JPH0194549A - 光ディスク基板 - Google Patents
光ディスク基板Info
- Publication number
- JPH0194549A JPH0194549A JP62251528A JP25152887A JPH0194549A JP H0194549 A JPH0194549 A JP H0194549A JP 62251528 A JP62251528 A JP 62251528A JP 25152887 A JP25152887 A JP 25152887A JP H0194549 A JPH0194549 A JP H0194549A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- notch
- lead
- distortion
- center hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 19
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 claims description 10
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 10
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 6
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 6
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 2
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- -1 FeCo Chemical class 0.000 description 1
- 229910002546 FeCo Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は高分子樹脂よりなる光ディスク基板に関する。
具体的には光ディスク基板に用いられる高分子樹脂基板
のセンターホールとリードインの間に切り欠きを設け、
熱処理後の歪の緩和及び基板成形時に発生した残留歪の
除去を可能にした光ディスク基板に関する。
のセンターホールとリードインの間に切り欠きを設け、
熱処理後の歪の緩和及び基板成形時に発生した残留歪の
除去を可能にした光ディスク基板に関する。
〈従来の技術〉
光ディスクは、高密度・大容量記録が可能な媒体として
近年注目をあびており、種々の方式が提案されている。
近年注目をあびており、種々の方式が提案されている。
例えば光磁気記録媒体もその一つである。光磁気記録媒
体に用いられる磁性材料にはDV Fe 。
体に用いられる磁性材料にはDV Fe 。
Gd Co 、 Tb Fe 、 Tb Fe Co
、 Gd TbFe 、 Tb Co 、 Nd Dy
Fe Co 、 Nd GdFeC0等希土類と遷移
金属の非晶質磁性合金が有望視されている。特にTb−
Co系は保磁力や磁気異方性が大きく高密度記録が可能
な上、補償点書込み方式である為、記録感度も高く、注
目される。しかしTb等の希土類は耐蝕性に劣る為、成
膜後及び成膜時の酸化を防止する必要がある。
、 Gd TbFe 、 Tb Co 、 Nd Dy
Fe Co 、 Nd GdFeC0等希土類と遷移
金属の非晶質磁性合金が有望視されている。特にTb−
Co系は保磁力や磁気異方性が大きく高密度記録が可能
な上、補償点書込み方式である為、記録感度も高く、注
目される。しかしTb等の希土類は耐蝕性に劣る為、成
膜後及び成膜時の酸化を防止する必要がある。
前者の成膜後の酸化に対する防止法としては媒体上下に
AJIN、Sf 02 、St 3 Nd 、Ti N
等の透明な保護層を設けたり、媒体に窒化・炭化・水素
化・フッ化処理を施したり、あるいはPt。
AJIN、Sf 02 、St 3 Nd 、Ti N
等の透明な保護層を設けたり、媒体に窒化・炭化・水素
化・フッ化処理を施したり、あるいはPt。
Ti 、 AJll等の添加が有効であることが報告さ
れている。
れている。
一方後者の成膜時の酸化に対しては、その原因は大きく
分けて2つあり、その対策も夫々に必要である。原因の
1つは成膜用チャンバーの残留ガスによるもので、これ
に対してはチャンバー内の背圧を10’ Torr以下
に排気する対策で解決されている。原因の他方は基板内
に含まれる水分等の不純物ガスの成膜時における放出に
よるもので、基板がガラス等の無機物であれば殆んどガ
ス放出の影響はみられない。しかし近年、光磁気記録媒
体用基板として注目されているポリカーボネート。
分けて2つあり、その対策も夫々に必要である。原因の
1つは成膜用チャンバーの残留ガスによるもので、これ
に対してはチャンバー内の背圧を10’ Torr以下
に排気する対策で解決されている。原因の他方は基板内
に含まれる水分等の不純物ガスの成膜時における放出に
よるもので、基板がガラス等の無機物であれば殆んどガ
ス放出の影響はみられない。しかし近年、光磁気記録媒
