JPH02139947A - Substrate loading/carrying device to heat processing furnace - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To shorten transfer time by providing a substrate transfer device and a rotary table including thereon in order a main elevator table for inserting a boat into a furnace, a sub-elevator table for elevating the boat, a turning arm for alternately transferring the boat onto the elevator tables, and a cassette for housing the substrate to be processed. CONSTITUTION:A main elevator table 6 is lowered to take out a boat A from a furnace and simultaneously a boat B is placed on a sub-elevator table 4, and further a substrate W not yet processed is loaded from a cassette 18 on a rotary table 2 through a transfer device 3. Then, the boats are mutually exchanged by a boat exchanging device 8, and the main elevator table 6 is elevated to insert the boat B into a furnace body 1 and lowered after heat treatment of the same. Simultaneously, for the boat B, the substrate W already processed is taken out by the transfer device 3, and mounted on the rotary table 2 and fed to the cassette 18 where a substrate not processed is mounted on the boat B. Further, the boat B exchanged in its position by the boat exchange device 8 and housing therein an electrode W already processed permits the substrate W to be taken out onto the cassette 18 and a substrate not processed to be mounted thereon. Thereafter, the boat A is inserted into the furnace 1 through the main elevator table 6.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体製造工程において、素材であるウェハ
（以下、基板という）に対する酸化、拡散、ＣＶＤ、あ
るいはアニーリング等の各種の熱処理を行う熱処理炉に
、基板を装填するための基板搬送装置に関する。[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to heat treatment in which a wafer (hereinafter referred to as a substrate), which is a raw material, is subjected to various heat treatments such as oxidation, diffusion, CVD, or annealing in a semiconductor manufacturing process. The present invention relates to a substrate transport device for loading substrates into a furnace.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

基板の熱処理に際して、複数枚の基板を１個の保持器に
収容して熱処理炉に装填するバッチ処理を行う場合、処
理工程間に基板を搬送する等のために使用されるカセッ
トは、プラスチック等の耐熱性が低い材料で作られてい
るため１石英等の耐熱性の材料で作られた保持器（以下
、石英ボートという）を用意して、熱処理炉への装填に
先だって、基板をカセットから石英ボートに移載した上
で、熱処理炉に装入するようにしている。When performing batch processing in which multiple substrates are housed in one holder and loaded into a heat treatment furnace during heat treatment of substrates, the cassettes used to transport the substrates between processing steps are made of plastic, etc. Since the substrate is made of a material with low heat resistance, a cage made of a heat-resistant material such as quartz (hereinafter referred to as a quartz boat) is prepared to remove the substrate from the cassette before loading it into the heat treatment furnace. After being transferred to a quartz boat, it is charged into a heat treatment furnace.

また、処理終了後には、熱処理炉から石英ボートを取り
だして、基板をカセットに移載し５次の工程へ搬送する
。Further, after the treatment is completed, the quartz boat is taken out from the heat treatment furnace, the substrate is transferred to a cassette, and the substrate is transported to the fifth step.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

従来、基板をカセットと石英ボートとの間に移載する手
段、また、基板を収容した石英ボートを熱処理炉に装填
する手段は、既に各種の自動化された装置が知られてい
る。Conventionally, various automated devices are already known as means for transferring a substrate between a cassette and a quartz boat, and means for loading a quartz boat containing a substrate into a heat treatment furnace.

しかし従来装置は、まず基板をカセットから石英ボート
へ移載し１次いで石英ボートを熱処理炉へ送りこみ、所
要時間の熱処理を施した後、石英ボートを熱処理炉から
取り出し、適宜冷却した後。However, with conventional equipment, the substrate is first transferred from the cassette to a quartz boat, then the quartz boat is sent to a heat treatment furnace, heat treatment is performed for the required time, and then the quartz boat is taken out of the heat treatment furnace and cooled appropriately.

石英ボートから基板をカセットに移載する。といった工
程になっているため、実際の熱処理に要する時間に加え
て、前後の基板の移載のための時間が必要となり、熱処
理炉の使用効率が低く、単位時間における基板処理数量
が少ない問題がある。Transfer the substrate from the quartz boat to the cassette. Because of this process, in addition to the time required for the actual heat treatment, time is required to transfer the substrates before and after, resulting in the problem of low heat treatment furnace usage efficiency and a small number of substrates processed per unit time. be.

（課題を解決するための手段〕 本発明は、複数個の石英ボートを使用して、そのうちの
いくつかを熱処理炉に装填して処理を行っている間に、
残りの石英ボートを基板移載位置に設置して、処理ずみ
の基板をカセットに移載し。(Means for Solving the Problems) The present invention uses a plurality of quartz boats, and while some of them are loaded into a heat treatment furnace and subjected to treatment,
Place the remaining quartz boat at the substrate transfer position and transfer the processed substrate to the cassette.

次いで、新たな被処理基板を石英ボートに装着して、２
個の石英ボートを順次に熱処理炉に装入するようにした
もので、以下の各要素で構成する。Next, a new substrate to be processed is mounted on the quartz boat, and 2
The quartz boats are sequentially charged into a heat treatment furnace, and are composed of the following elements.

すなわち。Namely.

縦長の筒状で下面が開放した炉体に、それぞれ複数枚の
被処理基板を縦方向に重責して収容する複数個の耐熱性
の縦長のボートを装入する熱処理炉に対して、前記炉体
の直下に配置され、ボートを着脱可能に載置して、前記
炉体に装入するように昇降し、かつ、垂直軸回りに回転
させる主昇降台、 ボートを着脱可能に載置して昇降する副昇降台、前記主
昇降台と前記副昇降台との中間に垂直軸により支承され
１両端部にそれぞれボート支持部が形成されて、主昇降
台と副昇降台とが所定の同一高さにある際に、各ボート
支持部が昇降台に載置した対応するボートの底面に挿入
されて支持し、前記垂直軸回りに旋回することにより、
ボートを前記主昇降台と前記副昇降台との間に、交互に
移行させる旋回腕。For a heat treatment furnace, a plurality of heat-resistant vertically long boats, each of which accommodates a plurality of substrates to be processed vertically, are charged into a vertically cylindrical furnace body with an open bottom surface. a main lifting platform disposed directly below the body, on which a boat is removably mounted, and which is raised and lowered so as to load the furnace into the furnace body, and which rotates around a vertical axis; A sub-lifting platform that goes up and down is supported by a vertical shaft between the main lifting platform and the sub-lifting platform, and boat support parts are formed at both ends of the main platform and the sub-lifting platform, so that the main lifting platform and the sub-lifting platform are at the same predetermined height. each boat support is inserted into and supports the bottom of the corresponding boat placed on the lifting platform and pivots about the vertical axis when
a swing arm that alternately moves the boat between the main platform and the secondary platform;

被処理基板を収容した複数個のカセットを１円周上に載
置して、中心軸回りに所要角度回転することにより、各
カセットを順次所定位置に設置するロータリーテーブル
、 前記副昇降台と前記ロータリーテーブルとの間に配置さ
れ、前記所定位置に設置されたカセットと前記副昇降台
に載置したボートとの間に、基板を移送する基板移送装
置。A rotary table on which a plurality of cassettes containing substrates to be processed are placed on one circumference and rotated at a required angle around a central axis to sequentially set each cassette at a predetermined position; A substrate transfer device that is disposed between a rotary table and transfers a substrate between a cassette installed at the predetermined position and a boat placed on the sub-lifting platform.

