JPH0212253A - オフセツト印刷版の感光層に潜像を得る方法及び装置 - Google Patents
オフセツト印刷版の感光層に潜像を得る方法及び装置Info
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- JPH0212253A JPH0212253A JP1100348A JP10034889A JPH0212253A JP H0212253 A JPH0212253 A JP H0212253A JP 1100348 A JP1100348 A JP 1100348A JP 10034889 A JP10034889 A JP 10034889A JP H0212253 A JPH0212253 A JP H0212253A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2057—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using an addressed light valve, e.g. a liquid crystal device
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光源から放射され、光マスクにより変調された
光束を用いてオフセット印刷版の感光層上に潜像を得る
方法及び装置に関する。
光束を用いてオフセット印刷版の感光層上に潜像を得る
方法及び装置に関する。
従来の技術
常用のオフセット印刷版は、光マスクとして使用しまた
印刷版の感光層上に直接施されたフィルムを通して多量
の光で露光される。
印刷版の感光層上に直接施されたフィルムを通して多量
の光で露光される。
通常ネガチブ法(Ne(ativverfahren
)で使用可能にされた印刷版はフィルムオリジナル、多
くの場合ハロゲン化銀ネガフィルムが施されている感光
層を有するアルミニウム薄板からなり、この場合両者は
真空密着状態で例えばハロゲン化金属を施された水銀灯
で露光される。露光箇所では化学反応が起きることによ
り層は硬化し、非露光部を現像剤で除去した後オフセッ
ト印刷用印刷版として使用可能の状態にされる。
)で使用可能にされた印刷版はフィルムオリジナル、多
くの場合ハロゲン化銀ネガフィルムが施されている感光
層を有するアルミニウム薄板からなり、この場合両者は
真空密着状態で例えばハロゲン化金属を施された水銀灯
で露光される。露光箇所では化学反応が起きることによ
り層は硬化し、非露光部を現像剤で除去した後オフセッ
ト印刷用印刷版として使用可能の状態にされる。
これに対しボジチブ法(Po5it、1vverfah
ren)で使用可能にされた印刷版の場合、疎水性化合
物からなる層は光分解により強親水性化合物に変換され
、層の露光部は現像剤により溶解除去される。
ren)で使用可能にされた印刷版の場合、疎水性化合
物からなる層は光分解により強親水性化合物に変換され
、層の露光部は現像剤により溶解除去される。
他の方法によればオリジナル画像は選択可能の縮尺で印
刷版に投射又は反射され、この場合フィルム、場合によ
ってはコンピュータによって記録されるマイクロフィル
ムから出発することもできる[「ドクルックィンドゥス
トリー」(Druckindustrie) 、5IG
allen 、 1987年10月6日、第116頁参
照]。
刷版に投射又は反射され、この場合フィルム、場合によ
ってはコンピュータによって記録されるマイクロフィル
ムから出発することもできる[「ドクルックィンドゥス
トリー」(Druckindustrie) 、5IG
allen 、 1987年10月6日、第116頁参
照]。
すべての方法において、印刷版を製造する前に、光マス
クとして印刷原稿から作成しなければならないフィルム
が必要である。
クとして印刷原稿から作成しなければならないフィルム
が必要である。
フィルムの製造は時間がかかるだけでなく、無塵の作業
場が高度に要求される処理を必要とする。更に個々のフ
ィルムを設置箔上に取り付ける費用の嵩む作業も行わな
ければならない。
場が高度に要求される処理を必要とする。更に個々のフ
ィルムを設置箔上に取り付ける費用の嵩む作業も行わな
ければならない。
