JPH0198208A - セラミックコンデンサの製造方法 - Google Patents
セラミックコンデンサの製造方法Info
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- JPH0198208A JPH0198208A JP62256665A JP25666587A JPH0198208A JP H0198208 A JPH0198208 A JP H0198208A JP 62256665 A JP62256665 A JP 62256665A JP 25666587 A JP25666587 A JP 25666587A JP H0198208 A JPH0198208 A JP H0198208A
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Landscapes
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本＃明はセラミックコンデンサの製造方法、特に、セラ
ミック誘電体に、対向電−ｉｔ形成する方法に関するも
のである。
ミック誘電体に、対向電−ｉｔ形成する方法に関するも
のである。
（従来の技術）
従来、セラミックコンデンサに対向（極を形成する場合
、−旦、セラミック誘電体の全面に金属皮膜を付与し、
その後、この金属皮膜の一部を除去して対向電極を形成
する方法が汎用されていム具体的には、七ジャック誘電
体の一部分にあらかじめレジスト膜を塗布しておき、メ
ツキや浸漬等によって全面に金属皮膜を付与したのち、
レジスト膜を除去する方法や、全面に付与した金属皮膜
の一部分をサンドブラスト、センタレス研磨等で研削除
去し、対向電極を形成する方法等がある。
、−旦、セラミック誘電体の全面に金属皮膜を付与し、
その後、この金属皮膜の一部を除去して対向電極を形成
する方法が汎用されていム具体的には、七ジャック誘電
体の一部分にあらかじめレジスト膜を塗布しておき、メ
ツキや浸漬等によって全面に金属皮膜を付与したのち、
レジスト膜を除去する方法や、全面に付与した金属皮膜
の一部分をサンドブラスト、センタレス研磨等で研削除
去し、対向電極を形成する方法等がある。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、上述したセラミック誘電体の全面に一旦
、金属皮膜を付与して、その後、この金属皮膜の一部分
を除去して対向電極を形成する方法には、次のような解
決すべき問題点があった。
、金属皮膜を付与して、その後、この金属皮膜の一部分
を除去して対向電極を形成する方法には、次のような解
決すべき問題点があった。
すなわち、レジスト膜を用いる場合、レジスト膜を塗布
、除去する石垣工程を行う必要があるために大変手間が
かかった。
、除去する石垣工程を行う必要があるために大変手間が
かかった。
また、研削除去する場合、機械的衝撃が部分的にあるい
は全体的に過度に加わるために、セラミック誘電体にク
ラック、ワレなどが生じることがあった。さらに、クラ
ック、ワレなどが生じたセラミック誘電体は、後工程の
選別工檻で、完全に選別できないことがあ）、製品の信
頼性あるいは良品率を向上することは困難であった。
は全体的に過度に加わるために、セラミック誘電体にク
ラック、ワレなどが生じることがあった。さらに、クラ
ック、ワレなどが生じたセラミック誘電体は、後工程の
選別工檻で、完全に選別できないことがあ）、製品の信
頼性あるいは良品率を向上することは困難であった。
そこで、本発明は、上述した問題点を解決し得るセラミ
ックコンデンサの製造方法を提供することを目的とする
ものである。
ックコンデンサの製造方法を提供することを目的とする
ものである。
（問題を解決するための手段）
本発明に係るセラミックコンデンサの製造方法は、次の
ような工程を具備する。
ような工程を具備する。
−すなわち、セラミック誘電体の全面に金属皮膜を付与
する工程と、レーザ光を照射することによって前記金属
皮膜を部分的に焼散して、分離し、対向磁極を形成する
工程とを具備する。
する工程と、レーザ光を照射することによって前記金属
皮膜を部分的に焼散して、分離し、対向磁極を形成する
工程とを具備する。
（作 用）
本発明においては、レーザ光を照射することによって金
属皮膜を焼散して、この部分に除去部を形成し、この除
去部で金属皮膜を対向電極に形成する。
属皮膜を焼散して、この部分に除去部を形成し、この除
去部で金属皮膜を対向電極に形成する。
（実施例）
以下に、本発明の一実施例を図面を用いて詳細に説明す
る。
る。
第１図（Ａ）および（Ｂ）は本発明のセラミックコンデ
ンサの製造方法の製造工程を示す断面図である。
ンサの製造方法の製造工程を示す断面図である。
まず、同図（Ａ）は、円板セラミック誘電体１の全面に
、無電椿メツキ、蒸発、スパッタリングあるいは浸漬等
の方法（図示せず）で金属皮膜２を付与した状態を示し
ている。そして、同図（５）に示すように、レーザ光Ｘ
、Ｙおよび２を、周側面３と、この周側面３に隣接する
両ン１面４＞よび５の外周部分に照射することによって
、同図（Ｂ）に示すように、これらの部分の金属皮膜を
焼散して、円板セラミック誘電体１に除去部６．７お上
び８を形成する。したがって、除去部６．７および８に
よって・≧属皮膜を分離し、両端面４および５に対向電
極９および１０を形成する。
、無電椿メツキ、蒸発、スパッタリングあるいは浸漬等
の方法（図示せず）で金属皮膜２を付与した状態を示し
ている。そして、同図（５）に示すように、レーザ光Ｘ
、Ｙおよび２を、周側面３と、この周側面３に隣接する
両ン１面４＞よび５の外周部分に照射することによって
、同図（Ｂ）に示すように、これらの部分の金属皮膜を
焼散して、円板セラミック誘電体１に除去部６．７お上
び８を形成する。したがって、除去部６．７および８に
よって・≧属皮膜を分離し、両端面４および５に対向電
極９および１０を形成する。
尚、金属皮膜を焼散する際のレーザ光のエネルギー集中
度は、金属皮膜のみを焼散する程度が望ましく、余シ大
きすぎると誘電体が加熱し、ワレが生じる恐れがある。
度は、金属皮膜のみを焼散する程度が望ましく、余シ大
きすぎると誘電体が加熱し、ワレが生じる恐れがある。
また、レーザ光のカット幅、位置を自白にコントロール
できるので、容量調整が容易である。さらに、本発明の
セラミックコンデンサの製造方法を、板状セラミックコ
ンデンサに適用した実施例によって示したが、本発明は
これに限定するものではな１＜・、レーザ光を照射する
ことによって金属皮膜を焼散して、分離し、対向電極を
形成するという趣旨から出なければ、どんな形状に対し
ても適用することができる。
できるので、容量調整が容易である。さらに、本発明の
セラミックコンデンサの製造方法を、板状セラミックコ
ンデンサに適用した実施例によって示したが、本発明は
これに限定するものではな１＜・、レーザ光を照射する
ことによって金属皮膜を焼散して、分離し、対向電極を
形成するという趣旨から出なければ、どんな形状に対し
ても適用することができる。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明のセラミックコンデンサの
製造方法はセラミック誘電体の全面に、−旦、金属皮膜
を付与した後、≠−ザ光を照射することによって金、属
皮膜を焼散して、分黒し、対向電極を形成するものであ
る。したがって、レジスト膜を塗布、除去する処理工程
がなくなシ、この工程のだめの手間や材料の無駄がなく
なった。
製造方法はセラミック誘電体の全面に、−旦、金属皮膜
を付与した後、≠−ザ光を照射することによって金、属
皮膜を焼散して、分黒し、対向電極を形成するものであ
る。したがって、レジスト膜を塗布、除去する処理工程
がなくなシ、この工程のだめの手間や材料の無駄がなく
なった。
また、機械的衝撃の加わる工程もなくなるので、機械的
衝１によるクラック、ワレなどのセラミック誘電体の不
良もなくなυ、製品の信頼性あるいは良品率を向上する
ことができ、また、セラミック誘ｄ体の厚みを薄くする
ことも可能となシ、セラミックコンデンサの大容量、小
型化にも寄与できる。
衝１によるクラック、ワレなどのセラミック誘電体の不
良もなくなυ、製品の信頼性あるいは良品率を向上する
ことができ、また、セラミック誘ｄ体の厚みを薄くする
ことも可能となシ、セラミックコンデンサの大容量、小
型化にも寄与できる。
さらに、レーザ光で金属皮膜を焼散して、分離すること
によって、′シ極端部のにじみがなくなるので、コンデ
ンサ特性を安定化することができる。
によって、′シ極端部のにじみがなくなるので、コンデ
ンサ特性を安定化することができる。
第１図（６）および（Ｂ）は本発明の製造方法の製造工
程を示す断面図。 １・・・・・・円板セラミック誘４体、２・・・・・・
金属皮膜、６・・・・・・周側面、４．５・・・・・・
端面、６．７．８・・・・・・除去部、９．１０・・・
・・・対向磁極、Ｘ、７．Ｚ・・−・・・レーザ光。
程を示す断面図。 １・・・・・・円板セラミック誘４体、２・・・・・・
金属皮膜、６・・・・・・周側面、４．５・・・・・・
端面、６．７．８・・・・・・除去部、９．１０・・・
・・・対向磁極、Ｘ、７．Ｚ・・−・・・レーザ光。
Claims (1)
- セラミック誘電体の全面に金属皮膜を付与する工程と
、レーザ光を照射することによつて、前記金属皮膜を部
分的に焼散して、分離し、対向電極を形成する工程とを
具備してなるセラミックコンデンサの制造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62256665A JPH0198208A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | セラミックコンデンサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62256665A JPH0198208A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | セラミックコンデンサの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0198208A true JPH0198208A (ja) | 1989-04-17 |
Family
ID=17295768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62256665A Pending JPH0198208A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | セラミックコンデンサの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0198208A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020190081A (ja) * | 2019-05-20 | 2020-11-26 | 日立建機株式会社 | 転圧機械 |
-
1987
- 1987-10-12 JP JP62256665A patent/JPH0198208A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020190081A (ja) * | 2019-05-20 | 2020-11-26 | 日立建機株式会社 | 転圧機械 |
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