〔作　用〕[For production]

複数の耐熱性ボートを並列に使用し、その中の一部のボ
ートを炉体に装入して熱処理を行っている間に、残りの
ボートにおける基板のアンロードとロードを、自動的に
行う。Multiple heat-resistant boats are used in parallel, and while some of the boats are loaded into the furnace body and heat treated, the remaining boats are automatically unloaded and loaded. .

〔実施例〕〔Example〕

第１図は１本発明の１実施例装置の全体構成を示す概略
斜視図で、第２図から第１０図は、同装置の各部分を示
す図である。これらの各図は、本発明の理解に必要な部
材を示すにとどめ、構造材等は適宜省略しである。FIG. 1 is a schematic perspective view showing the overall configuration of an apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2 to 10 are views showing each part of the apparatus. These figures only show members necessary for understanding the present invention, and structural members and the like are omitted as appropriate.

まず、第１図により、本装置のおおまかな構成を説明す
る。First, the general configuration of this device will be explained with reference to FIG.

炉体（１）は、下面が開放した垂直な筒状で、装置の上
部に固定されている。The furnace body (1) has a vertical cylindrical shape with an open bottom and is fixed to the upper part of the apparatus.

ロータリーテーブル（２）は、複数個のカセットを円周
上に等角度間隔で放射状に載置し、当該角度ずつ回転す
ることにより、各カセットを基板移送装置（３）に対す
る受は渡し位置に、順次に設定する。The rotary table (2) radially places a plurality of cassettes on the circumference at equal angular intervals, and rotates each cassette by the angle, so that each cassette is placed in the transfer position for the substrate transfer device (3). Set sequentially.

基板搬送手段（３）は、上記所定位置に設定されたカセ
ットから、被処理基板を１枚ずつ取り出し、副昇降台（
４）に載置した石英ボート（１０）に搬送する。The substrate transport means (3) takes out the substrates to be processed one by one from the cassette set at the predetermined position, and transfers them to the sub-elevating table (
4) onto a quartz boat (10).

副昇降台（４）は１石英ボート（１０）の１個を垂直位
置に載置し、垂直方向の駆動ネジ（５）により昇降駆動
される。なお、昇降を案内するガイド軸や駆動ネジ（５
）を回転駆動するモーター等は１図示を省略したが、次
の主昇降台（６）におけるものと同様に構成しである。The auxiliary lifting platform (4) places one of the quartz boats (10) in a vertical position, and is driven up and down by a vertical drive screw (5). In addition, the guide shaft and drive screw (5
) is omitted from illustration, but it has the same structure as that in the next main lifting platform (6).

主昇降台（６）は、炉体（１）の直下にガイド軸（７ａ
）に沿って昇降可能に設置され、モーター（９）により
ネジ軸（７ｂ）を回転させて昇降駆動され、石英ボート
（工０）の１個を載置して炉体（１）の中に送りこむ。The main lifting platform (6) has a guide shaft (7a) directly below the furnace body (1).
), and is driven up and down by rotating the screw shaft (7b) by a motor (9), and one quartz boat (work 0) is placed in the furnace body (1). Send it in.

ボート交換装置（８）は、副昇降台（４）と主昇降台（
５）との中間に設置されて、垂直軸回りに回転し、２組
の昇降台に載置された石英ボート（１０）を、交互に交
換して他方の昇降台に移載する。The boat exchange device (8) has a sub-lifting platform (4) and a main lifting platform (
The quartz boats (10), which are installed between the quartz boats (10) and 5), rotate around a vertical axis, and are placed on two sets of lifting platforms are alternately exchanged and transferred to the other lifting platform.

これらの各構成要素を、第２図以下の部分図により説明
する。Each of these constituent elements will be explained with reference to partial diagrams in FIG. 2 and subsequent figures.

第２図は、ロータリーテーブル（２）の要部を示す斜視
図である。FIG. 2 is a perspective view showing the main parts of the rotary table (2).

２個の円板（１１）及び（１２）を垂直な回転軸（１３
）に上下２段に装着し、回転軸（１３）に嵌着したプリ
ー（１４）を、減速機付きのモーター（１５）によりベ
ルト（１６）を介して駆動することにより、円板（１１
）（１２）を一体的に回転させる。The two disks (11) and (12) are connected to a vertical axis of rotation (13).
), the pulleys (14) fitted on the rotating shaft (13) are driven by a motor (15) equipped with a speed reducer via a belt (16).
) (12) are rotated integrally.

各円板（１１）（１２）は、それぞれ周縁部に等角度間
隔で、複数個（図示実施例では各５個）のカセット載置
部（１７）を切欠いて形成し、基板（Ｗ）を収容するカ
セット（１８）を位置決めをして載置する。Each disc (11) (12) has a plurality of (5 each in the illustrated embodiment) cassette mounting portions (17) cut out at equal angular intervals on the periphery, and the substrate (W) is The cassette (18) to be accommodated is positioned and placed.

各カセット載置部（１７）の中間には、それぞれ３個ず
つの光ビームを透過する孔（１９）　（２０）　（２２
）が設けてあり、また、下側の円板（１２）の下方に３
個の投光器（２２）　（２３）　（２４）を、上側の円
板（１１）の上方に３個の受光器（２５）　（２６）　
（２７）を設置し、各投光器から対応する受光器に、３
本の光ビーム（Ｌｚ　）（Ｌ２　’）（Ｌｌ）を投射す
る。これらの投光器と受光器とは。In the middle of each cassette mounting part (17), there are holes (19) (20) (22) that transmit three light beams.
) is provided below the lower disk (12).
three emitters (22) (23) (24) and three receivers (25) (26) above the upper disk (11).
(27), and from each emitter to the corresponding receiver, 3
Project a book light beam (Lz)(L2')(Ll). What are these emitters and receivers?

カセット（１８）の有無の検出及びカセット（１８）に
収容されている基板（Ｗ）のサイズを検出するもので、
詳細は第３図により後述する。It detects the presence or absence of a cassette (18) and the size of the substrate (W) accommodated in the cassette (18),
Details will be described later with reference to FIG.