発明が解決しようとする課題
従って本発明は光マスクの製造工程を簡略化しまた短縮
する方法及び装置を提供することを根本課題とする。
する方法及び装置を提供することを根本課題とする。
課題を解決するための手段
この課題は本発明によれば、光マスクとして光弁マトリ
ックスを使用しまた光弁マトリックスを画像と関連する
信号で制御することによって特徴づけられる、光源から
放射され、光マスクにより変調された光束を用いてオフ
セット印刷版の感光層に潜像を得る方法により、及び第
1液晶層単位と、この液晶層単位の第1面に向けられ、
画像と関連するパルスを送る、コンピュータ処理された
記録光線と、光源から放射された光を液晶層単位の、第
1面とは逆の側の第2面に反射するミラーと、液晶層単
位の第2面をオフセット印刷版上に結像させるレンズ系
とからなることによって特徴づけられる上記方法を実施
する装置により、また電極マトリックスを備えた第2液
晶層単位(この場合電極マトリックスは画像と関連する
電気信号で付加可能である)と、光束を第2液晶層単位
の第1面に投射させる。光束用案内系と、第2液晶層単
位を透過する光束成分を結像させるレンズ系とからなる
ことによって特徴づけられる上記方法を実施する装置に
より解決される。
ックスを使用しまた光弁マトリックスを画像と関連する
信号で制御することによって特徴づけられる、光源から
放射され、光マスクにより変調された光束を用いてオフ
セット印刷版の感光層に潜像を得る方法により、及び第
1液晶層単位と、この液晶層単位の第1面に向けられ、
画像と関連するパルスを送る、コンピュータ処理された
記録光線と、光源から放射された光を液晶層単位の、第
1面とは逆の側の第2面に反射するミラーと、液晶層単
位の第2面をオフセット印刷版上に結像させるレンズ系
とからなることによって特徴づけられる上記方法を実施
する装置により、また電極マトリックスを備えた第2液
晶層単位(この場合電極マトリックスは画像と関連する
電気信号で付加可能である)と、光束を第2液晶層単位
の第1面に投射させる。光束用案内系と、第2液晶層単
位を透過する光束成分を結像させるレンズ系とからなる
ことによって特徴づけられる上記方法を実施する装置に
より解決される。
オフセット印刷に適した印刷版をフィルムなしに製造す
る工程は文献にすでに記載されている[「デア・ドウル
ックシュビーゲル」(DerDruckspielel
) 、第8/81号、第744頁〜第748頁並びに「
フィリップス・テヒニツシェ・ルントシャウJ (Ph
ilips technische Rundshau
)、第8巻、1977/ 78、第214頁〜第224
頁参照]、シかしこれらの方法は特殊な印刷版を必要と
する。この方法では印刷オリジナルの仕上げ加工した全
ページを印刷版の半導体層に直接投射することができる
。このため半導体層を暗所で充電し、印刷オリジナルを
投射することにより画像に応じて露光し、これにより放
電させ、その後硬化させる。この種の印刷版をコンビエ
ータにより導かれるパルス光線又はレーザ光線で露光す
る処置は「デア・ポリグラフJ (DerPolygr
aph)、第9/82号、第675頁〜第682頁に記
載されている。この方法の場合半導体層の高感度光伝導
性を利用する。従って先に記載したrボジチブ法」又は
「ネガチブ法」により製造される印刷版の層が感応しな
い長波帯での弱い光源を使用することができる。パルス
光線又はレーザ光線で露光する種々の変法は[アンゲバ
ンテ・ヘミ−J (Angewandt、e Che
mie)、第2/80号、第95頁〜第106頁に記載
されている。
る工程は文献にすでに記載されている[「デア・ドウル
ックシュビーゲル」(DerDruckspielel
) 、第8/81号、第744頁〜第748頁並びに「
フィリップス・テヒニツシェ・ルントシャウJ (Ph
ilips technische Rundshau
)、第8巻、1977/ 78、第214頁〜第224
頁参照]、シかしこれらの方法は特殊な印刷版を必要と
する。この方法では印刷オリジナルの仕上げ加工した全
ページを印刷版の半導体層に直接投射することができる
。このため半導体層を暗所で充電し、印刷オリジナルを
投射することにより画像に応じて露光し、これにより放
