JPH02174205A - 軟磁性薄膜 - Google Patents
軟磁性薄膜Info
- Publication number
- JPH02174205A JPH02174205A JP32793388A JP32793388A JPH02174205A JP H02174205 A JPH02174205 A JP H02174205A JP 32793388 A JP32793388 A JP 32793388A JP 32793388 A JP32793388 A JP 32793388A JP H02174205 A JPH02174205 A JP H02174205A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- soft magnetic
- coercive force
- magnetic thin
- 10atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 40
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 4
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 abstract 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 4
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 241000511976 Hoya Species 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/14—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing iron or nickel
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は磁気ヘッドの材料等として好適な軟磁性薄膜に
関する。
関する。
[発明の背景]
例えばオーディオテープレコーダやVTR(ビデオテー
プレコーダ)等の磁気記録再生装置においては、記録信
号の高密度化や高品質化等が進められており、この高記
録密度化に対応して、磁気記録媒体として磁性粉にFe
、Co、N1等の金属あるいは合金からなる粉末を用い
た。いわゆるメタルテープや1強磁性金属材料を真空薄
膜形成技術によりベースフィルム上に直接被着した。い
わゆる蒸着テープ等が開発され8各分野で実用化されて
いる。
プレコーダ)等の磁気記録再生装置においては、記録信
号の高密度化や高品質化等が進められており、この高記
録密度化に対応して、磁気記録媒体として磁性粉にFe
、Co、N1等の金属あるいは合金からなる粉末を用い
た。いわゆるメタルテープや1強磁性金属材料を真空薄
膜形成技術によりベースフィルム上に直接被着した。い
わゆる蒸着テープ等が開発され8各分野で実用化されて
いる。
[従来の技術及び発明が解決しようとする課8]ところ
で、このような高抗磁力を有する磁気記録媒体の特性を
発揮せしめるためには、磁気ヘッドのコア材料の特性と
して、高い飽和磁束密度を有するとともに、同一の磁気
ヘッドで再生を行なおうとする場合においては、高透磁
率を併せて有することが要求される。例えば、従来磁気
ヘッドのコア材料として多用されているフェライト材で
は飽和磁束密度が低く、また、パーマロイでは耐摩耗性
に問題がある。
で、このような高抗磁力を有する磁気記録媒体の特性を
発揮せしめるためには、磁気ヘッドのコア材料の特性と
して、高い飽和磁束密度を有するとともに、同一の磁気
ヘッドで再生を行なおうとする場合においては、高透磁
率を併せて有することが要求される。例えば、従来磁気
ヘッドのコア材料として多用されているフェライト材で
は飽和磁束密度が低く、また、パーマロイでは耐摩耗性
に問題がある。
従来、かかる諸要求を満たすコア材料として。
Fe−A、g−8t系合金からなるセンダスト合金が好
適であると考えられ、すでに実用に供されている。
適であると考えられ、すでに実用に供されている。
しかしながら、このセンダスト合金のように軟磁気特性
に優れた材料においては、磁歪λSと結晶磁気異方性K
が共に零付近であることが望ましく、磁気ヘッドに使用
可能な材料組成はこれら両者の値を考慮して決められる
。したがって、飽和磁束密度もこの組成に対応して一義
的に決まり。
に優れた材料においては、磁歪λSと結晶磁気異方性K
が共に零付近であることが望ましく、磁気ヘッドに使用
可能な材料組成はこれら両者の値を考慮して決められる
。したがって、飽和磁束密度もこの組成に対応して一義
的に決まり。
センダスト合金の場合、10〜11にガウスが限界であ
る。
る。
そのため、上記センダスト合金にかわり、高周波数領域
での透磁率の低下が少なく高い飽和磁束密度を有する非
晶質磁性合金材料(いわゆるアモルファス磁性合金材料
)も開発されているが、この非晶質磁性合金材料でも飽
和磁束密度は12にガウス程度であり、また、熱的に不
安定で結晶化の可能性が大きいので500℃以上の温度
を長時間加えることができず2例えばガラス融着のよう
に各種熱処理が必要な磁気ヘッドに使用するには工程上
制限が生ずる。
