JPH02158629A - Biaxially orientated polyester film - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To produce the title film producing tapes having surface to be slightly damaged even by high-speed travel and image qualities (ratio of signal/noise) not lowering in dubbing process by blending a polyester with specific silicon carbide particles to exhibit fixed properties. CONSTITUTION:A biaxially orientated film comprising a polyester and silicon carbide particles having 0.01-2.0mum average particle diameter, >=14cm<-1> Raman crystallized index of total reflection on at least one side of film and <=1.7 ratio of particle diameter of silicon carbide particles in film. Single particle index of silicon carbide particles in film is >=0.6. A polyester comprising ethylene terephthalate as a main constituent component is especially preferable because of further improvement in dubbing properties and scratching resistance. The silicon carbide particles are preferably triangular-decagonal.

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は二軸配向ポリエステルフィルムに関するもので
ある。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to biaxially oriented polyester films.

［従来の技術］ 二軸配向ポリエステルフィルムとしては、ポリエステル
に不活性無機粒子を含有せしめたフィルムが知られてい
る（たとえば、特開昭６１−２３７６２３号公報）。[Prior Art] As a biaxially oriented polyester film, a film made of polyester containing inert inorganic particles is known (for example, JP-A-61-237623).

し発明が解決しようとする課題］ しかし、上記従来の二軸配向ポリエステルフィルムは、
フィルムの加工工程、たとえば包装用途における印刷工
程、磁気媒体用途における磁性層塗布・カレンダー工程
などの工程速度の増大にともない、接触するロールなど
でフィルムの表面に傷がつき製品性能上のトラブルとな
るという欠点が、最近、問題となってきている。また、
最近マーケーットが拡大しつつあるソフトテープ（映画
などをあらかじめ録画したテープ）に従来のポリエステ
ルフィルムからなるビデオテープを用いると、ソフトテ
ープを作成する時のダビング工程（記録の複写）で画質
、すなわち、Ｓ／Ｎ　（シグナル／ノイズ比）が低下す
るという欠点が問題となってきている。Problems to be Solved by the Invention] However, the above conventional biaxially oriented polyester film has the following problems:
As the speed of film processing processes increases, such as the printing process for packaging applications and the magnetic layer coating/calendering process for magnetic media applications, the surface of the film may be scratched by contacting rolls, causing problems in product performance. This shortcoming has recently become a problem. Also,
If a videotape made of conventional polyester film is used as a soft tape (tape on which movies, etc. are pre-recorded), which has been expanding in the market recently, the image quality will be improved during the dubbing process (copying the recording) when creating the soft tape. The drawback of reduced S/N (signal/noise ratio) has become a problem.

本発明はかかる問題点を改善し、高速走行させても表面
が傷つきに＜＜（以下耐スクラッチ性に優れるという）
、シかも、ダビング工程で画質、すなわち、Ｓ／Ｎ（シ
グナル／ノイズ比）が低下しないテープを作り得るポリ
エステルフィルム（以下耐ダビング性に優れるという）
を提供することを課題とする。The present invention has improved this problem and the surface will not be scratched even when running at high speed (hereinafter referred to as excellent scratch resistance).
However, a polyester film (hereinafter referred to as having excellent dubbing resistance) can be used to create a tape that does not deteriorate image quality, that is, S/N (signal/noise ratio) during the dubbing process.
The challenge is to provide the following.

［課題を解決するための手段］ ポリエステルと炭化ケイ素粒子からなる組成物を主たる
成分とする二軸配向フィルムであって、該炭化ケイ素粒
子の平均粒径が０．０１〜２．０μｍ、フィルムの少な
くとも片面の全反射ラマン結晶化指数が１４　ｃｍ−’
以上、かつ、フィルム中の炭化ケイ素粒子の粒径比が１
．７以下の範囲であることを特徴とする二軸配向ポリエ
ステルフィルムとしたものである。[Means for Solving the Problems] A biaxially oriented film mainly composed of a composition consisting of polyester and silicon carbide particles, wherein the silicon carbide particles have an average particle size of 0.01 to 2.0 μm, and Total reflection Raman crystallization index of at least one side is 14 cm-'
or more, and the particle size ratio of silicon carbide particles in the film is 1
．． The biaxially oriented polyester film is characterized in that the molecular weight is within the range of 7 or less.

本発明におけるポリエステルは、エチレンテレフタレー
ト、エチレンα、β−ビス（２−クロルフェノキシ）エ
タン−４，４１−ジカルボキシレート、エチレン２．６
−ナフタレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造
単位を主要構成成分とする。ただし、本発明を阻害しな
い範囲内、好ましくは１０モル％以内であれは他成分が
共重合されていてもよい。The polyester in the present invention includes ethylene terephthalate, ethylene α, β-bis(2-chlorophenoxy)ethane-4,41-dicarboxylate, ethylene 2.6
- Contains at least one structural unit selected from naphthalate units as a main constituent. However, other components may be copolymerized within a range that does not interfere with the present invention, preferably within 10 mol%.

また、エチレンテレフタレートを主要構成成分とするポ
リエステルの場合に耐ダビング性、耐スクラッチ性がよ
り一層良好となるので特に望ましい。In addition, polyester containing ethylene terephthalate as a main component is particularly desirable because it has even better dubbing resistance and scratch resistance.

本発明における炭化ケイ素は、その純度が８０重量％、
好ましくは９０重量％以上であれば他元素が含まれてい
ても使用できる。The silicon carbide in the present invention has a purity of 80% by weight,
Preferably, it can be used even if it contains other elements as long as it is 90% by weight or more.

本発明における炭化ケイ素粒子は、その平均粒径がフィ
ルム中において０．０１〜２．０μｍ１好ましくは０．
０５〜１．５μｍ１さらに好ましくは０．１０〜１．３
μｍの範囲であることが必要である。平均粒径が上記の
範囲より小さいと耐スクラッチ性が不良となり、逆に大
きいと耐ダビング性、耐スクラッチ性が不良となるので
好ましくない。The silicon carbide particles in the present invention have an average particle diameter of 0.01 to 2.0 μm1 in the film, preferably 0.01 μm to 2.0 μm1.
05-1.5μm1 More preferably 0.10-1.3
It is necessary to be in the μm range. If the average particle size is smaller than the above range, the scratch resistance will be poor, whereas if it is larger, the dubbing resistance and scratch resistance will be poor, which is not preferable.

本発明における炭化ケイ素粒子の形状は、顕微鏡写真（
走査電子顕微鏡など）による平面投影の形状が円ではな
く、３角形〜１０角形の多角形である場合に耐スクラッ
チ性、耐ダビング性がより一層良好となるので特に望ま
しい。The shape of the silicon carbide particles in the present invention can be seen in the micrograph (
It is particularly desirable that the shape of the film projected on a plane by a scanning electron microscope (such as a scanning electron microscope) is not a circle but a triangular to decagonal polygon, since this provides even better scratch resistance and dubbing resistance.

本発明における炭化ケイ素粒子のフィルム中の含有量は
特に限定されないが、０．２〜１．５重量％、特に０．
４〜１，０重量％の場合に耐スクラッチ性、耐ダビング
性がより一層良好となるので特に望ましい。The content of silicon carbide particles in the film in the present invention is not particularly limited, but is 0.2 to 1.5% by weight, particularly 0.2 to 1.5% by weight.
A content of 4 to 1.0% by weight is particularly desirable because scratch resistance and dubbing resistance become even better.

本発明における粒子の平均粒径α（μｍ）と含有量β（
重量％）は下式（１）を満足する場合に耐スクラッチ性
、耐ダビング性がより一層良好となるので特に望ましい
。The average particle diameter α (μm) and content β (
% by weight) is particularly desirable if it satisfies the following formula (1) because scratch resistance and dubbing resistance become even better.

０．０１・α　　≦β≦０．０５・α−２・２４　　　
（１）−２，７６ 本発明における炭化ケイ素粒子の結晶化促進係数は０〜
２０℃、特に２〜１５℃の範囲の場合に耐スクラッチ性
、耐ダビング性がより一層良好となるので特に望ましい
。0.01・α ≦β≦0.05・α−2・24
(1)-2,76 The crystallization promotion coefficient of silicon carbide particles in the present invention is 0 to
A temperature range of 20°C, particularly 2 to 15°C, is particularly desirable because scratch resistance and dubbing resistance become even better.

本発明において、本発明の目的を阻害しない範囲内で、
炭化ケイ素粒子以外の無機粒子あるいは内部析出粒子を
併用してもよいし、また粒径の異なる炭化ケイ素粒子を
組合わせて用いてもよい。In the present invention, within the scope that does not impede the purpose of the present invention,
Inorganic particles or internally precipitated particles other than silicon carbide particles may be used in combination, or silicon carbide particles having different particle sizes may be used in combination.

本発明フィルムは、上記組成物を主要成分とするが、本
発明の目的を阻害しない範囲内で、他種ポリマをブレン
ドしてもよいし、また酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫
外線吸収剤、核生成剤などの無機または有機添加剤が通
常添加される程度添加されていてもよい。The film of the present invention has the above-mentioned composition as a main component, but other polymers may be blended within the range that does not impede the purpose of the present invention, and antioxidants, heat stabilizers, lubricants, ultraviolet absorbers, etc. Inorganic or organic additives such as agents, nucleating agents, etc. may be added to the extent that they are normally added.

本発明フィルムは上記組成物を二軸配向せしめたフィル
ムである。未延伸フィルム、−軸配向フィルムでは、耐
ダビング性、耐スクラッチ性が不良となるので好ましく
ない。The film of the present invention is a film in which the above composition is biaxially oriented. An unstretched film or a -axially oriented film is not preferred because it has poor dubbing resistance and scratch resistance.

また、その二軸配向の程度を表わす面配向指数は特に限
定されないか、０．９３５〜０．９７５、特に０．９４
０〜０．９７０の範囲である場合に、耐ダビング性、耐
スクラッチ性がより一層良好となるので特に望ましい。In addition, the plane orientation index representing the degree of biaxial orientation is not particularly limited, or is 0.935 to 0.975, particularly 0.94.
A range of 0 to 0.970 is particularly desirable because dubbing resistance and scratch resistance become even better.

本発明フィルムは、少なくとも片面の全反射ラマン結晶
化指数が１４ｃｍ’以上、好ましくは１６ｃｍ−１以上
、さらに好ましくは１７　ｃｍ−’以上であることが必
要である。両面きも全反射ラマン結晶化指数が上記の範
囲より小さいと耐スクラッチ性、耐ダビング性が不良と
なるので好ましくない。なお、表面の全反射ラマン結晶
化指数の上限は特に限定されないが、２４　ｃｍ−１程
度が製造上の限界である。ここで、この全反射ラマン結
晶化指数は後述する方法で測定される全反射ラマンスペ
クトルにおけるカルボニル基の伸縮振動に基づくラマン
バンドの半価幅であるが、このラマンバンドの半価幅は
ポリエステルの密度すなわち結晶化度と反比例の関係が
あることは、Ａ、　Ｉ、　Ｍｅｌｖｅｇｅｒによって報
告されているものである（Ｊ、　　Ｐｏｌｙｍｅｒ　５
ｃｉｅｎｃｅ１０３１７１９７２　）。The film of the present invention needs to have a total reflection Raman crystallization index of at least one side of 14 cm' or more, preferably 16 cm' or more, and more preferably 17 cm' or more. If the total reflection Raman crystallization index on both sides is smaller than the above range, the scratch resistance and dubbing resistance will be poor, which is not preferable. The upper limit of the total reflection Raman crystallization index of the surface is not particularly limited, but about 24 cm-1 is the manufacturing limit. Here, this total reflection Raman crystallization index is the half-width of the Raman band based on the stretching vibration of the carbonyl group in the total reflection Raman spectrum measured by the method described below. The existence of an inverse relationship with density, that is, crystallinity, was reported by A. I. Melveger (J. Polymer 5
science103171972).

本発明フィルムは、フィルム中の炭化ケイ素粒子の粒径
比が１．７以下、好ましくは１．６以下であることが必
要である。フィルム中の炭化ケイ素粒子の粒径比が上記
の範囲より大きいと、耐スクラッチ性、耐ダビング性が
不良となるので好ましくない。粒径比の下限は特に限定
されないが、粒径比１．０２程度が製造上の限界である
。In the film of the present invention, it is necessary that the particle size ratio of silicon carbide particles in the film is 1.7 or less, preferably 1.6 or less. If the particle size ratio of silicon carbide particles in the film is larger than the above range, scratch resistance and dubbing resistance will be poor, which is not preferable. Although the lower limit of the particle size ratio is not particularly limited, a particle size ratio of about 1.02 is the production limit.

本発明フィルムは、少なくとも片面の突起高さ分布の標
準偏差が１０〜７００ｎｍ、好ましくは２０〜６ｏｏｎ
ｍ、さらに好ましくは３０〜４０Ｑｎｍの範囲の場合に
耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一層良好となるの
で特に望ましい。The film of the present invention has a standard deviation of protrusion height distribution on at least one side of 10 to 700 nm, preferably 20 to 6 oon.
m, more preferably in the range of 30 to 40 Qnm, which is particularly desirable since scratch resistance and dubbing resistance become even better.

また、本発明フィルムの密度指数は、０．０２〜０．０
５の範囲である場合に、耐スクラッチ性がより一層良好
となるので特に望ましい。Further, the density index of the film of the present invention is 0.02 to 0.0
A range of 5 is particularly desirable because the scratch resistance becomes even better.

本発明フィルムは、少なくとも片面のＲｐが６０〜１９
０　ｎ　ｍ、好ましくは７０〜１６０ｎｍ。The film of the present invention has an Rp of at least one side of 60 to 19.
0 nm, preferably 70-160 nm.

さらに好ましくは８０〜１５０ｎｍである場合に、耐ス
クラッチ性、耐ダビング性がより一層良好となるので特
に望ましい。More preferably, the range is from 80 to 150 nm, which is particularly desirable because scratch resistance and dubbing resistance become even better.

本発明フィルムは、少なくとも片面のＲｐ／Ｒａ比（単
位はともにｎｍ）が４〜２５、好ましくは６〜２０、さ
らに好ましくは９〜１５である場合に、耐スクラッチ性
、耐ダビング性がより一層良好となるので特に望ましい
。The film of the present invention has better scratch resistance and dubbing resistance when the Rp/Ra ratio (both in nm) on at least one side is 4 to 25, preferably 6 to 20, more preferably 9 to 15. This is particularly desirable because it provides good results.

本発明フィルムは、少なくとも片面の突起の平均間隔が
２０μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下、さらに好まし
くは１２μｍ以下である場合に、耐スクラッチ性、耐ダ
ビング性がより一層良好となるので特に望ましい。It is particularly desirable for the film of the present invention that the average distance between the protrusions on at least one side is 20 μm or less, preferably 15 μm or less, and more preferably 12 μm or less, since this provides even better scratch resistance and dubbing resistance.

本発明フィルムは、固有粘度が０．５５〜０゜９０、特
に０．７０〜０．８５の範囲である場合に耐スクラッチ
性がより一層良好となるので特に望ましい。It is particularly desirable for the film of the present invention to have an intrinsic viscosity in the range of 0.55 to 0.90, particularly 0.70 to 0.85, since the scratch resistance will be even better.

本発明フィルムは、少なくとも片面の表面突起の有効空
間体積が、１×１０３〜５×１０５、好ましくは、５×
１０３〜５Ｘ１０’の範囲である場合に耐スクラッチ性
、耐ダビング性がより一層良好となるので望ましい。In the film of the present invention, the effective spatial volume of the surface protrusions on at least one side is 1 x 103 to 5 x 105, preferably 5 x
A range of 10 3 to 5×10′ is desirable because scratch resistance and dubbing resistance become even better.

本発明フィルムは、幅方向の屈折率が１．６５５〜１．
７００、特に、１．６７５〜１．　７００の範囲の場合
に、耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一層良好とな
るので望ましい。The film of the present invention has a refractive index in the width direction of 1.655 to 1.655.
700, especially 1.675 to 1. A value in the range of 700 is desirable because scratch resistance and dubbing resistance become even better.

本発明フィルムは、フィルム中の炭化ケイ素粒子の単一
粒子指数が０．６以上、好ましくは０゜７以上である場
合に耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一層良好とな
るので望ましい。The film of the present invention preferably has better scratch resistance and dabbing resistance when the single particle index of silicon carbide particles in the film is 0.6 or more, preferably 0.7 or more.

次に本発明フィルムの製造方法について説明する。Next, a method for producing the film of the present invention will be explained.

まず、所定のポリエステルに炭化ケイ素を含有せしめる
方法としては、重合前、重合中、重合後のいずれに添加
してもよいが、ポリエステルのジオール成分であるエチ
レングリコールに、スラリーの形で混合、分散せしめて
添加する方法が本発明範囲の粒径比、望ましい範囲の表
面突起の高さ分布の標準偏差、ＲｐＳＲｐ／Ｒａ比を得
るのに有効である。また、粒子の含有量を調節する方法
としては、高濃度、好ましくは粒子含有量が１゜０〜５
．０重量％のマスターペレットを製膜時に稀釈する方法
が本発明範囲の粒径比、望ましい範囲の表面突起の高さ
分布の標準偏差、Ｒｐ、Ｒｐ／Ｒａ比を得るのに有効で
ある。First, silicon carbide can be added to a given polyester by adding it before, during, or after polymerization, but it can be mixed and dispersed in the form of a slurry in ethylene glycol, which is the diol component of polyester. The method of adding at least the additive is effective for obtaining the particle size ratio within the range of the present invention, the standard deviation of the height distribution of surface protrusions within the desired range, and the RpSRp/Ra ratio. In addition, as a method of adjusting the particle content, high concentration, preferably particle content of 1°0 to 5.
．． A method of diluting a 0% by weight master pellet during film formation is effective in obtaining the particle size ratio within the range of the present invention, the standard deviation of the height distribution of surface projections, Rp, and Rp/Ra ratio within the desired range.

また、エチレングリコールのスラリーを１４０〜２００
℃、特に１８０〜２００℃の温度で３０分〜５時間、特
に１〜３時間熱処理する方法は、本発明範囲の粒径比、
全反射ラマン結晶化指数、望ましい範囲の表面突起の高
さ分布の標準偏差、ＲｐＳＲｐ／Ｒａ比、単一粒子指数
を得るのに有効である。In addition, ethylene glycol slurry was added to
℃, especially at a temperature of 180 to 200℃ for 30 minutes to 5 hours, especially 1 to 3 hours, the particle size ratio within the range of the present invention,
It is effective in obtaining the total reflection Raman crystallization index, the standard deviation of the height distribution of surface protrusions in a desired range, the RpSRp/Ra ratio, and the single particle index.

また、高濃度、好ましくは粒子含有量が１．０〜５．０
重量％のマスターペレットの固有粘度、共重合成分を調
整して、ガラス転移点Ｔｇと冷結晶化温度Ｔｃｃとの差
（Ｔｃｃ−Ｔｇ）、６１０ｇを、６５〜１１０℃、特に
７５〜１００°Ｃにして、かつ、これを希釈するための
実質的に不活性無機粒子を含有しないポリエステルの６
１０ｇより大きくしておくことが、本発明範囲のフィル
ムの表面のラマン結晶化指数を得るのにきわめて有効で
ある。この場合の共重合成分としてはポリエチレングリ
コール成分、イソフタル酸成分、１゜４−シクロヘキサ
ンジメタツール成分が好適である。Also, a high concentration, preferably a particle content of 1.0 to 5.0
By adjusting the intrinsic viscosity and copolymerization components of the master pellet in weight%, the difference between the glass transition point Tg and the cold crystallization temperature Tcc (Tcc - Tg), 610g, is 65 to 110 °C, especially 75 to 100 °C. 6 of polyester containing substantially no inert inorganic particles to dilute it.
Setting the weight to be larger than 10 g is extremely effective in obtaining the Raman crystallization index of the surface of the film within the range of the present invention. In this case, preferred copolymerization components include polyethylene glycol component, isophthalic acid component, and 1°4-cyclohexane dimetatool component.

かくして、所定量の不活性無機粒子を含有するペレット
を十分乾燥したのち、公知の溶融押出機に供給し、２７
０〜３３０℃でスリット状のダイからシート状に押出し
、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸フ
ィルムを作る。この時、高精度２段濾過フィルターをポ
リマ流路に設置することが、炭化ケイ素粒子を用いて、
かつ、本発明範囲の粒径比、全反射ラマン結晶化指数、
望ましい範囲の表面突起の高さ分布の標準偏差、Ｒｐ、
Ｒｐ／Ｒａ比、単一粒子指数を得るのに有効である。こ
こでいう高精度２段濾過フィルターとは、１段目を９５
％カットオフ粒径が４〜１０μｍ、２段目を９５％カッ
トオフ粒径が１，５〜５μｍフィルターを直列にならべ
たものであり、９５％カットオフ粒径が１段目〉２段目
としたものである。さらに、未延伸フィルムの厚さ八と
口金のスリット間隙Ｂの比（Ｂ／Ａ、単位はともにｍｍ
）を５〜２０の範囲とすることが、炭化ケイ素粒子を用
いて、本発明範囲の粒径比、全反射ラマン結晶化指数、
望ましい範囲の表面突起の高さ分布の標準偏差、Ｒｐ、
Ｒｐ／Ｒａ比、単一粒子指数を得るのに極めて有効であ
る。After sufficiently drying the pellets containing a predetermined amount of inert inorganic particles, the pellets were fed to a known melt extruder and 27
It is extruded into a sheet through a slit-shaped die at 0 to 330°C, and cooled and solidified on a casting roll to produce an unstretched film. At this time, it is possible to install a high-precision two-stage filtration filter in the polymer flow path using silicon carbide particles.
and a particle size ratio within the range of the present invention, a total reflection Raman crystallization index,
Standard deviation of the height distribution of surface protrusions in the desired range, Rp,
It is effective to obtain the Rp/Ra ratio and single particle index. The high-precision two-stage filtration filter referred to here means that the first stage is 95%
Filters with a % cutoff particle size of 4 to 10 μm and a 95% cutoff particle size of the second stage of 1.5 to 5 μm are arranged in series, with a 95% cutoff particle size of the first stage > second stage. That is. Furthermore, the ratio of the thickness of the unstretched film to the slit gap B of the die (B/A, both units are mm)
) is in the range of 5 to 20, by using silicon carbide particles, the particle size ratio, total reflection Raman crystallization index,
Standard deviation of the height distribution of surface protrusions in the desired range, Rp,
It is extremely effective in obtaining the Rp/Ra ratio and single particle index.

次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せしめ
る。延伸方法としては、逐次二軸延伸法または同時二軸
延伸法を用いることかできる。ただし、最初に長手方向
、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、長
手方向の延伸を、３段階、特に４段階以上に分けて、（
ポリマのガラス転移点−１０℃）〜（ポリマのガラス転
移点＋１０℃）の狭い範囲で、かつ、１０００〜１００
００％／分という比較的小さな延伸速度で行なう方法は
本発明範囲の全反射ラマン結晶化指数、望ましい範囲の
Ｒｐ、Ｒｐ／Ｒａ比を得るのに極めて有効である。幅方
向の延伸温度、速度は、８０〜１６０℃、１０００〜２
００００％／分の範囲が好適である。延伸倍率は長手、
幅方向ともに３〜５倍が好適である。次にこの延伸フィ
ルムを熱処理する。この場合の熱処理条件としては、定
長下、弛緩あるいは緊張状態で１５０〜２２０℃、好ま
しくは１７０〜２００℃の範囲で０．５〜６０秒間が好
適である。Next, this unstretched film is biaxially stretched and biaxially oriented. As the stretching method, a sequential biaxial stretching method or a simultaneous biaxial stretching method can be used. However, by using a sequential biaxial stretching method in which stretching is first carried out in the longitudinal direction and then in the width direction, the longitudinal stretching is divided into three stages, especially four or more stages.
in a narrow range of (glass transition point of polymer -10°C) to (glass transition point of polymer +10°C) and 1000 to 100°C.
A method carried out at a relatively low stretching speed of 0.00%/min is extremely effective in obtaining the total reflection Raman crystallization index within the range of the present invention, Rp and Rp/Ra ratio within the desired range. The stretching temperature and speed in the width direction are 80 to 160°C, 1000 to 2
A range of 0000%/min is preferred. Stretching ratio is longitudinal;
3 to 5 times is suitable in both width directions. Next, this stretched film is heat treated. In this case, the suitable heat treatment conditions are 150 to 220° C., preferably 170 to 200° C., for 0.5 to 60 seconds in a constant length, relaxed or tense state.

［作用］ 本発明は炭化ケイ素という特殊な材質の、特定の大きさ
の粒子を用いて、該粒子に適した方法により、フィルム
中の粒径比、全反射ラマン結晶化指数を特定範囲とした
ので、炭化ケイ素の粒子の特徴が最大限に発揮された結
果、本発明の効果が得られたものと推定される。[Function] The present invention uses particles of a specific size made of a special material called silicon carbide, and uses a method suitable for the particles to set the particle size ratio and total reflection Raman crystallization index in the film to a specific range. Therefore, it is presumed that the effects of the present invention were obtained as a result of the characteristics of silicon carbide particles being maximized.

［物性の測定方法ならびに効果の評価方法コ本発明の特
性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである
。[Method for Measuring Physical Properties and Evaluating Effects] The methods for measuring the characteristic values and evaluating the effects of the present invention are as follows.

（１）粒子の平均粒径 フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法（
たとえはヤマト科学製ＰＲ−５０３型）で除去し粒子を
露出させ、これをＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）で観察し
、粒子の画像（粒子によってできる光の濃淡）をイメー
ジアナラザイザー（たとえばケンブリッジインストルメ
ント製ＱＴＭ９００）に結び付け、観察箇所を変えて粒
子数５０００個以上で次の数値処理によって求めた数平
均径りを平均粒径とする。(1) Polyester is removed from a film of average particle size by plasma low-temperature ashing process (
For example, remove the particles using a Yamato Kagaku PR-503 model) to expose the particles, observe them with a SEM (scanning electron microscope), and collect an image of the particles (shades of light created by the particles) using an image analyzer (for example, the Cambridge QTM900 (manufactured by Instrument), and the number average diameter determined by the following numerical processing when the number of particles is 5000 or more while changing the observation location is taken as the average particle diameter.

Ｄ＝ΣＤ　　／Ｎ ここで、Ｄ　は円相当径、Ｎは個数である。D=ΣD　/N Here, D is the circle equivalent diameter and N is the number of pieces.

（２）フィルム中の粒径比 上記（１）の測定において、下式で求められる個々の粒
子の長径（平均値）／短径（平均値）の比である。(2) Particle size ratio in film In the measurement of (1) above, it is the ratio of the length (average value)/breadth diameter (average value) of each particle determined by the following formula.

長径＝ΣＤ　ｌ　ｉ　／　Ｎ 短径＝ΣＤ　２　ｉ　／　Ｎ Ｄｌｉ、　Ｄ２ｉはそれぞれ個々の粒子の長径（最大径
）、短径（最短径）、Ｎは総個数である。Major axis = ΣD l i / N Minor axis = ΣD 2 i / N Dli, D2i is the major axis (maximum diameter) and minor axis (shortest axis) of each individual particle, and N is the total number.

（３）粒子の含有量 ポリエステル１００ｇに０−クロルフェノール１゜０リ
ツトルを加え１２０℃で３時間加熱した後、日立工機■
製超遠心機５５Ｐ−７２を用い、３０゜０００　ｒｐｍ
で４０分間遠心分離を行ない、得られた粒子を１００℃
で真空乾燥する。微粒子を走査型差動熱量計にて測定し
た時、ポリマに相当する溶解ピークが認められる場合に
は微粒子に０−クロルフェノールを加え、加熱冷却後再
び遠心分離操作を行なう。溶解ピークが認められなくな
った時、微粒子を析出粒子とする。通常遠心分離操作は
２回で足りる。かくして分離された粒子の全体重量に対
する比率（重量％）を含有量とする。(3) Particle content After adding 1.0 liter of 0-chlorophenol to 100 g of polyester and heating at 120°C for 3 hours, Hitachi Koki ■
Using an ultracentrifuge 55P-72 manufactured by Kogyo Co., Ltd., at 30°000 rpm.
Centrifuge the particles for 40 minutes at 100°C.
Dry in vacuum. When the fine particles are measured using a scanning differential calorimeter, if a dissolution peak corresponding to the polymer is observed, 0-chlorophenol is added to the fine particles, and after heating and cooling, the centrifugation operation is performed again. When the dissolution peak is no longer observed, the fine particles are considered to be precipitated particles. Normally, two centrifugation operations are sufficient. The content is defined as the ratio (% by weight) of the thus separated particles to the total weight.

（４）ガラス転移点Ｔｇ、冷結晶化温度Ｔｃｃパーキン
エルマー社製のＤＳＣ（示差走査熱量計）■型を用いて
測定した。ＤＳＣの測定条件は次の通りである。すなわ
ち、試料１０ｍｇをＤＳＣ装置にセットし、３００℃の
温度で５分間溶融した後、液体窒素中に急冷する。この
急冷試料を１０℃／分で昇温し、ガラス転移点Ｔｇを検
知する。(4) Glass transition point Tg and cold crystallization temperature Tcc were measured using a DSC (differential scanning calorimeter) type 2 manufactured by PerkinElmer. The DSC measurement conditions are as follows. That is, 10 mg of the sample is set in a DSC device, melted at a temperature of 300° C. for 5 minutes, and then rapidly cooled in liquid nitrogen. This rapidly cooled sample is heated at a rate of 10° C./min, and the glass transition point Tg is detected.

さらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶化発熱ピーク
温度をもって冷結晶化温度Ｔｃｃとした。The temperature was further increased, and the exothermic peak temperature of crystallization from the glass state was defined as the cold crystallization temperature Tcc.

ここでＴｃｃとＴｇの差（Ｔｃｃ−Ｔｇ）をΔＴｃｇと
定義する。Here, the difference between Tcc and Tg (Tcc-Tg) is defined as ΔTcg.

（５）結晶化促進係数（単位は℃） 上記方法で粒子を１重量％含有するポリエステルのΔＴ
ｃｇ　（Ｉ）　、およびこれから粒子を除去した同粘度
のポリエステルのΔＴｃｇ（ＩＩ）を測定し、ΔＴｃｇ
（ｎ）とΔＴａｇ　（Ｉ）の差［ΔＴｃｇ（ｎ）−ΔＴ
ｃｇ　（Ｉ）］をもって、結晶化促進係数とした。(5) Crystallization promotion coefficient (unit: °C) ΔT of polyester containing 1% by weight of particles by the above method
cg (I), and ΔTcg (II) of a polyester of the same viscosity from which particles have been removed, and ΔTcg
(n) and ΔTag (I) [ΔTcg(n)−ΔT
cg (I)] was taken as the crystallization promotion coefficient.

（６）表面の全反射ラマン結晶化指数 １ｏｂ　ｉ　ｎ−Ｙｖｏｎ社製Ｒａｍａｎｏｒ　Ｕ−１
０００ラマンシステムにより、全反射ラマンスペクトル
を測定し、カルボニル基の伸縮振動である１　７３０　
ｃｍ’の半価幅をもって表面の全反射ラマン結晶化指数
とした。測定条件は次のとおりである。測定深さは、表
面から５００〜１０００オングストロ一ム程度である。(6) Total reflection Raman crystallization index of the surface 1ob in-Yvon Ramanor U-1
The total reflection Raman spectrum was measured using a 000 Raman system, and 1 730 which is the stretching vibration of the carbonyl group was measured.
The half width in cm' was taken as the total reflection Raman crystallization index of the surface. The measurement conditions are as follows. The measurement depth is about 500 to 1000 angstroms from the surface.

■光源 アルゴンイオンレーザ−（５１°４５Ａ）■試料のセツ
ティング レーザー偏光方向（Ｓ偏光）とフィルム長手方向が平行
となるようにフィルム表面を全反射プリズムに圧着させ
、レーザのプリズムへの入射角（フィルム厚さ方向との
角度）は６０°とした。■Light source Argon ion laser (51° 45A) ■Setting the sample Press the film surface onto a total reflection prism so that the laser polarization direction (S polarization) and the film longitudinal direction are parallel, and adjust the incident angle of the laser to the prism. (The angle with the film thickness direction) was 60°.

■検出器 ＰＭ　：　ＲＣＡ３１０３４／Ｐｈｏｔｏｎ　Ｃｏｕｎ
ｔｉｎｇ　Ｓｙｓｔｅｍ（Ｈａｍａｍａｆｓｕ　Ｃｌ２
３０）　　（ｓｕｐｐｌｙ　１６００ＶＪ■測定条件 ５ＬＩＴ　　　　　　　　１０００μｍＬＡＳＥＲ１０
０＋ｎＷ ＧＡＴＥ　ＴＩＭＥ　　　　　Ｉ　０ｓｅｃＳＣＡＮ　
５ＰＥＥＤ　　　　１２ｃｍ’／ｍｉｎＳＡＭＰＬＩＮ
Ｇ　ＩＮＴＥＲＶＡＬ　０．２ｃｍ　−’ＲＥＰＥＡＴ
ＴＩＭＥ　　　　　　　　６（７）面配向指数 ナトリウムＤ線（波長５８９　ｎｍ）を光源としてアツ
ベ屈折率計を用いて、二軸配向フィルムの厚さ方向の屈
折率（Ａとする）および溶融プレス後１０°Ｃの水中へ
急冷して作った無配向（アモルファス）フィルムの厚さ
方向の屈折率（Ｂとする）を測定味Ａ／Ｂをもって面配
向指数とした。マウント液にはヨウ化メチレンを用い、
２５℃、６５％ＲＨにて測定した。■Detector PM: RCA31034/Photon Coun
ting System (Hamamafsu Cl2
30) (supply 1600VJ■Measurement conditions 5LIT 1000μm LASER10
0+nW GATE TIME I 0secSCAN
5PEED 12cm'/minSAMPLIN
G INTERVAL 0.2cm -'REPEAT
TIME 6 (7) plane orientation index Using an Atsube refractometer with sodium D line (wavelength 589 nm) as a light source, the refractive index in the thickness direction of the biaxially oriented film (referred to as A) and 10°C after melt pressing The refractive index (referred to as B) in the thickness direction of a non-oriented (amorphous) film prepared by quenching the film into water was taken as the plane orientation index by measuring A/B. Methylene iodide was used as the mounting solution.
Measurement was performed at 25° C. and 65% RH.

（８）密度指数 ｎ−へブタン／四塩化炭素からなる密度勾配管を用いて
測定したフィルムの密度をＣ（２７０ｍ３）とし、この
フィルムを溶融プレス後、１０℃の水中へ急冷して作っ
た無配向（アモルファス）フィルムの密度Ｄ（２７０ｍ
３）との差、（Ｃ−Ｄ）をもって密度指数とした。(8) Density index The density of the film measured using a density gradient tube made of n-hebutane/carbon tetrachloride was set to C (270 m3), and the film was melt-pressed and then rapidly cooled in water at 10°C. Density D of non-oriented (amorphous) film (270 m
3), the difference (CD) was taken as the density index.

（９）表面突起の高さ分布の標準偏差 ２検出器方式の走査型電子顕微鏡［ＥＳＭ−３２００、
エリオニクス（株）製］と断面測定装置［ＰＭＳ−１、
エリオニクス（株）製］においてフィルム表面の平坦面
の高さを０として走査した時の突起の高さ測定値を画像
処理装置［ＩＢＡＳ２０００、カールツアイス（株）製
］に送り、画像処理装置上にフィルム表面突起画像を再
構築する。次に、この表面突起画像で突起部分を２値化
して得られた個々の突起の面積から円相当径を求めこれ
をその突起の平均径とする。また、この２値化された個
々の突起部分の中で最も高い値をその突起の高さとし、
これを個々の突起について求める。この測定を場所をか
えて５００回繰返し、測定された突起についてその高さ
分布を正規分布（高さ０の点を中心とする正規分布）と
みなして最小２乗法で近似して高さ分布の標準偏差を求
めた。また走査型電子顕微鏡の倍率は、１０００〜８０
００倍の間の値を選択する。(9) Standard deviation of height distribution of surface protrusions Two-detector scanning electron microscope [ESM-3200,
manufactured by Elionix Co., Ltd.] and a cross-sectional measuring device [PMS-1,
The measured height of the protrusions is sent to the image processing device [IBAS2000, manufactured by Carl Zeiss Co., Ltd.] when the height of the flat surface of the film is set to 0. Reconstruct the film surface projection image. Next, a circular equivalent diameter is determined from the area of each protrusion obtained by binarizing the protrusion portion using this surface protrusion image, and this is taken as the average diameter of the protrusion. Also, the highest value among these binarized individual protrusions is the height of the protrusion,
This is determined for each protrusion. This measurement is repeated 500 times at different locations, and the height distribution of the measured protrusions is assumed to be a normal distribution (a normal distribution centered on a point with a height of 0) and approximated by the least squares method to calculate the height distribution. The standard deviation was calculated. In addition, the magnification of a scanning electron microscope is 1000 to 80
Select a value between 00 times.

（１０）突起の有効空間体積Φ 小板研究所高精度薄膜段差測定機ＥＴ−１０を用い、触
針先端半径０．５μｍ１カツトオフ０゜Ｑ８ｍｍ、測定
長１．　　Ｏｍｍ、縦倍率２０万倍、横倍率２０００倍
で、フィルムの表面粗さ曲線を測定する。この粗さ曲線
の平均線（中心線）の」二側で中心線に平行に０．００
５μｍごとにピークカウントレベルを設け、平均線を曲
線が交叉する２点間において、上記のピークカウントレ
ベルを１回以上交叉する点が存在するとき、これを１ピ
ークとし、このピーク数を測定長さ間において求める。(10) Effective space volume Φ of protrusion Using Koita Research Institute's high-precision thin film step measuring machine ET-10, stylus tip radius 0.5 μm, cutoff 0°Q8 mm, measurement length 1. The surface roughness curve of the film is measured at a vertical magnification of 200,000 times and a horizontal magnification of 2000 times. 0.00 parallel to the center line on the second side of the average line (center line) of this roughness curve.
A peak count level is set every 5 μm, and if there is a point that crosses the above peak count level one or more times between two points where the curve intersects the average line, this is considered to be one peak, and this number of peaks is the measurement length. Ask for it in between.

各ピークカウントレベルについて、このピーク数を求め
平均線からｎ番目のピークカウントレベルについて求め
たピーク数をＰＣ（ｎ）と定義する。The number of peaks is determined for each peak count level, and the number of peaks determined for the n-th peak count level from the average line is defined as PC(n).

測定長さ間でピーク数が始めてゼロになるピークカウン
トレベルが平均線からｍ番目としたとき、有効空間体積
Φは、 Φ＝Σ［ｎ３　（ＰＣ（ｎ）−ＰＣ（ｎ＋１））］ｎ＝
１ で表わされ、場所を変えて５０回測定した平均値を用い
る。When the peak count level at which the number of peaks becomes zero for the first time during the measurement length is mth from the average line, the effective space volume Φ is as follows: Φ=Σ[n3 (PC(n)-PC(n+1))]n=
1, and the average value of 50 measurements at different locations is used.

（１１）中心線平均表面粗さＲａ、平均線深さＲｐ、平
均突起間隔Ｓｍ 小板研究所製の高精度薄膜段差測定器ＥＴ−１０を用い
て測定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定
の平均値をもって値とした。(11) Center line average surface roughness Ra, average line depth Rp, average protrusion spacing Sm Measured using a high precision thin film step measuring instrument ET-10 manufactured by Koita Research Institute. The conditions were as follows, and the average value of 20 measurements was taken as the value.

・触針先端半径＝０．５μｍ ・触針荷重　　：５ｍｇ ・測定長　　　：１ｍｍ ・カットオフ値：０．０８ｍｍ なお、Ｒａ、Ｒｐ、Ｓｍの定義は、たとえば、奈良治部
著「表面粗さの測定・評価法」　（総合技術センター、
１９８３）に示されているものである。・Stylus tip radius = 0.5μm ・Stylus load: 5mg ・Measurement length: 1mm ・Cutoff value: 0.08mm The definitions of Ra, Rp, and Sm can be found, for example, in “Surface Roughness” by Jibu Nara. “Measurement and Evaluation Methods” (Comprehensive Technology Center,
1983).

（１２）固有粘度［η］　（単位はｄｉ／ｇ）オルソク
ロルフェノール中、２５℃で測定した溶液粘度から下記
式から計算される値を用いる。(12) Intrinsic viscosity [η] (unit: di/g) A value calculated from the following formula from the solution viscosity measured at 25° C. in orthochlorophenol is used.

すなわち、 η３．／Ｃ＝　　［ηコ　＋Ｋ　［η］　　　・にこで
　η８．＝（溶液粘度／溶媒粘度）−１、Ｃは溶媒１０
０ｍ１あたりの溶解ポリマ重量（ｇ／ｌ　００ｍ　ｌ、
通常１．２）、Ｋはハギンス定数（０，３４３とする）
。また、溶液粘度、溶媒粘度はオストワルド粘度計を用
いて測定した。That is, η3. /C= [ηko +K [η] ・Smile η8. = (solution viscosity/solvent viscosity) -1, C is solvent 10
Dissolved polymer weight per ml (g/l 00ml,
Usually 1.2), K is Huggins constant (set to 0,343)
. In addition, solution viscosity and solvent viscosity were measured using an Ostwald viscometer.

（１３）９５％濾過精度 コールタ−カウンターを用いて測定したカット率が９５
％となる粒子サイズをもって、９５％濾過精度（単位μ
ｍ）とした。(13) 95% filtration accuracy Cut rate measured using Coulter Counter is 95%
95% filtration accuracy (unit μ
m).

（１４）単一粒子指数 フィルムの断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で写真観
察し、炭化ケイ素粒子を検知する。必要に応じてＸＭＡ
　（Ｘ線マイクロアナライザー）を併用した。観察倍率
を１０００００倍にすれば、それ以上分けることができ
ない１個の粒子が観察できる。粒子の占める全面積をＡ
１その内２個以上の粒子が凝集している凝集体の占める
面積をＢとした時、（Ａ−Ｂ）／Ａをもって、単一粒子
指数とする。ＴＥＭ条件は下記のとおりであり１視野面
積：２μｍ２の測定を場所を変えて、５００視野測定す
る。(14) Photo-observe the cross section of the single particle index film using a transmission electron microscope (TEM) to detect silicon carbide particles. XMA as required
(X-ray microanalyzer) was also used. If the observation magnification is increased to 100,000 times, a single particle that cannot be further separated can be observed. The total area occupied by the particles is A
1. When B is the area occupied by an aggregate in which two or more particles are aggregated, (A-B)/A is taken as the single particle index. The TEM conditions are as follows: one field of view area: 2 μm2 is measured at different locations, and 500 fields of view are measured.

・装置：日本電子製ＪＥＭ−１２００ＥＸ・観察倍率：
　１０００００倍 ・加速電圧：１００ｋＶ ・切片厚さ：約１０００オングストローム（１５）耐ダ
ビング性 フィルムに下記組成の磁性塗料をグラビヤロールにより
塗布し、磁気配向させ、乾燥させる。さらに、小型テス
トカレンダー装置（スチールロール／ナイロンロール、
５段）で、温度＝７０℃、線圧：２００ｋｇ／ｃｍでカ
レンダー処理した後、７０°Ｃ１４８時間キユアリング
する。上記テープ原反を１／２インチにスリットし、パ
ンケーキを作成した。このパンケーキから長さ２５０ｍ
の長さをＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセットテー
プとした。・Equipment: JEOL JEM-1200EX ・Observation magnification:
100,000 times Accelerating voltage: 100 kV Section thickness: Approximately 1000 angstroms (15) A magnetic paint having the following composition is applied to the dubbing-resistant film using a gravure roll, magnetically oriented, and dried. In addition, a small test calender device (steel roll/nylon roll,
5 stages) at a temperature of 70°C and a linear pressure of 200 kg/cm, and then cured at 70°C for 148 hours. The original tape was slit into 1/2 inch pieces to make pancakes. 250m long from this pancake
This length was incorporated into a VTR cassette to make a VTR cassette tape.

（磁性塗料の組成） ・ＣＯ含有酸化鉄（ＢＥＴ値５０ｍ２／ｇ　　）、１０
０重量部 ・エスレックＡ（漬水化学製塩化ビニル／酢酸ビニル共
重合体）　　　　　　　　　＝１０１０重量部ニラポラ
ン２３０（日本ポリウレタン製ポリウレタンエラストマ
）　　　　　　：１０重量部・コロネートＬ（日本ポリ
ウレタン製ポリイソシアネート）　　　　　　　　　　
　：５重量部・レシチン　　　　　　　　　　：１重量
部・メチルエチルケトン　　　　　ニア５重量部・メチ
ルイソブチルケトン　　　ニア５重量部・トルエン　　
　　　　　　　　　ニア５重量部・カーボンブラック　
　　　　　：２重量部・ラウリン酸　　　　　　　　　
：１゜５重量部このテープに家庭用ＶＴＲを用いてシバ
ツク製のテレビ試験波形発生器（ＴＧ７／Ｕ７０６）に
より１００％クロマ信号を記録し、その再生信号からシ
バツク製カラービデオノイズ測定器（９２５Ｄ／１）で
クロマＳ／Ｎを測定しＡとした。また上記と同じ信号を
記録したマスターテープから磁界転写方式のビデオソフ
ト高速プリントシステム（たとえばソニーマグネスケー
ル■製のスプリンタ）を用いて同じ種類の試料テープ（
未記録）のパンケーキへダビングした後のテープのクロ
マＳ／Ｎを上記と同様にして測定し、Ｂとした。このダ
ビングによるクロマＳ／Ｎの低下（Ａ−Ｂ）が４．０ｄ
Ｂ未満の場合は耐ダビング性良好、４゜０ｄＢ以上の場
合は耐ダビング性不良と判定した。(Composition of magnetic paint) - CO-containing iron oxide (BET value 50m2/g), 10
0 parts by weight・S-LEC A (vinyl chloride/vinyl acetate copolymer manufactured by Tsukisui Kagaku) = 1010 parts by weight Niraporan 230 (polyurethane elastomer manufactured by Nippon Polyurethane): 10 parts by weight・Coronate L (polyisocyanate manufactured by Nippon Polyurethane)
: 5 parts by weight Lecithin : 1 part by weight Methyl ethyl ketone 5 parts by weight Methyl isobutyl ketone 5 parts by weight Toluene
Near 5 parts by weight/carbon black
: 2 parts by weight lauric acid
: 1°5 parts by weight A 100% chroma signal was recorded on this tape using a home VTR using a Shibaku TV test waveform generator (TG7/U706), and the playback signal was measured using a Shibaku color video noise measuring device (925D). Chroma S/N was measured with /1) and designated as A. Also, from a master tape on which the same signal as above was recorded, a sample tape of the same type (
The chroma S/N of the tape after dubbing it onto a pancake (unrecorded) was measured in the same manner as above and designated as B. The drop in chroma S/N (A-B) due to this dubbing is 4.0d.
If it was less than B, it was determined that the dubbing resistance was good, and if it was 4°0 dB or more, it was determined that the dubbing resistance was poor.

（１６）高速走行耐スクラッチ性 フィルムを横浜システム（株）製の高速型テープ走行性
試験機を使用して繰返し走行させる（走行速度１０００
ｍ’／分、走行回数１０パス）。この時、フィルムに入
った傷をアルミニウムを蒸着して観察しく目視）、はと
んど傷かない場合は耐スクラッチ性良好、幅：２．５μ
ｍ以上の傷がテプ幅あたり３本以上入った場合耐スクラ
ッチ性不良と判定した。(16) High-speed running scratch resistance The film was run repeatedly using a high-speed tape running tester manufactured by Yokohama System Co., Ltd. (running speed 1000
m'/min, number of runs: 10 passes). At this time, visually check the scratches on the film by depositing aluminum on the film. If there are no scratches, the scratch resistance is good. Width: 2.5μ
If there were three or more scratches of m or more per tape width, it was determined that the scratch resistance was poor.

［実施例］ 本発明を実施例に基づいて説明する。[Example] The present invention will be explained based on examples.

実施例１〜４、比較例１〜４ 平均粒径の異なる炭化ケイ素の粒子を含有するエチレン
グリコールスラリーを調整した。このスラリーを各種条
件で熱処理したのち、このエチレングリコールスラリー
とテレフタル酸ジメチルとをエステル交換反応後、重縮
合し、粒子を１重量％含有するポリエチレンテレフタレ
ートの粒子マスターペレットを作った。この時エチレン
グリコールの熱処理条件および重縮合条件、共重合成分
を変更した各種マスターペレットを作った。これらのマ
スターペレットのΔＴｃｇは第１表に示したとおりであ
った。これらの粒子マスターペレットと、ΔＴｃｇの異
なる実質的に粒子を含有しないポリエチレンテレフタレ
ートのペレットを、粒子含有量が所定量となるよう混合
したペレットを１８０℃で３時間減圧乾燥（３Ｔｏｒ＋
）　した。このペレットを押出機に供給し、３００°Ｃ
で溶融押出し、未延伸フィルム厚さと口金スリット間隙
の比を種々変更して、静電印加キャスト法を用いて、表
面温度３０°Ｃのキャスティング・ドラムに巻きつけて
冷却固化し、未延伸フィルムを作った。この時、用いた
濾過フィルターの種類は第１表に示した通り、種々変更
した。この未延伸フィルムを８５°Ｃにて長手方向に、
延伸段数を変更して、４゜０倍延伸した。Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 to 4 Ethylene glycol slurries containing silicon carbide particles having different average particle sizes were prepared. After heat treating this slurry under various conditions, this ethylene glycol slurry and dimethyl terephthalate were transesterified and polycondensed to produce particle master pellets of polyethylene terephthalate containing 1% by weight of particles. At this time, various master pellets were made with different heat treatment conditions for ethylene glycol, polycondensation conditions, and copolymerization components. The ΔTcg of these master pellets was as shown in Table 1. These particle master pellets and substantially particle-free polyethylene terephthalate pellets with different ΔTcg were mixed so that the particle content was a predetermined amount, and the pellets were dried under reduced pressure at 180°C for 3 hours (3 Tor+
) did. The pellets were fed to an extruder and heated to 300°C.
The unstretched film was melt-extruded, the ratio of the unstretched film thickness and the gap between the die slits was varied, and the unstretched film was wrapped around a casting drum with a surface temperature of 30°C and cooled and solidified using the electrostatic casting method. Had made. At this time, the type of filter used was variously changed as shown in Table 1. This unstretched film was heated at 85°C in the longitudinal direction.
The number of stretching stages was changed and the film was stretched 4°0 times.