さらに５回転軸（１３）の下部にはエンコーダ（２８）
（２９）が設置してあり、円板（１１）（１２）の回転
角度位置を検出して、カセット（１８）の１個が基板移
送装置（３）に対向する位置（以下、搬送角度位置とい
う）で、回転を停止させる。Furthermore, there is an encoder (28) at the bottom of the 5-rotation shaft (13).
(29) is installed to detect the rotational angular position of the disks (11) and (12), and detect the position at which one of the cassettes (18) faces the substrate transfer device (3) (hereinafter referred to as the transfer angular position). ) to stop the rotation.

第３図は、上記３本の光ビーム（ｔ、　）　（ＬＸ　）
　（Ｌｌ　）によりカセット（１８）の有無、及び被処
理基板として。Figure 3 shows the above three light beams (t, ) (LX)
(Ll) indicates the presence or absence of the cassette (18) and the substrate to be processed.

大小２種のサイズのものを適用する際に、そのサイズを
検出する手法を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a method of detecting the size when two sizes, large and small, are used.

３本の光ビーム（し、）（Ｌ２）（Ｌｌ）は１円板（１
１）あるいは（１２）が搬送角度位置に停止したときに
、一方の円板におけるカセット載置部（１７）の切欠き
を透過し、かつ、他方の円板に設けた３個の孔（１９）
（２０）　（２１）を透過する位置に、各投光器（２２
）　（２３）（２４）、各受光器（２５）　（２６）　
（２７）及び番孔（１ｇ）　（２０）（２１）の位置を
配置し、また、３本の光ビームは。The three light beams (shi,) (L2) (Ll) are 1 disk (1
1) or (12) when it stops at the conveyance angle position, it passes through the notch of the cassette mounting part (17) in one of the discs and passes through the three holes (19) provided in the other disc. )
(20) Each floodlight (22
) (23) (24), each receiver (25) (26)
(27) and the guard hole (1g) (20) and (21), and the three light beams.

円板の中心からの半径方向の距離を、それぞれ異ならせ
である。すなわち、第１の光ビーム（Ｌｌ）は、カセッ
ト（１８）により遮蔽される位置を、第２の光ビーム（
Ｌ２）は、カセット（１８）に収容した基板のうち、小
サイズの基板（Ｗｓ）により遮蔽される位置を、第３の
光ビーム（Ｌｌ）は、同じく大サイズの基板（ｖｌ）に
より遮蔽される位置を、それぞれ通過するように設定し
である。The radial distances from the center of the disk are different. That is, the first light beam (Ll) moves the position blocked by the cassette (18) to the second light beam (Ll).
L2) indicates the position of the substrate housed in the cassette (18) that is blocked by the small-sized substrate (Ws), and the third light beam (Ll) indicates the position that is blocked by the large-sized substrate (vl). It is set so that it passes through each position.

もし、検出位置に設定されたカセット載置部（１７）に
、カセット（１８）が載置されていないときは。If the cassette (18) is not placed on the cassette placement section (17) set at the detection position.

３本の光ビーム（ｔ、ｔ　）　（Ｌ、　）　（Ｌｍ　）
は、すべてカセット載置部（１７）の切欠きと、他方の
円板の孔（１９）　（２０）（２１）とを透過して、３
個の受光器（２５）　（２６）　（２７）に入射する。Three light beams (t, t) (L, ) (Lm)
All of the 3
The light enters the photoreceivers (25), (26), and (27).

カセット（１８）が載置されているが、その中に基板（
Ｗ）がない場合には、第１の光ビーム（し、）だけが遮
蔽され、第２と第３の光ビーム（Ｌ２）（Ｌ、）が２個
の受光器（２６）　（２７）に入射する。小サイズの基
板（Ｉｉｌｓ）を収容したカセットを載置した場合は、
第１と第２の光ビーム（Ｌ、）　（Ｌｍ　）が遮蔽され
、第３の光ビーム（Ｌ、）のみが受光器（２７）に入射
する。A cassette (18) is placed in it, and a substrate (
In the absence of W), only the first light beam (shi,) is blocked and the second and third light beams (L2) (L,) are directed to the two receivers (26) (27). incident. When placing a cassette containing small-sized substrates (Iils),
The first and second light beams (L,) (Lm) are blocked and only the third light beam (L,) is incident on the receiver (27).

さらに、大サイズの基板（Ｖｔ）を収容したカセットを
載置した場合は、３本の光ビームがすべて遮蔽され、受
光器には３個とも入射しない。Furthermore, when a cassette containing a large-sized substrate (Vt) is placed, all three light beams are blocked and none of the three light beams enter the light receiver.

したがって、３個の受光器（２５）　（２６）　（２７
）の出力状態に基づいて、カセットの有無、ないし基板
のサイズの種類を検知することができる。Therefore, three receivers (25) (26) (27
), it is possible to detect the presence or absence of a cassette or the type of board size.

次に第４図は１石英ボート（１０）を示す斜視図、第５
図は、その底面部を下方より見た斜視図である。Next, Figure 4 is a perspective view showing 1 quartz boat (10), and Figure 5
The figure is a perspective view of the bottom portion viewed from below.

それぞれ円板状をなす底板（３１）と天板（３２）とを
、３個の垂直な支柱（３３）　（３４）　（３５）で連
結し、各支柱の内面側には、基板（Ｗ）を支持するため
の多数の溝（３６）を所要ピッチで刻設しである。３個
の支柱は、互いに９０度の角度位置に配置する。また。A bottom plate (31) and a top plate (32) each having a disc shape are connected by three vertical supports (33), (34), and (35), and a board (W) is attached to the inner surface of each support. A large number of grooves (36) are carved at a required pitch to support the structure. The three struts are placed at 90 degree angles to each other. Also.

底抜（３１）の下面には、４個の等長の脚（３７）を突
設しである。Four legs (37) of equal length are protruded from the bottom surface of the bottom punch (31).

この石英ボート（１０）は、基板（Ｗ）を装着して、炉
体（１）内に装入され、基板（Ｗ）の熱処理のための加
熱を受けるために、これらの底抜（３１）、天板（３２
）、支柱（３３）　（３４）　（３５）及び脚（３７）
は、すべて石英等の耐熱性を備える材料で構成する。This quartz boat (10) is loaded with substrates (W) and charged into the furnace body (1), and these bottom holes (31) are inserted in order to receive heating for heat treatment of the substrates (W). , top plate (32
), struts (33) (34) (35) and legs (37)
All are made of heat-resistant materials such as quartz.

