JPH0218400A - Si系ウィスカー製造装置 - Google Patents
Si系ウィスカー製造装置Info
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は窒化珪素(Si3N4)ウィスカー炭化珪素(
SiC)ウィスカー等のSi系ウィスカーの製造装置に
関する。
SiC)ウィスカー等のSi系ウィスカーの製造装置に
関する。
Si系ウィスカーは原料である一酸化珪素(Si0)と
メタン(CH,)、窒素(N2)またはアンモニアガス
(NH3)等の反応ガスとの反応によって合成されるも
のである。このSi系ウィスカーの製造装置としては、
例えば特開昭61−14200号公報及び特公昭47−
18531号公報に開示されているものがある。
メタン(CH,)、窒素(N2)またはアンモニアガス
(NH3)等の反応ガスとの反応によって合成されるも
のである。このSi系ウィスカーの製造装置としては、
例えば特開昭61−14200号公報及び特公昭47−
18531号公報に開示されているものがある。
前者は原料充填容器の上部に炭素反応管を連通接続し、
原料からの一酸化珪素(S i O)を反応ガスと一緒
に前記反応管内に送り込み、この反応管内の内周面にウ
ィスカーを成長させるものである。また後者は、断熱材
を内張すした加熱炉内に原料充填容器、加熱電極および
ウィスカー成長用反応部材を配設し、原料からの一酸化
珪素(SiO)と炉内へ供給された反応ガスとを反応さ
せ、前記反応部材の表面にウィスカーを成長させるもの
である。
原料からの一酸化珪素(S i O)を反応ガスと一緒
に前記反応管内に送り込み、この反応管内の内周面にウ
ィスカーを成長させるものである。また後者は、断熱材
を内張すした加熱炉内に原料充填容器、加熱電極および
ウィスカー成長用反応部材を配設し、原料からの一酸化
珪素(SiO)と炉内へ供給された反応ガスとを反応さ
せ、前記反応部材の表面にウィスカーを成長させるもの
である。
(発明が解決しようとする課題〕
しかしながらこれら従来の製造装置によるウィスカー製
造は、容器内に所定量の原料を充填し、この原料による
ウィスカー生成が完了した時点で装置を一旦停止させ、
生成ウィスカーを取り出して新たな原料を再び容器内に
充填するというバッチ操業であるため、ウィスカー生産
効率が悪いという問題がある。
造は、容器内に所定量の原料を充填し、この原料による
ウィスカー生成が完了した時点で装置を一旦停止させ、
生成ウィスカーを取り出して新たな原料を再び容器内に
充填するというバッチ操業であるため、ウィスカー生産
効率が悪いという問題がある。
また、前者では充填容器部の内壁表面に、後者では炉の
内壁表面にウィスカーが生成し、回収効率が低下すると
いう問題がある。
内壁表面にウィスカーが生成し、回収効率が低下すると
いう問題がある。
そこで本発明は装置を途中で一旦停止させる必要なくし
て連続的にウィスカーを生産でき、しかも生成したウィ
スカーの回収効率を従来装置におけるよりも高くするこ
とができるSi系ウィスカー製造装置を提供することを
目的とする。
て連続的にウィスカーを生産でき、しかも生成したウィ
スカーの回収効率を従来装置におけるよりも高くするこ
とができるSi系ウィスカー製造装置を提供することを
目的とする。
本発明は前記目的にしたがい、内部に固体原料受は用多
孔部材を有する反応筒とウィスカーを生成させる生成筒
とを加熱炉内に設置し、前記加熱炉内において前記両筒
を連通管にて接続して原料ガスを前記連通管を通して生
成湾内に流入させるようにするとともに、前記反応筒に
は原料供給装置を設け、前記生成筒にはウィスカー掻き
押し装置を設けてなることを特徴とするSi系ウィスカ
ー製造装置を提供するものである。
孔部材を有する反応筒とウィスカーを生成させる生成筒
とを加熱炉内に設置し、前記加熱炉内において前記両筒
を連通管にて接続して原料ガスを前記連通管を通して生
成湾内に流入させるようにするとともに、前記反応筒に
は原料供給装置を設け、前記生成筒にはウィスカー掻き
押し装置を設けてなることを特徴とするSi系ウィスカ
ー製造装置を提供するものである。
〔作 用]
本発明ウィスカー製造装置によると、加熱によって気化
SiOを発生する固体原料が原料供給装置によって反応
筒内へ供給され、ここで加熱されてガス状に気化したS
iOを発生し、該SiOが雰囲気ガス供給部から供給さ
れたガスとともに連通管を通って生成筒へ入り、ここで
窒化反応、炭化反応等の反応を起こして生成筒の内壁面
にウィスカーを生成する。生成されたウィスカーはウィ
スカー掻き押し装置により生成筒内壁面から掻き落とさ
れつつウィスカー取出し部へ押しやられ、そこから取り
出される。
SiOを発生する固体原料が原料供給装置によって反応
筒内へ供給され、ここで加熱されてガス状に気化したS
