JPH02180854A - N,n―ジイソプロピルエチルアミンの製造法 - Google Patents

N,n―ジイソプロピルエチルアミンの製造法

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JPH02180854A
JPH02180854A JP63333974A JP33397488A JPH02180854A JP H02180854 A JPH02180854 A JP H02180854A JP 63333974 A JP63333974 A JP 63333974A JP 33397488 A JP33397488 A JP 33397488A JP H02180854 A JPH02180854 A JP H02180854A
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名畑 俊成
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、N、N−ジイソプロピルエチルアミン(以下
、DIPEAという)を′51造する方法に関し、詳し
くはエチルアミンとアセトンを出発原料とし、貴金属触
媒存在下での接触還元反応によるDI))EAの製造法
、及びジイソプロピルアミン(以下、DIPAという)
とアセトアルデヒドを出発原料とし、1!1金属触媒存
在下アセトアルデヒドを反応系内に供給しながら接触還
元反応を行なうことによるDIPEAの製造法に関する
DIl)L?、Aは医農薬の原料として有用な化合物で
ある。
(従来技術及び発明が解決しようとする課題)従来、D
IPEAの!2造法としてはDIPAをジエチル硫酸で
エチル化する方法が知られている( CheIIl、 
Ber、 、 91.3H〜392 (19581)、
この方法によると反応器に原料のDIPAと目的物であ
るDIPEAを等モルずつ仕込み、ジエチル硫酸を加え
140℃で3.5時間反応し、収率90%でDlr”E
Aを得ている。しかしながら、この方法は収率が高いも
のの反応を促進させるため目的物を加えるなど工業的に
有利な方法とは言い難い。
また、他の製造法としてDIPAをエチルアイオダイド
でエチル化する方法(J、O,C,,16,19119
51))があるが、収率は約50%と低く好ましい方法
とは言い難い。
本発明の目的は、安価に人手できる原料を用いてD I
 PEAを良好な収率で得る方法を提供することにある
(課題を解決するための手段) 本発明の第1発明は、エチルアミンとアセトンを貴金属
触媒の存在下、接触還元反応させることを特徴とするD
IPEAの製造法である。
また本発明の第2発明は、DIPAとアセトアルデヒド
を貴金属触媒の存在下、接触還元反応させてDIPEA
するにあたり1反応系内にアセトアルデヒドを供給しな
がら反応することを特徴とするDIPEAの製造法であ
る。
従来本第1発明の方法は意外にも知られていない。その
理由はエチルアミンにアセトンとの接触還元によりイソ
プロピル基を導入する場合、イソプロピル、2!1個の
導入は比較的容易であるが、更にもう1個のイソプロピ
ル基の導入は、中間体であるN−イソプロピルエチルア
ミン(以下。
MIPEAという)のアルキル基による立体障害により
生じるその窒素原子の活性低下によって困難であると考
えられていたものと推察される。
そこで、本発明者は、水素化触媒として極めて汎用され
ているラネーNi触媒を用いてエチルアミンとアセトン
の接触還元反応を試みたが、主たる生成物はアセトンの
還元体であるイソプロピルアルコールでありDIPIE
Aの生成をほとんど認めることができなかった。本発明
者は、更に検討を重ねた結果、意外にも、貴金属触媒を
用いるとDIPCへの収率が著しく向上することを見出
し本発明の第1+7?!明を完成するに至った。
本発明の第2発明のような第2級アミンとアルデヒドの
接触還元反応による第3級アミンの!+2造においては
、一般に、オートクレーブ中に第2級アミンとアルデヒ
ドのいずれも全量を仕込み水素化触媒の存在下接触還元
反応させる方法がとられている。ところが、ジイソプロ
ピルアミンとアセトアルデヒドの接触還元反応によるD
 I PEAの!!2造の際、かかる一般の方法では貴
金属触媒及びラネーNi触媒のいずれでもアセトアルデ
ヒドが本発明の目的以外の反応を起こし、DIPEAの
収率は極めて低いかもしくはD I PEAの生成をほ
とんど認めることができない、このように、従来一般的
に行なわれている方法ではD I I) E Aを収率
良く得ることができない。
そこで1本発明者は、鋭意研究を行なった結果、意外に
も、貴金属触媒の存在下反応系内に原料のアセトアルデ
ヒドを供給しながらDIPAとアセトアルデヒドの接触
還元反応を行なうことにより、DIPEAの収率が著し
く向上することを見出し本発明の第2発明を完成するに
至った。ところでラネーNi触媒の存在下反応系内に原
料のアセトアルデヒドを供給しながらDIPAとアセト
アルデヒドの接触還元反応を行なっても、主たる生成物
はアセトアルデヒドの還元体であるエチルアルコールで
ありDIPIEAの生成をほとんど認めることができな
い。
本第2発明では水素化触媒として貴金属触媒を用いるこ
と及び反応系内にアセトアルデヒドを供給しながら接触
還元反応を行なうことが重要である。
本発明の方法に用いる貴金属触媒としては通常使用され
る水素化用貴金属触媒が挙げられ、その具体例としては
パラジウム−カーボン、ルテニウム−カーボン、ロジウ
ム−カーボン、白金−カーボンなどが挙げられる。貴金
属触媒の使用量は。
エチルアミン又はジイソプロピルアミンに対して1〜2
0%重量の範囲が反応効率、触媒効率の面から好ましい
本発明の第19!明の方法について更に説明する。
アセトンの使用量は通常エチルアミンに対して2倍〜3
0倍モルで、好ましくは4〜16倍モルと過剰に用いる
ことにより反応が好適に進行する。アセトンの使用量が
エチルアミンに対して2倍モル未満であると、DIPE
AよりもM I P E Aの方の生成率が増す。
エチルアミンは水溶液として反応に供することができる
。エチルアミン水溶液としては工業的に人毛しやすい7
0%品が用いられる。
本発明の第1発明の反応は比較的低温下で生成可能なM
 I PEAを経由してD I PEAを生成するもの
である0本発明の第1発明の好ましい一つの実施態様に
よれば、エチルアミン、アセトン及び貴金属触媒をオー
トクレーブに仕込み、水素を導入しながら100〜18
0℃好ましくは130〜160℃まで徐々に加温し、該
温度に保ちながら常圧以上好ましくは5〜60気圧で水
素の導入を続ければよい、水素導入開始後3〜10時間
で水素の吸収が終了し、エチルアミンはほとんど消費さ
れる。他の好ましい実施態様としては、常温〜90℃程
度でエチルアミンとアセトンを貴金属触媒存在下で接触
還元反応させてMIPCAを製造単離し1次いで中継さ
れたMIPEAとアセトンを貴金属触媒存在下100〜
180℃好ましくは130〜160℃で接触還元反応さ
せてDIPEAをgi造するといった2ステツプの方法
が挙げられる。
また本発明の第1発明の方法において反応液中に含まれ
るM I PEAは反応液から中継後、アセトンとil
l金属触媒存在下で接触還元反応せしめることによりD
IPEAに誘導できる。
つぎに、本発明の第2発明の方法について更に説明する
反応系内に供給するアセトアルデヒドは、1) I P
 Aに対して1〜2.0倍モルと理論量ないし過剰に用
いるのが好ましい。アセトアルデヒドは低沸点のため溶
媒で希釈して供給する方が操作しやすい、溶媒としては
水、或はアミンとアセトアルデヒドに対して不活性な有
機溶媒などが使用できるが、後処理の操作性のよい水が
好ましい。
溶媒量としては特に制限はないが、生産効率を考慮した
場合、アセトアルデヒドに対して0.5〜3倍!nにが
好ましい。
反応温度は通常室温〜200℃好ましくは70〜150
℃である8反応圧としては常圧以上好ましくは5〜60
気圧である。アセトアルデヒドの供給時間は1〜6時間
で十分であり、Di)Aはほとんど消費される。
本発明の方法で製造されるD I PEAは一般的な!
11離稍型子段1例えば反応液から濾過により触媒を除
去し、濾液を蒸留することにより極めて容易に高純度で
得られる。
本発明の方法を実施例及び比較例により説明するが1本
発明はそれらの実施例に限定されるものではない。
(実施例) 実施例1 容ff1142の電磁式攪拌式オートクレーブに70%
エチルアミン水溶液64g (1,0モル)、アセトン
464g (8,0モル)及びパラジウム−カーボン6
.4gを仕込み、これに水素を導入、及び加熱して16
0℃、50気圧に昇温昇圧し接触還元反応を行なった0
次いで当該温度、当該圧を保ちながら水素の導入を続は
接触還元反応を行なった。水素吸収は水素導入開始後7
時間で終了した1反応液を冷却後、濾過して触媒を濾別
し、濾液を蒸留してD I PEAを82゜8g(収率
64.2%)及びMIPI三Aを20゜3g(収率23
.3%)得た。
実施例2 反応温度を180℃に代えた他は実施例!と同様にして
反応及び後処理を行ない、DIPEAを57.7g (
収率44.7%)及びMIPCAを29.6g (収率
34.0%)得た。
実施例3 70%エチルアミン水溶液を45g (0,7−f−ル
)及びアセトンを487g (8,4モル)に代えた他
は実施例1と同様にして反応及び後処理を行ない、DI
PEAを60.8g (収率67゜:3%)及びMIP
CAを12.0g (収率19゜7%)得た。
実施例4 70%エチルアミン水溶液を257 g (4−fl−
ル)、アセトンを232g (4モル)及びパラジウム
−カーボンを3.5g反応温度を70’Cに代えた他は
実施例1と同様にして反応及び後処理を行ない、M I
 r’ E Aを334.4g (収率96゜1%)得
た。なお、水素吸収は水素導入開始後4時間で終了した
ついで、得られたMIPI三A100g (1゜15モ
ル)、アセトン333g (5,75モル)及びパラジ
ウム−カーボン7.4gを容1i1Jltの電磁式攪拌
式オートクレーブに仕込み、これに水素を導入しながら
160℃、40気圧で5時間接触還元反応を行なった。
反応液を冷却後、濾過して触媒を濾別し、濾液を蒸留し
てDIPEAを105.9g (収率71.4%)、未
反応M I PEAを8.4g(回収率8,4%)得た
実施例5 容ff1lJ2の電磁式攪拌式オートクレーブにDII
’A202g (2,0モル)及びパラジウム−カーボ
ン12.9gを仕込み、これに水素を導入し加熱し12
0℃、25気圧とした8次いで50%アセトアルデヒド
水溶液184g (2゜1モル)を高圧定攪ポンプにて
及び25気圧を保つように水素をオートクレーブ内に3
時間かけて供給しながら接触還元反応を行なった0反応
液を冷却後、濾過して触媒を濾別し、2層に分液した濾
液のオイル層を蒸留してD I P EAを210゜O
g(収率81゜4%)及び未反応DIPAを17.8g
 (回収率8.8%)得た。他にエタノールがIQ、4
g (収率10.8%)副生していた。
実施例6 パラジウム−カーボンを7.7g及び50%アセトアル
デヒド水i8液を228g (2,6モル)に代えた他
は実施例5と同様にして反応及び後処理を行ない、D 
I )) [’:八を236.1g (収率91.5%
)得、未反応DIPAは0.6g (回収率Q、3%)
とほとんど残っていなかった。他にエタノールが10.
5g (収率8.8%)副生じていた。
比較例1 容量1℃の電磁式攪拌式オートクレーブに1)IPΔ2
02g (2,0モル)、50%アセトアルデヒド水溶
液184g(2,1モル)及びパラジウム−カーボン7
.7gを仕込み、これに水素を導入しながら120℃、
25気圧で接触還元反応を行なったところ、1時間30
分で水素の吸収が止まり反応は終丁した。反応液を冷却
後、濾過して触媒を濾別し、2層に分液した濾液のオイ
ル層を蒸留してD I PEAを23.5g (収率9
.1%)及び未反応DIPAを68.3g (回収率3
3.8%)得た。他に高沸物が多種多量に副生じていた
比較例2 パラジウム−カーボンをラネーNi52gに代えた他は
実施例6と同様にして反応及び後処理を行なった。DI
PEAの生成量はトレースであり、未反応DIPAを1
94.9g (回収率96.5%)及びエタノールをz
sg(収率98.7%)得た。
(発明の効果) 本発明の第1及び2発明によれば、従来法に比べ安価な
原料で良好な収率でD I P rE Aが得られる。
特許出願人  広栄化字工業株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)エチルアミンとアセトンを貴金属触媒の存在下、接
    触還元反応させることを特徴とするN,N−ジイソプロ
    ピルエチルアミンの製造法。 2)ジイソプロピルアミンとアセトアルデヒドを貴金属
    触媒の存在下、接触還元反応させてN,N−ジイソプロ
    ピルエチルアミンするにあたり、反応系内にアセトアル
    デヒドを供給しながら反応することを特徴とするN,N
    −ジイソプロピルエチルアミンの製造法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1020424A1 (de) * 1999-01-14 2000-07-19 Basf Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung von N-Ethyl-diisopropylamin
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