次に第６図は、副昇降台（４）及び主昇降台（５）にお
ける石英ボート（ｌＯ）の支承部を示す斜視図、第５図
は、該支承部に石英ボート（ｌＯ）を載置した状態を示
す側面図である。Next, FIG. 6 is a perspective view showing the supporting parts of the quartz boat (lO) on the sub-lifting platform (4) and the main lifting platform (5), and FIG. 5 shows the quartz boat (lO) being mounted on the supporting parts. FIG.

支承部は、支軸（４０）で支持した円板状の台板（４１
）の周縁に１石英ボート（１０）の底面の４個の脚（３
７）に整合する位置に、２個のソケット（４２）及び２
個の当り軸（４３）を突設したもので、主昇降台（５）
のものは支軸（４０）の軸回りに回転即動され、副昇降
台（４）のものは回転せず、副昇降台（４）に固定され
ている。The support portion includes a disc-shaped base plate (41) supported by a support shaft (40).
) around the periphery of the four legs (3) on the bottom of the 1 quartz boat (10).
7), the two sockets (42) and 2
The main lifting platform (5) has two protruding abutment shafts (43).
Those on the sub-lifting table (4) do not rotate and are fixed to the sub-lifting table (4), while those on the sub-lifting table (4) do not rotate.

ソケット（４２）は、上端がテーパー状に拡開し、下部
が石英ボート（１０）の脚（３７）と等径とした孔が設
けてあり、また、当り軸（４３）は、２個の脚（３７）
がソケット（４２）の下部まで挿入されたときに、残り
の２個の脚（３７）の下端が当接する高さとしである。The socket (42) has a tapered upper end and a hole with the same diameter as the leg (37) of the quartz boat (10) at the lower part, and the contact shaft (43) has two holes. Legs (37)
This is the height at which the lower ends of the remaining two legs (37) come into contact when the socket (42) is inserted to the bottom of the socket (42).

すなわち、第７図に示すように、２個の脚（３７）がソ
ケット（４２）に挿入されることにより、石英ボート（
１０）を昇降台の中心に整合させ、かつ。That is, as shown in FIG. 7, by inserting the two legs (37) into the socket (42), the quartz boat (
10) aligned with the center of the lifting platform, and.

残りの２個の脚（３７）が当り軸（４３）に当接するこ
とにより、上下位置を定めて載置する。The remaining two legs (37) come into contact with the abutment shaft (43), thereby determining the vertical position and placing it.

次に第８図は、前述のロータリーテーブル（２）に装着
したカセット（１８）と、副昇降台（４）に載置した石
英ボート（１０）との間に、基板（Ｗ）を受は渡す基板
移送装置（３）の作動を示す平面図、第９図は基板移送
装置（３）の一部数断側面図である。Next, FIG. 8 shows that the substrate (W) is supported between the cassette (18) mounted on the rotary table (2) mentioned above and the quartz boat (10) placed on the sub-lifting platform (4). A plan view showing the operation of the substrate transfer device (3), and FIG. 9 is a partially sectional side view of the substrate transfer device (3).

ロータリーテーブル（２）の円板（１１）あるいは（１
２）に載置され、所定の搬送角度位置に設定されたカセ
ット（１８）に収容した基板（Ｗ）の中心と、副昇降台
（４）の中心とから等距離の位置に、回転及び昇降可能
な支軸（４５）を軸支し、その上端に位置調節用の摺動
ガイド（４６）を設置する。Disk (11) or (1) of rotary table (2)
2) and placed in a cassette (18) set at a predetermined transport angle position, the substrate (W) is rotated and lifted to a position equidistant from the center of the sub-lifting table (4). A possible support shaft (45) is supported, and a sliding guide (46) for position adjustment is installed at its upper end.

摺動ガイド（４６）の上面に駆動部（４７）を載置し、
その一端から水平に突出した腕（４８）の先端に、吸着
板（４９）を装着する。腕（４８）は、矢印（Ａ）で示
すように突出方向に移動する。Place the drive unit (47) on the top surface of the sliding guide (46),
A suction plate (49) is attached to the tip of an arm (48) that projects horizontally from one end. The arm (48) moves in the protruding direction as shown by arrow (A).

吸着板（４９）は、第９図に一部を断面として示すよう
に中空の箱状をなし、その上面に複数個のスリット状の
吸着孔（５０）を設け、下面に配置した吸気管（５１）
を真空ポンプに連結して排気することにより、吸着孔（
５０）から空気を吸引して、吸着板（４９）に載置した
基板（Ｗ）を吸着し保持する。The suction plate (49) has a hollow box shape as shown in the cross section in FIG. 51)
By connecting it to a vacuum pump and evacuating it, the suction hole (
50) to attract and hold the substrate (W) placed on the suction plate (49).

基板（Ｗ）を、カセット（１８）から副昇降台（４）に
載置した石英ボート（１０）に搬送する場合は、まず、
搬送装ｆｉ！（３）を第８図の実線示の位置、すなわち
搬送角度位置に設置したカセット（１８）に対向する位
置に向け、支軸（４５）を昇降して、吸着板（４９）を
搬送すべき基板（Ｗ）の下に挿入できる高さに設定し、
腕（４８）を延伸して吸着板（４９）を基板（Ｗ）の下
面に挿入する。When transporting the substrate (W) from the cassette (18) to the quartz boat (10) placed on the sub-lifting platform (4), first,
Transport equipment fi! (3) to the position shown by the solid line in Fig. 8, that is, the position facing the cassette (18) installed at the transport angle position, and move the support shaft (45) up and down to transport the suction plate (49). Set the height so that it can be inserted under the board (W),
The arm (48) is extended and the suction plate (49) is inserted into the lower surface of the substrate (W).

次いで支軸（４５）を少し上昇させて、吸着板（４９）
を基板（Ｗ）の下面に当接させ、真空吸着を作動させて
、基板（Ｗ）を保持する。この場合、腕（４８）を上下
に搗動可能な構造としておき、支軸（４５）を上昇させ
る代わりに、腕（４８）を上方に搗動させることにより
、吸着板（４９）を基板（Ｗ）の下面に当接させるよう
にしてもよい。Next, raise the support shaft (45) a little and remove the suction plate (49).
is brought into contact with the lower surface of the substrate (W), vacuum suction is activated, and the substrate (W) is held. In this case, the arm (48) is structured to be able to swing up and down, and instead of raising the support shaft (45), by swinging the arm (48) upward, the suction plate (49) can be moved up and down ( It may be made to contact the lower surface of W).

