JPH02145422A - 微細酸化銅粉末の製造方法 - Google Patents

微細酸化銅粉末の製造方法

Info

Publication number
JPH02145422A
JPH02145422A JP29672788A JP29672788A JPH02145422A JP H02145422 A JPH02145422 A JP H02145422A JP 29672788 A JP29672788 A JP 29672788A JP 29672788 A JP29672788 A JP 29672788A JP H02145422 A JPH02145422 A JP H02145422A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
solution
particles
primary particles
oxide powder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP29672788A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0559845B2 (ja
Inventor
Mitsuo Abumiya
三雄 鐙屋
Yuichi Ishikawa
雄一 石川
Manabu Yanagawa
柳川 学
Masaharu Abe
阿部 正春
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dowa Holdings Co Ltd
Original Assignee
Dowa Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dowa Mining Co Ltd filed Critical Dowa Mining Co Ltd
Priority to JP29672788A priority Critical patent/JPH02145422A/ja
Publication of JPH02145422A publication Critical patent/JPH02145422A/ja
Publication of JPH0559845B2 publication Critical patent/JPH0559845B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野] 本発明は顆粒状で得られる微細酸化銅粉末の製造方法に
関し、特に捲微細で超電導物質として有効なペロブスカ
イト型構造の得やすいCuO粉末の製造方法に関する。
[従来技術] 従来、酸化鋼を得る方法としては、銅水溶液を中和剤で
中和して得られる調水酸化物又は塩基性銅塩な大気中で
焼成する方法や、硫酸銅溶液にNaOHを添加し、90
℃前後の液温で中和して直接CuOを得る方法などが公
知である。
これらの製造方法によって得られるCuO粉末は通常8
〜10μmの範囲の比較的均一な粒子径を持つ粒子から
なるものであり、ペースト剤等に使用されている。
一方、近年の技術革新は超電導材の分野においても進展
が目ざましく、超電導材製造用原料として種々の化合物
が用いられるようになっている。
CuO粉末も他の化合物との混合により超電導材をつく
るための好ましい原料の1つとしてしきりに用いられて
いるが、使用の目的上、粒子が、より微細で、より活性
があり、且つ純度の高いものであることが望まれている
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、従来の製造法によって得られるCuO粉
末は粒子径がまだ充分に微小ではなく、また活性度や純
度の面でも超電導材の原料として使用するためには問題
があり、前述の要望される性質を全て備えているCuO
粉末を得ることは至難とされていた。
[課題を解決する為の手段] 本発明者等は、かかる問題を解決する為鋭意研究を行な
った結果、中和剤の種類や、反応における温度その他の
諸条件を適切に定めることによって、中和法により超電
導材製造用原料として好適なCuO粉末を製造できるこ
とを見い出した。即ち、本発明は、上記課題解決の手段
として、高純度銅を硝酸に溶解して得られる硝酸鋼溶液
にアンモニウム塩からなる中和剤を添加して溶液を中和
することにより、液中に生成、する微細な1次粒子を得
る第1工程: 第1工程で得られた1次粒子を水洗した後、濾過して乾
燥する第2工程:および 第2工程で得られた乾燥粒子を焼成してCuO粉末を得
る第3工程; からなることを特徴とする微細酸化銅粉末の製造方法を
提供するものである。
[作   用] 本発明を達成する過程で、各種の条件試験を行ない、そ
れぞれについて以下のような最適条件を見出した。
反応装置としては、第1図に示す中和反応装置を用い、
撹拌条件、中和反応温度等を厳密に制御した。この装置
では、中和反応の温度を±0.5℃の変動範囲に制御す
ることが可能であり、また中和剤添加の制御については
、微量定量ポンプを使用し、ポンプの稼動時間を所定の
時間に設定出来る構造とした。
銅溶液としては、安価な硫酸銅溶液ではなく硝酸銅溶液
を用いた。これは超電導材の有害物質の1つである硫黄
分が反応工程において混入することを防止するためであ
る。
