JPH01303482A - 多層ホログラム膜形成方法 - Google Patents
多層ホログラム膜形成方法Info
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- JPH01303482A JPH01303482A JP13466088A JP13466088A JPH01303482A JP H01303482 A JPH01303482 A JP H01303482A JP 13466088 A JP13466088 A JP 13466088A JP 13466088 A JP13466088 A JP 13466088A JP H01303482 A JPH01303482 A JP H01303482A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2250/00—Laminate comprising a hologram layer
- G03H2250/12—Special arrangement of layers
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
ホログラフィ分野における多層ホログラム膜の形成方法
に関し、 効率的な方法による士卒性向上を目的とし、平滑な透明
基板表面に感光剤を被膜形成した後、該感光剤被膜形成
面に二光束の光をそれぞれ所定の入射角で投射し、所定
の化学処理によって該透明基板面上に体積型ホログラム
膜あるいは表面レリーフ型ホログラム膜を生成するホロ
グラム膜形成方法において、上記透明基板上の体積型ホ
ログラム膜生成面を保護膜で被覆した後、該保護膜被覆
面を含む平滑面に、所要の表面レリーフ型ホログラム膜
を形成したホログラムの該表面レリーフ型ホログラム膜
面をフォトポリマ法で押圧転写して構成する。
に関し、 効率的な方法による士卒性向上を目的とし、平滑な透明
基板表面に感光剤を被膜形成した後、該感光剤被膜形成
面に二光束の光をそれぞれ所定の入射角で投射し、所定
の化学処理によって該透明基板面上に体積型ホログラム
膜あるいは表面レリーフ型ホログラム膜を生成するホロ
グラム膜形成方法において、上記透明基板上の体積型ホ
ログラム膜生成面を保護膜で被覆した後、該保護膜被覆
面を含む平滑面に、所要の表面レリーフ型ホログラム膜
を形成したホログラムの該表面レリーフ型ホログラム膜
面をフォトポリマ法で押圧転写して構成する。
本発明はホログラフィ分野における多層ホログラム膜の
形成方法に係り、特に効率的な方法による生産性の向上
を図った多層ホログラム膜形成方法に関する。
形成方法に係り、特に効率的な方法による生産性の向上
を図った多層ホログラム膜形成方法に関する。
近年のホログラフィ分野では、感光剤が被着形成されて
いる透明基板の該感光剤表面に二光束の例えばレーザ光
をそれぞれ所定の入射角で投射し、該感光剤の層中に屈
折率の差による干渉縞を発生させるホログラム膜の形成
方法として、例えば表面が平滑な体積型や表面に凹凸を
有する表面レリーフ型が実用化されている。
いる透明基板の該感光剤表面に二光束の例えばレーザ光
をそれぞれ所定の入射角で投射し、該感光剤の層中に屈
折率の差による干渉縞を発生させるホログラム膜の形成
方法として、例えば表面が平滑な体積型や表面に凹凸を
有する表面レリーフ型が実用化されている。
しかし最近では用途の拡大に伴って該ホログラム膜の複
層化要求が多くなっており、特性的に低下させることな
く効率的に多層ホログラム膜が形成できる方法の開発が
強く望まれている。
層化要求が多くなっており、特性的に低下させることな
く効率的に多層ホログラム膜が形成できる方法の開発が
強く望まれている。
第2圓はホログラム膜の形成を説明する図であり、(A
)は体積型をまた(B)は表面レリーフ型を示している
。
)は体積型をまた(B)は表面レリーフ型を示している
。
また第3図は従来の多層ホログラム膜の形成方法例を示
す図である。
す図である。
第2図(A)の(イ)で、所要の厚さを有する例えばガ
ラス等よりなる透明基板11ま、その片側表面には例え
ばゼラチンにil (Ag)を混入させた銀塩の如き感
光剤2を数μm程度の厚さに被着形成し、他面には投射
光を完全に吸収させてノイズの発生を防くためのバック
コート膜3を被着して構成している。
ラス等よりなる透明基板11ま、その片側表面には例え
ばゼラチンにil (Ag)を混入させた銀塩の如き感
光剤2を数μm程度の厚さに被着形成し、他面には投射
光を完全に吸収させてノイズの発生を防くためのバック
コート膜3を被着して構成している。