での透磁率の低下が少なく高い飽和磁束密度を有する非
晶質磁性合金材料(いわゆるアモルファス磁性合金材料
)も開発されているが、この非晶質磁性合金材料でも飽
和磁束密度は12にガウス程度であり、また、熱的に不
安定で結晶化の可能性が大きいので500℃以上の温度
を長時間加えることができず2例えばガラス融着のよう
に各種熱処理が必要な磁気ヘッドに使用するには工程上
制限が生ずる。
本発明は上記従来の技術の欠点を改良した軟磁性薄膜を
提供することを目的とする。
提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明によれば、 12〜25原子%(at%)のSi
と0.5〜lO原子%のRuと残部Feとを主成分とし
て成る軟磁性薄膜に゛より、上記目的を達成することが
できる。
と0.5〜lO原子%のRuと残部Feとを主成分とし
て成る軟磁性薄膜に゛より、上記目的を達成することが
できる。
〔好適な実施態様及び作用]
本発明の軟磁性薄膜は、 12〜25原子%のSiと0
.5〜10原子%のRuと残部Feとを主成分として成
る。0.5〜IO原子%のRuの存在により、保磁力1
1cを低下させることができ、また耐食性を向上させる
ことができる。Ruの好ましい範囲は1〜8原子%であ
り、より好ましくは2〜6原子%である。Ruが0.5
原子%未満の場合にはRuの存在による効果、即ち保磁
力lieの低下及び耐食性の向上を図ることが困難なこ
とが多く、逆に10原子%を越えると保磁力Heがかえ
って増大し好ましくない。
.5〜10原子%のRuと残部Feとを主成分として成
る。0.5〜IO原子%のRuの存在により、保磁力1
1cを低下させることができ、また耐食性を向上させる
ことができる。Ruの好ましい範囲は1〜8原子%であ
り、より好ましくは2〜6原子%である。Ruが0.5
原子%未満の場合にはRuの存在による効果、即ち保磁
力lieの低下及び耐食性の向上を図ることが困難なこ
とが多く、逆に10原子%を越えると保磁力Heがかえ
って増大し好ましくない。
Slが12原子%以上の場合はRuの添加により保磁力
Heを減少させることができる。しかし。
Heを減少させることができる。しかし。
Slが25原子%を越えると飽和磁束密度Bsが低下し
て12KG未満になり、Fe−Al−5t系及びFe−
Ga−5t−Ru系軟磁性材料と比ヘテ優位性がなくな
ってしまう。Siの好ましい範囲は17〜23原子%で
ある。Siが12原子%未満の場合1例えばSiが11
原子%の場合は、Ruの添加により保磁力Heが増大し
好ましくない。
て12KG未満になり、Fe−Al−5t系及びFe−
Ga−5t−Ru系軟磁性材料と比ヘテ優位性がなくな
ってしまう。Siの好ましい範囲は17〜23原子%で
ある。Siが12原子%未満の場合1例えばSiが11
原子%の場合は、Ruの添加により保磁力Heが増大し
好ましくない。
本発明の軟磁性薄膜は2例えばRFスパッタ法等の気相
析着法により製膜しこれを350〜600℃程度で熱処
理して製造することができる。前記熱処理は2例えば、
1時間程度で十分である。
析着法により製膜しこれを350〜600℃程度で熱処
理して製造することができる。前記熱処理は2例えば、
1時間程度で十分である。
前記熱処理を例えば300℃程度以下で行なうと、 H
eが所定範囲を越えるものが製造されるので好ましくな
く、逆に2例えば800℃以上で行なうと基板との反応
等により特性が低下゛すると思われる。好ましいのは凡
そ、350〜550℃の範囲である。
eが所定範囲を越えるものが製造されるので好ましくな
く、逆に2例えば800℃以上で行なうと基板との反応
等により特性が低下゛すると思われる。好ましいのは凡
そ、350〜550℃の範囲である。
[実施例]
純Fe(3N)のターゲット上にSt及びRuの2Nの
小片を適宜配してRFスパッタ法により、結晶化ガラス
基板(保谷ガラス社製、商品名HOYA PEG31
30C)上に種々の成分の薄膜を製膜した。前記スパッ
タ条件は、陰極電力200W、 A rガス圧2.0P
aであった。前記薄膜を500℃1時間で熱処理して軟
磁性薄膜を得てB−Hカーブn1定を行なった。B−H
カーブは25(Oe)の磁界を周波数50Hzで印加し
て測定し保磁力11cを求めた。また、飽和磁束密度B
sを測定した。それらの結果をSi含有量ごとに分類し
てプロットしたものが第1図及び第2図である。第1図
により、5il1%のものはRu添加によってHcは増
大してしまうが、 13%以上Slを含有したものはR
u添加によってさらにHeが低下しているということが
わかり、第2図により本発明の軟磁性薄膜は飽和磁束密
度Bsが大きいということがわかる。
小片を適宜配してRFスパッタ法により、結晶化ガラス
基板(保谷ガラス社製、商品名HOYA PEG31
30C)上に種々の成分の薄膜を製膜した。前記スパッ
タ条件は、陰極電力200W、 A rガス圧2.0P
aであった。前記薄膜を500℃1時間で熱処理して軟
磁性薄膜を得てB−Hカーブn1定を行なった。B−H
カーブは25(Oe)の磁界を周波数50Hzで印加し
て測定し保磁力11cを求めた。また、飽和磁束密度B
sを測定した。それらの結果をSi含有量ごとに分類し
てプロットしたものが第1図及び第2図である。第1図
により、5il1%のものはRu添加によってHcは増