電させ、その後硬化させる。この種の印刷版をコンビエ
ータにより導かれるパルス光線又はレーザ光線で露光す
る処置は「デア・ポリグラフJ (DerPolygr
aph)、第9/82号、第675頁〜第682頁に記
載されている。この方法の場合半導体層の高感度光伝導
性を利用する。従って先に記載したrボジチブ法」又は
「ネガチブ法」により製造される印刷版の層が感応しな
い長波帯での弱い光源を使用することができる。パルス
光線又はレーザ光線で露光する種々の変法は[アンゲバ
ンテ・ヘミ−J (Angewandt、e Che
mie)、第2/80号、第95頁〜第106頁に記載
されている。
最後に西ドイツ国特許出願公開第3248178号明細
書には、着色可能の表面素子を加熱及び加圧下に画像に
応じて印刷版の親水性表面に転写する形式の、オフセッ
ト印刷用印刷版を画像に応じて被覆する方法が記載され
ている。
書には、着色可能の表面素子を加熱及び加圧下に画像に
応じて印刷版の親水性表面に転写する形式の、オフセッ
ト印刷用印刷版を画像に応じて被覆する方法が記載され
ている。
熱転写インキリボンの親油性表面素子を用いて印刷版の
親水性表面を記録する処置は熱転写印字ヘッド又はレー
ザ光線を用いて行う(LogEscan−法)[「アン
ゲバンテ・ヘミ−J (Anzewandte Che
wie ) 、第92巻(1980年)、第95頁〜第
106頁、7オルマン(Vollmann) : rノ
イエーテクノロギーエン・ツール・フィルムローゼン・
ヘルシュテルング・フォノ・ドクルックホルメンJ (
Neue Technologien zur fi1
mlosen+IersLellungvon Dru
ckformen)参照]。
親水性表面を記録する処置は熱転写印字ヘッド又はレー
ザ光線を用いて行う(LogEscan−法)[「アン
ゲバンテ・ヘミ−J (Anzewandte Che
wie ) 、第92巻(1980年)、第95頁〜第
106頁、7オルマン(Vollmann) : rノ
イエーテクノロギーエン・ツール・フィルムローゼン・
ヘルシュテルング・フォノ・ドクルックホルメンJ (
Neue Technologien zur fi1
mlosen+IersLellungvon Dru
ckformen)参照]。
本発明方法は光ラスタの製造工程を簡略化し、短縮する
だけではなく、オフセット印刷版をフィルム無しに露光
する公知方法とは異なり、最初に記載した「ボジチブ法
」又は「ネガチブ法」用としてその層が被覆されている
印刷版をもフィルム無しに露光するために使用すること
ができるという利点を有する。
だけではなく、オフセット印刷版をフィルム無しに露光
する公知方法とは異なり、最初に記載した「ボジチブ法
」又は「ネガチブ法」用としてその層が被覆されている
印刷版をもフィルム無しに露光するために使用すること
ができるという利点を有する。
光弁マトリックスを制御するための信号は、印刷オリジ
ナルを走査することによって得ることができる。更にコ
ンピュータ内で生じた画像を印刷オリジナルとして使用
することもできる。従って本発明方法を用いて例えば印
刷版上に形成すべき、実体として存在する印刷オリジナ
ルの画像を、コンピュータ内に生じた付加的な「印刷オ
リジナル」により補完することもできる。
ナルを走査することによって得ることができる。更にコ
ンピュータ内で生じた画像を印刷オリジナルとして使用
することもできる。従って本発明方法を用いて例えば印
刷版上に形成すべき、実体として存在する印刷オリジナ
ルの画像を、コンピュータ内に生じた付加的な「印刷オ
リジナル」により補完することもできる。
光マスクとして光弁マトリックスを本発明により使用す
ることによって特にフィルムの現像枠内での化学的処理
を省くことができる。この化学的処理は常に一定の反応
時間を必要とすることから、本発明方法ではこの時間を
節約することができる。同時に現像したフィルムの乾燥
処理並びに通常必要とされる個々のフィルムを設置箔上
に取り付ける処理も省かれる。
ることによって特にフィルムの現像枠内での化学的処理
を省くことができる。この化学的処理は常に一定の反応
時間を必要とすることから、本発明方法ではこの時間を
節約することができる。同時に現像したフィルムの乾燥