基板（Ｗ）を保持した後、腕（４８）を縮めて基板（Ｗ
）をカセット（１８）から取りだし、支軸（４５）を第
８図に矢印（Ｂ）で示す時計回りに旋回させて、搬送装
置（３）を副昇降台（４）の中心に向け、腕（４８）を
延伸して、保持した基板（Ｗ）を石英ボート（１０）の
支柱（３３）　（３４）　（ａ５）の溝（３６）に挿入
する。このとき、基板（Ｗ）を挿入すべき溝（３６）が
、その基板をカセット（１８）から取りだしたときの高
さに一致するように、あらかじめ副昇降台（４）の上下
位置を調節しておくことが望ましい。After holding the board (W), retract the arm (48) and hold the board (W).
) from the cassette (18), turn the support shaft (45) clockwise as shown by the arrow (B) in Figure 8, direct the transfer device (3) to the center of the sub-lifting platform (4), and lift the arm. (48) and insert the held substrate (W) into the grooves (36) of the supports (33), (34), and (a5) of the quartz boat (10). At this time, adjust the vertical position of the sub-lifting platform (4) in advance so that the groove (36) into which the board (W) is to be inserted matches the height when the board is taken out from the cassette (18). It is desirable to keep it.

次いで、吸着板（４９）の真空吸着を止めて基板（Ｗ）
の保持を解除し、基板移送装置（３）をやや下降させて
吸着板（４９）を基板（Ｗ）の下面から離間させ、腕（
４８）を縮めて吸着板（４８）を石英ボート（１０）か
ら抜きだし、カセット（１８）側へ旋回させて、同様の
手順により次の基板を搬送する。Next, stop the vacuum suction of the suction plate (49) and remove the substrate (W).
, and lower the substrate transfer device (3) slightly to separate the suction plate (49) from the bottom surface of the substrate (W), and then remove the arm (
48) is retracted, the suction plate (48) is taken out from the quartz boat (10), it is rotated toward the cassette (18), and the next substrate is transported in the same manner.

処理ずみの基板を石英ボート（１０）からカセット（１
８）へ搬送する場合は、上述と逆の手順で行う。Transfer the processed substrate from the quartz boat (10) to the cassette (1
When transporting to step 8), perform the procedure in reverse to the above.

なお、搬送装置（３）としては、腕（４８）をその軸回
りに１８０度回転可能な構造としておき、吸着板（４９
）に基板を吸着保持した状態で１８０度回転させて、基
板を裏返すようにしてもよい。この構造は、基板がカセ
ット（１８）に収容する場合と、炉体（１）内で熱処理
を施す場合とで、表裏の向きを逆にする必要がある場合
等に適用する。The transfer device (3) has a structure in which the arm (48) can rotate 180 degrees around its axis, and the suction plate (49)
) may be rotated 180 degrees while holding the substrate by suction, and the substrate may be turned over. This structure is applied when the front and back directions need to be reversed when the substrate is housed in the cassette (18) and when it is subjected to heat treatment in the furnace body (1).

次に第１０図は、２組の昇降台に載置された石英ボート
（１０）を、相互に交換するボート交換装置（８）を示
す斜視図である。Next, FIG. 10 is a perspective view showing a boat exchange device (8) for mutually exchanging the quartz boats (10) placed on two sets of lifting platforms.

副昇降台（４）と主昇降台（６）との中心点に設置した
回転軸（５２）の上端に、旋回腕（５３）を装着する。A rotating arm (53) is attached to the upper end of a rotating shaft (52) installed at the center point of the sub-lifting table (4) and the main lifting table (6).

旋回腕（５３）は、両端部にフォーク状のボート支持部
（５４）を回転対称形に設けて、全体として２字形に形
成される。また、旋回腕（５３）は、主昇降台（６）が
、載置した石英ボート（１０）を炉体から離脱させる。The swing arm (53) is provided with fork-shaped boat support parts (54) at both ends in a rotationally symmetrical manner, and is formed into a two-shape as a whole. Further, the rotating arm (53) allows the main lifting platform (6) to detach the quartz boat (10) placed thereon from the furnace body.

昇降ストロークの下部に下降した際に、石英ボート（ｌ
Ｏ）の底抜の下面と支承部の台板（４１）との間に挿入
できる高さに設置する。When descending to the bottom of the lifting stroke, the quartz boat (l
It is installed at a height that allows it to be inserted between the bottom surface of the bottom of O) and the base plate (41) of the support.

ボート支持部（５４）は、２組の昇降台に載置した石英
ボート（１０）の底板（３１）と、昇降台の支承部台板
（４１）との間に容易に挿入できるように、旋回腕（５
３）の本体部よりやや薄肉としてあり、上面にそれぞれ
３個の当り部材（５５）を突設する。また１石英ボート
（１０）の下面に挿入する際に、台板（４１）の上面４
か所に突設したソケット（４２）と当り軸（４３）ない
しそれらに係合する石英ボート（１０）の脚（３７）と
の衝突を避けるための、切欠き部（５６）を形成しであ
る。The boat support part (54) is arranged so that it can be easily inserted between the bottom plate (31) of the quartz boat (10) placed on the two sets of elevating platforms and the support base plate (41) of the elevating platform. Swivel arm (5
It is slightly thinner than the main body part 3), and has three contact members (55) protruding from the upper surface. Also, when inserting into the bottom surface of 1 quartz boat (10), the top surface 4 of base plate (41)
Notches (56) are formed in order to avoid collisions between the sockets (42) protruding in places and the contact shafts (43) or the legs (37) of the quartz boat (10) that engage with them. be.

第１０図では、理解を容易にするために、副昇降台（４
）側の石英ボート（１０）の図示を省略し、また、主昇
降台（６）側の台板（４２）は、石英ボート（１０）の
受は渡しをする高さから下降した位置で示しである。各
昇降台（４）（６”）が昇降する際には。In Fig. 10, for ease of understanding, the secondary lifting platform (4
) side of the quartz boat (10) is omitted, and the base plate (42) on the main platform (6) side is shown in a position lowered from the height at which the quartz boat (10) is ferried. It is. When each lifting platform (4) (6") goes up and down.

旋回腕（５３）は図示の位置から９０度旋回して、各昇
降台から離れる待機位置に停止している。The rotating arm (53) has rotated 90 degrees from the illustrated position and is stopped at a standby position away from each elevator platform.