大してしまうが、 13%以上Slを含有したものはR
u添加によってさらにHeが低下しているということが
わかり、第2図により本発明の軟磁性薄膜は飽和磁束密
度Bsが大きいということがわかる。
[発明の効果]
本発明の軟磁性薄膜は、 12〜25原子%のStと0
.5〜lO原子%のRuと残部Feとを主成分として成
り、前記Ruの存在により保磁力Heを減少させること
ができるとともに耐食性を向上させることができ、さら
にFe−AJ−Si系及びFe−Ga−5i−Ru系軟
磁性材料よりも大きな飽和磁束密度111s (12K
Gを越える)を有する。
.5〜lO原子%のRuと残部Feとを主成分として成
り、前記Ruの存在により保磁力Heを減少させること
ができるとともに耐食性を向上させることができ、さら
にFe−AJ−Si系及びFe−Ga−5i−Ru系軟
磁性材料よりも大きな飽和磁束密度111s (12K
Gを越える)を有する。
したがって、この軟磁性薄膜を例えば磁気ヘッドのコア
材料として用いることにより、磁気記録媒体の高抗磁力
化に充分対処することができ、高品質化や高記録密度化
を図ることが可能となる。
材料として用いることにより、磁気記録媒体の高抗磁力
化に充分対処することができ、高品質化や高記録密度化
を図ることが可能となる。
Si Ru (at%)を
第1図は’ Fe100−x−y y x主成
分として成る軟磁性薄膜の保磁力Heを示す図、第2図
は前記軟磁性薄膜の飽和磁束密度BsをHc(Oe) 第 図 示す図である。
分として成る軟磁性薄膜の保磁力Heを示す図、第2図
は前記軟磁性薄膜の飽和磁束密度BsをHc(Oe) 第 図 示す図である。
Claims (1)
- 12〜25原子%のSiと0.5〜10原子%のRuと
残部Feとを主成分として成る軟磁性薄膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32793388A JPH02174205A (ja) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | 軟磁性薄膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32793388A JPH02174205A (ja) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | 軟磁性薄膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02174205A true JPH02174205A (ja) | 1990-07-05 |
Family
ID=18204631
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32793388A Pending JPH02174205A (ja) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | 軟磁性薄膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02174205A (ja) |
-
1988
- 1988-12-27 JP JP32793388A patent/JPH02174205A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2963003B2 (ja) | 軟磁性合金薄膜及びその製造方法 | |
JP2698814B2 (ja) | 軟磁性薄膜 | |
JPS6129105A (ja) | 磁性合金薄膜 | |
JPH02174205A (ja) | 軟磁性薄膜 | |
JPH0484403A (ja) | 軟磁性薄膜 | |
JP2698813B2 (ja) | 軟磁性薄膜 | |
JPS6195503A (ja) | 非晶質軟磁性薄膜 | |
JPS6313256B2 (ja) | ||
JP2522284B2 (ja) | 軟磁性薄膜 | |
JP3279591B2 (ja) | 強磁性薄膜とその製造方法 | |
JP2707213B2 (ja) | 磁気ヘッド用鉄系軟磁性薄膜合金及びその製造方法 | |
JP2657710B2 (ja) | 軟磁性薄膜の製造方法 | |
JP2979557B2 (ja) | 軟磁性膜 | |
JPH0376102A (ja) | 多層磁性薄膜およびこれを用いた磁気ヘッド | |
JPH02189906A (ja) | 軟磁性薄膜 | |
KR0136419B1 (ko) | 연자성 합금 박막재료 | |
JPS62104108A (ja) | 結晶質軟磁性薄膜 | |
JPS61234510A (ja) | 軟磁性薄膜 | |
JPS62104107A (ja) | 結晶質軟磁性薄膜 | |
JPS633406A (ja) | 結晶質軟磁性薄膜 | |
JPS62104110A (ja) | 軟磁性薄膜 | |
JPS63146417A (ja) | 軟磁性薄膜 | |
JPH0746656B2 (ja) | 結晶質軟磁性薄膜 | |
JPS61234509A (ja) | 軟磁性薄膜 | |
JPH05234751A (ja) | 薄膜磁気ヘッド用高飽和磁束密度を有する軟磁性合金膜及び磁気ヘッド。 |