処理並びに通常必要とされる個々のフィルムを設置箔上
に取り付ける処理も省かれる。
更に光弁マトリックスは最も取り扱い易くまた繰り返し
使用することのできる光マスクである。
使用することのできる光マスクである。
画像と関連する信号を用いて光弁マトリックスを制御す
る処理はコンピュータを用いて行うことができる。
る処理はコンピュータを用いて行うことができる。
実施例
次に本発明を図面に基づき詳述する。
本質的に本発明方法は、信号により選択された画像に相
応するデイスプレーの”光点”をオフセット印刷版の感
光層に結像させることよりなる。
応するデイスプレーの”光点”をオフセット印刷版の感
光層に結像させることよりなる。
本発明方法の以下に記載する変法では、液晶層がその光
学的挙動を制御可能に変更するという事実を利用する。
学的挙動を制御可能に変更するという事実を利用する。
この事実を利用するに当たり第1図に示した第1変法で
は、光弁マトリックスを第1型の液晶層から構成し、こ
うして構成された第1液晶層哨位1の片面に画像と関連
する、コンピュータ処理された記録光線2のパルスを当
て、この液晶層単位1の逆の面を光源4から放射される
光束3用の反射マスクとして使用する。この場合光源4
としては例えば金属ハロゲン化物を施された水銀灯を使
用することができる。記録光線2としては陰極線又はレ
ーザ光線を使用することができる。第1図では記録光線
2は任意の瞬間時における状態が描かれている。
は、光弁マトリックスを第1型の液晶層から構成し、こ
うして構成された第1液晶層哨位1の片面に画像と関連
する、コンピュータ処理された記録光線2のパルスを当
て、この液晶層単位1の逆の面を光源4から放射される
光束3用の反射マスクとして使用する。この場合光源4
としては例えば金属ハロゲン化物を施された水銀灯を使
用することができる。記録光線2としては陰極線又はレ
ーザ光線を使用することができる。第1図では記録光線
2は任意の瞬間時における状態が描かれている。
本発明の枠内で使用される液晶層単位及びその制御法に
関する詳細な説明は省略することができる。それという
のも相応する関連事項は文献から明らかであるからであ
る[例えばr 5PSE−ザ・ソサイエティ・フォア・
イメージング・サイエンス・アンド・テクノロジーJ
(5PSR−The 5ociety for I+
waging 5cience and Techn。
関する詳細な説明は省略することができる。それという
のも相応する関連事項は文献から明らかであるからであ
る[例えばr 5PSE−ザ・ソサイエティ・フォア・
イメージング・サイエンス・アンド・テクノロジーJ
(5PSR−The 5ociety for I+
waging 5cience and Techn。
1ogy″1987年、第108頁〜第115頁参照)
、記録光線の使用についての詳細は「ジャーナル・オブ
・アプライド・フィジックスJ (Journalof
Applied Physics) 、 Am
erican rnsLitut ofPhysi
cs 、第57 (4)巻、1985年2月15日、第
1356頁以降から読み収ることができる。
、記録光線の使用についての詳細は「ジャーナル・オブ
・アプライド・フィジックスJ (Journalof
Applied Physics) 、 Am
erican rnsLitut ofPhysi
cs 、第57 (4)巻、1985年2月15日、第
1356頁以降から読み収ることができる。
本発明方法の上記第1変法の本質は、第1面を記録光線
で局部的に付勢することによって逆の面に当たる光線に
対して局部的に反射可能及び反射不能の領域が形成され
る第1型の液晶層を使用することである。
で局部的に付勢することによって逆の面に当たる光線に
対して局部的に反射可能及び反射不能の領域が形成され
る第1型の液晶層を使用することである。
第2変法では光弁マトリックスを第2型の液晶層から構
成し、こうして構成された第2液晶層単位1°に電極マ
トリックスを設け、電極マトリックスに画像と関連する
電気信号5を当て、第2液晶層単位1°を光束3用透過
マスクとして使用する(第2図)。
成し、こうして構成された第2液晶層単位1°に電極マ
トリックスを設け、電極マトリックスに画像と関連する
電気信号5を当て、第2液晶層単位1°を光束3用透過
マスクとして使用する(第2図)。
この第2変法の本質は先に記載した第1変法とは異なり
、電気信号を局部的に付加することにより液晶層に局部
的な光透過性領域と光不透過性領域とを構成する第2型
の液晶層を使用することである。電気信号5での局部的
な付加は第2図に信号を表す矢印で暗示されている。
、電気信号を局部的に付加することにより液晶層に局部
的な光透過性領域と光不透過性領域とを構成する第2型
の液晶層を使用することである。電気信号5での局部的
な付加は第2図に信号を表す矢印で暗示されている。
上記の2方法ではそれぞれの液晶層単位1.1゛に所望
画像のデイスプレーを光点の形で作成し、このデイスプ
レーをオフセット印刷版7の感光層6に結像させる。
画像のデイスプレーを光点の形で作成し、このデイスプ
レーをオフセット印刷版7の感光層6に結像させる。
この結像のために実施例ではレンズ系を設ける。このレ
ンズ系は本発明の1実施態様によれば投射方向8及び逆
方向に移動可能の投射レンズ9を存する。これによりデ
イスプレーから選択可能の大きさの画像を層6に投射す
ることができる。
ンズ系は本発明の1実施態様によれば投射方向8及び逆
方向に移動可能の投射レンズ9を存する。これによりデ
イスプレーから選択可能の大きさの画像を層6に投射す
ることができる。
上記第1型の液晶層を使用して本発明方法を実施する装
置は第1図に暗示されている。この装置では、光源4か
ら放射されまたレンズ11により収斂された光束3はミ
ラー10によって、第1液晶層単位1の記録光線2とは
逆の面に投射される。
置は第1図に暗示されている。この装置では、光源4か
ら放射されまたレンズ11により収斂された光束3はミ
ラー10によって、第1液晶層単位1の記録光線2とは
逆の面に投射される。
光束3からできる限り大きな発光効率を得るためミラー
10をビームスプリッタとして構成し、これから液晶層
単位1上に反射する光束3の光を実際に液晶層単位1に
直角に投射するように配置する。
10をビームスプリッタとして構成し、これから液晶層
単位1上に反射する光束3の光を実際に液晶層単位1に
直角に投射するように配置する。
上記第2型の液晶層を使用して本発明方法を実施する装
置は第2図に暗示されている。この場合光束3はオフセ
ット印刷版7への過程で、第2液晶層単位1゛の電気信
号5での局部的な被覆との関連において、透過するよう
に導かれる。
置は第2図に暗示されている。この場合光束3はオフセ
ット印刷版7への過程で、第2液晶層単位1゛の電気信
号5での局部的な被覆との関連において、透過するよう
に導かれる。
前記のように本発明方法は例えばジアゾ層又はハロゲン
化銀層を有する常用のオフセット印刷版を、露光するの
に使用することができる。このため光束3は、必要な照
度を当該オフセット印刷版上に生ザしぬることができる
ような、エネルギーに富んだ光源4で得ることができる
。
化銀層を有する常用のオフセット印刷版を、露光するの
に使用することができる。このため光束3は、必要な照
度を当該オフセット印刷版上に生ザしぬることができる
ような、エネルギーに富んだ光源4で得ることができる
。
しかし本発明方法は、オフセット印刷版の電気的に充電
された半導体層を露光するのにも使用可能である。この
場合には必要とされる相応する一層小さい照度が当該オ
フセット印刷版上に得られるような光束3を使用すべき
である。
された半導体層を露光するのにも使用可能である。この
場合には必要とされる相応する一層小さい照度が当該オ
フセット印刷版上に得られるような光束3を使用すべき
である。
この相応する一層小さい照度は、慣用のオフセット印刷
版を露光するために構成された本発明による装置を用い
て、図示されていないフィルタを光束路に挿入すること
によっても得ることができる。
版を露光するために構成された本発明による装置を用い
て、図示されていないフィルタを光束路に挿入すること
によっても得ることができる。
第1図は反射マスクの形の光マスクを使用する本発明に
よる装置の暗示図、第2図は透過マスクの形の光マスク
を使用する本発明による装置の暗示図である。 1・・・液晶層単位、2・・・記録光線、3・−・光束
、4・・−光源、5・・・電気信号、6・・・感光層、