体用基板として注目されているポリカーボネート。
PMMA、エポキシ樹脂等の高分子基板では問題で、こ
れら基板には数千ppmもの水分が含まれており、これ
が成膜時に放出し膜中に混入するため遷移金属が劣化す
るものと考えられている。
れら基板には数千ppmもの水分が含まれており、これ
が成膜時に放出し膜中に混入するため遷移金属が劣化す
るものと考えられている。
又読み出し専用のコンパクトディスク、ビデイオディス
クにおいても同様の原因に基づく問題がある。すなわち
基板内の水分が光反射用アルミ成膜時にアルミが腐蝕し
白濁する等の障害が生じている。
クにおいても同様の原因に基づく問題がある。すなわち
基板内の水分が光反射用アルミ成膜時にアルミが腐蝕し
白濁する等の障害が生じている。
この為これら薄膜形成用に用いる高分子樹脂基板に対し
ては現在、成膜前の基板の水分除去は、必須となりつつ
ある。水分除去法としては真空処理、加熱炉を用いた加
熱処理が一般に用いられているが、真空処理法は水分除
去に数10時間かかりプロセス上問題があった。
ては現在、成膜前の基板の水分除去は、必須となりつつ
ある。水分除去法としては真空処理、加熱炉を用いた加
熱処理が一般に用いられているが、真空処理法は水分除
去に数10時間かかりプロセス上問題があった。
一方加熱炉による加熱処理は脱水時間を短縮することが
でき、設備も簡単で水分除去法としては最も実用的な手
段であることが知られている。しかし、処理温度の上昇
にともない、基板が変形し基板に歪が残り、その結果、
光ディスク基板として好ましくない複屈折の増加が観察
される。しかし現在この問題に対する有効な対策は知ら
れていない。
でき、設備も簡単で水分除去法としては最も実用的な手
段であることが知られている。しかし、処理温度の上昇
にともない、基板が変形し基板に歪が残り、その結果、
光ディスク基板として好ましくない複屈折の増加が観察
される。しかし現在この問題に対する有効な対策は知ら
れていない。
また基板の歪に関しては、上記の問題とは別にもともと
高分子樹脂基板に存在している残留歪の問題がある。こ
の歪は基板形成時及びセンターホールを打ち抜くときに
生ずるものとみられ、特にセンターホール近傍の残留歪
が大きいことが確認されている。この歪を除去する為に
アニーリング処理を施すことが報告されているが実際検
討を行ったところ、確かに外周部の歪の緩和はみとめら
れたものの、センターホール近傍の歪にかえって場所に
よっては大きくなることがわかった。これはセンターホ
ール近傍には歪を緩和するような場がなく、逆に全体と
して分散している歪が一点に集中してしまうことに起因
すると考えられる。しかしこの基板の残留歪に関しても
、成形時の成形法の改善、センターホール打ち抜き法の
改善等考えられるが有効な対策が見出されていない。
高分子樹脂基板に存在している残留歪の問題がある。こ
の歪は基板形成時及びセンターホールを打ち抜くときに
生ずるものとみられ、特にセンターホール近傍の残留歪
が大きいことが確認されている。この歪を除去する為に
アニーリング処理を施すことが報告されているが実際検
討を行ったところ、確かに外周部の歪の緩和はみとめら
れたものの、センターホール近傍の歪にかえって場所に
よっては大きくなることがわかった。これはセンターホ
ール近傍には歪を緩和するような場がなく、逆に全体と
して分散している歪が一点に集中してしまうことに起因
すると考えられる。しかしこの基板の残留歪に関しても
、成形時の成形法の改善、センターホール打ち抜き法の
改善等考えられるが有効な対策が見出されていない。
〈発明が解決しようとする問題点〉
本発明はかかる現状に鑑みなされたもので、光ディスク
基板の加熱処理において生じる熱歪を緩和するとともに
、基板形成時に発生した残留歪を除去し、複屈折の小さ
な基板を得ることを目的とするものである。
基板の加熱処理において生じる熱歪を緩和するとともに
、基板形成時に発生した残留歪を除去し、複屈折の小さ
な基板を得ることを目的とするものである。
く問題を解決するための手段〉
すなわち、本発明は高分子樹脂基板よりなる光ディスク
基板において、光ディスク基板のセンターホールとリー
ドインの間に適当な形状の内部歪を緩和する貫通した切
り欠きを設け、熱変形による歪、成形時の残留歪等の内
部歪を緩和したことを特徴とする光ディスク基板である
。
基板において、光ディスク基板のセンターホールとリー
ドインの間に適当な形状の内部歪を緩和する貫通した切
り欠きを設け、熱変形による歪、成形時の残留歪等の内
部歪を緩和したことを特徴とする光ディスク基板である
。
即ち本発明は基板加熱による水分除去時等に発生する熱
歪及び基板成形時に生じた残留歪等複屈折に悪影響を与
える内部歪をリードイン近傍に設けられた切り欠きによ
って吸収させ複屈折の小さな光ディスク基板を得ようと
するものである。
歪及び基板成形時に生じた残留歪等複屈折に悪影響を与
える内部歪をリードイン近傍に設けられた切り欠きによ
って吸収させ複屈折の小さな光ディスク基板を得ようと
するものである。
ここで切り欠きとは、基板を打ち抜いた部分のことをさ
