JPH02174205A - 軟磁性薄膜 - Google Patents
軟磁性薄膜Info
- Publication number
- JPH02174205A JPH02174205A JP32793388A JP32793388A JPH02174205A JP H02174205 A JPH02174205 A JP H02174205A JP 32793388 A JP32793388 A JP 32793388A JP 32793388 A JP32793388 A JP 32793388A JP H02174205 A JPH02174205 A JP H02174205A
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- Japan
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- thin film
- soft magnetic
- coercive force
- magnetic thin
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Links
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/14—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing iron or nickel
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は磁気ヘッドの材料等として好適な軟磁性薄膜に
関する。
関する。
［発明の背景］
例えばオーディオテープレコーダやＶＴＲ（ビデオテー
プレコーダ）等の磁気記録再生装置においては、記録信
号の高密度化や高品質化等が進められており、この高記
録密度化に対応して、磁気記録媒体として磁性粉にＦｅ
、Ｃｏ、Ｎ１等の金属あるいは合金からなる粉末を用い
た。いわゆるメタルテープや１強磁性金属材料を真空薄
膜形成技術によりベースフィルム上に直接被着した。い
わゆる蒸着テープ等が開発され８各分野で実用化されて
いる。
プレコーダ）等の磁気記録再生装置においては、記録信
号の高密度化や高品質化等が進められており、この高記
録密度化に対応して、磁気記録媒体として磁性粉にＦｅ
、Ｃｏ、Ｎ１等の金属あるいは合金からなる粉末を用い
た。いわゆるメタルテープや１強磁性金属材料を真空薄
膜形成技術によりベースフィルム上に直接被着した。い
わゆる蒸着テープ等が開発され８各分野で実用化されて
いる。
［従来の技術及び発明が解決しようとする課８］ところ
で、このような高抗磁力を有する磁気記録媒体の特性を
発揮せしめるためには、磁気ヘッドのコア材料の特性と
して、高い飽和磁束密度を有するとともに、同一の磁気
ヘッドで再生を行なおうとする場合においては、高透磁
率を併せて有することが要求される。例えば、従来磁気
ヘッドのコア材料として多用されているフェライト材で
は飽和磁束密度が低く、また、パーマロイでは耐摩耗性
に問題がある。
で、このような高抗磁力を有する磁気記録媒体の特性を
発揮せしめるためには、磁気ヘッドのコア材料の特性と
して、高い飽和磁束密度を有するとともに、同一の磁気
ヘッドで再生を行なおうとする場合においては、高透磁
率を併せて有することが要求される。例えば、従来磁気
ヘッドのコア材料として多用されているフェライト材で
は飽和磁束密度が低く、また、パーマロイでは耐摩耗性
に問題がある。
従来、かかる諸要求を満たすコア材料として。
Ｆｅ−Ａ、ｇ−８ｔ系合金からなるセンダスト合金が好
適であると考えられ、すでに実用に供されている。
適であると考えられ、すでに実用に供されている。
しかしながら、このセンダスト合金のように軟磁気特性
に優れた材料においては、磁歪λＳと結晶磁気異方性Ｋ
が共に零付近であることが望ましく、磁気ヘッドに使用
可能な材料組成はこれら両者の値を考慮して決められる
。したがって、飽和磁束密度もこの組成に対応して一義
的に決まり。
に優れた材料においては、磁歪λＳと結晶磁気異方性Ｋ
が共に零付近であることが望ましく、磁気ヘッドに使用
可能な材料組成はこれら両者の値を考慮して決められる
。したがって、飽和磁束密度もこの組成に対応して一義
的に決まり。
センダスト合金の場合、１０〜１１にガウスが限界であ
る。
る。
そのため、上記センダスト合金にかわり、高周波数領域
での透磁率の低下が少なく高い飽和磁束密度を有する非
晶質磁性合金材料（いわゆるアモルファス磁性合金材料