図の4,4′はレーザ光を示しているが、特にレーザ光
4は入射角αで上記感光剤2の表面を投射する平行光で
ありまた4°は入射角βで投射する発散球面波である。
4は入射角αで上記感光剤2の表面を投射する平行光で
ありまた4°は入射角βで投射する発散球面波である。
ここで上記レーザ光4.4“を該感光剤2の表面に照射
した後通常の方法で(ロ)に示す現像・定着工程5を行
う。
した後通常の方法で(ロ)に示す現像・定着工程5を行
う。
この際上記の感光剤2の部分には、(ハ)に示す如く厚
さ方向で垂直軸に対してγの傾きを持って屈折率の異な
る層が交互に存在するホログラム膜2′が形成される。
さ方向で垂直軸に対してγの傾きを持って屈折率の異な
る層が交互に存在するホログラム膜2′が形成される。
すなわち図では、例えば2aで示す部分が屈折率の大き
い部分でありまた2bで示す部分が屈折率の小さい部分
である。
い部分でありまた2bで示す部分が屈折率の小さい部分
である。
しかる後に上記のハックコート膜3を除去して(ニ)に
示す如くホログラム6の形成を完了させている。
示す如くホログラム6の形成を完了させている。
なおこの体積型ホログラム6の場合には、表面が平滑な
るため扱いが容易であると共に積層化し易いと云う長所
がある。
るため扱いが容易であると共に積層化し易いと云う長所
がある。
また第2図(B)の場合には、図(A)の(イ)におけ
る銀塩等の感光剤2の代わりに通常のフォトレジスト7
を数μmの厚さに被着形成している。
る銀塩等の感光剤2の代わりに通常のフォトレジスト7
を数μmの厚さに被着形成している。
ここで図(A)の場合と同様のレーザ光4,4′を照射
した後(ロ)に示す現像・定着工程5を行う。
した後(ロ)に示す現像・定着工程5を行う。
この際上記のフォトレジスト7の部分には、(ハ)に示
す如くその厚さ方向で垂直軸に対して図(^)の場合と
ほぼ同じ条件のTの方向に傾いた波形状の凹凸を持つホ
ログラム膜7”が形成される。
す如くその厚さ方向で垂直軸に対して図(^)の場合と
ほぼ同じ条件のTの方向に傾いた波形状の凹凸を持つホ
ログラム膜7”が形成される。
なお図の溝深さhは露光および現像の条件によって決定
されるものであり、この波形状の凹凸を持つホログラム
膜7′が図(A)の場合のホログラム膜2゛と同等の効
果を7している。
されるものであり、この波形状の凹凸を持つホログラム
膜7′が図(A)の場合のホログラム膜2゛と同等の効
果を7している。
その後、バックコート膜3を除去してホログラム8の形
成を完了させることは図(八)の場合と同様である。
成を完了させることは図(八)の場合と同様である。
なお(B)の表面レリーフ型のホログラム8は、通常の
転写技術によってフォトポリマ被膜上に複製する(一般
にフォトポリマ法と称する)ことができると云う長所が
ある。
転写技術によってフォトポリマ被膜上に複製する(一般
にフォトポリマ法と称する)ことができると云う長所が
ある。
従来のホログラム膜の多層化を示す第3図で、(A)は
別々に形成した体積型ホログラムを2個対向させて接着
したものを、(B)はホログラム膜のみを積層したもの
である。
別々に形成した体積型ホログラムを2個対向させて接着
したものを、(B)はホログラム膜のみを積層したもの
である。
なお図では理解し易くするために二層化の場合について
説明している。
説明している。
図(A)では、第1図(A)と同様の方法で透明基板1
の表面にはホログラム膜2“がまだ透明基板1aの表面
にホログラム膜2a”がそれぞれ形成された2個のホロ
グラム6.6“を、そのボロダラム膜面を対向させて透
明な接着剤9で接着固定している。
の表面にはホログラム膜2“がまだ透明基板1aの表面
にホログラム膜2a”がそれぞれ形成された2個のホロ
グラム6.6“を、そのボロダラム膜面を対向させて透
明な接着剤9で接着固定している。
この場合には、それぞれのホログラムを別々に形成して
いるため接着後の特性に変化を生ずることがない。
いるため接着後の特性に変化を生ずることがない。
しかし、透明基板1が2個必要であるため嵩張ると共に
価格がアップしまた接着工程を必要とする。
価格がアップしまた接着工程を必要とする。
図(B)の場合では、完成しているホログラム6のホロ
グラム膜2′の表面に該ホログラム膜2゛の保護膜10
を被着形成し、更にその表面に数μm位の厚さの銀塩等
よりなる感光剤2を被着形成している。
グラム膜2′の表面に該ホログラム膜2゛の保護膜10
を被着形成し、更にその表面に数μm位の厚さの銀塩等
よりなる感光剤2を被着形成している。
次いで第2図で説明した如くに、二光束のレーザ光4.
4°をその表面に投射して該感光剤2の層に二層目のホ
ログラム膜を形成させるようにしている。
4°をその表面に投射して該感光剤2の層に二層目のホ
ログラム膜を形成させるようにしている。
しかしこのレーザ光を投射する際に、該レーザ光の一部
が図示4a、 4a″の如くに一層目のホログラム膜2
“表面で反射して二層目の感光剤2の層中に逆戻りし、
これらの反射光4a、 4a“が!!続して入射するレ
ーザ光4.4“と相互に干渉し合うことから正常な二層
目ホログラム膜2“の形成ができず、それがノイズとな
って二層目のホログラム膜の特性を低下させる場合があ
る。
が図示4a、 4a″の如くに一層目のホログラム膜2
“表面で反射して二層目の感光剤2の層中に逆戻りし、
これらの反射光4a、 4a“が!!続して入射するレ
ーザ光4.4“と相互に干渉し合うことから正常な二層
目ホログラム膜2“の形成ができず、それがノイズとな
って二層目のホログラム膜の特性を低下させる場合があ
る。
(発明が解決しようとする課題]
従来の多層ホログラム形成方法で、別々に形成したホロ
グラムを相互に接着して構成する場合には基板コストと
接着工数が生産性を阻害すると共にホログラム自体が嵩
張ると云う問題があり、また−層目のホログラム膜を形
成した後その表面に更に所要のホログラム膜を形成する
場合には二層目のホログラム膜の特性を低下させると云
う問題があった。
グラムを相互に接着して構成する場合には基板コストと
接着工数が生産性を阻害すると共にホログラム自体が嵩
張ると云う問題があり、また−層目のホログラム膜を形
成した後その表面に更に所要のホログラム膜を形成する
場合には二層目のホログラム膜の特性を低下させると云
う問題があった。
上記問題点は、平滑な透明基板表面に感光剤を被膜形成
した後、該感光剤被膜形成面に二光束の光をそれぞれ所
定の入射角で投射し、所定の化学処理によって該透明基
板面上に体積型ホログラム膜あるいは表面レリーフ型ホ
ログラム膜を生成するホログラム形成方法において、 上記透明基板上の体積型ホログラム膜生成面を保護膜で
被覆した後、 該保護膜被覆面を含む平滑面に、所要の表面レリーフ型
ホログラム膜を形成したホログラムの該表面レリーフ型
ホログラム膜面をフォトポリマ法で押圧転写する多層ホ
ログラム形成方法によって解決される。
した後、該感光剤被膜形成面に二光束の光をそれぞれ所
定の入射角で投射し、所定の化学処理によって該透明基
板面上に体積型ホログラム膜あるいは表面レリーフ型ホ
ログラム膜を生成するホログラム形成方法において、 上記透明基板上の体積型ホログラム膜生成面を保護膜で
被覆した後、 該保護膜被覆面を含む平滑面に、所要の表面レリーフ型
ホログラム膜を形成したホログラムの該表面レリーフ型
ホログラム膜面をフォトポリマ法で押圧転写する多層ホ
ログラム形成方法によって解決される。
既に形成されている体積型ホログラム膜に重ねてホログ
ラム膜を形成する場合、後から積層するホログラム膜の
ノイズによる特性低下を防くには、露光によって生ずる
形成済ホログラム膜表面からの反射光の発生をなくすこ
とが必要である。
ラム膜を形成する場合、後から積層するホログラム膜の
ノイズによる特性低下を防くには、露光によって生ずる
形成済ホログラム膜表面からの反射光の発生をなくすこ
とが必要である。
本発明では、形成済のホログラム膜の表面に重ねて形成
する二層目のホログラム膜を、露光の必要がなく転写に
よって形成可能な表面レリーフ型ホログラム膜で構成す
ることによって二層目のホログラム膜の特性の低下を防
止している。
する二層目のホログラム膜を、露光の必要がなく転写に
よって形成可能な表面レリーフ型ホログラム膜で構成す
ることによって二層目のホログラム膜の特性の低下を防
止している。
従って、透明基板の両面を含めて最高三層までのホログ
ラム膜を特性を落とすことなく効率的に且つ生産性よく
形成することができる。
ラム膜を特性を落とすことなく効率的に且つ生産性よく
形成することができる。
第1図は本発明になる多層ホログラム形成方法の一例を
示す図であり、(A)は工程を示しまた(B)は他の実
施例を示した図である。
示す図であり、(A)は工程を示しまた(B)は他の実
施例を示した図である。
図(A)で、(イ)に示す6は第2図(A)におけるホ
ログラムと同等のものであり、透明基板1の片側表面に
はホログラム膜2°が既に形成されている。
ログラムと同等のものであり、透明基板1の片側表面に
はホログラム膜2°が既に形成されている。
ここで該ホログラム膜2°の表面に第3図(B)で説明
した保護膜10ならびに数μm位の厚さのフォトポリマ
11を被着して(ロ)に示す状態とする。
した保護膜10ならびに数μm位の厚さのフォトポリマ
11を被着して(ロ)に示す状態とする。
次いで第2図(B) と同様の方法で所要のホログラム
膜12“を備えた表面レリーフ型ホログラム12を形成
した後、(ハ)に示す如く該ホログラム膜12゛を原盤
として上記フォトポリマ11の表面に通常の方法で転写
して該フォトポリマ11の表面に所要のホログラム膜l
ビを形成して(ニ)に示す状態としている。
膜12“を備えた表面レリーフ型ホログラム12を形成
した後、(ハ)に示す如く該ホログラム膜12゛を原盤
として上記フォトポリマ11の表面に通常の方法で転写
して該フォトポリマ11の表面に所要のホログラム膜l
ビを形成して(ニ)に示す状態としている。
この場合、−層目のホログラム膜2°に重ねて二層目の
ホログラム膜11“を形成する際に、レーザ光の露光を
必要としないため一層目のホログラム膜2°表面からの
反射光がなく従って二層目のホログラム膜11“の特性
を低下させることがない。
ホログラム膜11“を形成する際に、レーザ光の露光を
必要としないため一層目のホログラム膜2°表面からの
反射光がなく従って二層目のホログラム膜11“の特性
を低下させることがない。
図(B)は透明基板1の片面には図(A)と同様の方法
で二層のホログラム膜2“、11“を形成し、他面には
直接上記の転写方法によってホログラム膜11パを形成
したものである。
で二層のホログラム膜2“、11“を形成し、他面には
直接上記の転写方法によってホログラム膜11パを形成
したものである。
この場合には、1個の透明基板1上に三層のホログラム
膜の形成を可能としている。
膜の形成を可能としている。
上述の如く本発明によれば、1個の基板上にホログラム
としての特性を低下させることなく三層までのホログラ
ム膜が効率よく形成できる多層ホログラム膜形成方法を
提供することができる。
としての特性を低下させることなく三層までのホログラ
ム膜が効率よく形成できる多層ホログラム膜形成方法を
提供することができる。
第1図は本発明になる多層ホログラム膜形成方法の一例
を示す図、 第2図はホログラム膜の形成を説明する図、第3図は従
来の多層ホログラム膜の形成方法例を示す図、 である。図において、 1は透明基板、 2゛はホログラム膜、6はホロ
グラム、 1oは保護膜、11はフォトポリマ、
11’はホログラム膜、11″はホログラム膜、 12は表面レリーフ型ホログラム、 12′はホログラム膜、 をそれぞれ表わす。 (A) CB) 71≦・全g月l二な394オ、0クラA横形仄方法の
−ej2水丁図31 図 (A)(&) 才、ログラZ浬鉢の子方(舖先朗する図15 2
図
を示す図、 第2図はホログラム膜の形成を説明する図、第3図は従
来の多層ホログラム膜の形成方法例を示す図、 である。図において、 1は透明基板、 2゛はホログラム膜、6はホロ
グラム、 1oは保護膜、11はフォトポリマ、
11’はホログラム膜、11″はホログラム膜、 12は表面レリーフ型ホログラム、 12′はホログラム膜、 をそれぞれ表わす。 (A) CB) 71≦・全g月l二な394オ、0クラA横形仄方法の
−ej2水丁図31 図 (A)(&) 才、ログラZ浬鉢の子方(舖先朗する図15 2
図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 平滑な透明基板表面に感光剤を被膜形成した後、該感光
剤被膜形成面に二光束の光をそれぞれ所定の入射角で投
射し、所定の化学処理によって該透明基板面上に体積型
ホログラム膜あるいは表面レリーフ型ホログラム膜を生
成するホログラム膜形成方法において、 上記透明基板上の体積型ホログラム膜生成面を保護膜で
被覆した後、 該保護膜被覆面を含む平滑面に、所要の表面レリーフ型
ホログラム膜を形成したホログラムの該表面レリーフ型
ホログラム膜面をフォトポリマ法で押圧転写することを
特徴とする多層ホログラム膜形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13466088A JPH01303482A (ja) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | 多層ホログラム膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13466088A JPH01303482A (ja) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | 多層ホログラム膜形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01303482A true JPH01303482A (ja) | 1989-12-07 |
Family
ID=15133579
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13466088A Pending JPH01303482A (ja) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | 多層ホログラム膜形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01303482A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011253192A (ja) * | 2002-04-03 | 2011-12-15 | De La Rue Internatl Ltd | 光学的に可変のセキュリティ・デバイス及び方法 |
JP2013242601A (ja) * | 2002-04-03 | 2013-12-05 | De La Rue Internatl Ltd | 光学的に可変のセキュリティ・デバイス及び方法 |
WO2020218106A1 (ja) * | 2019-04-23 | 2020-10-29 | 株式会社小糸製作所 | 光学素子および光源装置 |
-
1988
- 1988-06-01 JP JP13466088A patent/JPH01303482A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011253192A (ja) * | 2002-04-03 | 2011-12-15 | De La Rue Internatl Ltd | 光学的に可変のセキュリティ・デバイス及び方法 |
JP2013242601A (ja) * | 2002-04-03 | 2013-12-05 | De La Rue Internatl Ltd | 光学的に可変のセキュリティ・デバイス及び方法 |
WO2020218106A1 (ja) * | 2019-04-23 | 2020-10-29 | 株式会社小糸製作所 | 光学素子および光源装置 |
JP2020181005A (ja) * | 2019-04-23 | 2020-11-05 | 株式会社小糸製作所 | 光学素子および光源装置 |
CN113544556A (zh) * | 2019-04-23 | 2021-10-22 | 株式会社小糸制作所 | 光学元件和光源装置 |
CN113544556B (zh) * | 2019-04-23 | 2023-08-25 | 株式会社小糸制作所 | 光学元件和光源装置 |
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