JPH01319597A - Cleaning agent for buffing - Google Patents

Cleaning agent for buffing

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JPH01319597A
JPH01319597A JP63152275A JP15227588A JPH01319597A JP H01319597 A JPH01319597 A JP H01319597A JP 63152275 A JP63152275 A JP 63152275A JP 15227588 A JP15227588 A JP 15227588A JP H01319597 A JPH01319597 A JP H01319597A
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JP
Japan
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dichloro
cleaning agent
buffing
tetrafluoropropane
alcohol
Prior art date
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Pending
Application number
JP63152275A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akio Asano
浅野　昭雄
Naohiro Watanabe
渡辺　直洋
Kazuki Jinushi
地主　一樹
Shunichi Samejima
鮫島　俊一
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To obtain a cleaning agent containing a specific chlorofluorohydrocarbon as an active ingredient, having excellent effect for removing a polishing agent and exerting no bad influence on an article consisting of a metal, plastic, elastomer, etc., compared with 1,1,1-trichloroethane. CONSTITUTION:The aimed cleaning agent containing 3C chlorofluorohydrocarbon (preferable example; 1,1-dichloro-2,2,3,3-pentafluoropropane, 1,1,3-trichloro-2,2,3,3- tetrafluoropropane, 1-chloro-1,2,2,3,3-pentafluoropropane, 1,3-dichloro-2,2,3,3- tetrafluoropropane, 1,1-dichloro-1,2,2-trifluoropropane, 1,3-dichloro-2,2- difluoropropane or 1-chloro-2,2-difluoropropane) as an active ingredient, preferably at an amount of 10-40wt.% (especially 20-30wt.%).

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はバフ研磨剤を用いて研磨した金属部品等に付着
した研磨剤類を除去するために用いるバフ研磨洗浄剤に
関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a buffing cleaning agent used for removing abrasives adhering to metal parts etc. polished using a buffing agent.

［従来の技術］ 精密金属部品、装飾部品等のバフ研磨工程で研磨剤類が
使われるが、これらが付着したままでは製品とはならな
い場合が多い。従って、このような部品の仕上げ工程で
は有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。溶剤の種類と
しては１，１，１−ｈリクロルエタンが広く使われてい
る。[Prior Art] Abrasives are used in the buffing process of precision metal parts, decorative parts, etc., but in many cases, products cannot be produced if these remain attached. Therefore, in the finishing process of such parts, organic solvents are used for cleaning. As a type of solvent, 1,1,1-h-lichloroethane is widely used.

Ｃ発明が解決しようとする課題］ 本発明は従来使用されていた１、１，１−１−リクロル
エタンは地下水汚染の点から好ましくないため、その使
用量を抑えるべく　１，１，１−トリクロルエタンにか
わる新規のバフ研磨洗浄剤を提供することを目的とする
ものである。Problems to be Solved by the Invention] The present invention uses 1,1,1-trichloroethane to reduce the amount of 1,1,1-1-trichloroethane used, since it is undesirable from the standpoint of groundwater contamination. The object of the present invention is to provide a new buffing cleaning agent that can replace the conventional buffing cleaning agent.

［課題を解決するだめの手段］ 本発明は前述の目的を達成すべく成されたものであり炭
素数が３である塩化弗化炭化水素を有効成分として含有
するバフ研磨洗浄剤を提供するものである。[Means for Solving the Problems] The present invention has been made to achieve the above-mentioned object, and provides a buffing cleaning agent containing a chlorofluorinated hydrocarbon having 3 carbon atoms as an active ingredient. It is.

本発明の塩化弗化炭化水素としては１，１−ジクロロ−
２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパン（１）０
４５５°Ｃ）、１，３−ジクロロ−１，２，２，３，３
−ペンタフルオロプロパン（ｂ、ｐ、５２℃）　、　１
，１，３−１−シクロロー２．２．３．３−テトラフル
オロプロパン（ｂ、ｐ。The chlorofluorinated hydrocarbon of the present invention includes 1,1-dichloro-
2,2,3,3,3-pentafluoropropane (1) 0
455°C), 1,3-dichloro-1,2,2,3,3
-Pentafluoropropane (b, p, 52°C), 1
, 1,3-1-cyclo2.2.3.3-tetrafluoropropane (b, p.