7・−・オフセット印刷版、8−・・投射方向、9・・
・投射レンズ10・・・ミラー、11・・・レンズ。
よる装置の暗示図、第2図は透過マスクの形の光マスク
を使用する本発明による装置の暗示図である。 1・・・液晶層単位、2・・・記録光線、3・−・光束
、4・・−光源、5・・・電気信号、6・・・感光層、
7・−・オフセット印刷版、8−・・投射方向、9・・
・投射レンズ10・・・ミラー、11・・・レンズ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光源から放射され、光マスクにより変調された光束
を用いてオフセット印刷版の感光層に潜像を得る方法に
おいて、光マスクとして光弁マトリックス(1、1’)
を使用し、光弁マトリックスを画像と関連する信号で制
御することを特徴とする、オフセット印刷版の感光層に
潜像を得る方法。 2、光弁マトリックスを第1液晶層単位(1)から構成
し、その一方の面にコンピュータ処理された記録光線(
2)の、画像と関連するパルスを当て、対応する面を光
束(3)用の反射マスクとして使用する、請求項1記載
の方法。 3、光弁マトリックスを、電極マトリックスを備えた第
2液晶層単位(1’)から構成し、電極マトリックスに
画像と関連する電気信号(5)を送り、第2液晶層単位
(1’)を光束(3)用の透過マスクとして使用する、
請求項1記載の方法。 4、光束(3)をレンズ系(9)を介して導く、請求項
1から3までのいずれか1項記載の方法。 5、オフセット印刷版(7)上に生じる画像をその大き
さに関して変更することのできるレンズ系(9)を使用
する、請求項4記載の方法。 6、光束(3)をエネルギーに富んだ光源(4)を用い
て発生させ、その光束により、慣用のハロゲン化銀フィ
ルムの形で層上に設けられた光マスクを有する常用のオ
フセット印刷版を露光した際にこの層上にハロゲン化銀
フィルムの潜像を生ぜしめるのに十分な照度がオフセッ
ト印刷版(7)上に得られる、請求項1から5までのい
ずれか1項記載の方法。 7、オフセット印刷版の暗所で充電された半導体層を光
束(3)で露光することによって放電させるのに十分な
照度がオフセット印刷版(7)上に得られる光束(3)
を使用する、請求項1から5までのいずれか1項記載の
方法。 8、オフセット印刷版の充電半導体層の放電に同調した
照度を、光束(3)中にフィルタを挿入することによつ
て、オフセット印刷版上に得る、請求項1から5までの
いずれか1項記載の方法。 9、光源から放射され、光マスクにより変調された光束
を用いてオフセット印刷版の感光層上に潜像を得る装置
において、 −第1液晶層単位(1)と、 −この第1液晶層単位(1)の第1面に向けられ、画像
と関連するパルスを送る、コンピュータ処理された記録
光線(2)と、 −光源(4)から放射された光を第1液晶層単位(1)
の、第1面とは逆の側の第2面に投射するミラー(10
)と、 −第1液晶層単位(1)の第2面をオフセット印刷版(
7)上に結像させるレンズ系(9)と からなることを特徴とする、オフセット印刷版の感光層
上に潜像を得る装置。 10、ミラー(10)をビームスプリッタとして構成し
、ミラー(10)から第1液晶層単位(1)上に反射す
る光束(3)の光を第1液晶層単位(1)上に実際に直
角に投射する、請求項9記載の装置。 11、光源から放射され、光マスクにより変調された光
束を用いてオフセット印刷版の感光層上に潜像を得る装
置において、 −電極マトリックスを備えた第2液晶層単位(1’)(
この場合電極マトリックスは画像と関連する電気信号(
5)で覆うことができる)と、 −光束(3)を第2液晶層単位(1’)の第1面に投射
させる、光束(3)用案内系と、−第2液晶層単位(1
’)を透過する光束(3)の成分を結像させるレンズ系
(9)と からなることを特徴とする、オフセット印刷版の感光層
上に潜像を得る装置。
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- 1989-04-21 JP JP1100348A patent/JPH0212253A/ja active Pending
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