出発原料としては、最終製品が所望の純度を持つものと
する為には99.99%程度の電気鋼等の高純度銅を用
いる必要があることを試験により確認した。
本発明の実施において中和剤としてはアンモニウム塩を
用いたが、これは超電導材の有害物質の1つであるナト
リウムを含まない中和剤を用いることが好ましいからで
ある。これらの中でも、炭酸水素アンモニウム(NH,
HCO,’)は特に優れた中和剤の1つであることを確
認した。原料溶液の銅濃度については、従来、稀薄銅溶
液に対して濃厚中和剤の投入を行って微細な中和生成物
を回収している傾向があるが、ハンドリング液量低下に
よるロス低減や設備規模の縮小という経済性の面からは
、生成粒子の微細化に支障がない限り銅濃度を高く設定
することが望ましいと考えられる。このような観点から
検討した結果、本発明においてはCu濃度は55g/β
以下とすることが好ましく、60g/fi以上では均一
な中和の継続が困難であることを確認した。中和剤濃度
としては、上述と同様な理由から生成粒子の微細化に対
する影響が許容できる範囲にある濃厚濃度として、20
0 g/2前後のNH4HCO,溶液を用いるのが最適
であることがわかった。中和反応時の液温は、28℃以
下にコントロールすれば、微細な1次粒子が得られるが
、30℃以上の液温では1次粒子の肥大化が生じること
がわかった。このため本発明の好ましい実施態様では2
6±0.5℃の範囲にコントロールした。
撹拌強度については、350 rpm以下の撹拌速度で
は微細な粒子を得ることができるが、 600rpm以
上の強撹拌では得られる粒子が全てフレーク状であるこ
とが試験により確認された。このことは、大規模な装置
による実際の操業においても、撹拌強度を適度に制御す
る必要のあることを示唆している。
中和剤の投入時間に関しては、20分以内の急速な中和
では充分な核生成が得られず、逆に60分以上かける長
時間中和では1次粒子及び2次粒子の肥大化傾向が現わ
れることが判明し、最適条件として40〜50分の範囲
で行なうのが好ましいことが理解された。
第2工程での水洗・乾燥は、第1工程で得られた1次粒
子の凝集体(2次粒子)を純水で洗浄した後、濾過して
自然対流型乾燥器により70℃で乾燥することにより行
なった。
次いで得られた乾燥物を、200〜400℃の範囲で焼
成し、活性のCuO粉末を得た(第3工程)。
焼成温度が200℃未満の低温焼成では、完全にCuO
へ変換させるためには長時間の焼成時間が必要となり、
逆に500℃以上の高温焼成では、2次粒子(凝集体)
の焼結が起きることを確認した。
即ち、超電導混合仕様実施時において1次粒子への完全
分散を保証するためには、焼成温度を500℃以下、好
ましくは400℃以下とする必要がある。
以下、本発明の詳細を実施例により説明する。
実   施   例 A鉱山産の電気銅(品位99.99%)を出発原料とし
て、銅IKgに対して61%1級硝酸3.42の配合で
溶解した濃厚液を、純水にて稀釈した銅水溶液fl)(
Cu 50g/jL pH=l)442を第1図に示す
中和装置内の中和槽(10βビーカー)(2)に移入し
た。
次いで、中和剤溶液(3)を入れた容器から、微量定量
ポンプ(5)で、中和剤としてのNH4I COs溶液
200℃未満(26℃)を、銅水溶液の入っている10
℃ビーカー(2)に少量ずつ連続的に注入した。
中和反応の条件として、反応温度は26℃前後になるよ
うに温度コントローラー(9)を用いて恒温槽(4)内
の温度を調節すると共に、中和槽の撹拌機(6)の撹拌
速度を30 Orpmとして45分間かけて中和した。
中和反応終了後のpHは、575であった。
中和反応により生成した1次粒子の大きさは200〜6
00人の範囲内にあり、これら1次粒子が顆粒状に凝集
した2次粒子(凝集体)の粒径は0.5〜2.0μmで
あった(第1工程)。
第1工程で得られた2次粒子(凝集体)を、濾過した後
1目的3f!、の純水を用い、計2回の水洗濾過を行な
った。乾燥は低温乾燥器を用い70℃で一昼夜行なった
(第2工程)。
次いで得られた乾燥物をステンレス製バットに移して、
約3時間、300℃前後の温度で焼成したところ、以下
の品位のCuOを得た。
Cu  79.15%  Fe  1.8ppmNi 
 0.2ppm    Cr  <0.2ppmPb 
 <0. 5ppm       SO4<5ppmC
a1.9 %ppm      Na    <  0
. 5ppm以上のようにして得られたCuOは、4N
グレイドのものであって、超電導仕様において有害とさ
れるS、Na、Fe、およびNi各有害元素の含有値が
非常に低いことがわかる。
[発明の効果] 本発明の方法で得られたCuO粉末は、これを混合法に
おいて、Ba、Y、TI等の各種酸化物と所定量混合す
ることにより、超電導用材料を製造することができるが
、混合時において容易に1次粒子(200〜600人)
に分散する為、最終仕様の達成時においては超微粉末と
しての望ましい混和特性を発揮するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の方法を実施するための中和反応装置
の構成を示す概念図である。 符号の説明 3−中和剤溶液 5−微量定量ホンブ 7−熱電対 9−温度コントローラー 4−恒温槽 6−撹拌機 8−投込ヒーター