し、形状は限定されず、円形、半円形、三角形、四角形
、その他の多角形、リング状、渦巻状、又はこれらの組
み合せ等が挙げられる。又これを設ける位置としては強
度面から切り欠きがセンターホールに連ならないのが好
ましく、り一ドインに近い方が効果的でよく、大きさ9
個数は形状、材質によっても異なるが、強度的なことを
考慮して全体的な設計をし、最終的には実テストにより
選定することが好ましい。
し、形状は限定されず、円形、半円形、三角形、四角形
、その他の多角形、リング状、渦巻状、又はこれらの組
み合せ等が挙げられる。又これを設ける位置としては強
度面から切り欠きがセンターホールに連ならないのが好
ましく、り一ドインに近い方が効果的でよく、大きさ9
個数は形状、材質によっても異なるが、強度的なことを
考慮して全体的な設計をし、最終的には実テストにより
選定することが好ましい。
ところで、複屈折とは非等方性材料に入射した光が互に
垂直な振動方向を持つ二つの光波に分かれる現象で光デ
ィスク基板としては基板全面で均一の値となり、なるべ
くOであること、つまり光学的等方性であることがのぞ
まれる。例えばコンパクトディスク(CD)の仕様は、
1100n以下となってい。本発明においてはこの複屈
折の測定は以下に説明するバビネソレイユ補償器を用い
て行なった。第4図はこの測定系のブロックダイヤグラ
ムで、測定は以下のようになされる。まずレーザー(1
)からの光(L)を第1のグラン−トムソンプリズム(
2)で直線偏光にし、測定する基板001に垂直に入射
させる。このとき受光側の第2のグラン−トムソンプリ
ズム(5)と第1のグラン−トムソンプリズム(2)は
クロスニコル状態にしておく。基板001の複屈折によ
り、楕円偏光になった光(L′ )をバビネソレイユ位
相補償器(4)の調節により、直線偏光に戻す。この調
節は具体的には光検出器(6)の出力が最小になるよう
にして行なう。このときのバビネソレイユ位相補償器(
4)の補償値が複屈折の大きさを表している。図の(3
)は集光レンズである。
垂直な振動方向を持つ二つの光波に分かれる現象で光デ
ィスク基板としては基板全面で均一の値となり、なるべ
くOであること、つまり光学的等方性であることがのぞ
まれる。例えばコンパクトディスク(CD)の仕様は、
1100n以下となってい。本発明においてはこの複屈
折の測定は以下に説明するバビネソレイユ補償器を用い
て行なった。第4図はこの測定系のブロックダイヤグラ
ムで、測定は以下のようになされる。まずレーザー(1
)からの光(L)を第1のグラン−トムソンプリズム(
2)で直線偏光にし、測定する基板001に垂直に入射
させる。このとき受光側の第2のグラン−トムソンプリ
ズム(5)と第1のグラン−トムソンプリズム(2)は
クロスニコル状態にしておく。基板001の複屈折によ
り、楕円偏光になった光(L′ )をバビネソレイユ位
相補償器(4)の調節により、直線偏光に戻す。この調
節は具体的には光検出器(6)の出力が最小になるよう
にして行なう。このときのバビネソレイユ位相補償器(
4)の補償値が複屈折の大きさを表している。図の(3
)は集光レンズである。
又光ディスクに用いられる高分子樹脂基板にはPMMA
、エポキシ、ポリカーボネート等があるが、本方法は複
屈折の大きいポリカーボネート基板に特に有効である。
、エポキシ、ポリカーボネート等があるが、本方法は複
屈折の大きいポリカーボネート基板に特に有効である。
く作用〉
以上の本発明により、加熱水分除去中等に発生した熱歪
、及び基板形成時等に残留した残留歪は緩和され、複屈
折の小さな高分子樹脂よりなる光ディスク基板が得られ
る。
、及び基板形成時等に残留した残留歪は緩和され、複屈
折の小さな高分子樹脂よりなる光ディスク基板が得られ
る。
特に最近、残留歪の問題がクローズアップされて来てお
り、従来のプロセスに残留歪除去プロセスを付加する必
要性が出て来ている。本発明は上記2つの問題を一工程
で解決する画期的なものである。
り、従来のプロセスに残留歪除去プロセスを付加する必
要性が出て来ている。本発明は上記2つの問題を一工程
で解決する画期的なものである。
以下、本発明を実施例により説明する。
〈実施例〉
第1図は実施例1の平面図、第2図は実施例2の平面図
、第3図は各ディスクの半径方向位置における複屈折の
測定結果のグラフである。実施例1.2と共に基板10
はポリカーボネート製の8インチディスク用であり、外
径200ta 、リードイン11すなわち記録領iii
!12の内周の直径100mで直径35#のセンターホ
ール13を設けた形状となっている。なお、記録領域1
2には公知の目的に応じて光記録膜が形成される。
、第3図は各ディスクの半径方向位置における複屈折の
測定結果のグラフである。実施例1.2と共に基板10
はポリカーボネート製の8インチディスク用であり、外
径200ta 、リードイン11すなわち記録領iii
!12の内周の直径100mで直径35#のセンターホ
ール13を設けた形状となっている。なお、記録領域1
2には公知の目的に応じて光記録膜が形成される。
そして、実施例1は第1図に示すように、り一ドイン1
1とセンターホール13との間のラベル部14に、本発
明の歪緩和用切り火きとして4個の扇状切り欠き158
〜15dをリードイン11に沿って等間隔に設けた例で
ある。なお扇状切り欠き15a〜15dは外径96#で
その長さ30問、内径86mでその長さ20mの大きさ
とした。
1とセンターホール13との間のラベル部14に、本発
明の歪緩和用切り火きとして4個の扇状切り欠き158
〜15dをリードイン11に沿って等間隔に設けた例で
ある。なお扇状切り欠き15a〜15dは外径96#で
その長さ30問、内径86mでその長さ20mの大きさ
とした。
又実施例2は第2図に示すように、実施例1の扇状切り
欠き15a〜15d 1.:替えて、4個の渦巻き状切
り欠き168〜16dを円周方向に等間隔に設けた例で
ある。各渦巻き状切り欠き168〜16dは巾1.5M
で長さ80Mの大きさとした。なお、実施例1.2の切
り欠き15a 〜15d 、 16a 〜16dのカッ
ティングにはレーザーを用いた。
欠き15a〜15d 1.:替えて、4個の渦巻き状切
り欠き168〜16dを円周方向に等間隔に設けた例で
ある。各渦巻き状切り欠き168〜16dは巾1.5M
で長さ80Mの大きさとした。なお、実施例1.2の切
り欠き15a 〜15d 、 16a 〜16dのカッ
ティングにはレーザーを用いた。
以上の実施例1.2の基板と比較例の切り欠きを設けな
い以外は実施例と同一仕様の基板に110℃、3時間の
熱処理を施して水分除去した後、前述の第4図に示した
測定法により複屈折を測定した。複屈折の測定は基板の
半径方向の各位置において行なった。測定結果を第3図
に示す。第3図において、縦軸が複屈折、横軸はディス
ク中心からの半径方向の距離で、X印が実施例1.Δ印
が実施例2.白丸印が比較例で、黒丸印は基準となる熱
処理をしない同一仕様基板の測定結果である。
い以外は実施例と同一仕様の基板に110℃、3時間の
熱処理を施して水分除去した後、前述の第4図に示した
測定法により複屈折を測定した。複屈折の測定は基板の
半径方向の各位置において行なった。測定結果を第3図
に示す。第3図において、縦軸が複屈折、横軸はディス
ク中心からの半径方向の距離で、X印が実施例1.Δ印
が実施例2.白丸印が比較例で、黒丸印は基準となる熱
処理をしない同一仕様基板の測定結果である。
この結果により、基板に切り欠きを入れる本発明によっ
て、歪の緩和がはかられることが確認された。特に、リ
ードイン近傍の複屈折は未処理のものより小さくなって
いることから、残留歪の緩゛和効果が大きいことがわか
る。
て、歪の緩和がはかられることが確認された。特に、リ
ードイン近傍の複屈折は未処理のものより小さくなって
いることから、残留歪の緩゛和効果が大きいことがわか
る。
〈発明の効果〉
以上のように本発明は、記録領域部以外、特にリードイ
ン近傍に適当な切り欠きを設けるという簡単な構成によ
って内部歪を緩和し、複屈折の小さな光ディスク基板を
実現したもので、熱処理が必須と云われる高分子樹脂基
板の光ディスクへの適用に大きな寄与をなすものである
。
ン近傍に適当な切り欠きを設けるという簡単な構成によ
って内部歪を緩和し、複屈折の小さな光ディスク基板を
実現したもので、熱処理が必須と云われる高分子樹脂基
板の光ディスクへの適用に大きな寄与をなすものである
。
なお、本発明は前述の実施例に限定されるものでないこ
とは、その趣旨から明らかである。例えば、実施例には
8インチのポリカーボネートよりなるものを示したが、
本発明はPMMA、エポキシ樹脂等その他高分子樹脂基
板に広く適用できること、及び本発明において基板サイ
ズは何ら限定されないことはその趣旨から明らかである
。
とは、その趣旨から明らかである。例えば、実施例には
8インチのポリカーボネートよりなるものを示したが、
本発明はPMMA、エポキシ樹脂等その他高分子樹脂基
板に広く適用できること、及び本発明において基板サイ
ズは何ら限定されないことはその趣旨から明らかである
。
又、実施例には切り火きの型状として扇状、渦巻状の2
つ型状をあげてその有効性を説明したが、本発明におい
て、切り欠きの型状が特に限定されないことはその趣旨
から明らかで、例示以外他の前述した種々の形状も同様
の効果があることは言及するまでもない。
つ型状をあげてその有効性を説明したが、本発明におい
て、切り欠きの型状が特に限定されないことはその趣旨
から明らかで、例示以外他の前述した種々の形状も同様
の効果があることは言及するまでもない。
第1図は、本発明の実施例1の平面図、第2図は本発明
の実施例2の平面図、第3図は本発明の実施例1,2及
び比較例の基板の半′径方向の各位置での複屈折の測定
結果を示すグラフ、第4図は本発明で用いた複屈折の測
定法の原理の説明図である。 1:レーザー 2.3ニゲラン−トムソンプリズム 4:バビネソレイユ補償器 10:基板 11:リードイン 13:センターホール 15a 〜15d 、 16a 〜16d :切り欠き
特許出願人 帝 人 株 式 会 礼 式 理 人 弁理士 前 1) 純 博、
″′丁1>胃ノ 第1図
の実施例2の平面図、第3図は本発明の実施例1,2及