９１，５°Ｃ）　、　　１，３．３−トリクロロ−１，
２，２，３−テトラフルオロプロパン（ｂ、ｐ、９０．
５℃）、１−クロロ−１，２，２，３，３−ペンタフル
オロプロパン［Ｌｌ、　ｐ、　４３．９℃）、１，３−
ジクロロ−２，２，３，３−テトラフルオロプロパン（
ｂ、ｐ、６８°Ｃ）、１−クロロ−２，２，３，３−テ
トラフルオロプロパン（ｂ、ｐ、５４℃）、１，１−シ
クリロ−１，２，２−トリフルオロプロパン（ｂ、ｐ、
　６０．２”Ｃ）、１，３−シクロロー２．２．−ジフ
ルオロプロパン（ｂ、ｐ、９６．７℃ｊ、１，１−シク
ロロー２．２．−ジフルオロプロパン（ｂ、　ｐ、　７
９°Ｃ）及び１−クロロ−２，２−ジフルオロプロパン
（ｂ、　ｐ、　５５．１℃）等の水素含有塩化弗化炭化
水素から選ばれる１種又は２種以上の混合物が好ましい
。91,5°C), 1,3.3-trichloro-1,
2,2,3-tetrafluoropropane (b, p, 90.
5°C), 1-chloro-1,2,2,3,3-pentafluoropropane [Ll, p, 43.9°C), 1,3-
Dichloro-2,2,3,3-tetrafluoropropane (
b, p, 68 °C), 1-chloro-2,2,3,3-tetrafluoropropane (b, p, 54 °C), 1,1-cyclo-1,2,2-trifluoropropane (b ,p,
60.2"C), 1,3-cyclo2,2.-difluoropropane (b, p, 96.7℃j, 1,1-cyclo2,2.-difluoropropane (b, p, 7
Preferably, one or a mixture of two or more hydrogen-containing chlorofluorohydrocarbons such as 9°C) and 1-chloro-2,2-difluoropropane (b, p, 55.1°C) are preferred.

本発明のバフ研磨洗浄剤には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。例えば、研磨
剤の除去効果を高めるために、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有
機溶剤から選ばれる少なくとも１種を含有させることが
できる。これらの有機溶剤のバフ研磨洗浄剤中の含有割
合は、０〜５０重１％、好ましくは］０〜４０重量％、
さらに好ましくは２０〜３０重量％である。本発明の塩
化弗化炭化水素類と有機溶剤との混合物に共沸組成が存
在する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。The buffing cleaning agent of the present invention can contain various other components depending on various purposes. For example, in order to enhance the removal effect of the abrasive, at least one kind selected from organic solvents such as hydrocarbons, alcohols, ketones, chlorinated hydrocarbons, or esters can be included. The content of these organic solvents in the buffing cleaning agent is 0 to 50% by weight, preferably 0 to 40% by weight,
More preferably, it is 20 to 30% by weight. When the mixture of the chlorofluorinated hydrocarbon and the organic solvent of the present invention has an azeotropic composition, it is preferable to use the azeotropic composition.

