JPH02109052A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野1
本発明は感光性樹脂組成物に関し、さらに詳しくはプリ
ント配線板の製造に用いられる耐はんだレジスト(ソル
ダーレジスト)、エラチンブレジスおよび耐めっきレジ
ストとして優れた耐熱性と密着性、さらには高感度を有
する感光性樹脂組成物に関する。
ント配線板の製造に用いられる耐はんだレジスト(ソル
ダーレジスト)、エラチンブレジスおよび耐めっきレジ
ストとして優れた耐熱性と密着性、さらには高感度を有
する感光性樹脂組成物に関する。
[従来の技術〕
従来、プリント配線板の製造におけるソルダーレジスト
、エツチングレジストおよび耐めっきレジストとして感
光性樹脂を用いることはよく知られている。
、エツチングレジストおよび耐めっきレジストとして感
光性樹脂を用いることはよく知られている。
たとえば特解昭60−208377号公報にはエチレン
性不飽和二重結合を有する基を付与されたフェノールノ
ボラック梨エポキシ樹脂ならびにクレゾールノボラック
型エポキシ街脂、光重合開始剤およびアミン系硬化剤よ
り成るソルダーレジストが開示されている。また特開昭
58−199341号公報には、ジアリルフタレートプ
レポリマー、光重訃性単量体および光重合開始剤を含有
する耐熱性感光性植(脂組成物が開示されている。
性不飽和二重結合を有する基を付与されたフェノールノ
ボラック梨エポキシ樹脂ならびにクレゾールノボラック
型エポキシ街脂、光重合開始剤およびアミン系硬化剤よ
り成るソルダーレジストが開示されている。また特開昭
58−199341号公報には、ジアリルフタレートプ
レポリマー、光重訃性単量体および光重合開始剤を含有
する耐熱性感光性植(脂組成物が開示されている。
し以下余白1
【発明が解決しようとする課題]
このような感光性樹脂組成物は、耐熱性、耐薬品性に優
れるという特徴を有する反面、ある特定の有機溶剤でし
か現像できないという欠点を有しており、そのため高価
な有機溶剤を現像処理に用いなければならず、経済的に
不利である。
れるという特徴を有する反面、ある特定の有機溶剤でし
か現像できないという欠点を有しており、そのため高価
な有機溶剤を現像処理に用いなければならず、経済的に
不利である。
また公害防止や環境衛生の見地から、特に塩素系有機溶
剤の使用が敬遠される傾向にあり、現像に使用可能な有
機溶剤がますます限られてきた。
剤の使用が敬遠される傾向にあり、現像に使用可能な有
機溶剤がますます限られてきた。
このような問題を解決するために、水現像あるいはアル
カリ現像型の感光性樹脂が開発されてきているが、耐薬
品性、耐熱性、密着性、保存安定性が十分でなく、実用
的なものはなかった。
カリ現像型の感光性樹脂が開発されてきているが、耐薬
品性、耐熱性、密着性、保存安定性が十分でなく、実用
的なものはなかった。
また感光性を有し、かつ耐熱性に優れた樹脂組成物とす
るためには、それぞれの特徴を有する成分を含有せしめ
ればよいが、配合成分が多様になればコストの高いもの
とならざるをえない。
るためには、それぞれの特徴を有する成分を含有せしめ
ればよいが、配合成分が多様になればコストの高いもの
とならざるをえない。
[課題を解決するための手段]
このような問題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ア
ルカリ可)δ性でかつ光および熱硬化性の共電合体と、
光重合開始剤を組み合わせることにより、耐熱性、密着
性、耐薬品性、電気絶縁性に優れた、アルカリ性水溶液
にて現像可能な感光性b1脂組成物が得られることを見
出し本発明を完成するに至った。
ルカリ可)δ性でかつ光および熱硬化性の共電合体と、
光重合開始剤を組み合わせることにより、耐熱性、密着
性、耐薬品性、電気絶縁性に優れた、アルカリ性水溶液
にて現像可能な感光性b1脂組成物が得られることを見
出し本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、
a)α、β−不飽和ジカルボン酸無水物とエチレン性不
飽和化合物の共重合体と不飽和アルコールおよび飽和ア
ルコールとのエステル化反応により、酸無水物基の一部
をエステル化して得られる共重合体 b)光重合開始剤 を必須成分として含有する感光性拮(脂組成物である。
飽和化合物の共重合体と不飽和アルコールおよび飽和ア
ルコールとのエステル化反応により、酸無水物基の一部
をエステル化して得られる共重合体 b)光重合開始剤 を必須成分として含有する感光性拮(脂組成物である。
本発明に用いられる共重合体はα、β−不飽和ジカルボ
ン酸無水物とエチレン性不飽和化合物の共重合体と不飽
和アルコールおよび飽和アルコールのエステル化反応に
よって得られる。
ン酸無水物とエチレン性不飽和化合物の共重合体と不飽
和アルコールおよび飽和アルコールのエステル化反応に
よって得られる。
α,β−不飽和ジカルボン酸としては、無水マレイン酸
、無水シトラコン酸、無水2−クロロマレイン酸等が挙
げられるが、これらは単独または2種以上の組み合わせ
で用いられる。
、無水シトラコン酸、無水2−クロロマレイン酸等が挙
げられるが、これらは単独または2種以上の組み合わせ
で用いられる。
またエチレン性不飽和化合物としては、スチレン、2−
メチルスチレン、アクリル酸エステル類、ヌククリル酸
エステル類、酢酸ビニル、アクリロニトリル、塩化ビニ
ル等があり、これらは単独または2種以上の組み合わせ
で用いられる。特にスチレンは耐熱性を向上させる作用
を有するので好ましい。
メチルスチレン、アクリル酸エステル類、ヌククリル酸
エステル類、酢酸ビニル、アクリロニトリル、塩化ビニ
ル等があり、これらは単独または2種以上の組み合わせ
で用いられる。特にスチレンは耐熱性を向上させる作用
を有するので好ましい。
α、β−不飽和ジカルボン酸無水物とエチレン性不飽和
化合物との共重合モル比は1:1〜l:3の範囲が好ま
しく、エチレン性不飽和化合物の割合がこの範囲より多
いと現像性が低下し、感光後のレジストの強度が得られ
ない。また少ない場合は十分な耐熱性が得られない。
化合物との共重合モル比は1:1〜l:3の範囲が好ま
しく、エチレン性不飽和化合物の割合がこの範囲より多
いと現像性が低下し、感光後のレジストの強度が得られ
ない。また少ない場合は十分な耐熱性が得られない。
さらに、α,β−不飽和ジカルボン酸無水物とエチレン
性不飽和化合物の共重合体のエステル化に用いられる不
飽和アルコールとしてはアリルアルコール、ヒドロキシ
エチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、ヒドロキシプ口ピルメタクリレート等が挙げられ、
これらは単独または2種以上の組み合わせで用いられる
。
性不飽和化合物の共重合体のエステル化に用いられる不
