direction in the figure, and guide portions 12a and 12b on the end surface. Reference numeral 14 denotes a helad base, which is fixed to one end of the bimorph piezoelectric element 1 by adhesive or the like. A head 15 is fixed to one end of the head base 14 by adhesive or the like. A mounting base 16 is provided with a mounting reference surface 17 for the bimorph piezoelectric element 1 and a hole 18, and is mounted to a portion of the drum by, for example, screwing. The hole 18 is the mounting reference surface 1 of the base 16 on which the bimorph piezoelectric element 1 is mounted.
7, it is provided within the projection plane of the elongated hole 13 from the arrow E direction. Reference numeral 19 denotes a fixing member, and a guide portion 20 corresponding to the guide portions 12a and 12b of the bimorph piezoelectric element 1 is provided.
a, 2ob are provided, and the bimorph piezoelectric element 1 is fixed to the mounting reference surface 17 of the mounting base 16 with screws 21. 22 is an adjustment jig for adjusting the effective length of the bimorph piezoelectric element 1, which includes a first cylindrical portion 23;
The center of the first cylindrical portion 23 and the center of the second cylindrical portion 24 are eccentric. The adjustment jig 22 connects the first cylindrical portion 23 to the hole 1.
8, the second cylindrical portion 24 corresponds to the elongated hole 13,
When the first cylindrical part 23 is rotated as an axis, the outer peripheral surface of the second cylindrical part 24 pushes the end face of the elongated hole 13, and the bimorph piezoelectric element 1 is moved in its effective length direction, that is, in the AB force direction. can.
以上のように構成された本実施例のヘッド支持装置につ
いて以下その動作について、第１図、第２図を用いて説
明する。The operation of the head support device of this embodiment constructed as described above will be described below with reference to FIGS. 1 and 2.
第２図（ａ）のバイモルフ型圧電素子１は、その長穴１
３と、取付基体１６の穴１８の中心が一致するように固
定部材１９によって取付基体１６にビス止めされ、この
時、バイモルフ型圧電素子１の有効長はらに設定される
。バイモルフ型圧電素子１の共振周波数と有効長は反比
例の関係があるだめ、例えば、第２図（ａ）のバイモル
フ型圧電素子１の共振周波数が設定値の許容範囲よシ低
い場合は、ビス２１を僅かにゆるめ、バイモルフ型圧電
素子１を固定部材１９の案内部２０ａ、２０ｂにそって
移動可能にし、調整用治具２２によって、バイモルフ型
圧電素子１を第２図のＢ方向に移動させ、ビス２１を締
め、第２図（ａ）のバイモルフ型圧電素子１の有効長ａ
より短い、第２図（ｂ）のバイモルフ型圧電素子１の
有効長ｅｂを得ることができ、バイモルフ型圧電素子１
の共振周波数を上げて設定値の許容範囲内に調整するこ
とができる。The bimorph piezoelectric element 1 shown in FIG. 2(a) has a long hole 1.
3 and the center of the hole 18 of the mounting base 16 are screwed to the mounting base 16 by a fixing member 19, and at this time, the effective length of the bimorph type piezoelectric element 1 is set to be the same. Since the resonant frequency and the effective length of the bimorph piezoelectric element 1 are inversely proportional, for example, if the resonant frequency of the bimorph piezoelectric element 1 shown in FIG. 2(a) is lower than the allowable range of the set value, screw 21 is slightly loosened, the bimorph piezoelectric element 1 is made movable along the guide portions 20a and 20b of the fixing member 19, and the bimorph piezoelectric element 1 is moved in the direction B in FIG. 2 using the adjustment jig 22. Tighten the screw 21 and adjust the effective length a of the bimorph piezoelectric element 1 shown in FIG. 2(a).
A shorter effective length eb of the bimorph piezoelectric element 1 shown in FIG. 2(b) can be obtained, and the bimorph piezoelectric element 1
The resonant frequency can be raised to bring it within the allowable range of the set value.