２組の昇降台に載置した石英ボート（１０）を交換する
際には、各昇降台の台板（４１）と石英ボート（１０）
の底抜との間に、旋回腕（５３）のボート支持部（５４
）が挿入できる高さに２組の昇降台を設定して、旋回腕
（５３）を待機位置から矢印（Ｄ）方向に９０度旋回さ
せ、各ボート支持部（５４）を石英ボート（１０）の底
抜の下部に挿入する。次いで、各昇降台（４）（６）を
下降させて、石英ボート（１０）を旋回腕（５３）のボ
ート支持部（５４）に立設した３個の当り部材（５５）
に支持させ、各昇降台（４）（６）をさらに下降させて
１石英ボート（１０）に脚（３７）を台板のソケット（
４２）及び当り軸（４３）から離間させた後、旋回腕（
５３）を矢印ＣＤ）方向に１８０度旋旋回せて、各支持
部（５４）に載置した２個の石英ボート（１０）の位置
を交換する。When replacing the quartz boats (10) placed on two sets of lifting platforms, replace the base plate (41) of each lifting platform and the quartz boat (10).
The boat support part (54) of the swing arm (53) is
) are set at a height where the quartz boat (10) can be inserted, and the swing arm (53) is rotated 90 degrees in the direction of arrow (D) from the standby position, and each boat support part (54) is inserted into the quartz boat (10). Insert it into the bottom of the bottom hole. Next, each elevator platform (4) (6) is lowered, and the quartz boat (10) is placed on the three contact members (55) erected on the boat support portion (54) of the swing arm (53).
Each lifting platform (4) (6) is further lowered and the leg (37) is attached to the socket (37) on the base plate (10).
42) and the abutting shaft (43), the rotating arm (
53) by 180 degrees in the direction of arrow CD) to exchange the positions of the two quartz boats (10) placed on each support part (54).

次いで、２組の昇降台（４）（６）を上昇させて、台板
のソケット（４２）と当り軸（４３）とを石英ボート（
１０）の脚（３７）に係合させ、さらに石英ボート（１
０）の底板が旋回腕（５３）の当り部材（５５）からや
や離間する高さまで上昇させる。そして、旋回腕（５３
）を矢印（Ｄ）の逆方向に９０度旋回させて、ボート支
持部（５４）を各昇降台（４）（６）と石英ボート（１
０）から離脱させる。Next, the two sets of lifting platforms (4) and (6) are raised, and the socket (42) of the base plate and the abutment shaft (43) are placed in the quartz boat (
10), and further engage the legs (37) of the quartz boat (10).
0) is raised to a height where it is slightly spaced from the abutment member (55) of the swing arm (53). And the rotating arm (53
) by 90 degrees in the opposite direction of the arrow (D), and move the boat support part (54) to each lifting platform (4) (6) and the quartz boat (1
0).

次に、上述の各部で構成した図示実施例装置の作動を説
明する。Next, the operation of the illustrated embodiment device constructed from the above-mentioned parts will be explained.

第１１図は、２個の石英ボート（「ボートＡ」及び「ボ
ートＢ」とする）について、炉体（１）における熱処理
工程、副昇降台（４）における基板（Ｗ）の着脱工程、
及び２組の昇降台（４）（６）の間の交換工程のタイミ
ング配分を示すタイミングチャートである。FIG. 11 shows two quartz boats (referred to as "boat A" and "boat B"), the heat treatment process in the furnace body (1), the attachment and detachment process of the substrate (W) in the sub-lifting table (4),
and a timing chart showing the timing distribution of the exchange process between the two sets of elevating tables (4) and (6).

左端の時期（Ｉ）は、ボートＡが主昇降台（６）に載置
されて炉体（１）内に上昇した熱処理工程で、期間（１
）の終期には、主昇降台（６）が下降してボートＡを炉
体から取り出す。Period (I) on the far left is a heat treatment process in which boat A was placed on the main lifting platform (6) and ascended into the furnace body (1).
), the main lifting platform (6) descends to take out the boat A from the furnace body.

同じ時期（１）において、ボートＢは副昇降台（４）に
載置されて、搬送装置（３）によりロータリーテーブル
（２）のカセット（１８）から、未処理基板（Ｗ）が順
次装填される。At the same time (1), boat B is placed on the sub-lifting platform (4), and unprocessed substrates (W) are sequentially loaded from the cassettes (18) of the rotary table (2) by the transport device (3). Ru.

時期（■）では、所定数の未処理基板（Ｗ）が装填され
たボートＢと、炉体（１）から取り出されて下降したボ
ートＡとが、ボート交換装置（８）により互いの位置を
交換され、ボートＡは副昇降台（４）に、ボートＢは主
昇降台（６）に、それぞれ移行して載置される。At time (■), boat B loaded with a predetermined number of unprocessed substrates (W) and boat A, which has been taken out from the furnace body (1) and descended, change their positions with each other by the boat exchange device (8). After the exchange, boat A is moved and placed on the sub-lifting platform (4), and boat B is moved and placed on the main lifting platform (6).

時期（［）では、主昇降台（６）が上昇してボートＢを
炉体（１）に装入し、所要時間の熱処理を行った後、下
降する。At period ([), the main platform (6) ascends, loads the boat B into the furnace body (1), performs heat treatment for the required time, and then descends.

同じ時期（ｍ）において、ボートＡは、適宜の冷却期間
を経過した後、搬送装置（３）により、処理ずみの基板
（Ｗ）を順次取りだし、ロータリーテーブル（２）に装
着されて所定の搬送角度位置に設置されたカセット（１
８）に送りこみ、次いで、ロータリーテーブル（２）を
回転させて、新たな未処理基板（Ｗ）を収容したカセッ
ト（１８）を搬送角度位置に設置し、搬送装置（３）に
より、順次未処理基板が装填される。At the same time (m), boat A, after an appropriate cooling period, takes out the processed substrates (W) one by one using the transport device (3), is mounted on the rotary table (2), and is transported to a predetermined location. Cassette (1
8), then rotate the rotary table (2), set the cassette (18) containing new unprocessed substrates (W) at the transport angle position, and transport the unprocessed substrates (W) one by one by the transport device (3). A processing substrate is loaded.

時期（ＩＶ）では１、時期（■）と同様に、ボート交換
装置（８）により、２個のボートの位置を交換し。In period (IV), the positions of the two boats are exchanged using the boat exchange device (8) in the same manner as in period (■).

ボートＡは主昇降台（６）に、ボートＢは副昇降台（４
）に移載される。Boat A is on the main platform (6), boat B is on the secondary platform (4).
) will be transferred to.

時期（Ｖ）は、時期（ＩＩＩ）と同様で、処理ずみの基
板（Ｗ）を収容したボートＢは、所要の冷却期間を経過
した後、基板（Ｗ）のカセット（１８）への取り出しと
、新たなカセットからの未処理基板の装填が行われ、同
じ期間（Ｖ）において、ボートＡは主昇降台（６）の上
昇により、炉体（１）に装入されて。Period (V) is the same as period (III), and boat B containing the processed substrates (W) takes out the substrates (W) into the cassette (18) after the required cooling period. , loading of unprocessed substrates from a new cassette takes place, and in the same period (V), boat A is loaded into the furnace body (1) by raising the main platform (6).

基板の熱処理が行われる。Heat treatment of the substrate is performed.

以下、同じ過程が反復して、多数の被処理基板をパッチ
処理により、効率よく熱処理をすることができる。Thereafter, the same process is repeated, and a large number of substrates to be processed can be efficiently heat-treated by patch processing.