炭化水素類としては炭素数１〜１５の直鎖又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ンベンクン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２．２−ジメチルブタン、２．３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキ
サン、２．４−ジメチルベンクン、ｎ−オクタノ、２−
メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘ
キサン、３．３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−
二チルベンクン、３−メチル−３−エチルベンクン、２
．３．３−トリメチルペンタン、２．３．４−１−ジメ
チルベンクン、２，２．３−１−ジメチルベンクン、イ
ソオクタノ、ノナン、２．２．５−１−ジメチルヘキサ
ン、デカン、ドデンカン、１−ペンテン、２−ペンテン
、１−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセ
ン、シクロベンクン、メチルシクロベンクン、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン
、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジ
ペンテン、デカリン、テトラワン、アミジノ、アミルナ
フタレン等から選ばれるものである。より好ましくは、
ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−へ
ブタン等である。The hydrocarbons are preferably linear or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbons having 1 to 15 carbon atoms, such as n-pentane, inbencune, n-hexane, isohexane, 2-methylpentane, 2,2-dimethylbutane, 2.3-dimethylbutane, n-hebutane, isohebutane, 3-methylhexane, 2.4-dimethylbencune, n-octano, 2-
Methylhebutane, 3-methylhebutane, 4-methylhebutane, 2.2-dimethylhexane, 2.5-dimethylhexane, 3.3-dimethylhexane, 2-methyl-3-
Nithylbencune, 3-methyl-3-ethylbencune, 2
．． 3.3-trimethylpentane, 2.3.4-1-dimethylbencune, 2,2.3-1-dimethylbencune, isooctano, nonane, 2.2.5-1-dimethylhexane, decane, dodencane, 1-pentene, 2-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, cyclobencune, methylcyclobencune, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, bicyclohexane, cyclohexene, α-pinene, dipentene, It is selected from decalin, tetraone, amidino, amylnaphthalene, etc. More preferably,
These include n-pentane, n-hexane, cyclohexane, n-hebutane, and the like.

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｅ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ペンデルアルコール、５ｅｃ−アミルアルコ
ール、１−エチル−ｌ−プロパツール、２−メチル−１
−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペ
ンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオ
ペンデルアルコール、ｌ−ヘキサノール、２−メチル−
１−ペンクノール、４−メチル−２−ペンタノール、２
−エチル−１−ノナノール、１−ヘプタツール、２−ヘ
プタツール、３−ヘプタツール、１−オクタノール、２
−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、１−
ノナノール、３．５．５−トリメチル−１−ヘキザノー
ル、１−デカノール、１−ウンデカノール、１−ドデカ
ノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、
ベンジルアルコール、シクロヘキサノンル、１−メチル
シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、
３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキ
サノール、α−テルピネオール、アビエヂノール、２．
６−ジメチル−４−ヘプタツール、トリメチルノニルア
ルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアル
コール等から選ばれるものである。より好ましくはメタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール等である
。The alcohols are preferably linear or cyclic saturated or unsaturated alcohols having 1 to 17 carbon atoms, such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, 5ee-butyl alcohol, isobutyl alcohol, tert-butyl alcohol, pendel alcohol, 5ec-amyl alcohol, 1-ethyl-l-propatol, 2-methyl-1
-butanol, isopentyl alcohol, tert-pentyl alcohol, 3-methyl-2-butanol, neopendel alcohol, l-hexanol, 2-methyl-
1-penquinol, 4-methyl-2-pentanol, 2
-ethyl-1-nonanol, 1-heptatool, 2-heptatool, 3-heptatool, 1-octanol, 2
-octanol, 2-ethyl-1-hexanol, 1-
Nonanol, 3.5.5-trimethyl-1-hexanol, 1-decanol, 1-undecanol, 1-dodecanol, allyl alcohol, propargyl alcohol,
Benzyl alcohol, cyclohexanol, 1-methylcyclohexanol, 2-methylcyclohexanol,
3-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, α-terpineol, abiedinol, 2.
It is selected from 6-dimethyl-4-heptatool, trimethylnonyl alcohol, tetradecyl alcohol, heptadecyl alcohol, and the like. More preferred are methanol, ethanol, isopropyl alcohol and the like.

炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水素基）のいずれか
の一般式で示されるものが好ましく、アセトン、メチル
エチルケトン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、２−
ヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチルブチル
ケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチ
ルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、ホ
ロン、メチル−ｎ−アミルケトン、エチルブチルケトン
、メチルへキシルケトン、シクロヘキサノン、メチルシ
クロヘキサノン、イソホロン、２．４−ペンクンジオン
、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、フェンヂョ
ン等から選ばれるものである。より好ましくはアセトン
、メチルエチルケトン等である。A saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 9 carbon atoms) is preferably represented by the general formula of acetone, methyl ethyl ketone, 2-heptanone, 3-heptanone, 2-
Hexanone, methyl-n-butyl ketone, methyl butyl ketone, 2-heptanone, 4-heptanone, diisobutyl ketone, acetonylacetone, mesityl oxide, holon, methyl-n-amyl ketone, ethyl butyl ketone, methylhexyl ketone, cyclohexanone, methyl It is selected from cyclohexanone, isophorone, 2,4-pencundione, diacetone alcohol, acetophenone, fenzen, and the like. More preferred are acetone, methyl ethyl ketone and the like.