この延伸は２組のロールの周速差で行なわれ、延伸速度
１００００％／分であった。この−軸フィルムをステン
タを用いて延伸速度２０００％／分で１００°Ｃで幅方
向に４．２倍延伸し、１．０３倍の微延伸下で、１９０
°Ｃにて５秒間熱処理し、厚さ１５μｍの二軸配向フィ
ルムを得た。これらのフィルムの炭化ケイ素粒子の平均
粒径、フィルム中の粒径比、表面の全反射ラマン結晶化
指数は第２表に示したとおりであった。第２表から、そ
れらのパラメータが本発明範囲の場合は、耐スクラッチ
性、耐ダビング性ともに優れたフィルムが得られるが、
そうでない場合は耐スクラッチ性、耐ダビング性を両立
したフィルムは得られないことが分かる。なお、本実験
例では、どのサンプルもフィルムの表裏の全反射ラマン
結晶化指数は同じ値であった。This stretching was carried out using a difference in peripheral speed between two sets of rolls, and the stretching speed was 10,000%/min. This -axis film was stretched 4.2 times in the width direction at 100°C at a stretching speed of 2000%/min using a stenter, and then stretched 190 times under slight stretching of 1.03 times.
Heat treatment was performed at °C for 5 seconds to obtain a biaxially oriented film with a thickness of 15 μm. The average particle size of silicon carbide particles in these films, the particle size ratio in the film, and the total reflection Raman crystallization index of the surface were as shown in Table 2. From Table 2, when these parameters are within the range of the present invention, a film with excellent scratch resistance and dubbing resistance can be obtained.
It can be seen that if this is not the case, a film having both scratch resistance and dubbing resistance cannot be obtained. In addition, in this experimental example, the total reflection Raman crystallization index of the front and back surfaces of the film was the same for all samples.

比較例５ 上記の実施例１゜の炭化ケイ素粒子の代わりにアナター
セ型二酸化チタン粒子、炭酸カルシウム粒子、カオリナ
イト粒子を用いてフィルムを作った。Comparative Example 5 A film was made using anatase type titanium dioxide particles, calcium carbonate particles, and kaolinite particles instead of the silicon carbide particles in Example 1 above.

しかし、粒子の平均粒径、粒径比、フィルム表面の全反
射ラマン結晶化指数を如何に工夫しても、本発明の耐ス
クラッチ性と耐ダビング性を両立するフィルムは得られ
なかった。However, no matter how the average particle size of the particles, particle size ratio, and total reflection Raman crystallization index of the film surface were modified, a film that achieved both the scratch resistance and dubbing resistance of the present invention could not be obtained.

［発明の効果］ 本発明は、特定範囲の平均粒径の炭化ケイ素粒子を用い
て、フィルム中の粒径比、フィルムの表面の全反射ラマ
ン結晶化指数を特定範囲としたので、耐スクラッチ性、
耐ダビング性がともに優れたフィルムが得られたもので
あり、高速で走行してもフィルムに傷がつきにくいため
、各用途でのフィルム加工速度の増大に対応できるもの
であり、また、ビデオテープとした時、ダビングしても
Ｓ／Ｎ、すなわち、画質が低下しにくいフィルムが得ら
れたものである。本発明フィルムの用途は特に限定され
ないか、加工工程でのフィルム表面の傷が製品性能上特
に問題となる磁気記録媒体用ベスフィルム、さらに今後
ビデオソフトの普及によりダビングする機会が多くなり
つつあるビデオテープ用として特に有用である。また、
本発明フィルムのうちフィルムの片面のみの全反射ラマ
ン指数が本発明範囲のものは本発明範囲の全反射ラマン
指数を有する面が走行面（磁気記録媒体用では磁性層を
塗布しない面、その他の用途では印刷やラミネートなど
の塗布などの処理が施されない面）として用いることが
好ましい。[Effects of the Invention] The present invention uses silicon carbide particles having an average particle size in a specific range, and sets the particle size ratio in the film and the total reflection Raman crystallization index of the surface of the film to a specific range, thereby improving scratch resistance. ,
The resulting film has excellent dubbing resistance and is resistant to scratches even when running at high speeds, making it suitable for increasing film processing speeds in various applications. When this was done, a film was obtained in which the S/N ratio, that is, the image quality did not easily deteriorate even after dubbing. Applications of the film of the present invention are not particularly limited, and include base film for magnetic recording media where scratches on the film surface during the processing process pose a particular problem in terms of product performance, and video dubbing which will become more common in the future due to the spread of video software. Particularly useful for tape applications. Also,
Among the films of the present invention, when the total reflection Raman index of only one side of the film is within the range of the present invention, the surface having the total reflection Raman index within the range of the present invention is the running surface (for magnetic recording media, the surface not coated with a magnetic layer, the other surface). In applications, it is preferable to use it as a surface that is not subjected to processing such as printing or coating such as lamination.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）ポリエステルと炭化ケイ素粒子からなる組成物を
主たる成分とする二軸配向フィルムであって、該炭化ケ
イ素粒子の平均粒径が０．０１〜２００μｍ、フィルム
の少なくとも片面の全反射ラマン結晶化指数が１４ｃｍ
＾−＾１以上、かつ、フィルム中の炭化ケイ素粒子の粒
径比が１．７以下の範囲であることを特徴とする二軸配
向ポリエステルフィルム。(1) A biaxially oriented film mainly composed of a composition consisting of polyester and silicon carbide particles, wherein the silicon carbide particles have an average particle size of 0.01 to 200 μm, and at least one side of the film undergoes total reflection Raman crystallization. index is 14cm
A biaxially oriented polyester film characterized in that the particle size ratio of silicon carbide particles in the film is in the range of ^-^1 or more and 1.7 or less. （２）該炭化ケイ素粒子のフィルム中の単一粒子指数が
０．６以上であることを特徴とする請求項（１）記載の
二軸配向ポリエステルフィルム。(2) The biaxially oriented polyester film according to claim (1), wherein the silicon carbide particles have a single particle index in the film of 0.6 or more.