なお、未処理基板を収容したカセット（１８）をロータ
リーテーブル（２）に載置装着し、また、処理ずみ基板
を収容したカセット（１８）をロータリーテーブル（２
）から取り外す手段は、手動でもよく、あるいはこの種
の基板処理装置に慣用されるカセット搬送及び位置決め
装着装置を適用すればよいので、図示及び説明を省略す
る。また、カセット（１８）のロータリーテーブル（２
）に対する着脱時期は、ロータリーテーブル（２）が回
転していない時であれば、いつでもよい。The cassette (18) containing unprocessed substrates is mounted on the rotary table (2), and the cassette (18) containing processed substrates is mounted on the rotary table (2).
) may be done manually or by applying a cassette conveying and positioning device commonly used in this type of substrate processing apparatus, so illustrations and explanations thereof will be omitted. Also, the rotary table (2) of the cassette (18)
) may be attached or detached at any time as long as the rotary table (2) is not rotating.

上述説明は１図示実施例に基づいて記載したが、本発明
は上記内容に限定されるものではなく、自明の変更ない
し改造等を含むものである。Although the above description has been made based on one illustrated embodiment, the present invention is not limited to the above content, but includes obvious changes and modifications.

たとえば図示実施例では、ロータリーテーブル（２）と
して、上下２個の円板（１１）（１２）を備え、それぞ
れ５個ずつのカセットを装着して、同軸で回転するよう
にしているが、上下２個の円板（１１）（１２）を別々
に回転させ、それぞれ別個のバッチカセット群に対応さ
せてもよい、また１円板を１個のみとして、ロータリー
テーブル（２）に対するカセットの着脱の頻度を、２倍
にするようにしてもよい、この場合は１円板（１１）あ
るいは（１２）に、光ビームＣＬｘ　）　（Ｌ２　）　
（Ｌｍ　）を透過させる孔（１９）　（２０）　（２１
）を設ける必要はない。For example, in the illustrated embodiment, the rotary table (2) is provided with two upper and lower discs (11, 12), each with five cassettes mounted thereon so as to rotate coaxially. The two discs (11) and (12) may be rotated separately to correspond to separate batch cassette groups, or each disc may be provided as only one, so that the cassettes can be attached to and removed from the rotary table (2). The frequency may be doubled, in which case the light beam CLx ) (L2 ) is applied to one disk (11) or (12).
(Lm) through holes (19) (20) (21
) is not necessary.

また、主昇降台（６）及び副昇降台（４）を昇降駆動す
る手段として１図示実施例ではネジ軸（７ｂ）ないしく
５）による駆動装置を適用しているが、その他の手段、
たとえばエアシリンダやチェノあるいはロープによる翻
動手段等を適用することもできる。In addition, as a means for driving the main lifting platform (6) and the sub-lifting platform (4) up and down, in the illustrated embodiment, a driving device using a screw shaft (7b) or 5) is applied, but other means,
For example, it is also possible to apply a swinging means using an air cylinder, a chino, or a rope.

また、ロータリーテーブル（２）側のカセット（１８）
と副昇降台（４）上の石英ボート（１０）との間に、基
板を搬送する搬送装置（３）は、真空圧により基板を保
持する吸着板（４９）を備えるものとして説明したが、
機械的なりリップにより基板を保持するようにしてもよ
い。Also, the cassette (18) on the rotary table (2) side
Although the transfer device (3) that transfers the substrate between the substrate and the quartz boat (10) on the sub-lift table (4) has been described as being equipped with a suction plate (49) that holds the substrate by vacuum pressure,
The substrate may be held by a mechanical lip.

また、基板移送装置（３）を上下に２組配置し、その一
つでロータリーテーブル（２）の一方の円板に設置した
カセット（１８）からボート（１０）へ基板（Ｗ）を移
送し、同時に他方の基板移送装置によりボート（ｌＯ）
から他方の円板に設置したカセット（１８）へ処理ずみ
の基板を移送して、ボート（１０）への基板（Ｗ）の装
填と取出しを並行して行うようにすれば、基板移送のた
めの時間を短縮して、作業効率を向上させることができ
る。In addition, two sets of substrate transfer devices (3) are arranged above and below, and one of them transfers the substrate (W) from the cassette (18) installed on one disk of the rotary table (2) to the boat (10). , the boat (lO) is simultaneously transferred by the other substrate transfer device.
If the processed substrates are transferred from one disk to the cassette (18) installed on the other disk, and the substrates (W) are loaded and unloaded into the boat (10) in parallel, it is possible to transfer the substrates. can reduce time and improve work efficiency.

また、カセット（１８）とボート（１０）とにおける基
板（Ｗ）の収容ピッチを互いに等しくしておけば。Further, if the accommodating pitches of the substrates (W) in the cassette (18) and the boat (10) are made equal to each other.

基板移送装置（３）を単に水平面内に移動させるだけで
、基板（Ｗ）をカセット（１８）とボート（１０）との
間に移送することができ、基板移送装置（３）の昇降を
要しないため、移送時間の短縮を図ることができ、かつ
、異物粒子が基板に付着する不都合を減少させる効果が
期待できる。By simply moving the substrate transfer device (3) in a horizontal plane, the substrate (W) can be transferred between the cassette (18) and the boat (10), which eliminates the need for raising and lowering the substrate transfer device (3). Therefore, the transfer time can be shortened, and the effect of reducing the inconvenience of foreign particles adhering to the substrate can be expected.

上述実施例では、熱処理炉が１台であるものを示したが
、複数台の熱処理炉を備えるものであってもよい。その
場合には、各炉体（１）と各主昇降台（６）とを、旋回
腕（５３）の回転軸（５２）を中心として放射状に配置
すればよい。In the above embodiment, one heat treatment furnace is used, but a plurality of heat treatment furnaces may be provided. In that case, each furnace body (1) and each main lifting platform (6) may be arranged radially around the rotation axis (52) of the rotating arm (53).

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

（１）２組の石英ボートを使用し、一方のボートを炉体
に装入して熱処理を施している期間に、他方のボートか
らの処理ずみ基板の取り出しと、未処理基板の装填とを
行うため、熱処理炉の使用効率が向上する。(1) Two sets of quartz boats are used, and during the period when one boat is loaded into the furnace body and subjected to heat treatment, the processed substrates are removed from the other boat and the untreated substrates are loaded. This improves the efficiency of using the heat treatment furnace.

（２）カセットと石英ボートとの間の被処理基板の移載
、及び石英ボートの交換が自動的に行われ。(2) The substrate to be processed is transferred between the cassette and the quartz boat, and the quartz boat is replaced automatically.