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１，１−ジクロルエタン、１，２−ジクロロ
エタン、１，１，１−１−ジクロルエタン、１，１，２
−　）ジクロルエタン、１，１，１，２−テトラクロル
エタン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペンク
クロルエタン、１，１−ジクロルエチレン、１，２−ジ
クロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエ
タン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化メ
チレン、１，１，！、−トリクロルエタン、トリクロル
エチレン、テトラクロルエチレン等である。The chlorinated hydrocarbons are preferably saturated or unsaturated chlorinated hydrocarbons having 1 to 2 carbon atoms, such as methylene chloride, carbon tetrachloride, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1, 1-1-dichloroethane, 1,1,2
-) Dichloroethane, 1,1,1,2-tetrachloroethane, 1,1,2.2-tetrachloroethane, penchlorethane, 1,1-dichloroethylene, 1,2-dichloroethylene, trichlorethylene , tetrachloroethane, etc. More preferably methylene chloride, 1,1,! , -trichloroethane, trichlorethylene, tetrachlorethylene, etc.

エステル類としては、次の−Ｒ９，式で示されるものが
好ましく、Ｒ，−ｃｏｏ−Ｒ２，ｒ＋、−ａ−ｒ＋３−
ｃｏｏ−Ｒ４゜！Ｒ５ Ｃ０ＯＲ。The esters are preferably those represented by the following formula -R9, R, -coo-R2,r+, -a-r+3-
coo-R4゜! R5 C0OR.

（ここでＲ，、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ，はＨ又は
ＯＨ又は炭素数１〜１９の飽和ないし、不飽和結合を有
する、炭化水素基。） 具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸５ｅｃ−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸インペンチル、３−メトキシブチルアセ
テート、酢酸５ｅｃ−ヘキシル、２−エチルブチルアセ
テート、２−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘ
キシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸インペ
ンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イ
ソペンチル、イソ酪酸イソブチル、２−ヒドロキシ−２
−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ス
テアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル
、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソペ
ンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エチル、アビ
エチン酸ベンジル、アジピン／酸ビスー２−エチルヘキ
シル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ酸
ジブチル、シュウ酸ジベンチル、マロン酸ジエチル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシ
ン酸ジブデル、セバシン酸ビス−２−エチルヘキシル、
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ビス−２−エチルヘキシル、フタル酸ジオ
クチル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メ
チル、酢酸エチル等である。(Here, R,, R2, R3, R4, R5, and R are H, OH, or a hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms and having a saturated or unsaturated bond.) Specifically, methyl formate, formic acid ethyl, propyl formate,
Butyl formate, isobutyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, 5ec-butyl acetate, pentyl acetate, impentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 5ec-hexyl acetate, 2-ethyl butyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, cyclohexyl acetate, benzyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, inpentyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, isopentyl butyrate, isobutyl isobutyrate, 2-hydroxy-2
- Ethyl methylpropionate, butyl stearate, pentyl stearate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, butyl benzoate, isopentyl benzoate, benzyl benzoate, ethyl abietate, benzyl abietate, adipine/bisulfuric acid 2-ethylhexyl, γ-butyrolact, diethyl oxalate, dibutyl oxalate, dibentyl oxalate, diethyl malonate, dimethyl maleate, diethyl maleate, dibutyl maleate, dibutyl tartrate, tributyl citrate, dibdel sebacate, bis sebacate -2-ethylhexyl,
Some are selected from dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, bis-2-ethylhexyl phthalate, dioctyl phthalate, and the like. More preferred are methyl acetate, ethyl acetate and the like.

本発明のバフ研磨洗浄剤には、各種の洗浄助剤、水、界
面活性剤、安定剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少
ない水素含有塩素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混
合してもよい。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプ
レー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用
することができる。The buffing cleaning agent of the present invention may further contain various cleaning aids, water, surfactants, stabilizers, or hydrogen-containing chlorinated fluorinated hydrocarbons that have little effect on ozone destruction. As the cleaning method, usual methods such as hand wiping, dipping, spraying, shaking, ultrasonic cleaning, and steam cleaning can be used.