び比較例の基板の半′径方向の各位置での複屈折の測定
結果を示すグラフ、第4図は本発明で用いた複屈折の測
定法の原理の説明図である。 1:レーザー 2.3ニゲラン−トムソンプリズム 4:バビネソレイユ補償器 10:基板 11:リードイン 13:センターホール 15a 〜15d 、 16a 〜16d :切り欠き
特許出願人 帝 人 株 式 会 礼 式 理 人 弁理士 前 1) 純 博、
″′丁1>胃ノ 第1図
Claims (2)
- (1)高分子樹脂からなる光ディスク基板において、セ
ンターホールとリードインの間に内部歪を緩和する貫通
した切り欠きを設けたことを特徴とする光ディスク基板
。 - (2)上記基板がポリカーボネートである特許請求の範
囲第1項記載の光ディスク基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62251528A JPH0194549A (ja) | 1987-10-07 | 1987-10-07 | 光ディスク基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62251528A JPH0194549A (ja) | 1987-10-07 | 1987-10-07 | 光ディスク基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0194549A true JPH0194549A (ja) | 1989-04-13 |
Family
ID=17224150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62251528A Pending JPH0194549A (ja) | 1987-10-07 | 1987-10-07 | 光ディスク基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0194549A (ja) |
-
1987
- 1987-10-07 JP JP62251528A patent/JPH0194549A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2786360B2 (ja) | 光磁気ディスク | |
JP3477384B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JP3078145B2 (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH0194549A (ja) | 光ディスク基板 | |
JPH03173958A (ja) | 光磁気ディスク | |
US5757734A (en) | Magneto-optical recording medium and method for reproducing from same | |
JPS6334754A (ja) | 光磁気記録媒体の製造法 | |
JPH01276453A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
US5536589A (en) | Magneto-optical recording medium | |
JPH02103756A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JP3077848B2 (ja) | 光磁気記録媒体及び光磁気記録方法、光磁気再生方法 | |
JPS63316340A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JPH03105741A (ja) | 光磁気記録媒体用基板 | |
JPS63282942A (ja) | 光磁気記録用媒体及びその製造方法 | |
JPH02201755A (ja) | 透過型光磁気デイスク | |
JPS607634A (ja) | 光熱磁気記録媒体 | |
JPH02108254A (ja) | 光記録媒体 | |
JPS61210549A (ja) | 磁気光学記録媒体の製造方法 | |
JPH01253848A (ja) | 情報記録担体 | |
JPH08180485A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JPS5996713A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS63317945A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JPH0536134A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JPS6318544A (ja) | 光磁気メモリ用媒体 | |
EP0595547A2 (en) | Magneto-optical recording medium, and data recording and reproducing method using it |