JPH02119113A - マスク管理システム - Google Patents
マスク管理システムInfo
- Publication number
- JPH02119113A JPH02119113A JP63272228A JP27222888A JPH02119113A JP H02119113 A JPH02119113 A JP H02119113A JP 63272228 A JP63272228 A JP 63272228A JP 27222888 A JP27222888 A JP 27222888A JP H02119113 A JPH02119113 A JP H02119113A
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- JP
- Japan
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- mask
- outside
- bar
- vessel
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 3
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
- H01L2223/544—Marks applied to semiconductor devices or parts
- H01L2223/54406—Marks applied to semiconductor devices or parts comprising alphanumeric information
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
- H01L2223/544—Marks applied to semiconductor devices or parts
- H01L2223/54413—Marks applied to semiconductor devices or parts comprising digital information, e.g. bar codes, data matrix
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置の製造に使用されるマスクあるいは
レティクルを保管管理するマスク管理システムに関する
。
レティクルを保管管理するマスク管理システムに関する
。
［従来の技術］
一般に、半導体装置の製造工程で重要な工程の一つとし
て、例えば、エツチング工程がある。特に、この工程で
使用するマスクあるいはレティクルの保管管理が半導体
装置の品質を保つ上で重要な役割を担っている。ここで
は、説明し易いように、マスクの例を取って説明する。
て、例えば、エツチング工程がある。特に、この工程で
使用するマスクあるいはレティクルの保管管理が半導体
装置の品質を保つ上で重要な役割を担っている。ここで
は、説明し易いように、マスクの例を取って説明する。
従来、この種のマスク管理システムは、例えば、保管中
のマスクを使用する場合は、マスクのパターン形成領域
外に記載されたマスク名あるいはマスクロフト番号のよ
うな登録表示を端末器に入力し端末器の記憶媒体に記憶
させたり、端末器の記憶媒体に入力された登録表示を読
みとったり、また、この登録表示及び使用履歴等を端末
器から中央のコンピュータに転送したりしてマスクの保
管管理を行なっていた。
のマスクを使用する場合は、マスクのパターン形成領域
外に記載されたマスク名あるいはマスクロフト番号のよ
うな登録表示を端末器に入力し端末器の記憶媒体に記憶
させたり、端末器の記憶媒体に入力された登録表示を読
みとったり、また、この登録表示及び使用履歴等を端末
器から中央のコンピュータに転送したりしてマスクの保
管管理を行なっていた。
上述した従来のマスク管理システムでは、登録表示が記
載されたマスクとは別にこの登録表示を記録する記憶媒
体が必要となり、この記憶媒体とマスクと対として、移
動したり、保管させなければなららいという欠点がある
。更に、この認識媒体と対になるべきマスクを誤って他
のマスクと一緒に保管したりしてマスク管理システムが
正常な機能しなくなるという問題がある。
載されたマスクとは別にこの登録表示を記録する記憶媒
体が必要となり、この記憶媒体とマスクと対として、移
動したり、保管させなければなららいという欠点がある
。更に、この認識媒体と対になるべきマスクを誤って他
のマスクと一緒に保管したりしてマスク管理システムが
正常な機能しなくなるという問題がある。
本発明の目的は、マスクと対となる記憶媒体を必要とす
ることなく誤って使用目的と違うマスクを使用すること
のないマスク管理システムを提供することである。
ることなく誤って使用目的と違うマスクを使用すること
のないマスク管理システムを提供することである。
本発明の目的は、パターン形成領域外にバーコードで登
録表示が記載された半導体装置の製造に用いるマスクあ
るいはレティクルと、このマスクあるいはレティクルを
収納する透明な収納容器と、この収納容器の外から前記
マスクあるいはレティクルの登録表示を読み取るバーコ
ードリーダを有する端末器と、この端末器と結ぶコンピ
ュータとを備え構成される。
録表示が記載された半導体装置の製造に用いるマスクあ
るいはレティクルと、このマスクあるいはレティクルを
収納する透明な収納容器と、この収納容器の外から前記
マスクあるいはレティクルの登録表示を読み取るバーコ
ードリーダを有する端末器と、この端末器と結ぶコンピ
ュータとを備え構成される。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例を示すマスクの平面図、第２
図は第１図に示すマスクを収納した状態を示すマスク収
納容器の斜視図、第３図は本発明のマスク管理システム
の一実施例を示すブロック図である。
図は第１図に示すマスクを収納した状態を示すマスク収
納容器の斜視図、第３図は本発明のマスク管理システム
の一実施例を示すブロック図である。
このマスク管理システムにおけるマスクは、第１図に示
すように、マスク本体ｌの面に形成されたパターン形成
領域６の周囲の一側面に登録表示であるマスク名２及び
マスクロフト番号３が記載されている。この登録表示に
続いて、それぞれに対応したバーコード表示で、マスク
名のバーコード４及びマスクロフト番号のバーコード５
が記載されである。
すように、マスク本体ｌの面に形成されたパターン形成
領域６の周囲の一側面に登録表示であるマスク名２及び
マスクロフト番号３が記載されている。この登録表示に
続いて、それぞれに対応したバーコード表示で、マスク
名のバーコード４及びマスクロフト番号のバーコード５
が記載されである。
このマスクを保管する収納容器は、第２図に示すように
、はこりが侵入しないように透明なマスク収納容器８に
マスク７が設置されており、鍵が取り付けられている。
、はこりが侵入しないように透明なマスク収納容器８に
マスク７が設置されており、鍵が取り付けられている。
また、この収納容器８は筐体が透明な材料でできている
ので、収納容器８の外からバーコードをバーコードリー
ダで読み取ることができる。
ので、収納容器８の外からバーコードをバーコードリー
ダで読み取ることができる。