多数の基板の熱処理をきわめて効率よく遂行できる。Heat treatment of a large number of substrates can be performed extremely efficiently.

（３）副昇降台と基板移送装置の双方が別々に昇降する
構造であるため１片方のみが昇降するものに比較して、
副昇降台に載置したボートと基板移送装置との間におけ
る基板移送に必要な時間が短縮される。(3) Since both the sub-lifting table and the substrate transfer device are structured to be raised and lowered separately, compared to a structure in which only one side is raised and lowered,
The time required to transfer the substrate between the boat placed on the sub-elevating table and the substrate transfer device is shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第１図は本発明の１実施例装置の全体構成を示す概略斜
視図、第２図はロータリーテーブルの斜視図、第３図は
ロータリーテーブルに載置したカセットと、カセットの
有無検出及び基板のサイズ検出手段を示す平面図、第４
図は石英ボートの斜視図、第５図は石英ボートの底面を
司巣斜視図、第６図は昇降台のボート支承部を示す斜視
図、第７図はボート支承部に石英ボートを載置した状態
を示す一部破断側面図、第８図は基板移送装置の作動を
示す平面図、第９図は移送装置の概略側面図、第１０図
は石英ボート交換装置を示す斜視図、第１１図は作動シ
ーケンスを示すタイミング図である。 （１）・・・・炉体、　（２）・・・・ロータリーテー
ブル、（３）・・・・基板移送装置、（４）・・・・副
昇降台、（６）・・・・主昇降台、　　（８）・・・・
ボート交換装置、（１０）・・・・石英ボート、　　（
１１）（１２）・・・・円板、（１５）・・・・モータ
ー　　　（１７）・・・・切欠き部、（１８）・・・・
カセット、　　（１９）　（２０）　（２１）・・・・
透孔、（２２）　（２３）　（２４）・・投光器、（２
５）　（２６）　（２７）・・受光器。 （２８）　（２９）・・・・エンコーダ、（３１）・・
・・底板、　　　　（３２）・・・・天板、（３３）　
（３４）　（３５）・・・・支柱、（３６）・・・・溝
。 （３７）・・・・脚、　　　　　（４１）・・・・台板
、（４２）・・・・ソケット、　　　　（４３）・・・
・当り軸、（４７）・・・・移送製置駒動部、（４８）
・・・・腕、（４９）・・・・吸着板、　　　（５０）
・・・・スリット、（５３）・・・・旋回腕、　　　（
５４）・・・・ボート支持部。 （５５）・・・・当り部材。 （５６）・・・・切欠き部。 ！ １隋 輩 ハ 輩゛５回 輩 邸 輩 図 図 ＋FIG. 1 is a schematic perspective view showing the overall configuration of an apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of a rotary table, and FIG. Plan view showing size detection means, 4th
The figure is a perspective view of the quartz boat, Figure 5 is a perspective view of the bottom of the quartz boat, Figure 6 is a perspective view showing the boat support of the lifting platform, and Figure 7 is a quartz boat placed on the boat support. 8 is a plan view showing the operation of the substrate transfer device, FIG. 9 is a schematic side view of the transfer device, FIG. 10 is a perspective view showing the quartz boat exchange device, and FIG. The figure is a timing diagram showing the operating sequence. (1) Furnace body, (2) Rotary table, (3) Substrate transfer device, (4) Sub-lifting platform, (6) Main Lifting platform, (8)...
Boat exchange device, (10)...Quartz boat, (
11) (12)...Disk, (15)...Motor (17)...Notch, (18)...
Cassette, (19) (20) (21)...
Through hole, (22) (23) (24)... Floodlight, (2
5) (26) (27)... Light receiver. (28) (29)... Encoder, (31)...
... Bottom plate, (32) ... Top plate, (33)
(34) (35)... Support, (36)... Groove. (37)...Legs, (41)...Baseplate, (42)...Socket, (43)...
・Attaching shaft, (47)...Transfer and placement piece moving part, (48)
... Arm, (49) ... Adsorption plate, (50)
...slit, (53) ...swivel arm, (
54)...Boat support part. (55)...A hit member. (56)...notch part. ! 1st Sui Hai Ha Hai 5th Hai Residence Map +

Claims (1)

【特許請求の範囲】 縦長の筒状で下面が開放した炉体に、それぞれ複数枚の
被処理基板を縦方向に重積して収容する耐熱性の縦長の
ボートを装入する熱処理炉に対して、前記炉体の直下に
配置され、ボートを着脱可能に載置して、前記炉体に装
入するように昇降し、かつ、垂直軸回りに回転させる主
昇降台と、ボートを着脱可能に載置して昇降する副昇降
台と、 前記主昇降台と前記副昇降台との中間に垂直軸により支
承され、両端部にそれぞれボート支持部が形成されて、
主昇降台と副昇降台とが所定の同一高さにある際に、各
ボート支持部が昇降台に載置した対応するボートの底面
に挿入されて支持し、前記垂直軸回りに旋回することに
より、ボートを前記主昇降台と前記副昇降台との間に、
交互に移行させる旋回腕と、 被処理基板を収容した複数個のカセットを、円周上に載
置して、中心軸回りに所要角度回転することにより、各
カセットを順次所定位置に設置するロータリーテーブル
と、 前記副昇降台と前記ロータリーテーブルとの間に配置さ
れ、前記所定位置に設置されたカセットと前記副昇降台
に載置したボートとの間に、基板を移送する基板移送装
置と、 を具備してなる熱処理炉への基板装填搬送装置。[Scope of Claims] A heat treatment furnace in which a heat-resistant vertical boat for storing a plurality of substrates to be processed vertically stacked in a vertically cylindrical furnace body with an open bottom surface is charged. a main lifting platform disposed directly below the furnace body, on which a boat is removably placed, lifted and lowered so as to be loaded into the furnace body, and rotated around a vertical axis; a sub-lifting platform that is placed on the main platform and the sub-lifting platform to be raised and lowered; supported by a vertical shaft midway between the main lifting platform and the sub-lifting platform, and boat support portions are formed at both ends, respectively;
When the main lifting platform and the sub-lifting platform are at the same predetermined height, each boat support part is inserted into and supports the bottom surface of the corresponding boat placed on the lifting platform, and rotates around the vertical axis. Accordingly, the boat is placed between the main platform and the secondary platform,
A rotating arm that alternately moves the cassettes, and a rotary system that places multiple cassettes containing substrates to be processed on the circumference and sequentially places each cassette in a predetermined position by rotating the required angle around the central axis. a table; a substrate transfer device disposed between the sub-lifting table and the rotary table and transferring the substrate between the cassette installed at the predetermined position and the boat placed on the sub-lifting table; A device for loading and transporting substrates into a heat treatment furnace, comprising: