JPH0214732A - 触媒充▲填▼装置 - Google Patents
触媒充▲填▼装置Info
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- JPH0214732A JPH0214732A JP16557788A JP16557788A JPH0214732A JP H0214732 A JPH0214732 A JP H0214732A JP 16557788 A JP16557788 A JP 16557788A JP 16557788 A JP16557788 A JP 16557788A JP H0214732 A JPH0214732 A JP H0214732A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/002—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor with a moving instrument
-
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/003—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor in a downward flow
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は触媒充填装置に係り、石油精製設備や化学工業
設備などの反応塔に触媒を充填する作業等に利用できる
。
設備などの反応塔に触媒を充填する作業等に利用できる
。
従来より、石油精製や化学工業等においては、各種反応
のために触媒が利用されており、その利用にあたっては
、例えば粒状に形紛された触媒を円筒状等の反応塔に充
填しておき、この反応塔内に原料油、反応液、ガスある
いはこれらの混合物等を通過させて触媒表面に接触させ
ることが一般的である。
のために触媒が利用されており、その利用にあたっては
、例えば粒状に形紛された触媒を円筒状等の反応塔に充
填しておき、この反応塔内に原料油、反応液、ガスある
いはこれらの混合物等を通過させて触媒表面に接触させ
ることが一般的である。
このような反応塔においては、内部に充填された触媒に
部分的な粗密があると、反応塔内に通される原料油等が
密度の粗い部分のみを通過するため、負荷の集中により
当該部分の触媒活性が急速に低下し、他の部分が正常で
あっても反応塔として充分な性能が得られなくなり、ま
た短期間で触媒の交換を行う必要が生じる。このため、
充填される触媒の密度をなるべく均一にすることが必要
である。
部分的な粗密があると、反応塔内に通される原料油等が
密度の粗い部分のみを通過するため、負荷の集中により
当該部分の触媒活性が急速に低下し、他の部分が正常で
あっても反応塔として充分な性能が得られなくなり、ま
た短期間で触媒の交換を行う必要が生じる。このため、
充填される触媒の密度をなるべく均一にすることが必要
である。
これらの触媒の充填にあたっては、作業員が反応塔内に
入り、可撓性バイブ等を用いて触媒を散布し、均一にな
らすことが一般的であった。しかし、このような方法で
は作業効率が低いうえ、閉鎖された反応塔内での作業で
あり、触媒の微細粉粒が多量に発生するなど、作業員の
安全性や衛生面に問題がある。このため、近年では、外
部からの操作により安全かつ能率よい触媒充填作業が行
えるように、反応塔内に吊下げ支持された回転円板に上
方から粒状触媒を供給し、遠心力により周囲に飛散させ
る形式の触媒充填装置が多数開発されている。
入り、可撓性バイブ等を用いて触媒を散布し、均一にな
らすことが一般的であった。しかし、このような方法で
は作業効率が低いうえ、閉鎖された反応塔内での作業で
あり、触媒の微細粉粒が多量に発生するなど、作業員の
安全性や衛生面に問題がある。このため、近年では、外
部からの操作により安全かつ能率よい触媒充填作業が行
えるように、反応塔内に吊下げ支持された回転円板に上
方から粒状触媒を供給し、遠心力により周囲に飛散させ
る形式の触媒充填装置が多数開発されている。
このような触媒充填装置の一つに、円板に代えて長円形
等の分配板を用い、その表面に径方向に、沿って複数の
分配路を形成し、各分配路の径寸法を互いに異なる寸法
に形成した触媒充填装置がある(特開昭61−1419
23号公報参照)、この触媒充填装置においては、各分
配路から散布される触媒が多数の同心円状の軌跡を描く
ため、回転数を制御することにより広範囲に−様な散布
が可能であり、他の回転円板式の触媒充填装置に比べて
操作が簡単なうえ均一な触媒充填を極めて効率よく行う
ことができる。
等の分配板を用い、その表面に径方向に、沿って複数の
分配路を形成し、各分配路の径寸法を互いに異なる寸法
に形成した触媒充填装置がある(特開昭61−1419
23号公報参照)、この触媒充填装置においては、各分
配路から散布される触媒が多数の同心円状の軌跡を描く
ため、回転数を制御することにより広範囲に−様な散布
が可能であり、他の回転円板式の触媒充填装置に比べて
操作が簡単なうえ均一な触媒充填を極めて効率よく行う
ことができる。
ところで、前記特開昭61−141923号公報の触媒