このマスク管理システムは、第３図に示すように、マス
クを保管されている収納容器８には、それぞれ端末器７
とバーコードリーダ１１が配置され、これら端末器７か
らの情報を収集するコンピュータ１０とを有している。
クを保管されている収納容器８には、それぞれ端末器７
とバーコードリーダ１１が配置され、これら端末器７か
らの情報を収集するコンピュータ１０とを有している。
従って、このマスクを使用するときは、バーコードリー
ダ１１によって、収納容器８に収納されたマスクの登録
表示を収納容器８の外がら読み込み、端末器７を介して
伝送線９を通り、コンピュータＩ Ｑに送り、このマス
クの登録表示、使用日使用設備等の情報を記憶させる。
ダ１１によって、収納容器８に収納されたマスクの登録
表示を収納容器８の外がら読み込み、端末器７を介して
伝送線９を通り、コンピュータＩ Ｑに送り、このマス
クの登録表示、使用日使用設備等の情報を記憶させる。
この読み込みが完了すると、収納容器８の鍵が開き、マ
スクが取り出せるようになる。また、マ又りを収納する
ときは、逆に、マスクを収納容器８に収納してから、バ
ーコードリーダ１１でバーコードを読み、中央のコンピ
ュータ１０に信号を送りを完了したことを通知する。し
かる後に収納容器を鍵を掛けられるようにする。
スクが取り出せるようになる。また、マ又りを収納する
ときは、逆に、マスクを収納容器８に収納してから、バ
ーコードリーダ１１でバーコードを読み、中央のコンピ
ュータ１０に信号を送りを完了したことを通知する。し
かる後に収納容器を鍵を掛けられるようにする。
このように管理することにより、マスクの所在管理、使
用履歴等のマスク管理が誤りを起すことなく、日常的に
管理できる。
用履歴等のマスク管理が誤りを起すことなく、日常的に
管理できる。
し発明の効果〕
以上説明したように本発明は、マスクあるいはレティク
ルのパターン形成領域以外の場所に登録表示をバーコー
ドで記載し、マスクを透明な収容容器に収納して、バー
コードリーダで収容容器の外部から読み取り、端末器を
介して中央のコンピュータに記憶させることにより、マ
スクと対となる記憶媒体を必要とすることなく誤って使
用目的と違うマスクを使用すること、のないマ゛ス、り
管理システムが得られるという効果がある。
ルのパターン形成領域以外の場所に登録表示をバーコー
ドで記載し、マスクを透明な収容容器に収納して、バー
コードリーダで収容容器の外部から読み取り、端末器を
介して中央のコンピュータに記憶させることにより、マ
スクと対となる記憶媒体を必要とすることなく誤って使
用目的と違うマスクを使用すること、のないマ゛ス、り
管理システムが得られるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示すマスクの平面図、第２
図は第１図に示すマスクを収納した状態を示すマスク収
納容器の斜視図、第３図は本発明のマスク管理システム
の一実施例を示すブロック図である。 １・・・マスク本体、２・・・マスク名、３・・・マス
クロット番号、４・・・マスク名のバーコード、５・・
・マスクロット番号のバーコード、６・・・パターン形
成領域、７１．・端末器、８・・・収納容器、９・・・
伝送線、１０、・・コンピュータ、１１・・・バーコー
ドリーダ。
図は第１図に示すマスクを収納した状態を示すマスク収
納容器の斜視図、第３図は本発明のマスク管理システム
の一実施例を示すブロック図である。 １・・・マスク本体、２・・・マスク名、３・・・マス
クロット番号、４・・・マスク名のバーコード、５・・
・マスクロット番号のバーコード、６・・・パターン形
成領域、７１．・端末器、８・・・収納容器、９・・・
伝送線、１０、・・コンピュータ、１１・・・バーコー
ドリーダ。
Claims (1)
- パターン形成領域外にバーコードで登録表示が記載され
た半導体装置の製造に用いるマスクあるいはレティクル
と、このマスクあるいはレティクルを収納する透明な収
納容器と、この収納容器の外から前記マスクあるいはレ
ティクルの登録表示を読み取るバーコードリーダを有す
る端末器と、この端末器と結ぶコンピュータとを備える
ことを特徴とするマスク管理システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63272228A JPH02119113A (ja) | 1988-10-27 | 1988-10-27 | マスク管理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63272228A JPH02119113A (ja) | 1988-10-27 | 1988-10-27 | マスク管理システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02119113A true JPH02119113A (ja) | 1990-05-07 |
Family
ID=17510903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63272228A Pending JPH02119113A (ja) | 1988-10-27 | 1988-10-27 | マスク管理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02119113A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR970048915A (ko) * | 1995-12-14 | 1997-07-29 | 김광호 | 소자이름이 형성되어 있는 포토마스크 |
| JP2008264433A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-06 | Zojirushi Corp | 家庭用電気製品 |
| CN106773520A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-05-31 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种掩膜版、控制器以及利用掩膜版进行动态打码的方法 |
-
1988
- 1988-10-27 JP JP63272228A patent/JPH02119113A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR970048915A (ko) * | 1995-12-14 | 1997-07-29 | 김광호 | 소자이름이 형성되어 있는 포토마스크 |
| JP2008264433A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-06 | Zojirushi Corp | 家庭用電気製品 |
| CN106773520A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-05-31 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种掩膜版、控制器以及利用掩膜版进行动态打码的方法 |
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