）も開発されているが、この非晶質磁性合金材料でも飽
和磁束密度は１２にガウス程度であり、また、熱的に不
安定で結晶化の可能性が大きいので５００℃以上の温度
を長時間加えることができず２例えばガラス融着のよう
に各種熱処理が必要な磁気ヘッドに使用するには工程上
制限が生ずる。
での透磁率の低下が少なく高い飽和磁束密度を有する非
晶質磁性合金材料（いわゆるアモルファス磁性合金材料
）も開発されているが、この非晶質磁性合金材料でも飽
和磁束密度は１２にガウス程度であり、また、熱的に不
安定で結晶化の可能性が大きいので５００℃以上の温度
を長時間加えることができず２例えばガラス融着のよう
に各種熱処理が必要な磁気ヘッドに使用するには工程上
制限が生ずる。
本発明は上記従来の技術の欠点を改良した軟磁性薄膜を
提供することを目的とする。
提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明によれば、 １２〜２５原子％（ａｔ％）のＳｉ
と０．５〜ｌＯ原子％のＲｕと残部Ｆｅとを主成分とし
て成る軟磁性薄膜に゛より、上記目的を達成することが
できる。
と０．５〜ｌＯ原子％のＲｕと残部Ｆｅとを主成分とし
て成る軟磁性薄膜に゛より、上記目的を達成することが
できる。
〔好適な実施態様及び作用］
本発明の軟磁性薄膜は、 １２〜２５原子％のＳｉと０
．５〜１０原子％のＲｕと残部Ｆｅとを主成分として成
る。０．５〜ＩＯ原子％のＲｕの存在により、保磁力１
１ｃを低下させることができ、また耐食性を向上させる
ことができる。Ｒｕの好ましい範囲は１〜８原子％であ
り、より好ましくは２〜６原子％である。Ｒｕが０．５
原子％未満の場合にはＲｕの存在による効果、即ち保磁
力ｌｉｅの低下及び耐食性の向上を図ることが困難なこ
とが多く、逆に１０原子％を越えると保磁力Ｈｅがかえ
って増大し好ましくない。
．５〜１０原子％のＲｕと残部Ｆｅとを主成分として成
る。０．５〜ＩＯ原子％のＲｕの存在により、保磁力１
１ｃを低下させることができ、また耐食性を向上させる
ことができる。Ｒｕの好ましい範囲は１〜８原子％であ
り、より好ましくは２〜６原子％である。Ｒｕが０．５
原子％未満の場合にはＲｕの存在による効果、即ち保磁
力ｌｉｅの低下及び耐食性の向上を図ることが困難なこ
とが多く、逆に１０原子％を越えると保磁力Ｈｅがかえ
って増大し好ましくない。
Ｓｌが１２原子％以上の場合はＲｕの添加により保磁力
Ｈｅを減少させることができる。しかし。
Ｈｅを減少させることができる。しかし。
Ｓｌが２５原子％を越えると飽和磁束密度Ｂｓが低下し
て１２ＫＧ未満になり、Ｆｅ−Ａｌ−５ｔ系及びＦｅ−
Ｇａ−５ｔ−Ｒｕ系軟磁性材料と比ヘテ優位性がなくな
ってしまう。Ｓｉの好ましい範囲は１７〜２３原子％で
ある。Ｓｉが１２原子％未満の場合１例えばＳｉが１１
原子％の場合は、Ｒｕの添加により保磁力Ｈｅが増大し
好ましくない。
て１２ＫＧ未満になり、Ｆｅ−Ａｌ−５ｔ系及びＦｅ−
Ｇａ−５ｔ−Ｒｕ系軟磁性材料と比ヘテ優位性がなくな
ってしまう。Ｓｉの好ましい範囲は１７〜２３原子％で
ある。Ｓｉが１２原子％未満の場合１例えばＳｉが１１
原子％の場合は、Ｒｕの添加により保磁力Ｈｅが増大し
好ましくない。
本発明の軟磁性薄膜は２例えばＲＦスパッタ法等の気相
析着法により製膜しこれを３５０〜６００℃程度で熱処
理して製造することができる。前記熱処理は２例えば、
１時間程度で十分である。
析着法により製膜しこれを３５０〜６００℃程度で熱処
理して製造することができる。前記熱処理は２例えば、
１時間程度で十分である。
前記熱処理を例えば３００℃程度以下で行なうと、 Ｈ
ｅが所定範囲を越えるものが製造されるので好ましくな
く、逆に２例えば８００℃以上で行なうと基板との反応
等により特性が低下゛すると思われる。好ましいのは凡
そ、３５０〜５５０℃の範囲である。
ｅが所定範囲を越えるものが製造されるので好ましくな
く、逆に２例えば８００℃以上で行なうと基板との反応
等により特性が低下゛すると思われる。好ましいのは凡
そ、３５０〜５５０℃の範囲である。
［実施例］
純Ｆｅ（３Ｎ）のターゲット上にＳｔ及びＲｕの２Ｎの
小片を適宜配してＲＦスパッタ法により、結晶化ガラス
基板（保谷ガラス社製、商品名ＨＯＹＡ ＰＥＧ３１
３０Ｃ）上に種々の成分の薄膜を製膜した。前記スパッ
タ条件は、陰極電力２００Ｗ、 Ａ ｒガス圧２．０Ｐ
ａであった。前記薄膜を５００℃１時間で熱処理して軟
磁性薄膜を得てＢ−Ｈカーブｎ１定を行なった。Ｂ−Ｈ
カーブは２５（Ｏｅ）の磁界を周波数５０Ｈｚで印加し