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 高純度銅を硝酸に溶解して得られる硝酸銅溶液にアンモ
    ニウム塩からなる中和剤を添加して溶液を中和すること
    により、液中に生成する微細な1次粒子を得る第1工程
    ; 第1工程で得られた1次粒子を水洗した後、濾過して乾
    燥する第2工程;および 第2工程で得られた乾燥粒子を焼成してCuO粉末を得
    る第3工程; からなることを特徴とする微細酸化銅粉末の製造方法。
JP29672788A 1988-11-24 1988-11-24 微細酸化銅粉末の製造方法 Granted JPH02145422A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29672788A JPH02145422A (ja) 1988-11-24 1988-11-24 微細酸化銅粉末の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29672788A JPH02145422A (ja) 1988-11-24 1988-11-24 微細酸化銅粉末の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02145422A true JPH02145422A (ja) 1990-06-04
JPH0559845B2 JPH0559845B2 (ja) 1993-09-01

Family

ID=17837314

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29672788A Granted JPH02145422A (ja) 1988-11-24 1988-11-24 微細酸化銅粉末の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02145422A (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001023304A1 (fr) * 1999-09-27 2001-04-05 Daicel Chemical Industries, Ltd. Nitrate de metal basique, procede de production de ce nitrate, et composition contenant un agent generateur de gaz
US6447576B1 (en) 1999-10-29 2002-09-10 Japan Pionics Co., Ltd. Cleaning agent and cleaning process of harmful gas
WO2002079091A1 (fr) * 2001-03-29 2002-10-10 Daicel Chemical Industries, Ltd. Procede permettant de produire du nitrate de metal basique
WO2004050559A1 (ja) * 2002-12-03 2004-06-17 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha 酸化銅超微粒子
US6964716B2 (en) 2002-09-12 2005-11-15 Daicel Chemical Industries, Ltd. Gas generating composition
JP2007169135A (ja) * 2005-12-26 2007-07-05 Dowa Holdings Co Ltd 塩基性炭酸銅および酸化銅、並びに酸化銅の製造方法
CN1332885C (zh) * 2002-12-03 2007-08-22 旭化成株式会社 铜氧化物超细颗粒
WO2009001963A1 (ja) * 2007-06-27 2008-12-31 The University Of Tokyo Maldi質量分析用の試料ホルダおよび質量分析方法
CN106111050A (zh) * 2016-07-08 2016-11-16 常州天兴环保科技有限公司 一种tx‑gf‑jh‑3型废气净化吸附剂
WO2021112209A1 (ja) * 2019-12-06 2021-06-10 三菱マテリアル株式会社 酸化銅粉の製造方法、及び、酸化銅粉

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4977820B2 (ja) * 2007-06-25 2012-07-18 Dowaエレクトロニクス株式会社 酸化銅粉末
JP4945815B2 (ja) * 2007-06-25 2012-06-06 Dowaエレクトロニクス株式会社 酸化銅粉末