充填装置においては、散布密度の均一化を回転速度の定
常的に変化させて行う必要があり、触媒充填作業の進行
に伴って触媒落下高さが小さくなるに従い、触媒が外周
部分まで充分に達するように分配板の回転を高速化させ
なければならない。
充填装置においては、散布密度の均一化を回転速度の定
常的に変化させて行う必要があり、触媒充填作業の進行
に伴って触媒落下高さが小さくなるに従い、触媒が外周
部分まで充分に達するように分配板の回転を高速化させ
なければならない。
しかし、円板を必要以上に高速回転させた場合、散布さ
れる触媒に作用する遠心力が増大するため、反応塔中心
部に落下する触媒が減少する。特に、前記公報のような
二段式の分配板を用いた場合、下段のチューブ状分配路
には遠心力による分配路の閉塞が生じ、散布触媒がより
不均一になるとともに、場合によっては二段目からの散
布が実質的に不可能となる恐れもある。また、さほど高
速でなくとも、各分配路先端においては、回転の高速化
に伴う遠心力の増大が外径の大きいものほど顕著である
ため、大径部からの散布量に比べて小径部、からの散布
量が減り、反応塔中心付近の触媒密度が粗くなることが
あり、均一な充填を維持するためには作業が煩雑で労力
を要していた。
れる触媒に作用する遠心力が増大するため、反応塔中心
部に落下する触媒が減少する。特に、前記公報のような
二段式の分配板を用いた場合、下段のチューブ状分配路
には遠心力による分配路の閉塞が生じ、散布触媒がより
不均一になるとともに、場合によっては二段目からの散
布が実質的に不可能となる恐れもある。また、さほど高
速でなくとも、各分配路先端においては、回転の高速化
に伴う遠心力の増大が外径の大きいものほど顕著である
ため、大径部からの散布量に比べて小径部、からの散布
量が減り、反応塔中心付近の触媒密度が粗くなることが
あり、均一な充填を維持するためには作業が煩雑で労力
を要していた。
本発明の目的は、広い条件範囲で均一な触媒散布が行え
るとともに、高速回転時にも中心付近から散布される触
媒を確保できる触媒充填装置を提供することにある。
るとともに、高速回転時にも中心付近から散布される触
媒を確保できる触媒充填装置を提供することにある。
本発明は、触媒供給管の下方に同軸で回転する少なくと
も2枚の分配板を平行配置し、上側の分配板が下側より
大径となるように形成するとともに、各分配板の表面を
複数のリブで仕切って径方向外向きに拡開する触媒分配
部を設け、この触媒分配部の径方向の長さが互いに異な
るように形成し、さらに各分配板の中央部には触媒落下
部を設けて触媒充填装置を構成したものである。
も2枚の分配板を平行配置し、上側の分配板が下側より
大径となるように形成するとともに、各分配板の表面を
複数のリブで仕切って径方向外向きに拡開する触媒分配
部を設け、この触媒分配部の径方向の長さが互いに異な
るように形成し、さらに各分配板の中央部には触媒落下
部を設けて触媒充填装置を構成したものである。
このように構成された本発明においては、各分配板の触
媒分配部により同心円状に触媒を散布することにより、
反応塔内に充填される触媒の密度を均一にする。また、
分配板を複数段に設け、外周側への触媒散布を上側の分
配板で行い、内周側への触媒散布を下側の分配板で行う
配置とすることにより、高速回転時の散布触媒量の外周
側への遷移が各分配板の範囲内に収まるようにし、内周
側に落下する触媒を確保する。さらに、各分配板の中心
部に設けた触媒落下部により下段の分配板への触媒供給
を行うとともに、最下段の分配仮においては中心部分に
触媒を落下させ、高速回転時においても反応塔中心部へ
の触媒落下を確保し、これらにより高速回転時にも前面
にわたって均一な触媒散布を確実に行って前記目的を達
成する。
媒分配部により同心円状に触媒を散布することにより、
反応塔内に充填される触媒の密度を均一にする。また、
分配板を複数段に設け、外周側への触媒散布を上側の分
配板で行い、内周側への触媒散布を下側の分配板で行う
配置とすることにより、高速回転時の散布触媒量の外周
側への遷移が各分配板の範囲内に収まるようにし、内周
側に落下する触媒を確保する。さらに、各分配板の中心
部に設けた触媒落下部により下段の分配板への触媒供給
を行うとともに、最下段の分配仮においては中心部分に
触媒を落下させ、高速回転時においても反応塔中心部へ
の触媒落下を確保し、これらにより高速回転時にも前面
にわたって均一な触媒散布を確実に行って前記目的を達
成する。
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図には本発明の触媒充填装置10を適用した石油精
製用の反応塔1が示されている。この反応塔1は略円筒
状の外殻を有し、内部には原料油が通過可能な上部スク
リーン2および下部スクリーン3が設けられており、下
部スクリーン3上には粒状の触媒4が積載充填されてい
る。この触媒4を充填するために、反応塔1の上部開口
部には触媒4を蓄えるホッパ5が配置され、ホッパ5の
下端には触媒4を移送する供給チューブ6が連結され、
供給チューブ6の下端は上部スクリーン2の中央に支持
された触媒充填装置10に連結されている。
製用の反応塔1が示されている。この反応塔1は略円筒
状の外殻を有し、内部には原料油が通過可能な上部スク