飽和アルコールとしてはアリルアルコール、ヒドロキシ
エチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、ヒドロキシプ口ピルメタクリレート等が挙げられ、
これらは単独または2種以上の組み合わせで用いられる
。
また飽和アルコールとしてはプロパツール、ブタノール
、ヘキサノール、オクタツール、2,3ジクロロ−1−
プロパツール、2.3−ジブロモ−1−プロパツール等
が挙げられ、これらは単独または2種以上の組み合わせ
で用いられる。
、ヘキサノール、オクタツール、2,3ジクロロ−1−
プロパツール、2.3−ジブロモ−1−プロパツール等
が挙げられ、これらは単独または2種以上の組み合わせ
で用いられる。
これらの不飽和アルコール、飽和アルコールと、α,β
−不飽和ジカルボン酸無水物とエチレン性不飽和化合物
の共重合体との反応割合は目的に応じて適宜選択される
が、好ましくはα,β−不飽和ジカルボン酸無水物とエ
チレン性不飽和化合物の共重&体の酸無水物基1当量に
対して、不飽和アルコールと飽和アルコールを合わせて
0.1〜1.7当量の範囲である。この範囲より少ない
と耐現像液性がなくなるのでパターンが形成されない。
−不飽和ジカルボン酸無水物とエチレン性不飽和化合物
の共重合体との反応割合は目的に応じて適宜選択される
が、好ましくはα,β−不飽和ジカルボン酸無水物とエ
チレン性不飽和化合物の共重&体の酸無水物基1当量に
対して、不飽和アルコールと飽和アルコールを合わせて
0.1〜1.7当量の範囲である。この範囲より少ない
と耐現像液性がなくなるのでパターンが形成されない。
また多いとアルカリ性水溶液によって現像することがで
きなくなるので好ましくない。
きなくなるので好ましくない。
また不飽和アルコールと飽和アルコールの割合は目的に
応じて適宜選択されるが、好ましくはモル比でl:1〜
l:5の範囲である。
応じて適宜選択されるが、好ましくはモル比でl:1〜
l:5の範囲である。
α、β−不飽和ジカルボン酸無水物とエチレン性不飽和
化合物の共重合体と、不飽和アルコールおよび飽和アル
コールとのエステル化反応によって得られた共重合体は
酸無水物基の一部にエステル化された不飽和アルコール
エステル基を有するので、活性光線の照射または加熱に
よって重合硬化させることができる。重合硬化させるこ
とによって耐熱性を向上させることができる。さらに本
発明の共重合体はカルボキシル基を有しているので、ア
ルカリ性水溶液に可溶である。
化合物の共重合体と、不飽和アルコールおよび飽和アル
コールとのエステル化反応によって得られた共重合体は
酸無水物基の一部にエステル化された不飽和アルコール
エステル基を有するので、活性光線の照射または加熱に
よって重合硬化させることができる。重合硬化させるこ
とによって耐熱性を向上させることができる。さらに本
発明の共重合体はカルボキシル基を有しているので、ア
ルカリ性水溶液に可溶である。
本発明に用いられる光重合開始剤としては、たとえばベ
ンゾフェノン、4.4−ジメチルアミノベンゾフェノン
、4.4−ジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフ
ェノン類、2−エチルアントラキノン、tert−ブチ
ルアントラキノン等のアントラキノン類、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベ
ンゾインアルキルエーテル類、2,2−ツメキトシー2
−フェニルアセトフェノン、2,2−ジェトキシアセト
フェノン、2−クロロチオキサンI・ン、ジエチルチオ
キサントン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェ
ノン、4−イソプロピル−2=ヒドロキシ−2−メチル
プロピオフェノン、2−メチル−[4−(メチルチオ)
フェニル1−2−モルフォリノ−1−プロパノン等があ
り、これらのうちの1種または2種以上を前記共重合体
100重量部に対し、0.1〜25重量部の範囲で添加
する。
ンゾフェノン、4.4−ジメチルアミノベンゾフェノン
、4.4−ジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフ
ェノン類、2−エチルアントラキノン、tert−ブチ
ルアントラキノン等のアントラキノン類、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベ
ンゾインアルキルエーテル類、2,2−ツメキトシー2
−フェニルアセトフェノン、2,2−ジェトキシアセト
フェノン、2−クロロチオキサンI・ン、ジエチルチオ
キサントン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェ
ノン、4−イソプロピル−2=ヒドロキシ−2−メチル
プロピオフェノン、2−メチル−[4−(メチルチオ)
フェニル1−2−モルフォリノ−1−プロパノン等があ
り、これらのうちの1種または2種以上を前記共重合体
100重量部に対し、0.1〜25重量部の範囲で添加
する。
本発明においては前記成分の他に光重合性単量体を配合
することもできる 光重合性単量体を配合することによ
り、耐現像液性や、感度が向上する。このような光重合
性単量体としては、1.6−ヘキサンジオールジアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ト
リメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロ
ールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパン
ジアクリレート、テトラメチロールメタントリアク」レ
ート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テ
トラメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメ
チロールプロパンテトラメタクルレート、ジペンタエリ
トリトールペンタアクリレート、ジペンタエリトリトー
ルペンタメタクリレート、トリ(アクリロキシプロポキ
シプロポキシメチル)プロパン(C,H6C[CH,0
(Cff)(。
することもできる 光重合性単量体を配合することによ
り、耐現像液性や、感度が向上する。このような光重合
性単量体としては、1.6−ヘキサンジオールジアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ト
リメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロ
ールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパン
ジアクリレート、テトラメチロールメタントリアク」レ
ート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テ
トラメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメ
チロールプロパンテトラメタクルレート、ジペンタエリ
トリトールペンタアクリレート、ジペンタエリトリトー
ルペンタメタクリレート、トリ(アクリロキシプロポキ
シプロポキシメチル)プロパン(C,H6C[CH,0
(Cff)(。
0)、C0CH=C)t2] J)があるが、これらに
限定されない。光重合性単量体を配合する場合の配合割
合は共重合体100重量部に対して光重合性単量体が1
〜50重量部であることが望ましい、光重合性単量体が
この範囲より多くなると、被膜としたときに表面の粘着
性が強くなり、また解像度も悪くなる。
限定されない。光重合性単量体を配合する場合の配合割
合は共重合体100重量部に対して光重合性単量体が1
〜50重量部であることが望ましい、光重合性単量体が
この範囲より多くなると、被膜としたときに表面の粘着
性が強くなり、また解像度も悪くなる。
前記光重合性単量体を含有する感光性樹脂組成物に、さ
らにエポキシ樹脂を配合させることにより、耐熱性を大
きく向上させることができる。このようなエポキシ樹脂
としてはフェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒ
ドから得られるフェノールノボラック衝脂またはクレゾ
ールノボラック樹脂にエビクロロヒドリンもしくはメチ
ルエビクロロヒドリンを反応して得られるフェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂またはクレゾールノボラツク型
エポキシ樹脂が有用である。このようなエポキシ樹脂は
、加熱により前記α、β−不飽和ジカルボン酸無水物と
エチレン性不飽和化合物の共重合体と反応させ、重合密
度を上げることができる。
らにエポキシ樹脂を配合させることにより、耐熱性を大
きく向上させることができる。このようなエポキシ樹脂
としてはフェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒ
ドから得られるフェノールノボラック衝脂またはクレゾ
ールノボラック樹脂にエビクロロヒドリンもしくはメチ
ルエビクロロヒドリンを反応して得られるフェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂またはクレゾールノボラツク型
エポキシ樹脂が有用である。このようなエポキシ樹脂は
、加熱により前記α、β−不飽和ジカルボン酸無水物と
エチレン性不飽和化合物の共重合体と反応させ、重合密
度を上げることができる。
また上記フェノールノボラック型エポキシ御脂またはク
レゾールノボラック型エポキシ硲脂のエポキシ基1当量
とエチレン性不飽和カルボン酸0.2〜0.8当量を反
応させて得られるエステル化エポキシ樹脂も有用である
。
レゾールノボラック型エポキシ硲脂のエポキシ基1当量
とエチレン性不飽和カルボン酸0.2〜0.8当量を反
応させて得られるエステル化エポキシ樹脂も有用である
。
上記エポキシ樹脂と反応するエチレン性不飽和カルボン
酸としてはアクリル酸、メタクリル酸クロトン酸、マレ
イン酸モノメチル、マレイン酸モノプロピル、マレイン
酸モノブチル、ソルビン酸などがあり、これらは単独で
も、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
酸としてはアクリル酸、メタクリル酸クロトン酸、マレ
イン酸モノメチル、マレイン酸モノプロピル、マレイン
酸モノブチル、ソルビン酸などがあり、これらは単独で
も、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
このエステル化ポリエステル…脂は光重合可能なエチレ
ン性不飽和基と、エポキシ基とをあわせ持つため、紫外
線照射による光重合と加熱による熱重合を行うことがで
きる。
ン性不飽和基と、エポキシ基とをあわせ持つため、紫外
線照射による光重合と加熱による熱重合を行うことがで
きる。
上記エポキシ樹脂とエチレン性不飽和カルボン酸の反応
に使用されるエステル化触媒としては、かかる場合通常
使用されるジエチルアミン塩酸塩、ジエチルアミン酢酸
塩、トリエチルアミンなどの2級、3級アミン類が使用
できる。
に使用されるエステル化触媒としては、かかる場合通常
使用されるジエチルアミン塩酸塩、ジエチルアミン酢酸
塩、トリエチルアミンなどの2級、3級アミン類が使用
できる。
これらのエポキシ樹脂およびエステル化エポキシ樹脂を
配合することにより、耐熱性が向上するだけでなく、耐
溶剤性、耐薬品性および電気絶縁性も向上させることが
できる。これらのエポキシ樹脂またはエステル化エポキ
シ樹脂の配合割合は前記α,β−不飽和ジカルボン酸無
水物とエチレン性不飽和化合物の共重合体100重量部
に対し、エポキシ樹脂またはエステル化エポキシ拮(脂
1〜200重量部であることが好ましい。
配合することにより、耐熱性が向上するだけでなく、耐
溶剤性、耐薬品性および電気絶縁性も向上させることが
できる。これらのエポキシ樹脂またはエステル化エポキ
シ樹脂の配合割合は前記α,β−不飽和ジカルボン酸無
水物とエチレン性不飽和化合物の共重合体100重量部
に対し、エポキシ樹脂またはエステル化エポキシ拮(脂
1〜200重量部であることが好ましい。
また本発明においては、任意に芳香族ジアミンを配合す
ることもできる。芳香族ジアミンは、α,β−不飽和ジ
カルボン酸無水物とエチレン性不飽和化合物の共重合体
の加熱時における硬化反応を促進する作用を有する。加
熱硬化することにより、高い熱安定性と、耐酸性に優れ
たレジストを得ることができる。さらに芳香族ジアミン
は感光性打(脂組成物中にエポキシ尉脂が配合さhでい
る場合には、エポキシ硬化剤としての作用を有する。
ることもできる。芳香族ジアミンは、α,β−不飽和ジ
カルボン酸無水物とエチレン性不飽和化合物の共重合体
の加熱時における硬化反応を促進する作用を有する。加
熱硬化することにより、高い熱安定性と、耐酸性に優れ
たレジストを得ることができる。さらに芳香族ジアミン
は感光性打(脂組成物中にエポキシ尉脂が配合さhでい
る場合には、エポキシ硬化剤としての作用を有する。
このような芳香族ジアミンとしては、フェニレンジアミ
ン、4.4−メチレンジアニリン、ベンジジン、4.4
’−チオジアニリン、ジアニシジン、ジアミノジフェニ
ルエーテル、ジアミノジフェニルスルホン、4.4゛−
ビス(0−トルイジン)などがあり、単独または2種以
上を組み合ノ)せで用いることができる。これらの芳香
族ジアミンを配合する場合は、α、β〜不飽和ジカルボ
ン酸無水物とエチレン性不飽和化合物の共重合体100
重量部に対して、1〜15重量部の範囲であることが望
ましい。
ン、4.4−メチレンジアニリン、ベンジジン、4.4
’−チオジアニリン、ジアニシジン、ジアミノジフェニ
ルエーテル、ジアミノジフェニルスルホン、4.4゛−
ビス(0−トルイジン)などがあり、単独または2種以
上を組み合ノ)せで用いることができる。これらの芳香
族ジアミンを配合する場合は、α、β〜不飽和ジカルボ
ン酸無水物とエチレン性不飽和化合物の共重合体100
重量部に対して、1〜15重量部の範囲であることが望
ましい。
本発明の感光性樹脂組成物には、インク性を付与するた
めに、固体粉末を配合することもできる。
めに、固体粉末を配合することもできる。
このような固体粉末としてはアエロジル(SiO□)、
マイカ、タルク、酸化アルミ(A I 、03)などの
無機固形粉末や、球状ペンゾダアニジン、粒状ポリイミ
ド、粒状ポリアミドなどの有機固体粉末を用いることが
できる。固体粉末の配合割合は粉末の種類や目的によっ
て適宜調節することができるが、おおよその目安として
本発明の感光性樹脂組成物の溶剤を除いた総量に対して
1〜70重量%配合される。
マイカ、タルク、酸化アルミ(A I 、03)などの
無機固形粉末や、球状ペンゾダアニジン、粒状ポリイミ
ド、粒状ポリアミドなどの有機固体粉末を用いることが
できる。固体粉末の配合割合は粉末の種類や目的によっ
て適宜調節することができるが、おおよその目安として
本発明の感光性樹脂組成物の溶剤を除いた総量に対して
1〜70重量%配合される。
このほかシリコーン系あるいはフッ素系消泡剤、ゲル化
防止や保存安定性を向」ニさせるためにヒドロキノン、
メチルヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル
などの重合禁止剤、染料、顔料などの着色剤などを添加
することができる。
防止や保存安定性を向」ニさせるためにヒドロキノン、
メチルヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル
などの重合禁止剤、染料、顔料などの着色剤などを添加
することができる。
また本発明の感光性fit脂組成物を溶解または均一に
分解させるときに用いることができる溶剤としてハ、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテル、ブロビジングフコールモノメチルエーテル
、ジエチレングリコール七ツメチルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル系溶
剤やメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのケトン系溶剤が好適である。
分解させるときに用いることができる溶剤としてハ、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテル、ブロビジングフコールモノメチルエーテル
、ジエチレングリコール七ツメチルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル系溶
剤やメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのケトン系溶剤が好適である。
次に本発明の使用例を示す。
本発明の感光性樹脂組成物をソーダレジストとして使用
する場合、スルホールを有し、回路が形成されたプリン
ト配線板の両面にロールコータ。
する場合、スルホールを有し、回路が形成されたプリン
ト配線板の両面にロールコータ。
カーテン70−コータ等でコーテングし、乾燥したのち
、ネガマスクを介して紫外線を照射し、炭酸ナトリウム
等の弱アルカリ性水溶液で未露光部の樹脂を除去する。
、ネガマスクを介して紫外線を照射し、炭酸ナトリウム
等の弱アルカリ性水溶液で未露光部の樹脂を除去する。
さらに必要により100〜200°Cで加熱硬化を行う
ことによりソルダーレジストパターンを形成することが
できる。
ことによりソルダーレジストパターンを形成することが
できる。
めっきレジストとして使用する場合は、例えば銅張り積
層板の両面にロールコータ等でコーテングし、乾燥した
のち、ネガマスクを介して露光し。
層板の両面にロールコータ等でコーテングし、乾燥した
のち、ネガマスクを介して露光し。
弱アルカリ水溶液で未露光部の樹脂を除去してパターン
を形成させ、めっき処理を施す。このときのめっき処理
は中性または酸性めっきであることが望ましい。
を形成させ、めっき処理を施す。このときのめっき処理
は中性または酸性めっきであることが望ましい。
またエツチングレジストとして使用する場合も同様にし
て銅張り積層板上にパターンを形成した後、塩化第二鉄
水溶液等で露出した銅をエツチング処理する。レジスト
嘆は水酸化ナトリウム水溶液等の強アルカリ溶液にて容
易に除去することができる。
て銅張り積層板上にパターンを形成した後、塩化第二鉄
水溶液等で露出した銅をエツチング処理する。レジスト
嘆は水酸化ナトリウム水溶液等の強アルカリ溶液にて容
易に除去することができる。
〔実施例J
次に本発明の実施例を示し、本発明をさらに詳しく説明
する。
する。
実施例1
撹拌器、温度計、脱水管、還流冷却器を付したセパラブ
ルフラスコに、トルエン600を置部、 cr 、β−
不飽和ジカルボン酸無水物−エチレン性不飽和化合物共
重合体として、スチレン−無水マレイン酸共重合体飽和
アルコール不加体(Arco Chemica1社ff
sMA 1?352.共重合モル比1:1.エステル化
率35〜50%)600重量部に、不飽和アルコールと
してアリルアルコールを32重猜部、エステル化脱水触
媒としてl) ) 7レエンスルホン酸0.6重量部
を加え、110’Cで10時間脱水エステル化反応を行
った。
ルフラスコに、トルエン600を置部、 cr 、β−
不飽和ジカルボン酸無水物−エチレン性不飽和化合物共
重合体として、スチレン−無水マレイン酸共重合体飽和
アルコール不加体(Arco Chemica1社ff
sMA 1?352.共重合モル比1:1.エステル化
率35〜50%)600重量部に、不飽和アルコールと
してアリルアルコールを32重猜部、エステル化脱水触
媒としてl) ) 7レエンスルホン酸0.6重量部
を加え、110’Cで10時間脱水エステル化反応を行
った。
反応終了後50゛C120mC12Oでトルエンを留去
した後、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテートで60重量%濃度に希釈して酸価230.平均
分子量5000の共重合体溶液Aを得た。
した後、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテートで60重量%濃度に希釈して酸価230.平均
分子量5000の共重合体溶液Aを得た。
次に
共重合体溶液Al00重量部
ジエチルヂオキサントン 52.2−
ジメトキシ−2−フェニル アセトフェノン 2アエロジル
3300(日本アエロジル社製)8シリコーン系消泡剤 (信越シリコーン社製) 1を加え、
3本ロールミルにて十分に混練りを行い、均一な樹脂溶
液を得た。これをロールコータにて銅張り積層板上にコ
ーテングし、さらに80°Cで30分間乾燥を行った。
ジメトキシ−2−フェニル アセトフェノン 2アエロジル
3300(日本アエロジル社製)8シリコーン系消泡剤 (信越シリコーン社製) 1を加え、
3本ロールミルにて十分に混練りを行い、均一な樹脂溶
液を得た。これをロールコータにて銅張り積層板上にコ
ーテングし、さらに80°Cで30分間乾燥を行った。
塗布面が室温にらとったことを確認した?&2ネガマス
クを介して900mJ/cm”の紫外線を照射し、その
後1.0重量%炭酸ナトリウム水溶液<25’C)で1
00秒間かけて未露光部の樹脂を除去し、パターンを形
成した。形成されたパターンには、ハガレや現像残膜等
はみられなかった。
クを介して900mJ/cm”の紫外線を照射し、その
後1.0重量%炭酸ナトリウム水溶液<25’C)で1
00秒間かけて未露光部の樹脂を除去し、パターンを形
成した。形成されたパターンには、ハガレや現像残膜等
はみられなかった。
実施例2
撹拌器、温度計、脱水管、還流冷却器を付したセパラブ
ルフラスコに、トルエン600ffl 量m、α,β−
不飽和ジカルボン酸無水物−エチレン性不飽和化合物共
重合体としてスチレン−無水マレイン酸共重合体飽和ア
ルコール付加体(Arco Chemica1社製SM
A 1440、共重合モル比1:I、エステル化率35
〜50χ)600重量部に不飽和アルコールとしてアリ
ルアルコールを32重量部、エステル化脱水触媒として
p−トルエンスルホン酸0.6重量部を加え、110°
C″c1.O時間脱水エステル化反応を行った。
ルフラスコに、トルエン600ffl 量m、α,β−
不飽和ジカルボン酸無水物−エチレン性不飽和化合物共
重合体としてスチレン−無水マレイン酸共重合体飽和ア
ルコール付加体(Arco Chemica1社製SM
A 1440、共重合モル比1:I、エステル化率35
〜50χ)600重量部に不飽和アルコールとしてアリ
ルアルコールを32重量部、エステル化脱水触媒として
p−トルエンスルホン酸0.6重量部を加え、110°
C″c1.O時間脱水エステル化反応を行った。
反応終了後50°C、20mmHgでトルエンを留去し
た後、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テートにて60重量%濃度に希釈し、酸価130、平均
分子ff17000の共重合体溶液Bを得た。
た後、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テートにて60重量%濃度に希釈し、酸価130、平均
分子ff17000の共重合体溶液Bを得た。
一方軟化点60〜70゛C、エポキシ当量200〜23
0のクレゾール型エポキシ樹脂(東部化成工業社製、Y
DCN 701)2000重量部に対し、アクリル酸2
88重量部(化学当量比10:4)、メチルヒドロキノ
ン0.6重量部、トリエチルアミン2.9重量部を加え
、ioo’ c″r−15時間反応させて酸価2以下の
エステル化エポキシ樹脂Aを得た。
0のクレゾール型エポキシ樹脂(東部化成工業社製、Y
DCN 701)2000重量部に対し、アクリル酸2
88重量部(化学当量比10:4)、メチルヒドロキノ
ン0.6重量部、トリエチルアミン2.9重量部を加え
、ioo’ c″r−15時間反応させて酸価2以下の
エステル化エポキシ樹脂Aを得た。
次に
共重合体溶液B
100重量部
エステル化エポキシ樹脂A 60重量部ト
リメチロールプロパン− トリアクリレート 8ベンゾフエノ
ン 64.4−ジメチルアミノー ベンゾフェノン 2アエロジル#3
80 (日本アエロジル社製) 8シリコーン系
消泡剤 (信越シリコーン社製)1,5 をとり、3本ロールミルで十分混練りを行い、均一な樹
脂溶液を得た。これを150メツシユのテトロン製スク
リーンを介してあらかじめ回路が配線されたプリント配
線板上にコーテングした。これを80°Cで30分間乾
燥し、室温まで冷却した後、ネガマスクを介して600
mJ/cm2の紫外線を照射した。
リメチロールプロパン− トリアクリレート 8ベンゾフエノ
ン 64.4−ジメチルアミノー ベンゾフェノン 2アエロジル#3
80 (日本アエロジル社製) 8シリコーン系
消泡剤 (信越シリコーン社製)1,5 をとり、3本ロールミルで十分混練りを行い、均一な樹
脂溶液を得た。これを150メツシユのテトロン製スク
リーンを介してあらかじめ回路が配線されたプリント配
線板上にコーテングした。これを80°Cで30分間乾
燥し、室温まで冷却した後、ネガマスクを介して600
mJ/cm2の紫外線を照射した。
そして1.0重量%炭酸ナトリウム水溶液(35°C)
で120秒間かけて未露光部の樹脂を除去した。さらに
140°Cで60分間加熱硬化を行い、樹脂膜が形成さ
れたプリント配線板を得た。このプリント配線板を煮沸
エチレングリコールモノエチルエーテル中に10分間浸
漬した後、さらに5重量%水酸化ナトリウム*溶X1(
60’C)に60分間浸漬したところ何の変化もみられ
ず、また260’Cの溶融はんだ中に30秒間浸漬後セ
ロファンテープによる剥離テストを行った結果、耐熱性
および密着性に優れていることがノ)かった。
で120秒間かけて未露光部の樹脂を除去した。さらに
140°Cで60分間加熱硬化を行い、樹脂膜が形成さ
れたプリント配線板を得た。このプリント配線板を煮沸
エチレングリコールモノエチルエーテル中に10分間浸
漬した後、さらに5重量%水酸化ナトリウム*溶X1(
60’C)に60分間浸漬したところ何の変化もみられ
ず、また260’Cの溶融はんだ中に30秒間浸漬後セ
ロファンテープによる剥離テストを行った結果、耐熱性
および密着性に優れていることがノ)かった。
実施例3
撹拌器、温度計、脱水管、還流冷却器を付したセパラブ
ルフラスコに、トルエン600ffl 量m、α,β−
不飽和ジカルボン酸無水物−エチレン性不飽和化合物共
重合体として、スチレン−無水マレイン酸共重合体飽和
アルコール付加体<Arco Chemica1社製5
MA144領共重合比1:l、エステル化率35〜50
%)600重量部に、不飽和アルコールとしてヒドロキ
シエチルメタクリレートを82重量部、エステル比視ノ
ド触媒としてp−トルエンスルホン酸0.6重量部を加
え、 110’C″′cto時間脱水エステル化反応を
行った。
ルフラスコに、トルエン600ffl 量m、α,β−
不飽和ジカルボン酸無水物−エチレン性不飽和化合物共
重合体として、スチレン−無水マレイン酸共重合体飽和
アルコール付加体<Arco Chemica1社製5
MA144領共重合比1:l、エステル化率35〜50
%)600重量部に、不飽和アルコールとしてヒドロキ
シエチルメタクリレートを82重量部、エステル比視ノ
ド触媒としてp−トルエンスルホン酸0.6重量部を加
え、 110’C″′cto時間脱水エステル化反応を
行った。
反応終了後50゛C120mC12Oでトルエンを留去
した1(、エチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テートにて50χ濃度に希釈し、酸価350、平均分子
量4500の共重合体溶液Cを得た。
した1(、エチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テートにて50χ濃度に希釈し、酸価350、平均分子
量4500の共重合体溶液Cを得た。
次に
共重合体溶液C100重量部
ジエチルチオキサントン 4p−ジメチル
アミ7安7C1香酸 エチルエステル 6トリメチロール
ブロバンー トリアクリレート 10アエロジル
#200 (日本アエロジル社製) 8シリコーン
系消泡剤 14.4′ジアミノ−3,
3゛−ジエチルジフェニルメタン 5
をとり、3本ロールミルにて十分混練りを行い、均一な
樹脂溶液を得た。これを150メツシユのテトロン製ス
クリーンを介して、あらかじめ回路が配線されたプリン
ト配線板上にコーティングした。これを80゛Cで20
分間乾燥し、その後室温まで冷却した浅、イ、ガフスフ
を介して700mJ/cm2の紫外線を1!6射した。
アミ7安7C1香酸 エチルエステル 6トリメチロール
ブロバンー トリアクリレート 10アエロジル
#200 (日本アエロジル社製) 8シリコーン
系消泡剤 14.4′ジアミノ−3,
3゛−ジエチルジフェニルメタン 5
をとり、3本ロールミルにて十分混練りを行い、均一な
樹脂溶液を得た。これを150メツシユのテトロン製ス
クリーンを介して、あらかじめ回路が配線されたプリン
ト配線板上にコーティングした。これを80゛Cで20
分間乾燥し、その後室温まで冷却した浅、イ、ガフスフ
を介して700mJ/cm2の紫外線を1!6射した。
そして1.5重量%炭酸す]・リウム水溶液(30°C
)で100秒間かけて未露光部の樹脂を除去した。
)で100秒間かけて未露光部の樹脂を除去した。
さらに160°Cで60分間加熱硬化を行い、樹脂膜が
形成さtしたプリント配線板を得た。この基板を25重
量%硫酸小溶液(80’C)に1時間浸漬し、10重吋
%塩酸水溶液に1時間浸漬したが何の変化もみられなか
った。また260″Cの溶融はんだ中に30秒間浸漬後
セロファンテープによる剥離テストを行った結果、耐熱
性および密着性に優れていることがわかった。
形成さtしたプリント配線板を得た。この基板を25重
量%硫酸小溶液(80’C)に1時間浸漬し、10重吋
%塩酸水溶液に1時間浸漬したが何の変化もみられなか
った。また260″Cの溶融はんだ中に30秒間浸漬後
セロファンテープによる剥離テストを行った結果、耐熱
性および密着性に優れていることがわかった。
実施例4
共重合体溶液8 100重量部ジエ
チレンチオキサントン 4p−ジメチルアミ
ノ− 安5つ、香酸イソアミル 6トリメチロ
ールプロパン トリアクリレート 5を加え、3本
ロールミルにて十分に混練りを行い、均一な樹脂溶液を
得た。これを150メlシユのテトロン製スクリーンを
介して銅張り積層板上にコーティングし、80°Cで3
0分間乾燥を行った。室温まで冷却した後、ネガマスク
を介して500mJ/cm”の紫外線を照射し、その後
1.5重量%炭酸ナトリウム水溶液(30°C)で10
0秒間かけて未露光部の樹脂を除去した。
チレンチオキサントン 4p−ジメチルアミ
ノ− 安5つ、香酸イソアミル 6トリメチロ
ールプロパン トリアクリレート 5を加え、3本
ロールミルにて十分に混練りを行い、均一な樹脂溶液を
得た。これを150メlシユのテトロン製スクリーンを
介して銅張り積層板上にコーティングし、80°Cで3
0分間乾燥を行った。室温まで冷却した後、ネガマスク
を介して500mJ/cm”の紫外線を照射し、その後
1.5重量%炭酸ナトリウム水溶液(30°C)で10
0秒間かけて未露光部の樹脂を除去した。
この銅張り積層板を塩化第二鉄水溶液で露出した銅を工
/チングした。工・Vチング終了?&lO重量%水酸化
ナトリウム水溶液(50’C)で拮(脂を除去したとこ
ろネガマスクに忠実な銅回路パターンが得られた。
/チングした。工・Vチング終了?&lO重量%水酸化
ナトリウム水溶液(50’C)で拮(脂を除去したとこ
ろネガマスクに忠実な銅回路パターンが得られた。
比較例1
スチレン−無水マレイン酸共重合体
飽和アルコール付加体
(Arco Chemica1社% SMA 1735
2) 100重量部ジエチルヂオキサントン
52.2−ジ、ノドキシー2−フェニル アセトフェノン 2アエロジル#
380 (日本アエロジル社製) 8シリコーン
系消泡剤 (信越シリコーン社製) 1重量部トリ
メチロールプロパン トリアクリレート 8をとり、3
本ロールミルにて十分混練りを行い均一な…脂組成物を
得た。これを150メンシユのテトロン製スクリーンを
介して銅張り積層板」二にコーティングした。これを8
0°Cで20分間乾燥し、室温まで冷却した後、ネガマ
スクを介して800Jcm/cm”の紫外線を照射し、
次いで1,5重量%炭酸ナトリウム水溶液(30°C)
で未露光部の樹脂を除去しようとしたが、露光部分が白
化膨張してしまい、所望のブノント配線板を得ることが
できなかった。
2) 100重量部ジエチルヂオキサントン
52.2−ジ、ノドキシー2−フェニル アセトフェノン 2アエロジル#
380 (日本アエロジル社製) 8シリコーン
系消泡剤 (信越シリコーン社製) 1重量部トリ
メチロールプロパン トリアクリレート 8をとり、3
本ロールミルにて十分混練りを行い均一な…脂組成物を
得た。これを150メンシユのテトロン製スクリーンを
介して銅張り積層板」二にコーティングした。これを8
0°Cで20分間乾燥し、室温まで冷却した後、ネガマ
スクを介して800Jcm/cm”の紫外線を照射し、
次いで1,5重量%炭酸ナトリウム水溶液(30°C)
で未露光部の樹脂を除去しようとしたが、露光部分が白
化膨張してしまい、所望のブノント配線板を得ることが
できなかった。
比較例2
スチレン−無水マレイン酸共重合体飽和アルコール付加
体 (Arco Chemica1社製SMA 1440
) 100iHt部実施例2のエステル化樹脂A
60トリメチロールプロパン トリアクリレ−ト 104重量部 ジエチルチオキサントン l)−ジメチルアミノ安、e、香酸エチルアエロジル#
300 (目本アエロジル社製) 8シリコーン
系消泡剤 (信越シリコーン社製) 2をとり、3
本ロールミルで十分混練りを行い、均一な樹脂溶液を得
た。これを150メツシユのテトロン製スクリーンを介
してあらかじめ回路が配線されたプリント配線板上にコ
ーティングした。これを80°Cで30分間乾燥し、室
温まで冷却した後、ネガマスクを介して600mJ/c
m’の紫外線を照射した。そして1.0重量%炭酸ナト
リウム水溶液(35’C)で120秒間かけて未露光部
の樹脂を除去した。さらに140’Cで60分間加熱硬
化を行い、…脂膜が形成されたプリント配線板を得た。
体 (Arco Chemica1社製SMA 1440
) 100iHt部実施例2のエステル化樹脂A
60トリメチロールプロパン トリアクリレ−ト 104重量部 ジエチルチオキサントン l)−ジメチルアミノ安、e、香酸エチルアエロジル#
300 (目本アエロジル社製) 8シリコーン
系消泡剤 (信越シリコーン社製) 2をとり、3
本ロールミルで十分混練りを行い、均一な樹脂溶液を得
た。これを150メツシユのテトロン製スクリーンを介
してあらかじめ回路が配線されたプリント配線板上にコ
ーティングした。これを80°Cで30分間乾燥し、室
温まで冷却した後、ネガマスクを介して600mJ/c
m’の紫外線を照射した。そして1.0重量%炭酸ナト
リウム水溶液(35’C)で120秒間かけて未露光部
の樹脂を除去した。さらに140’Cで60分間加熱硬
化を行い、…脂膜が形成されたプリント配線板を得た。
このプリント配線上のパターンを顕微鏡で観察したとこ
ろ、アンダーカットが大きく感度も低かった。このプリ
ント配線板を5重量%水酸化ナトリウム水溶液(60’
C)に30分間浸漬したところ、樹脂膜表面の光沢が失
われたことから、樹脂膜表面が水酸化ナトリウム水溶液
で浸されたことがわかった。また260’Cの;5融は
んだ中に30秒間浸漬した後、セロファンテープによル
剥離テストを行ったが、一部併脂膜が剥がれてしまった
。
ろ、アンダーカットが大きく感度も低かった。このプリ
ント配線板を5重量%水酸化ナトリウム水溶液(60’
C)に30分間浸漬したところ、樹脂膜表面の光沢が失
われたことから、樹脂膜表面が水酸化ナトリウム水溶液
で浸されたことがわかった。また260’Cの;5融は
んだ中に30秒間浸漬した後、セロファンテープによル
剥離テストを行ったが、一部併脂膜が剥がれてしまった
。
[発明の効果1
本発明の感光性樹脂組成物はプリント配線板の製造にお
いて、耐はんだレジスト、エツチングレジストおよび耐
めっきレジストとして優れた耐熱性、密着性、耐薬品性
を有し、経済性にも優れるため、信頼性の高いプリント
配線板を経済的に得ることができる。
いて、耐はんだレジスト、エツチングレジストおよび耐
めっきレジストとして優れた耐熱性、密着性、耐薬品性
を有し、経済性にも優れるため、信頼性の高いプリント
配線板を経済的に得ることができる。
特許出願人 東京応化工業株式会社
Claims (5)
- (1)a)α,β−不飽和ジカルボン酸無水物とエチレ
ン性不飽和化合物の共重合体と、不飽和アルコールおよ
び飽和アルコールとのエステル化反応により、酸無水物
基の一部をエステル化して得られる共重合体 b)光重合開始剤 を必須成分として含有することを特徴とする感光性樹脂
組成物。 - (2)請求項(1)記載の感光性樹脂組成物に、c)光
重合性単量体 を配合したことを特徴とする感光性樹脂組成物。 - (3)請求項(1)記載の感光性樹脂組成物に、c)光
重合性単量体 d)フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型ノボラッ
ク樹脂およびこれらのエポキシ樹脂のエポキシ基1当量
とエチレン性不飽和カルボン酸0.2〜0.8当量を反
応して得られるエステル化エエポキシ樹脂の中から選ば
れた少なくとも1種を配合したことを特徴とする感光性
樹脂組成物。 - (4)請求項(3)記載の感光性樹脂組成物において、
各成分の配合割合が、a)成分100重量部に対し、b
)成分が0.1〜25重量部、c)成分が1〜50重量
部、d)成分が1〜200重量部の範囲であることを特
徴とする感光性樹脂組成物。 - (5)請求項(1)記載の感光性樹脂組成物に、e)芳
香族ジアミン を配合したことを特徴とする感光性樹脂組成物。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63261436A JPH02109052A (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | 感光性樹脂組成物 |
US07/420,961 US5087552A (en) | 1988-10-19 | 1989-10-13 | Photosensitive resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63261436A JPH02109052A (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02109052A true JPH02109052A (ja) | 1990-04-20 |
Family
ID=17361863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63261436A Pending JPH02109052A (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5087552A (ja) |
JP (1) | JPH02109052A (ja) |
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US5646215A (en) * | 1996-10-31 | 1997-07-08 | Dow Corning Corporation | Polybutylene containing reactive unsaturated functionality |
CN1295680A (zh) | 1998-01-30 | 2001-05-16 | 第一化学公司 | 含有马来酰亚胺的光致聚合组合物及其使用方法 |
US6007966A (en) * | 1998-09-09 | 1999-12-28 | Industrial Technology Research Institute | Negative-type photosensitive composition |
TW562844B (en) * | 2001-01-19 | 2003-11-21 | Kolon Inc | Ink composition for solder resist |
JP4148896B2 (ja) * | 2001-10-22 | 2008-09-10 | 太陽インキ製造株式会社 | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物 |
DE60205578T2 (de) * | 2002-02-25 | 2006-05-18 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Verfahren zur Herstellung von hochverzweigten Polyestern ungesättigte Endgruppen enthaltend |
CN102142605B (zh) * | 2010-12-10 | 2014-04-02 | 深圳市信维通信股份有限公司 | 天线制造方法 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3677755A (en) * | 1969-08-28 | 1972-07-18 | Asahi Chemical Ind | Relief lithographic plates and photosensitizing solutions |
DE2055893A1 (de) * | 1970-11-13 | 1972-05-18 | Badische Anilin- & Soda-Fabrik Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur Herstellung von Überzügen durch Härtung mittels ionisierender Strahlung |
US3796578A (en) * | 1970-12-26 | 1974-03-12 | Asahi Chemical Ind | Photopolymerizable compositions and elements containing addition polymerizable polymeric compounds |
US4009195A (en) * | 1971-09-13 | 1977-02-22 | Rohm And Haas Company | Processes of preparing oligomers |
US3912670A (en) * | 1973-02-28 | 1975-10-14 | O Brien Corp | Radiation curable can coating composition |
US4025548A (en) * | 1974-02-04 | 1977-05-24 | The O'brien Corporation | Radiation curable oligomers |
US4167415A (en) * | 1975-07-11 | 1979-09-11 | Kansai Paint Co., Ltd. | Photocurable composition comprising copolymer of maleic acid monoester and α-olefin compound |
US3974129A (en) * | 1975-07-24 | 1976-08-10 | Shell Oil Company | Polybutadiene resin |
US4183796A (en) * | 1978-02-09 | 1980-01-15 | Desoto, Inc. | Radiation curable oligomers based on tris(2-hydroxyethyl) isocyanurate |
JPS5633640A (en) * | 1979-08-28 | 1981-04-04 | Arai Tokuji | Photopolymerizable photosensitive resin composition and photosensitive sheet structure containing layer of such composition |
JPS58199341A (ja) * | 1982-05-17 | 1983-11-19 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 耐熱性感光性樹脂組成物 |
JPS5971048A (ja) * | 1982-10-18 | 1984-04-21 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光重合系感光性組成物 |
US4591545A (en) * | 1983-05-10 | 1986-05-27 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Photosensitive image-forming material having a layer of photosensitive polyester modified with chain extender |
JPS59218821A (ja) * | 1983-05-27 | 1984-12-10 | Hitachi Ltd | スタンパ表面の離型処理方法 |
JPS60208377A (ja) * | 1984-04-02 | 1985-10-19 | Asahi Kagaku Kenkyusho:Kk | ソルダ−レジストインキ用樹脂組成物 |
US4722947A (en) * | 1985-08-05 | 1988-02-02 | Pony Industries, Inc. | Production of radiation curable partial esters of anhydride-containing copolymers |
US4745138A (en) * | 1985-08-05 | 1988-05-17 | Pony Industries, Inc. | Radiation curable partial esters of anhydride-containing copolymers |
JPS62119751A (ja) * | 1985-11-19 | 1987-06-01 | Fujitsu Ltd | スタンパ |
JPS62180541A (ja) * | 1986-02-03 | 1987-08-07 | Seiko Epson Corp | 射出成形用スタンパ |
-
1988
- 1988-10-19 JP JP63261436A patent/JPH02109052A/ja active Pending
-
1989
- 1989-10-13 US US07/420,961 patent/US5087552A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5087552A (en) | 1992-02-11 |
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