て測定し保磁力１１ｃを求めた。また、飽和磁束密度Ｂ
ｓを測定した。それらの結果をＳｉ含有量ごとに分類し
てプロットしたものが第１図及び第２図である。第１図
により、５ｉｌ１％のものはＲｕ添加によってＨｃは増
大してしまうが、 １３％以上Ｓｌを含有したものはＲ
ｕ添加によってさらにＨｅが低下しているということが
わかり、第２図により本発明の軟磁性薄膜は飽和磁束密
度Ｂｓが大きいということがわかる。
小片を適宜配してＲＦスパッタ法により、結晶化ガラス
基板（保谷ガラス社製、商品名ＨＯＹＡ ＰＥＧ３１
３０Ｃ）上に種々の成分の薄膜を製膜した。前記スパッ
タ条件は、陰極電力２００Ｗ、 Ａ ｒガス圧２．０Ｐ
ａであった。前記薄膜を５００℃１時間で熱処理して軟
磁性薄膜を得てＢ−Ｈカーブｎ１定を行なった。Ｂ−Ｈ
カーブは２５（Ｏｅ）の磁界を周波数５０Ｈｚで印加し
て測定し保磁力１１ｃを求めた。また、飽和磁束密度Ｂ
ｓを測定した。それらの結果をＳｉ含有量ごとに分類し
てプロットしたものが第１図及び第２図である。第１図
により、５ｉｌ１％のものはＲｕ添加によってＨｃは増
大してしまうが、 １３％以上Ｓｌを含有したものはＲ
ｕ添加によってさらにＨｅが低下しているということが
わかり、第２図により本発明の軟磁性薄膜は飽和磁束密
度Ｂｓが大きいということがわかる。
［発明の効果］
本発明の軟磁性薄膜は、 １２〜２５原子％のＳｔと０
．５〜ｌＯ原子％のＲｕと残部Ｆｅとを主成分として成
り、前記Ｒｕの存在により保磁力Ｈｅを減少させること
ができるとともに耐食性を向上させることができ、さら
にＦｅ−ＡＪ−Ｓｉ系及びＦｅ−Ｇａ−５ｉ−Ｒｕ系軟
磁性材料よりも大きな飽和磁束密度１１１ｓ （１２Ｋ
Ｇを越える）を有する。
．５〜ｌＯ原子％のＲｕと残部Ｆｅとを主成分として成
り、前記Ｒｕの存在により保磁力Ｈｅを減少させること
ができるとともに耐食性を向上させることができ、さら
にＦｅ−ＡＪ−Ｓｉ系及びＦｅ−Ｇａ−５ｉ−Ｒｕ系軟
磁性材料よりも大きな飽和磁束密度１１１ｓ （１２Ｋ
Ｇを越える）を有する。
したがって、この軟磁性薄膜を例えば磁気ヘッドのコア
材料として用いることにより、磁気記録媒体の高抗磁力
化に充分対処することができ、高品質化や高記録密度化
を図ることが可能となる。
材料として用いることにより、磁気記録媒体の高抗磁力
化に充分対処することができ、高品質化や高記録密度化
を図ることが可能となる。
Ｓｉ Ｒｕ （ａｔ％）を
第１図は’ Ｆｅ１００−ｘ−ｙ ｙ ｘ主成
分として成る軟磁性薄膜の保磁力Ｈｅを示す図、第２図
は前記軟磁性薄膜の飽和磁束密度ＢｓをＨｃ（Ｏｅ） 第 図 示す図である。
分として成る軟磁性薄膜の保磁力Ｈｅを示す図、第２図
は前記軟磁性薄膜の飽和磁束密度ＢｓをＨｃ（Ｏｅ） 第 図 示す図である。
Claims (1)
- １２〜２５原子％のＳｉと０．５〜１０原子％のＲｕと
残部Ｆｅとを主成分として成る軟磁性薄膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32793388A JPH02174205A (ja) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | 軟磁性薄膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32793388A JPH02174205A (ja) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | 軟磁性薄膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02174205A true JPH02174205A (ja) | 1990-07-05 |
Family
ID=18204631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32793388A Pending JPH02174205A (ja) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | 軟磁性薄膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02174205A (ja) |
-
1988
- 1988-12-27 JP JP32793388A patent/JPH02174205A/ja active Pending
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