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8613821B2 (en) 1999-09-27 2013-12-24 Daicel Chemical Industries, Ltd. Basic metal nitrate, process for producing the same and gas generating agent composition
WO2001023304A1 (fr) * 1999-09-27 2001-04-05 Daicel Chemical Industries, Ltd. Nitrate de metal basique, procede de production de ce nitrate, et composition contenant un agent generateur de gaz
CN100465097C (zh) * 1999-09-27 2009-03-04 大赛璐化学工业株式会社 碱式金属硝酸盐、其制造方法和产气组合物
US6447576B1 (en) 1999-10-29 2002-09-10 Japan Pionics Co., Ltd. Cleaning agent and cleaning process of harmful gas
US7462342B2 (en) 2001-03-29 2008-12-09 Daicel Chemical Industries, Ltd. Method for producing basic metal nitrate
WO2002079091A1 (fr) * 2001-03-29 2002-10-10 Daicel Chemical Industries, Ltd. Procede permettant de produire du nitrate de metal basique
US6964716B2 (en) 2002-09-12 2005-11-15 Daicel Chemical Industries, Ltd. Gas generating composition
JP4716735B2 (ja) * 2002-12-03 2011-07-06 旭化成イーマテリアルズ株式会社 酸化第一銅超微粒子
CN1332885C (zh) * 2002-12-03 2007-08-22 旭化成株式会社 铜氧化物超细颗粒
US7767721B2 (en) 2002-12-03 2010-08-03 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Copper oxide ultrafine particles
WO2004050559A1 (ja) * 2002-12-03 2004-06-17 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha 酸化銅超微粒子
JP2007169135A (ja) * 2005-12-26 2007-07-05 Dowa Holdings Co Ltd 塩基性炭酸銅および酸化銅、並びに酸化銅の製造方法
WO2009001963A1 (ja) * 2007-06-27 2008-12-31 The University Of Tokyo Maldi質量分析用の試料ホルダおよび質量分析方法
JP2009009811A (ja) * 2007-06-27 2009-01-15 Univ Of Tokyo Maldi質量分析用の試料ホルダおよび質量分析方法
US8168441B2 (en) 2007-06-27 2012-05-01 The University Of Tokyo Sample holder for MALDI mass spectrometric analysis, and mass spectrometric analysis method
US8278117B2 (en) 2007-06-27 2012-10-02 The University Of Tokyo Sample holder for maldi mass spectrometric analysis, and mass spectrometric analysis method
KR101491996B1 (ko) * 2007-06-27 2015-02-10 고쿠리츠다이가쿠호우진 도쿄다이가쿠 Maldi 질량 분석용의 시료 홀더 및 질량 분석 방법
CN106111050A (zh) * 2016-07-08 2016-11-16 常州天兴环保科技有限公司 一种tx‑gf‑jh‑3型废气净化吸附剂
WO2021112209A1 (ja) * 2019-12-06 2021-06-10 三菱マテリアル株式会社 酸化銅粉の製造方法、及び、酸化銅粉

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0559845B2 (ja) 1993-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7376862B2 (ja) Ncma高ニッケル四元系前駆体の湿式合成法
US7201888B2 (en) Nanosized silver oxide powder
CN104828869B (zh) 一种钠锰氧化物微粉及其制备方法
JP2011057518A (ja) 高密度ニッケル・コバルト・マンガン共沈水酸化物及びその製造方法
JPH02145422A (ja) 微細酸化銅粉末の製造方法
JP5907169B2 (ja) 酸化ニッケル微粉末及びその製造方法
JP3961826B2 (ja) 高密度及び大きな粒径の水酸化コバルト又はコバルト混合水酸化物の製造方法及びこの方法により製造される製造物
WO1996037436A1 (de) Sphäroidisch agglomeriertes basisches kobalt(ii)carbonat und sphäroidisch agglomeriertes kobalt(ii)hydroxid, verfahren zu ihrer herstellung sowie deren verwendung
JP2010043337A (ja) 銀粉及びその製造方法
CN114272914B (zh) 一种锂吸附剂、膜元件、其制备方法及锂提取方法与装置
JP6159306B2 (ja) 酸化ニッケル粉末
JP3646818B2 (ja) オキシ炭酸ビスマス粉末およびその製造方法
DE4342620C1 (de) Verfahren zur Herstellung von Metallhydroxiden
JP2018024535A (ja) 酸化ニッケル微粉末の製造方法
CN116902943A (zh) 一种可调控比表面的磷酸铁的制备方法
CN116199270B (zh) 一种减少钴氧化物生产过程废水的处理工艺
JP3820018B2 (ja) 粒状銀粉の製造方法
CN106745210B (zh) 一种Li掺杂SrTiO3表面多孔纳米颗粒的制备方法及产物
CN116354409A (zh) 一种超高bet高镍三元前驱体及其连续制备方法
JP2018024550A (ja) 酸化ニッケル微粉末及びその製造方法
CN109896541A (zh) 一种超细氧化亚铜粉的制备方法
JPH0249364B2 (ja)
JP2018024551A (ja) 水酸化ニッケル粒子及びその製造方法
CN114906878B (zh) 一种电池级氢氧化钴纳米片的制备方法
JP7007650B2 (ja) ニッケル粉の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080901

Year of fee payment: 15

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080901

Year of fee payment: 15

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080901

Year of fee payment: 15

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080901

Year of fee payment: 15

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090901

Year of fee payment: 16

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090901

Year of fee payment: 16