リーン2および下部スクリーン3が設けられており、下
部スクリーン3上には粒状の触媒4が積載充填されてい
る。この触媒4を充填するために、反応塔1の上部開口
部には触媒4を蓄えるホッパ5が配置され、ホッパ5の
下端には触媒4を移送する供給チューブ6が連結され、
供給チューブ6の下端は上部スクリーン2の中央に支持
された触媒充填装置10に連結されている。
この触媒充填装置10は、本発明に基づいて構成された
ものであり、上部スクリーン2の上面側に配置されたモ
ータ11により駆動される駆動軸12を備えている。こ
の駆動軸12の下端には2枚の分配板13.14が設け
られ、供給チューブ6から供給される触媒4は供給通路
15を通して分配板13.14の中央に導かれており、
触媒充填装置1oは分配板13゜14の回転により触媒
4を周囲に飛散させ、下部スクリーン3上に散布して反
応塔l内への充填を行うように構成されている。
ものであり、上部スクリーン2の上面側に配置されたモ
ータ11により駆動される駆動軸12を備えている。こ
の駆動軸12の下端には2枚の分配板13.14が設け
られ、供給チューブ6から供給される触媒4は供給通路
15を通して分配板13.14の中央に導かれており、
触媒充填装置1oは分配板13゜14の回転により触媒
4を周囲に飛散させ、下部スクリーン3上に散布して反
応塔l内への充填を行うように構成されている。
第2図には触媒充填装置10の下端側の要部が示されて
いる0図において、駆動軸12の下端には固定部材21
がねじ止めされ、この固定部材21の周囲には4本の支
持腕22を介して中心筒体23が支持されている。
いる0図において、駆動軸12の下端には固定部材21
がねじ止めされ、この固定部材21の周囲には4本の支
持腕22を介して中心筒体23が支持されている。
ここで、中心筒体23の上端近傍の周面には分配板13
の内周縁が溶接固定されている。また、中心筒体23の
上端は供給通路15の下端側開口内に挿入され、その外
周には上端縁から下方に向かって拡開する円錐面24が
設けられている。この円錐面24の下端は分配板13の
上面に連結されており、供給通路15からの触媒4を受
けて分配FL13の上面に誘導可能である。
の内周縁が溶接固定されている。また、中心筒体23の
上端は供給通路15の下端側開口内に挿入され、その外
周には上端縁から下方に向かって拡開する円錐面24が
設けられている。この円錐面24の下端は分配板13の
上面に連結されており、供給通路15からの触媒4を受
けて分配FL13の上面に誘導可能である。
第3図に示すように、分配板Iffの上面にはその外周
縁から円錐面24の外周近傍にわたって複数のリプ31
が設けられている。各リプ31は径方向に沿って互いに
外向きに拡開するように配置され、分配板13の表面を
仕切ることにより略凹形の触媒分配部32が形成されて
いる。
縁から円錐面24の外周近傍にわたって複数のリプ31
が設けられている。各リプ31は径方向に沿って互いに
外向きに拡開するように配置され、分配板13の表面を
仕切ることにより略凹形の触媒分配部32が形成されて
いる。
ここで、分配板13の外周形状は、駆動軸12の回転軸
線に対して点対称な略長円形に形成されており、各触媒
分配部32毎に径方向の長さが異なるように形成されて
いる。すなわち、各触媒分配部32は、分配板13の短
軸方向である小径部33に位置する触媒分配部32A、
32Bからそれぞれ長軸方向である大径部34に位置
する触媒分配部32C,32Dに向かって順次半径が増
加し、先端の包路線が略インボリュート曲線を描くよう
に形成されている。
線に対して点対称な略長円形に形成されており、各触媒
分配部32毎に径方向の長さが異なるように形成されて
いる。すなわち、各触媒分配部32は、分配板13の短
軸方向である小径部33に位置する触媒分配部32A、
32Bからそれぞれ長軸方向である大径部34に位置
する触媒分配部32C,32Dに向かって順次半径が増
加し、先端の包路線が略インボリュート曲線を描くよう
に形成されている。
なお、分配板13の中央部は中心筒体23に連結され、
中心筒体23内の空間を介して供給通路15からの触媒
4を一部下方に送出可能とされ、中心筒体23自体が分
配板13の触媒落下部として構成されている。
中心筒体23内の空間を介して供給通路15からの触媒
4を一部下方に送出可能とされ、中心筒体23自体が分
配板13の触媒落下部として構成されている。
第2図に戻って、分配板14は中心筒体23の周面に取
付けられた4本のボルト25により吊下げられ、中心筒
体23の下端から所定間隔をおいて分配板13と平行か
つ同軸に支持されている。
付けられた4本のボルト25により吊下げられ、中心筒
体23の下端から所定間隔をおいて分配板13と平行か
つ同軸に支持されている。
第4図に示すように、分配板14は前述の分配板13と
同様に略長円形に形成され、外周縁から中心筒体23の
周面近傍〆にわたって表面を仕切る複数のリプ41によ
り略凹形の触媒分配部42が形成されている。各触媒分
配部42は、小径部43に位置する触媒分配部42A、
42Bからそれぞれ大径部44に位置する触媒分配部
42C,42Dに向かって順次半径が増加し、先端の包
絡線が略インボリュート曲線を措くように形成されてい
る。なお、分配板13.14は、分配板14の大径部4