［実施例］ 実施例１〜１６ 下記第１表に示すバフ研磨洗浄剤を用いて研磨剤の除去
試験を行なった。[Examples] Examples 1 to 16 An abrasive removal test was conducted using the buffing cleaning agents shown in Table 1 below.

腕時計のフレームをバフ研磨剤（ＧＳ−１，創研工業■
製）で研磨後、バフ研磨洗浄剤に浸漬し、３分間超音波
をかけた後、これを取り出し研磨剤の除去状況を観察し
た。その結果を第１表に示す。Buffing agent for watch frames (GS-1, Soken Kogyo■
After polishing with a buff polishing agent (manufactured by J.D.), the specimen was immersed in a buffing cleaning agent, subjected to ultrasonic waves for 3 minutes, and then taken out to observe the removal of the polishing agent. The results are shown in Table 1.

第１表 （）内は混合比［重量％］ Ｏ：良好に除去できる　　　　○：はぼ良好△：微量残
存　　　　　　　　×：かなり残存［発明の効果］ 本発明のバフ研磨洗浄剤は実施例がら明らがなように研
磨剤の除去効果の優れたものである。Table 1 () shows the mixing ratio [wt%] O: Good removal ○: Good △: Trace amount remaining It has an excellent abrasive removal effect.

又、従来使用されていた１、１，１−１−リクロルエタ
ンに比べ、金属、プラスチック及びエラストマー等から
成る研磨剤を除去すべき物品に悪影響を与えることが少
ない点で有利である。Furthermore, compared to the conventionally used 1,1,1-1-lichloroethane, it is advantageous in that the abrasive agent made of metals, plastics, elastomers, etc. has less adverse effect on the articles to be removed.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）炭素数が３である塩化弗化炭化水素を有効成分と
して含有するバフ研磨洗浄剤。(1) A buffing cleaning agent containing a chlorofluorinated hydrocarbon having 3 carbon atoms as an active ingredient. （２）塩化弗化炭化水素が１，１−ジクロロ−２，２，
３，３，３−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロ
ロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン、１
，１，３−トリクロロ−２，２，３，３−テトラフルオ
ロプロパン、１，３，３−トリクロロ−１，２，２，３
−テトラフルオロプロパン、１−クロロ−１，２，２，
３，３−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ−
２，２，３，３−テトラフルオロプロパン、１−クロロ
−２，２，３，３−テトラフルオロプロパン、１，１−
ジクロロ−１，２，２−トリフルオロプロパン、１，３
−ジクロロ−２，２，−ジフルオロプロパン、１，１−
ジクロロ−２，２，−ジフルオロプロパン、１−クロロ
−２，２，−ジフルオロプロパンである請求項１記載の
バフ研磨洗浄剤。(2) Chlorofluorinated hydrocarbon is 1,1-dichloro-2,2,
3,3,3-pentafluoropropane, 1,3-dichloro-1,2,2,3,3-pentafluoropropane, 1
, 1,3-trichloro-2,2,3,3-tetrafluoropropane, 1,3,3-trichloro-1,2,2,3
-tetrafluoropropane, 1-chloro-1,2,2,
3,3-pentafluoropropane, 1,3-dichloro-
2,2,3,3-tetrafluoropropane, 1-chloro-2,2,3,3-tetrafluoropropane, 1,1-
dichloro-1,2,2-trifluoropropane, 1,3
-dichloro-2,2,-difluoropropane, 1,1-
The buffing cleaning agent according to claim 1, which is dichloro-2,2,-difluoropropane or 1-chloro-2,2,-difluoropropane. （３）バフ研磨洗浄剤中には、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類から選
ばれる少なくとも１種が含まれている請求項１記載のバ
フ研磨洗浄剤。(3) The buffing cleaning agent according to claim 1, wherein the buffing cleaning agent contains at least one selected from hydrocarbons, alcohols, ketones, chlorinated hydrocarbons, and esters.
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