iOを発生し、該SiOが雰囲気ガス供給部から供給さ
れたガスとともに連通管を通って生成筒へ入り、ここで
窒化反応、炭化反応等の反応を起こして生成筒の内壁面
にウィスカーを生成する。生成されたウィスカーはウィ
スカー掻き押し装置により生成筒内壁面から掻き落とさ
れつつウィスカー取出し部へ押しやられ、そこから取り
出される。
前記反応筒内には、その中の原料の減少に見合った量の
新しい原料が原料供給装置によって次々と供給され、生
成筒においてはウィスカーが連続的に生成される。
新しい原料が原料供給装置によって次々と供給され、生
成筒においてはウィスカーが連続的に生成される。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
図面は一実施例ウィスカー製造装置の断面を示している
。
。
図において、10は加熱炉で、炉lOは断熱材11が内
張すされ、内部に電熱ヒータ12が設けられている。
張すされ、内部に電熱ヒータ12が設けられている。
また、この加熱炉10には、縦型反応筒1及び縦型生成
筒2が平行に設置されている。これら両筒はその上下端
部が加熱炉lOより外へ突き出している。反応筒1及び
生成筒2は加熱炉10の底部において連通管3により互
いに連通している。
筒2が平行に設置されている。これら両筒はその上下端
部が加熱炉lOより外へ突き出している。反応筒1及び
生成筒2は加熱炉10の底部において連通管3により互
いに連通している。
反応筒lは前記連通管よりやや高位置において内部に原
料を受は止める多孔板等からなる多孔部材4を備えてい
る。
料を受は止める多孔板等からなる多孔部材4を備えてい
る。
反応筒lの上端部にはシール材5を介してキャップ6A
が取り外し可能に設けられており、このキャップに原料
供給装置20が接続されている。
が取り外し可能に設けられており、このキャップに原料
供給装置20が接続されている。
原料供給装置20はキャップ6Aを貫通する筒体21お
よびこれにシール機構を有するフィーダ、例えばロータ
リーパルプ22を介して接続された原料ホッパ23とか
らなっている。筒体21は加熱炉lO内まで延びている
。この筒体21には雰囲気ガス供給管24が接続されて
いる。
よびこれにシール機構を有するフィーダ、例えばロータ
リーパルプ22を介して接続された原料ホッパ23とか
らなっている。筒体21は加熱炉lO内まで延びている
。この筒体21には雰囲気ガス供給管24が接続されて
いる。
該供給管24は分岐されていて、一方は原料供給装置2
0の筒体21に、他方はキャップ6Aにそれぞれ接続さ
れており、本例では図示しないガス供給源からキャリア
ガス及び反応ガスを供給される。
0の筒体21に、他方はキャップ6Aにそれぞれ接続さ
れており、本例では図示しないガス供給源からキャリア
ガス及び反応ガスを供給される。
また反応筒lの下端にはキャップ7Aが取り外し可能に
設けられており、雰囲気ガス供給管25が該キャップ7
Aを貫通して筒l内へ挿入設置されており1.そのガス
噴出口25Aは°連通管3の入口に向いている。このガ
ス供給管25には本例では図示しないガス源から反応ガ
ス及び触媒ガスが供給される。
設けられており、雰囲気ガス供給管25が該キャップ7
Aを貫通して筒l内へ挿入設置されており1.そのガス
噴出口25Aは°連通管3の入口に向いている。このガ
ス供給管25には本例では図示しないガス源から反応ガ
ス及び触媒ガスが供給される。
生成筒2の上端部にはウィスカー取出しのための開閉自
在扉8が設けられているとともに排気管9が設けられて
いる。
在扉8が設けられているとともに排気管9が設けられて
いる。
生成筒2の下端部にはウィスカー掻き押し装置30が設
けられている。
けられている。
装置30は生成筒2内を摺動可能に昇降する掻き押しピ
ストン31、該ピストンに連結されたロッド32及び該
ロッド32を往復駆動させる駆動袋rt33からなって
いる。ロッド32は筒2下端の取り外し可能ボトムキャ
ップ7Bを貫通している。駆動装置33はチェーン34
を含み、該チェーン34は一部がロッド32の下端に連
結され、二つのスプロケット35.36に巻き掛けられ
、一方のスプロケットが図示しないモータにて回される
ことにより往復回動でき、これによってロッド32、従
ってピストン31が昇降する。
ストン31、該ピストンに連結されたロッド32及び該
ロッド32を往復駆動させる駆動袋rt33からなって
いる。ロッド32は筒2下端の取り外し可能ボトムキャ
ップ7Bを貫通している。駆動装置33はチェーン34
を含み、該チェーン34は一部がロッド32の下端に連
結され、二つのスプロケット35.36に巻き掛けられ
、一方のスプロケットが図示しないモータにて回される
ことにより往復回動でき、これによってロッド32、従
ってピストン31が昇降する。
この実施例ウィスカー製造装置によると、原料供給装置
20のホッパ23内に加熱によって気化SiOを発生す
る固体原料Aが入れられ、該原料はロータリーバルブ2
2の開成によって筒体21から反応筒l内の多孔板4に
落下、充填される。
20のホッパ23内に加熱によって気化SiOを発生す
る固体原料Aが入れられ、該原料はロータリーバルブ2
2の開成によって筒体21から反応筒l内の多孔板4に
落下、充填される。
この例においては、固体原料として籾殻燻炭が使用され
る。
る。
原料Aは反応による減少量だけ、逐次ロータリーパルプ
22を開成して、反応筒l内へ供給される。
22を開成して、反応筒l内へ供給される。
反応筒1は通常1300−1400°Cに加熱され、籾
殻燻炭原料A自身に含まれる炭素によって同原料に含ま
れるSingが還元され、SiOとなるとともに、該S
iOはガス供給管24からの反応ガスおよびキャリアガ
スとともに多孔部材4の下方に送り込まれ、反応筒lの
底部空間に設けられたガス供給管25から送入された触
媒ガスおよび反応ガスと一緒に連通管3を通って生成筒
2に入る。
殻燻炭原料A自身に含まれる炭素によって同原料に含ま
れるSingが還元され、SiOとなるとともに、該S
iOはガス供給管24からの反応ガスおよびキャリアガ
スとともに多孔部材4の下方に送り込まれ、反応筒lの
底部空間に設けられたガス供給管25から送入された触
媒ガスおよび反応ガスと一緒に連通管3を通って生成筒
2に入る。
これ等のガスは通常1350〜1450℃に加熱された
生成筒2において窒化反応、炭化反応等を起こし、生成
筒2の内壁面にウィスカーBを生成する。
生成筒2において窒化反応、炭化反応等を起こし、生成
筒2の内壁面にウィスカーBを生成する。
ウィスカーBが十分に生成したところで掻き押し装置3
0のピストン31を上昇させてウィスカーBを掻き落と
しつつ上方へ押し上げ、キャップ6Bの空間部に綿状体
ウィスカーCとして蓄える。
0のピストン31を上昇させてウィスカーBを掻き落と
しつつ上方へ押し上げ、キャップ6Bの空間部に綿状体
ウィスカーCとして蓄える。
余剰のおよび/または不要なガスは排気管9から外へ放
出される。
出される。
キャップ6Bの空間部に十分にウィスカーが蓄積すると
扉8が開かれて取り出される。
扉8が開かれて取り出される。
前記実施例において、窒化珪素ウィスカーを得る場合に
は、ガス供給管24からは反応ガスとして例えばNtま
たはNH,を、キャリアガスとして例えばHzを供給し
、ガス供給管25からは反応ガスとして例えばNtまた
はNH,を、触媒ガスとして鉄カルボニールを供給すれ
ばよい。
は、ガス供給管24からは反応ガスとして例えばNtま
たはNH,を、キャリアガスとして例えばHzを供給し
、ガス供給管25からは反応ガスとして例えばNtまた
はNH,を、触媒ガスとして鉄カルボニールを供給すれ
ばよい。
また、炭化珪素ウィスカーを得る場合には、ガス供給管
24からは反応ガスとして例えばCHsを、キャリアガ
スとして例えばH2を供給し、ガス供給管25からは反
応ガスとして例えばCHaを、触媒ガスとして鉄カルボ
ニールを供給すればよい。
24からは反応ガスとして例えばCHsを、キャリアガ
スとして例えばH2を供給し、ガス供給管25からは反
応ガスとして例えばCHaを、触媒ガスとして鉄カルボ
ニールを供給すればよい。
なお、固体原料としては、前記籾殻燻炭のほか、Sin
、とカーボン粉からなるフレーク状混合物等を採用でき
る。
、とカーボン粉からなるフレーク状混合物等を採用でき
る。
前記実施例によると、次のような利点がある。
■ 固体原料Aの反応気化のための反応筒1とウィスカ
ー生成筒2とが分離しているので、反応筒l内への原料
供給が原料の還元反応量に対応して行なうことができ、
それだけ装置稼働効率が向上するとともに、自動化が可
能となる。前記実施例は反応筒1が縦型であるから特に
原料供給には好都合である。
ー生成筒2とが分離しているので、反応筒l内への原料
供給が原料の還元反応量に対応して行なうことができ、
それだけ装置稼働効率が向上するとともに、自動化が可
能となる。前記実施例は反応筒1が縦型であるから特に
原料供給には好都合である。
■ 生成筒2の内壁面に生成するウィスカーBを装置を
停止させることなく、しかも略その全量を取り出すこと
ができ、それだけ装置稼働効率を上げることができると
ともにウィスカー回収効率を上げることができる。
停止させることなく、しかも略その全量を取り出すこと
ができ、それだけ装置稼働効率を上げることができると
ともにウィスカー回収効率を上げることができる。
■ 筒l及び2が縦型であるとともにキャップ6A、6
B、?A、7Bが取り外し可能となっていることも手伝
って原料の残さ処理等、反応塔および生成基の清掃を容
易に行え、装置のメインテナンスがそれだけ容易となっ
ている。
B、?A、7Bが取り外し可能となっていることも手伝
って原料の残さ処理等、反応塔および生成基の清掃を容
易に行え、装置のメインテナンスがそれだけ容易となっ
ている。
■ 反応筒l内の雰囲気が原料の上部から下部へ流れる
ので、還元分解された5ill気を効率よく生成基2へ
導くことができる。
ので、還元分解された5ill気を効率よく生成基2へ
導くことができる。
なお本発明は前記実施例に限定されるものではなく、他
にも様々の態様で実施することができる。
にも様々の態様で実施することができる。
例えば、反応筒及び生成筒はかならずしも縦型である必
要はなく、例えば水平に横に配置されていてもよい。こ
のような場合には、原料供給装置として、例えば反応筒
内へ挿入したスクリューコンベアの一端部に原料ホッパ
を設け、該ホッパ内原料を反応筒内原料の減少に応じて
随時該コンベアにて筒内へ供給するようにしてもよい。
要はなく、例えば水平に横に配置されていてもよい。こ
のような場合には、原料供給装置として、例えば反応筒
内へ挿入したスクリューコンベアの一端部に原料ホッパ
を設け、該ホッパ内原料を反応筒内原料の減少に応じて
随時該コンベアにて筒内へ供給するようにしてもよい。
[発明の効果]
本発明によると、装置を途中で一旦停止させる必要なく
して連続的にウィスカーを生産でき、しかも生成したウ
ィスカーの回収効率を従来装置におけるよりも高くする
ことができるSi系ウィスカー製造装置を提供すること
ができる。
して連続的にウィスカーを生産でき、しかも生成したウ
ィスカーの回収効率を従来装置におけるよりも高くする
ことができるSi系ウィスカー製造装置を提供すること
ができる。
図面は一実施例の断面図である。
10・・・加熱炉、
l・・・反応筒、
2・・・生成筒、
3・・・連通管、
4・・・多孔部材、
20・・・原料供給装置、
24.25・・・雰囲気ガス供給管、
30・・・ウィスカー掻き押し装置、
8・・・ウィスカー取出し用扉、
A・・・固体原料、
B、C・・・ウィスカー
Claims (1)
- (1)内部に固体原料受け用多孔部材を有する反応筒と
ウィスカーを生成させる生成筒とを加熱炉内に設置し、
前記加熱炉内において前記両筒を連通管にて接続して気
化SiOを前記連通管を通して生成筒内に流入させるよ
うにするとともに、前記反応筒には原料供給装置を設け
、前記生成筒にはウィスカー掻き押し装置を設けてなる
ことを特徴とするSi系ウィスカー製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16927288A JPH0218400A (ja) | 1988-07-07 | 1988-07-07 | Si系ウィスカー製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16927288A JPH0218400A (ja) | 1988-07-07 | 1988-07-07 | Si系ウィスカー製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0218400A true JPH0218400A (ja) | 1990-01-22 |
Family
ID=15883433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16927288A Pending JPH0218400A (ja) | 1988-07-07 | 1988-07-07 | Si系ウィスカー製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0218400A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61219800A (ja) * | 1985-03-26 | 1986-09-30 | Toyota Motor Corp | 炭化珪素ウイスカ−の製造方法 |
JPS63103899A (ja) * | 1986-10-22 | 1988-05-09 | Fuji Electric Co Ltd | 炭化けい素ウイスカの製造方法および製造装置 |
-
1988
- 1988-07-07 JP JP16927288A patent/JPH0218400A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61219800A (ja) * | 1985-03-26 | 1986-09-30 | Toyota Motor Corp | 炭化珪素ウイスカ−の製造方法 |
JPS63103899A (ja) * | 1986-10-22 | 1988-05-09 | Fuji Electric Co Ltd | 炭化けい素ウイスカの製造方法および製造装置 |
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