逆に第２図（ａ）のバイモルフ型圧電素子１の共振周波
数が設定値の許容範囲よシ高い場合は、ビス２１を僅か
にゆるめ、バイモルフ型圧電素子１を固定部材１９の案
内部２０ａ、２０ｂにそって移動可能にし、調整用治具
２１によってバイモルフ型圧電素子１を第２図の入方向
に移動させ、ビス２１を締めて、第２図（ａ）のバイモ
ルフ型圧電素子１の有効長ら より長い第２図（Ｃ）の
バイモルフ型圧電素子１の有効長ｌｃを得ることができ
、バイモルフ型圧電素子１の共振周波数を下げて、設定
値の許容範囲内に調整することができる。On the other hand, if the resonant frequency of the bimorph piezoelectric element 1 shown in FIG. 20b, move the bimorph piezoelectric element 1 in the in direction of FIG. It is possible to obtain a longer effective length lc of the bimorph piezoelectric element 1 shown in FIG. .
以上のように本実施例によれば、バイモルフ型圧電素子
１の有効長を容易に変えることのできるバイモルフ型圧
電素子１と固定部材１９を設けることにより、バイモル
フ型圧電素子１の共振周波数を微調整することが可能と
なる。As described above, according to this embodiment, by providing the bimorph piezoelectric element 1 and the fixing member 19, which can easily change the effective length of the bimorph piezoelectric element 1, the resonant frequency of the bimorph piezoelectric element 1 can be finely adjusted. It becomes possible to make adjustments.
なお本実施例において、バイモルフ型圧電素子１の案内
部に対応し、バイモルフ型圧電素子１をその有効長方向
に案内する案内部を固定部材１９に設けたが、取付基体
側にあってもよい。又、バイモルフ型圧電素子１側の案
内部をその外形端面に設け、固定部材１９側の案内部は
、外形端面の幅を規制するように設けたが、バイモルフ
型圧電素子１の有効長方向に案内可能であれば、バイモ
ルフ型圧電素子１側の案内部形状が長穴で、固定部材１
９側の案内部形状が長大の短軸を直径とする円筒形状等
であってもよい。In this embodiment, a guide part corresponding to the guide part of the bimorph piezoelectric element 1 and for guiding the bimorph piezoelectric element 1 in its effective length direction is provided on the fixed member 19, but it may be provided on the mounting base side. . Further, the guide portion on the side of the bimorph piezoelectric element 1 is provided on the outer end surface thereof, and the guide portion on the side of the fixing member 19 is provided so as to regulate the width of the outer end surface. If guiding is possible, the shape of the guiding part on the bimorph piezoelectric element 1 side is an elongated hole, and the fixing member 1
The shape of the guide portion on the 9 side may be a cylindrical shape or the like whose diameter is the long short axis.
発明の効果
以上のように本発明は、一端にヘッドが固着されたバイ
モルフ型圧電素子と、そのバイモルフ型圧電素子の他端
を取付ける取付基体と、バイモルフ型圧電素子を取付基
体に固定する固定部材からなり、取付基体又は、固定部
材と、バイモルフ型圧電素子の一部に互いに対応する案
内部を設けることによって、バイモルフ型圧電素子を取
付基体又は固定部材の案内部にそって移動させ、バイモ
ルフ型圧電素子の有効長を容易に微調可能に構成し、従
来の構成ではバイモルフ型圧電素子の共振周波数が大き
くばらつき、バイモルフ型圧電素子の制御の基本周波数
とそのｎ倍の高調波成分の周波数を避けたバイモルフ型
圧電素子の共振周波数を設定することが困難であったが
、バイモルフ型圧電素子の有効長を調整することによシ
、バイモルフ型圧電素子の共振周波数を設定値の許容範
囲内に調整することが可能となり、その実用的効果は大
きい。Effects of the Invention As described above, the present invention provides a bimorph piezoelectric element having a head fixed to one end, a mounting base to which the other end of the bimorph piezoelectric element is attached, and a fixing member for fixing the bimorph piezoelectric element to the mounting base. By providing a mounting base or a fixing member and a part of the bimorph piezoelectric element with guide parts that correspond to each other, the bimorph piezoelectric element is moved along the guide part of the mounting base or the fixing member, and the bimorph piezoelectric element is moved along the guide part of the mounting base or the fixing member. The effective length of the piezoelectric element can be easily fine-tuned, and in the conventional configuration, the resonant frequency of the bimorph piezoelectric element varies greatly, and the fundamental frequency of the control of the bimorph piezoelectric element and the frequency of its n-times harmonic component are avoided. However, by adjusting the effective length of the bimorph piezoelectric element, the resonant frequency of the bimorph piezoelectric element can be adjusted to within the allowable range of the set value. It has become possible to do so, and its practical effects are great.
第１図は本発明の実施例におけるヘッド支持装置の構成
を示す分解斜視図、第２図は本発明の一実施例における
ヘッド支持装置の要部拡大図、第３図は従来のヘッド支
持装置の要部拡大図である。
１・・・・・・バイモルフ型圧電素子、２ａ、２ｂ・・
・・・・圧電素子、３ａ、３ｂ、４１１１．４ｂ−・−
電極、１２ａ、１２ｂ・・・・・・案内部、１３・・・
・・・長穴、１４・・・・・・ヘッドベース、１５・・
・・・・ヘソ）”、１６・・・・・・取付基体、１７・
・・・・・取付基準面、１日・・・・・・穴、１９・・
・・・・固定部材、２０ａ、２Ｑｂ・・・・・・案内部
、２１・・・・・・ピヌ、２２・・・・・・調整用治具
、２３・・・・・・第１の円筒部、２４・・・・・・第
２の円筒部。
代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名／−
−−バイモルフ型、瓜覗素子
１２α、／Ｚｂ−案内部
１３−一長大
１５−ヘッド
１６−−−木イズ「暴イ３（
ＳｔＬ、 Ｓｂ −バイモルフ翌工電県子Ａ −−−Ｓ
ａ−、Ｓｂと（；り合ねヒなバイモノじづζ日唾、集子
７− ヘッド
８− ヘットへ−ス
ｑａ、 ｑｂ−ｍ−固定部材
ｌ０ＬＬ−１０ｂ−バイ七ルア呈工亀集子上！；メツ午
されｒ：’ｒｔｒｘ。
ｌｆ・−テープFIG. 1 is an exploded perspective view showing the configuration of a head support device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged view of main parts of a head support device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a conventional head support device. It is an enlarged view of the main part. 1...Bimorph type piezoelectric element, 2a, 2b...
...Piezoelectric element, 3a, 3b, 4111.4b--
Electrode, 12a, 12b...Guiding part, 13...
...Elongated hole, 14...Head base, 15...
...Navel)", 16...Mounting base, 17.
...Mounting reference surface, 1st...Hole, 19...
...Fixing member, 20a, 2Qb...Guiding part, 21...Pinu, 22...Adjustment jig, 23...First cylindrical part, 24... second cylindrical part. Name of agent: Patent attorney Shigetaka Awano and 1 other person/-
--Bimorph type, urinary element 12α, /Zb-Guiding part 13-One length 15-Head 16--Ki is "Bioi 3 (StL, Sb-Bimorph next Kodenkenko A---S
a-, Sb and (; arranging bimono jizu ζ day spit, Shuko 7- head 8- head to head-sqa, qb-m-fixing member l0LL-10b-bai-seven Lua presentation kamejiko Top!; Metsugo r:'rtrx. lf・-tape
Claims (1)
記バイモルフ型圧電素子の他端を取付ける取付基体と、
前記バイモルフ型圧電素子を前記取付基体に固定する固
定部材とを備え、前記取付基体又は、前記固定部材と、
前記バイモルフ型圧電素子の一部に互いに対応する案内
部を設けることによって前記バイモルフ型圧電素子を前
記取付基体又は前記固定部材の案内部にそって移動可能
とし、前記バイモルフ型圧電素子の固定端から先端まで
の長さを調整可能にしたことを特徴とするヘッド支持装
置。a bimorph piezoelectric element having a head fixed to one end; a mounting base to which the other end of the bimorph piezoelectric element is attached;
a fixing member for fixing the bimorph piezoelectric element to the mounting base, the mounting base or the fixing member;
By providing mutually corresponding guide portions in a portion of the bimorph piezoelectric element, the bimorph piezoelectric element is movable along the guide portion of the mounting base or the fixing member, and the bimorph piezoelectric element is movable from the fixed end of the bimorph piezoelectric element. A head support device characterized in that the length to the tip is adjustable.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1380289A JPH02195507A (en) | 1989-01-23 | 1989-01-23 | Head supporting device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1380289A JPH02195507A (en) | 1989-01-23 | 1989-01-23 | Head supporting device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02195507A true JPH02195507A (en) | 1990-08-02 |
Family
ID=11843389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1380289A Pending JPH02195507A (en) | 1989-01-23 | 1989-01-23 | Head supporting device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02195507A (en) |
-
1989
- 1989-01-23 JP JP1380289A patent/JPH02195507A/en active Pending
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