4がそれぞれ分配板13の小径部33に重なるように配
置されている。
同様に略長円形に形成され、外周縁から中心筒体23の
周面近傍〆にわたって表面を仕切る複数のリプ41によ
り略凹形の触媒分配部42が形成されている。各触媒分
配部42は、小径部43に位置する触媒分配部42A、
42Bからそれぞれ大径部44に位置する触媒分配部
42C,42Dに向かって順次半径が増加し、先端の包
絡線が略インボリュート曲線を措くように形成されてい
る。なお、分配板13.14は、分配板14の大径部4
4がそれぞれ分配板13の小径部33に重なるように配
置されている。
ここで、分配板14の中心部には触媒落下部としての長
孔45が設けられている。また、分配板14の上面には
、この長孔45を挟んで一対の補助リプ46が径方向に
設けられ、この補助リブ46の上端縁は中央筒体23の
下端側開口内に挿入されσおり、中央筒体23内に上方
から供給された触媒4を分配板l4の回転に伴って掃き
出し、長孔45から落下される以外の触媒を周囲の分配
板14上面に送出可能である。
孔45が設けられている。また、分配板14の上面には
、この長孔45を挟んで一対の補助リプ46が径方向に
設けられ、この補助リブ46の上端縁は中央筒体23の
下端側開口内に挿入されσおり、中央筒体23内に上方
から供給された触媒4を分配板l4の回転に伴って掃き
出し、長孔45から落下される以外の触媒を周囲の分配
板14上面に送出可能である。
なお、分配板14の上面には、長孔45の一例縁に沿っ
て板状の調整部材50が複数配列されている。
て板状の調整部材50が複数配列されている。
これらの調整部材50は、基端側を各2本づつのボルト
47により固定され、それぞれボルト47を緩めて先端
側を長孔45内に進出させることにより長孔45の開口
面積を加減し、長孔45からの落下触媒量を調整可能で
ある。
47により固定され、それぞれボルト47を緩めて先端
側を長孔45内に進出させることにより長孔45の開口
面積を加減し、長孔45からの落下触媒量を調整可能で
ある。
このように構成された本実施例においては、次に示すよ
うな動作を行う。
うな動作を行う。
まず、触媒充填装置10のモータ11を動作させ、駆動
軸12を介して′分配vi13.14を回転させておく
とともに、触媒充填装置10に供給チューブ6を通して
ホッパ5から触媒4を供給する。
軸12を介して′分配vi13.14を回転させておく
とともに、触媒充填装置10に供給チューブ6を通して
ホッパ5から触媒4を供給する。
供給された触媒4は供給通路15から中央筒体23上に
落下し、中央筒体23の外側部分の触媒4は円錐面24
により分配板13に送られ、分配板13の回転に伴う遠
心力により各触媒分配部32の先端から下部スクリーン
3上に散布される。また、中央筒体23の内側部分の触
媒4はそのまま落下して分配板14に送られ、分配板1
4の回転に伴う遠心力により各触媒分配部42の先端か
ら下部スクリーン3上に散布されるとともに、一部が長
孔45を通して中央部に散布される。
落下し、中央筒体23の外側部分の触媒4は円錐面24
により分配板13に送られ、分配板13の回転に伴う遠
心力により各触媒分配部32の先端から下部スクリーン
3上に散布される。また、中央筒体23の内側部分の触
媒4はそのまま落下して分配板14に送られ、分配板1
4の回転に伴う遠心力により各触媒分配部42の先端か
ら下部スクリーン3上に散布されるとともに、一部が長
孔45を通して中央部に散布される。
ここで、分配板13.14の触媒分配部32.42は、
それぞれ径方向の長さが異なるため、各触媒分配部32
.42の先端から散布される触媒4はそれぞれ下部スク
リーン3上に略同心円状の軌跡を描くように散布される
。すなわち、第1図に示すように、分配板13からの触
媒4^は下部スクリーン3の外周縁から所定幅の範囲に
散布され、分配板14からの触媒4Bはその内側の範囲
に散布される。また、分配板14では散布しきれない下
部スクリーン3中心部分については長孔45からの触媒
4Cが散布され、これにより下部スクリーン3上には触
媒4が−様に散布され、反応塔l内には均一な触媒4の
充填が行われる。
それぞれ径方向の長さが異なるため、各触媒分配部32
.42の先端から散布される触媒4はそれぞれ下部スク
リーン3上に略同心円状の軌跡を描くように散布される
。すなわち、第1図に示すように、分配板13からの触
媒4^は下部スクリーン3の外周縁から所定幅の範囲に
散布され、分配板14からの触媒4Bはその内側の範囲
に散布される。また、分配板14では散布しきれない下
部スクリーン3中心部分については長孔45からの触媒
4Cが散布され、これにより下部スクリーン3上には触
媒4が−様に散布され、反応塔l内には均一な触媒4の
充填が行われる。
このような本実施例によれば、次に示すような効果があ
る。
る。
すなわち、2枚の分配板13.14を設け、各々反応塔
1内の外側領域および内側領域を分担させるとともに、
各分配板13.14山径方向の長さの異なる触媒分配部
32.42を設けたため、触媒4を広い範囲にわたって
−様に散布することができる。
1内の外側領域および内側領域を分担させるとともに、
各分配板13.14山径方向の長さの異なる触媒分配部
32.42を設けたため、触媒4を広い範囲にわたって
−様に散布することができる。
また、長孔45を通して触媒4を中央部に散布できるよ
うにしたため、各分配板13.14によっては散布しに
くい反応塔l内の中心部分についても充分な触媒4を確
保でき、より均一な充填が可能となる。
うにしたため、各分配板13.14によっては散布しに
くい反応塔l内の中心部分についても充分な触媒4を確
保でき、より均一な充填が可能となる。
さらに、分配板13.14を高速回転させた場合、分配
板13の小径部33からの散布量が減少しても分配板1
4の大径部44における散布量の増加により補填でき、
かつ分配板14の小径部43からの散布量の減少は長孔
45からの散布量を増加させることにより補填できるた
め、高速回転時にも特に問題なく触媒4の−様な散布が
行え、高速回転により作業時間の短縮が可能である。
板13の小径部33からの散布量が減少しても分配板1
4の大径部44における散布量の増加により補填でき、
かつ分配板14の小径部43からの散布量の減少は長孔
45からの散布量を増加させることにより補填できるた
め、高速回転時にも特に問題なく触媒4の−様な散布が
行え、高速回転により作業時間の短縮が可能である。
一方、分配板13.14を長円形に形成し、各触媒分配
部32.42の径方向の長さが一対の小径部33゜43
と一対の大径部34.44との間で増減を操り返すよう
に形成したため、触媒層のレベルの変化がなく、触媒強
度を確保できるとともに、正逆いずれの方向に回転させ
ても利用することができる。
部32.42の径方向の長さが一対の小径部33゜43
と一対の大径部34.44との間で増減を操り返すよう
に形成したため、触媒層のレベルの変化がなく、触媒強
度を確保できるとともに、正逆いずれの方向に回転させ
ても利用することができる。
また、分配板14の大径部44がそれぞれ分配板13の
小径部33に重なるように配置したため、触媒分配部3
2先端の包絡線に触媒分配部42先端の包絡線が略連続
するようにでき、散布される触媒4相互の連続性を増し
てより均一化できる。
小径部33に重なるように配置したため、触媒分配部3
2先端の包絡線に触媒分配部42先端の包絡線が略連続
するようにでき、散布される触媒4相互の連続性を増し
てより均一化できる。
さらに、各触媒分配部32.42の径方向の長さ変化は
インボリュート曲線に基づくとしたため、各々の端部か
ら散布される触媒4が描く同心円状の軌跡を略一定間隔
としやすく、より均一な散布を行うことができる。
インボリュート曲線に基づくとしたため、各々の端部か
ら散布される触媒4が描く同心円状の軌跡を略一定間隔
としやすく、より均一な散布を行うことができる。
また、供給通路15から落下する触媒4を円錐面24に
より分配板13に円滑に供給できるとともに、分配板1
3の触媒落下部である中央筒体23を通じて分配板14
にも充分な触媒4を供給できる。
より分配板13に円滑に供給できるとともに、分配板1
3の触媒落下部である中央筒体23を通じて分配板14
にも充分な触媒4を供給できる。
さらに、分配板14の上面に補助リブ46を設け、この
補助リブ46により中央筒体23内に上方から供給され
た触媒4を分配板14の回転に伴って掃き出すようにし
たため、分配板14への触媒4の供給を円滑にできる。
補助リブ46により中央筒体23内に上方から供給され
た触媒4を分配板14の回転に伴って掃き出すようにし
たため、分配板14への触媒4の供給を円滑にできる。
また、分配板14の中心部には触媒落下部としての長孔
45を設け、二〇長孔45を分配板14の回転中心を通
りかつある程度の長さにわたって形成したため、両端部
近傍から落下する触媒4を分配板14の回転に伴って外
側に偏向させ、適当に分散させることができる。
45を設け、二〇長孔45を分配板14の回転中心を通
りかつある程度の長さにわたって形成したため、両端部
近傍から落下する触媒4を分配板14の回転に伴って外
側に偏向させ、適当に分散させることができる。
さらに、調整部材50を設けて長孔45の開口面積を加
減できるようにしたため、反応塔1の中心部への触媒4
の散布量を常時最適に調節することができ、より均一な
散布を行うことができる。
減できるようにしたため、反応塔1の中心部への触媒4
の散布量を常時最適に調節することができ、より均一な
散布を行うことができる。
また、調整部材50による長孔45の開口面積の加減は
、ボルト47を緩めて各調整部材50の進出量を加減す
ることで簡単に行え、かつ、調整部材50は複数を別個
に調整可能としたため部分毎の微妙な調整も行うことが
でき、最適な散布状態を簡単に実現することができる。
、ボルト47を緩めて各調整部材50の進出量を加減す
ることで簡単に行え、かつ、調整部材50は複数を別個
に調整可能としたため部分毎の微妙な調整も行うことが
でき、最適な散布状態を簡単に実現することができる。
なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
以下に示すような変形をも含むものである。
以下に示すような変形をも含むものである。
すなわち、分配板13.14の外形は交叉する短軸およ
び長軸を有する長円形に限らず、3個所以上の大径部お
よび小径部を有する略三角形状や略矩形等に形成しても
よい。
び長軸を有する長円形に限らず、3個所以上の大径部お
よび小径部を有する略三角形状や略矩形等に形成しても
よい。
また、分配板13.14は各短軸または長軸に対して略
対称な形状に限らず、いわゆる羽根車のように何れかの
回転方向に沿って径方向の長さが変化するように形成し
てもよい。しかし、このような場合、回転方向を一定方
向に限定されるうえ、小径部と大径部とが隣接して大き
な段差を生じることになるため適宜補強等が必要であり
、なるべ(前記実施例のような長円形等に構成すること
が望ましい。
対称な形状に限らず、いわゆる羽根車のように何れかの
回転方向に沿って径方向の長さが変化するように形成し
てもよい。しかし、このような場合、回転方向を一定方
向に限定されるうえ、小径部と大径部とが隣接して大き
な段差を生じることになるため適宜補強等が必要であり
、なるべ(前記実施例のような長円形等に構成すること
が望ましい。
さらに、分配板13.14に設ける触媒分配部32゜4
2の数は実施にあたって適宜変更すればよい、しかし、
触媒分配部32.42の数を増す場合、各々の幅が狭く
なって触媒4が通過しにくくならないように留意する必
要がある。
2の数は実施にあたって適宜変更すればよい、しかし、
触媒分配部32.42の数を増す場合、各々の幅が狭く
なって触媒4が通過しにくくならないように留意する必
要がある。
一方、前記実施例においては2枚の分配板13゜14を
設けたが、分配板の数は3枚以上であってもよく、反応
塔1内の触媒充填部分の大きさ等に応じ、実施にあたっ
て適宜選択すればよい。
設けたが、分配板の数は3枚以上であってもよく、反応
塔1内の触媒充填部分の大きさ等に応じ、実施にあたっ
て適宜選択すればよい。
また、分配板13.14の取付は構造や触媒4を誘導す
る構造等は実施にあたって適宜選択すればよい。
る構造等は実施にあたって適宜選択すればよい。
例えば、分配板13を直接駆動軸12にねじ止めし、そ
の周囲に多数の穿孔を設けて触媒落下部を構成してもよ
い。また、円錐面24は分配板の中心部近傍を膨出させ
て一体に成形してもよい。さらに、補助リブ46の数は
適宜増減させて″よく、あるい\は省略してもよい。ま
た、分配板14は適当な棒材等の溶接により吊下げても
よい。しかし、前記実施例のように中心筒体23にボル
ト25を介して支持すれば、中心筒体23の下端と分配
板14上面との隙間を加減することができ、触媒分配部
42に送られる触媒4の加減を容易に行える。
の周囲に多数の穿孔を設けて触媒落下部を構成してもよ
い。また、円錐面24は分配板の中心部近傍を膨出させ
て一体に成形してもよい。さらに、補助リブ46の数は
適宜増減させて″よく、あるい\は省略してもよい。ま
た、分配板14は適当な棒材等の溶接により吊下げても
よい。しかし、前記実施例のように中心筒体23にボル
ト25を介して支持すれば、中心筒体23の下端と分配
板14上面との隙間を加減することができ、触媒分配部
42に送られる触媒4の加減を容易に行える。
さらに、前記実施例においては、進出可能な調整部材5
0を長孔45の一側に設けたが、これは長孔45の両側
であってもよい、この場合、両側の調整部材50を同量
づつ進出させれば回転中心に対する対称性を維持でき、
反応塔1の中心部への触媒4の散布のより微妙な調整も
可能である。
0を長孔45の一側に設けたが、これは長孔45の両側
であってもよい、この場合、両側の調整部材50を同量
づつ進出させれば回転中心に対する対称性を維持でき、
反応塔1の中心部への触媒4の散布のより微妙な調整も
可能である。
また、調整部材50は板状に限らず、単に長孔45の開
口面積を加減できるものであればよく、あるいは長孔4
5の側縁に沿って複数を配列するものに限らず、各個に
1枚づつであってもよい。
口面積を加減できるものであればよく、あるいは長孔4
5の側縁に沿って複数を配列するものに限らず、各個に
1枚づつであってもよい。
さらに、長孔45の側縁には、第5図に示すような調整
部材60を設けてもよい。
部材60を設けてもよい。
図において、案内部材60は取付面61に2つの取付用
長孔62を有し、2本のボルト48で分配板I4の下面
に固定されている(第4図中二点鎖線参照)。
長孔62を有し、2本のボルト48で分配板I4の下面
に固定されている(第4図中二点鎖線参照)。
この案内部材60は、取付面6Iの一側縁から下方に延
びる案内面63を有し、その下端縁には略水平な受は面
64が形成されている。この受は面64は、2枚の仕切
板65A、 65Bにより中央部64Aおよび両側の端
部64B、 64Cに仕切られている。このうち、端部
64Bは案内面63と反対側へ斜めに延長され、その側
縁には案内面63から連続する溢れ止め66Aが設けら
れている。また、端部64Cは直線的に延長され、案内
面63と反対側の側縁には仕切板65Bに連続する溢れ
止め66Bが設けられている。さらに、案内面63には
導流口67が設けられ、中央部64Aは導流口67を通
して案内面63の反対側に突出する突出部68に連続さ
れている。
びる案内面63を有し、その下端縁には略水平な受は面
64が形成されている。この受は面64は、2枚の仕切
板65A、 65Bにより中央部64Aおよび両側の端
部64B、 64Cに仕切られている。このうち、端部
64Bは案内面63と反対側へ斜めに延長され、その側
縁には案内面63から連続する溢れ止め66Aが設けら
れている。また、端部64Cは直線的に延長され、案内
面63と反対側の側縁には仕切板65Bに連続する溢れ
止め66Bが設けられている。さらに、案内面63には
導流口67が設けられ、中央部64Aは導流口67を通
して案内面63の反対側に突出する突出部68に連続さ
れている。
このような案内部材60を用いた場合、長孔45からの
触媒4は案内面63に沿って落下し、−旦受は面64に
受けられた後、回転に伴って同心円状に均一に散布され
る。すなわち、受は面64に落下した触媒4のうち中央
部64八 に落下した分は、一部が案内面63と反対側
縁から直接落下し、反応塔1の略中心に散布されるとと
もに、残りが導流口67を通して突出部68に送られ、
反応塔1の略中心から僅かに離れた部分に散布される。
触媒4は案内面63に沿って落下し、−旦受は面64に
受けられた後、回転に伴って同心円状に均一に散布され
る。すなわち、受は面64に落下した触媒4のうち中央
部64八 に落下した分は、一部が案内面63と反対側
縁から直接落下し、反応塔1の略中心に散布されるとと
もに、残りが導流口67を通して突出部68に送られ、
反応塔1の略中心から僅かに離れた部分に散布される。
一方、端部64B。
64Cに落下した分は、それぞれ溢れ止め66A、 6
6Bに沿って先端部まで送られて飛散され、前述の突出
部6Bからの散布分の外側およびさらに外側に同心円状
に散布される。
6Bに沿って先端部まで送られて飛散され、前述の突出
部6Bからの散布分の外側およびさらに外側に同心円状
に散布される。
従って、このような案内部材60によれば、長孔45か
らの触媒4を多様な形態で散布させることができ、反応
塔1内に充填される触媒4を一層均一化させることがで
きる。また、ボルト48を緩めて案内部材60を進退さ
ることができ、前記調整部材50と同様な長孔45の開
口面積の調整を同時に行うこともできる。
らの触媒4を多様な形態で散布させることができ、反応
塔1内に充填される触媒4を一層均一化させることがで
きる。また、ボルト48を緩めて案内部材60を進退さ
ることができ、前記調整部材50と同様な長孔45の開
口面積の調整を同時に行うこともできる。
その他、本発明の触媒充填装置は、前述のような触媒粒
体そのものに限らず、ダッシヒリングやゼオライト等の
固形充填物の充填に利用できる他、吸着や吸収、抽出、
洗浄等、化学工業で多用される触媒に準じた粒状物等を
反応塔類に充填する際にも適用することができる。
体そのものに限らず、ダッシヒリングやゼオライト等の
固形充填物の充填に利用できる他、吸着や吸収、抽出、
洗浄等、化学工業で多用される触媒に準じた粒状物等を
反応塔類に充填する際にも適用することができる。
以上に説明したように、本発明の触媒充填装置によれば
、反応塔内に均一な触媒散布が行えるとともに、高速回
転時にも中心付近から散布される触媒を確保でき、−様
な触媒充填を実現することができる。
、反応塔内に均一な触媒散布が行えるとともに、高速回
転時にも中心付近から散布される触媒を確保でき、−様
な触媒充填を実現することができる。
第1図は本発明の一実施例を示す断面図、第2図は前記
実施例の要部を示す断面図、第3図は前記実施例の一方
の分配板を示す上面図、第4図は前記実施例の他方の分
配板を示す上面図、第5図は前記実施例の調整部材およ
び前記実施例に利用可能な案内部材を示す斜視図である
。 1・・・反応塔、4・・・触媒、4.A、 48.4C
・・・散布される触媒の流れ、5,6.15・・・触媒
供給用のホッパ9供給チエープおよび供給通路、10・
・・触媒充填装置、11、12・・・回転駆動用のモー
タおよび駆動軸、13゜14・・・分配板、23.45
・・・触媒落下部である中心筒体および長孔、31.4
1・・・リプ、32.42・・・触媒分配部、33、4
3・・・小径部、3.4.44・・・大径部、50・・
・調整部材、60・・・案内部材。 出願人 出光エンジニアリング株式会社代理人 弁理士
木下 實三(ほか2名)第 ■ 図 4・−剛9葉 10・−3幻1免填能厘 11.12’・−四亀已ヒt77用の七−夕よrv、5
区中力φ由第 図 / 23.45・−角虫t#:XT吾ritふる中I+−・
箇イ本−i−よ!長孔50・ iM 町! ”57オ 第3 図 41・・パ)ア。 42− 角1媒分v1− 43−・1・径即 ニー人径1(] 60− T内音P材 第 図
実施例の要部を示す断面図、第3図は前記実施例の一方
の分配板を示す上面図、第4図は前記実施例の他方の分
配板を示す上面図、第5図は前記実施例の調整部材およ
び前記実施例に利用可能な案内部材を示す斜視図である
。 1・・・反応塔、4・・・触媒、4.A、 48.4C
・・・散布される触媒の流れ、5,6.15・・・触媒
供給用のホッパ9供給チエープおよび供給通路、10・
・・触媒充填装置、11、12・・・回転駆動用のモー
タおよび駆動軸、13゜14・・・分配板、23.45
・・・触媒落下部である中心筒体および長孔、31.4
1・・・リプ、32.42・・・触媒分配部、33、4
3・・・小径部、3.4.44・・・大径部、50・・
・調整部材、60・・・案内部材。 出願人 出光エンジニアリング株式会社代理人 弁理士
木下 實三(ほか2名)第 ■ 図 4・−剛9葉 10・−3幻1免填能厘 11.12’・−四亀已ヒt77用の七−夕よrv、5
区中力φ由第 図 / 23.45・−角虫t#:XT吾ritふる中I+−・
箇イ本−i−よ!長孔50・ iM 町! ”57オ 第3 図 41・・パ)ア。 42− 角1媒分v1− 43−・1・径即 ニー人径1(] 60− T内音P材 第 図
Claims (3)
- (1)触媒供給管の下方に同軸で回転する少なくとも2
枚の分配板を平行配置し、上側の分配板が下側より大径
となるように形成するとともに、各分配板の表面を複数
のリブで仕切って径方向外向きに拡開する触媒分配部を
設け、この触媒分配部の径方向の長さが互いに異なるよ
うに形成し、さらに各分配板の中央部には触媒落下部を
設けたことを特徴とする触媒充填装置。 - (2)特許請求の範囲第1項において、前記各分配板は
、上側の分配板の大径部が下側の小径部に重なるように
配置されていることを特徴とする触媒充填装置。 - (3)特許請求の範囲第1項または第2項において、前
記各分配板は、外周形状が回転軸心に対して点対称に形
成されていることを特徴とする触媒充填装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63165577A JPH0644987B2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 触媒充▲填▼装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63165577A JPH0644987B2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 触媒充▲填▼装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0214732A true JPH0214732A (ja) | 1990-01-18 |
JPH0644987B2 JPH0644987B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=15815000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63165577A Expired - Fee Related JPH0644987B2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 触媒充▲填▼装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0644987B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016147228A (ja) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | ソフタード工業株式会社 | 触媒充填装置および触媒充填方法 |
KR102478101B1 (ko) * | 2021-12-06 | 2022-12-14 | 이진숙 | 촉매 분배 장치 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5516896A (en) * | 1978-07-20 | 1980-02-05 | Raffinage Cie Francaise | Fine solid material distributor |
JPS61141923A (ja) * | 1984-12-07 | 1986-06-28 | シエブロン リサーチ コンパニー | 微粒子材料を容器内に装入する方法と装置 |
-
1988
- 1988-07-01 JP JP63165577A patent/JPH0644987B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5516896A (en) * | 1978-07-20 | 1980-02-05 | Raffinage Cie Francaise | Fine solid material distributor |
JPS61141923A (ja) * | 1984-12-07 | 1986-06-28 | シエブロン リサーチ コンパニー | 微粒子材料を容器内に装入する方法と装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016147228A (ja) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | ソフタード工業株式会社 | 触媒充填装置および触媒充填方法 |
KR102478101B1 (ko) * | 2021-12-06 | 2022-12-14 | 이진숙 | 촉매 분배 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0644987B2 (ja) | 1994-06-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |