JPH01287275A - 連続真空蒸着装置 - Google Patents
連続真空蒸着装置Info
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- JPH01287275A JPH01287275A JP63113469A JP11346988A JPH01287275A JP H01287275 A JPH01287275 A JP H01287275A JP 63113469 A JP63113469 A JP 63113469A JP 11346988 A JP11346988 A JP 11346988A JP H01287275 A JPH01287275 A JP H01287275A
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- roll
- sealing
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- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 6
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 5
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 abstract description 7
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、グラスチックフィルム、紙寺の用撓件のある
走行基板に連続的に真空蒸着する装置に関し、符に好ま
しいシール装置金偏えた上記装置に関する。
走行基板に連続的に真空蒸着する装置に関し、符に好ま
しいシール装置金偏えた上記装置に関する。
従来は、グラスチックフィルム、紙寺に対する真空蒸着
はバッチ方式で行なわれていたため、連続真空シール装
置は知られていない。ここでは参考として鋼板を対象と
した連続真空シール装置を第６図に示す。
はバッチ方式で行なわれていたため、連続真空シール装
置は知られていない。ここでは参考として鋼板を対象と
した連続真空シール装置を第６図に示す。
第６図において、１は走行基板、２ａ、２ｂ。
２ ｃ 、−は入１μｍ１シールロール、３ａ 、 ３
ｂ 、 ３ｃ 。
ｂ 、 ３ｃ 。
・・・ｉｄ 出ｌ１１１１シールロール、４ａ、４ｂ、
４ｃ、・・・ハ兵空ボング、５は蒸着装置、６ａ、６ｂ
、６ｃ、・・・は圧力室、７は蒸着室、８はデフレクタ
−ロール、９は巻付ロールである。
４ｃ、・・・ハ兵空ボング、５は蒸着装置、６ａ、６ｂ
、６ｃ、・・・は圧力室、７は蒸着室、８はデフレクタ
−ロール、９は巻付ロールである。
走行基板１は、一対のピンチロールで構成されたシール
ロール２ａ、２ｂ、２ｃ、・・・で仕切られた圧力室６
ａ 、 ６ｂ、 ６ｃ 、・・・を経て、ノブ「定の真
空度に保たれた蒸着室７に達し、該蒸着室７内で蒸着装
置５によって蒸着めっきされた後、出側シールロール３
２Ｌ、３ｂ、３ｃ、゛・全経て、大気中へ搬出される。
ロール２ａ、２ｂ、２ｃ、・・・で仕切られた圧力室６
ａ 、 ６ｂ、 ６ｃ 、・・・を経て、ノブ「定の真
空度に保たれた蒸着室７に達し、該蒸着室７内で蒸着装
置５によって蒸着めっきされた後、出側シールロール３
２Ｌ、３ｂ、３ｃ、゛・全経て、大気中へ搬出される。
各シールロールの詳ａを第７図ｔＡＩと、第７回内のｍ
−ｍ線断面矢視図である第７図（Ｂｌに示す。
−ｍ線断面矢視図である第７図（Ｂｌに示す。
第７図ＦＡｌ ｌ ＣＢ＋において、１１．１２は一対
のピンチロール、１４はシールパー、１６はケーシング
、１７は上流側圧力室、１８は下流側圧力室、＋９ａ、
１９ｂ、１９ｃ はリーク隙間、すなわち１９ａはピ
ンチロール１１とシールパー１４との隙間、１９ｂはピ
ンチロール１１の軸端とケーシング１６との隙間、１９
Ｃはピンチロール１１及び１２の間で走行基板１が存在
していない部分の隙間である。
のピンチロール、１４はシールパー、１６はケーシング
、１７は上流側圧力室、１８は下流側圧力室、＋９ａ、
１９ｂ、１９ｃ はリーク隙間、すなわち１９ａはピ
ンチロール１１とシールパー１４との隙間、１９ｂはピ
ンチロール１１の軸端とケーシング１６との隙間、１９
Ｃはピンチロール１１及び１２の間で走行基板１が存在
していない部分の隙間である。
上流側圧力室１７と下ｉｔ １ｔｌｌ圧力室１８とはピ
ンチロール１１．１２及びシールパー１４とで仕切られ
、上記の僅かなリーク隙間＋ ９ａ 、 ｊ９ｂ。
ンチロール１１．１２及びシールパー１４とで仕切られ
、上記の僅かなリーク隙間＋ ９ａ 、 ｊ９ｂ。
１９Ｃ’ｅ）Ｍｉって上流側から下流側へガスが１ｆｉ
Ｑれる。
Ｑれる。
第６図及び第７図にン罫したような従来の構成の真空シ
ール装置ではリーク隙間＋９ａ〜１９Ｃ１ＩｌＩＩ核を
小さくして、下流側から下流側−・流れるガス流賞盆小
さくすることか、Ａ窒ボング４ａ。
ール装置ではリーク隙間＋９ａ〜１９Ｃ１ＩｌＩＩ核を
小さくして、下流側から下流側−・流れるガス流賞盆小
さくすることか、Ａ窒ボング４ａ。
４ｂ 、 ４ｃ・・・の容量を小さく抑えるために必妙
である。
である。
しかしながら、回転するピンチロール１１゜１２と固定
されたシールパー１４あるいはり一一シング１６との曲
の隙間は接触防止のため成る一定値以上小さくすること
かできず、リーク隙間曲損を小さくするには限界があっ
た。
されたシールパー１４あるいはり一一シング１６との曲
の隙間は接触防止のため成る一定値以上小さくすること
かできず、リーク隙間曲損を小さくするには限界があっ
た。
１だ、リーク隙間をガスが流れるときりこ走行基板１の
ばたつきが発生し、走行基板１のしわの発生、走行基板
１の切断につながる虞れが強かった。
ばたつきが発生し、走行基板１のしわの発生、走行基板
１の切断につながる虞れが強かった。
本発明は、リーク隙間面ｆｆｔ’ｒ極力小さくし、この
隙間へガスが流れるのを極力抑えて、上記した走行基板
のばたつき寺が発生しないシール装置を備えた連続真空
蒸着装隨全提案することを目的とする。
隙間へガスが流れるのを極力抑えて、上記した走行基板
のばたつき寺が発生しないシール装置を備えた連続真空
蒸着装隨全提案することを目的とする。
本発明は、上記問題点を、走行基板全連続的に大気中か
ら真空室に導き、該真空室にて該走行基板に−Ａ空蒸庸
を施した後、大気中に搬出する連続真空蒸着装置におい
て、 （１）大気からＭｌｌ記章空室１全シールロールによっ
て複数の圧力室に区切り、各シールロールは３本１組の
ピンチロールによって構成さぺかつ前記走行基板が該シ
ールロールに対して巻付角１０度以上で奉伺くようにし
てなるか、あるいは（２）大気から前記真空室までをシ
ール装置によって複数の圧力室に区分し、各シール装置
は、１本のシールロールおよび該シールロールの両側に
設置されたシールパーから構成され、かつ該シールロー
ルの両側に前記走行基板がそれぞれ巻付角１０度以上で
巻付くようにしてなることを％徴とする連続真空蒸着装
置によｐ解決するものである。
ら真空室に導き、該真空室にて該走行基板に−Ａ空蒸庸
を施した後、大気中に搬出する連続真空蒸着装置におい
て、 （１）大気からＭｌｌ記章空室１全シールロールによっ
て複数の圧力室に区切り、各シールロールは３本１組の
ピンチロールによって構成さぺかつ前記走行基板が該シ
ールロールに対して巻付角１０度以上で奉伺くようにし
てなるか、あるいは（２）大気から前記真空室までをシ
ール装置によって複数の圧力室に区分し、各シール装置
は、１本のシールロールおよび該シールロールの両側に
設置されたシールパーから構成され、かつ該シールロー
ルの両側に前記走行基板がそれぞれ巻付角１０度以上で
巻付くようにしてなることを％徴とする連続真空蒸着装
置によｐ解決するものである。
本発明は、上流側シールロールと下流側シールロール全
一体化し、シールロールの本ａ全減らしたことによって
、合計のシール隙間の箇所が減るので、構造的にシール
隙間面積が減少する。従って、シール性能が向上し、真
空ポンプ容量が低減する。
一体化し、シールロールの本ａ全減らしたことによって
、合計のシール隙間の箇所が減るので、構造的にシール
隙間面積が減少する。従って、シール性能が向上し、真
空ポンプ容量が低減する。
また本発明は、シールロールに走行基板を巻付けるため
、リークガス流れの影響の大きいシールロール付近での
走行基板のばたつきが発生しない。
、リークガス流れの影響の大きいシールロール付近での
走行基板のばたつきが発生しない。
第１図及び第２図（Ａｌ ｌ ＣＢ＋は本発明装置の一
例をン廖す図である。
例をン廖す図である。
第１図は全体説明図、第２回置は第１図の一部詳細図、
第２図ｔＢｌは第２回置の１−１線断面矢視図である。
第２図ｔＢｌは第２回置の１−１線断面矢視図である。
第１図において、第６，７図と同一符号は第６，７図と
同一部全７ハし、２’ａ、 ２’ｂ、 ２’ｃ −は
３本−組のピンチロールで構成されるシールロールであ
り、入側シールロール及び出側シールロール全兼ねてい
る。
同一部全７ハし、２’ａ、 ２’ｂ、 ２’ｃ −は
３本−組のピンチロールで構成されるシールロールであ
り、入側シールロール及び出側シールロール全兼ねてい
る。
これらのシールロールは、第２図囚、（Ｂ）に示すよう
に、６本−組のピンチロール１１’、＋２’。
に、６本−組のピンチロール１１’、＋２’。
１３′で構成され、ピンチロール１１′と１６′が図示
しない駆動装置で回転駆動される。このように６本−組
のビチロールからなるシールロールＶＣよれば、合計の
リーク隙間＋９ａ〜ｊ９ｃの′爾ル「が従来の構造に比
べて減少するため、構造的にリーク隙間面積の合計（１
［１を低減することができ、シール性能が向上する。
しない駆動装置で回転駆動される。このように６本−組
のビチロールからなるシールロールＶＣよれば、合計の
リーク隙間＋９ａ〜ｊ９ｃの′爾ル「が従来の構造に比
べて減少するため、構造的にリーク隙間面積の合計（１
［１を低減することができ、シール性能が向上する。
また、第１図に示すように、各シールロール間（すなわ
ち各圧力室６ａ、６ｂ、６ｃ・・・内）に設けられたガ
イドロール２０ａ、２［］ｂ、２０ｃ・・・に工り走行
基板１のシールロールへの巻付角が一定以上を確保して
おり、万一リークガスが発生してもリークガスＶこよる
走行基板１のばたつきは極く少い。
ち各圧力室６ａ、６ｂ、６ｃ・・・内）に設けられたガ
イドロール２０ａ、２［］ｂ、２０ｃ・・・に工り走行
基板１のシールロールへの巻付角が一定以上を確保して
おり、万一リークガスが発生してもリークガスＶこよる
走行基板１のばたつきは極く少い。
本発明者らの実験によれば、この巻付角は、第６図（Ａ
ｌに示すようＶこ、１０度以上が過当であり、１０度以
上で巻付けば走行基板のばたつきは問題なくなる。
ｌに示すようＶこ、１０度以上が過当であり、１０度以
上で巻付けば走行基板のばたつきは問題なくなる。
なお、第３図（Ａｌは、第５図（Ｂｌに７］＼す喪顯で
実験した結果、得られたものである。すなわち、ｍ３図
（Ｂｌにおいて、直径８０１１１１のシールロール１０
１と直径９０１Ｍｎのシールロール１０２０間に幅４０
０駄で厚さが１２μｍと２０ ｌＩｍの２枚のフィルム
（走行基板）１を各々走行きせる。
実験した結果、得られたものである。すなわち、ｍ３図
（Ｂｌにおいて、直径８０１１１１のシールロール１０
１と直径９０１Ｍｎのシールロール１０２０間に幅４０
０駄で厚さが１２μｍと２０ ｌＩｍの２枚のフィルム
（走行基板）１を各々走行きせる。
そして、真空室１０５内のカイトロール＋０３と大気中
のガイドロール１０４とを矢印α間ケ４１ 動すセてフ
ィルム１のシールロール＋０＋への巻付角ｋＷ史し、点
線βの部分のフィルム１のばたつき状態（振幅）を目視
評価した。このとき、シールロール１０１，１０２前後
の出力が、該シールロール１０１，１０２曲を通過する
ガス流量が最大で、フィルムのはたっきに対し最も厳し
い条件である大気圧と３６０１−−ルとなるように、真
空室１０５内を矢印γ方向へルーツ型真空ポンプで排気
し、該真空室１０５の圧力を６６０トールに調整した。
のガイドロール１０４とを矢印α間ケ４１ 動すセてフ
ィルム１のシールロール＋０＋への巻付角ｋＷ史し、点
線βの部分のフィルム１のばたつき状態（振幅）を目視
評価した。このとき、シールロール１０１，１０２前後
の出力が、該シールロール１０１，１０２曲を通過する
ガス流量が最大で、フィルムのはたっきに対し最も厳し
い条件である大気圧と３６０１−−ルとなるように、真
空室１０５内を矢印γ方向へルーツ型真空ポンプで排気
し、該真空室１０５の圧力を６６０トールに調整した。
第４図及び第５図（Ａｌ 、 （Ｂｌは、本発明装置の
他の例を示す図である。
他の例を示す図である。
第４図は全体説明図、第５図（Ａｌは第４図の一部詳細
図、第５図（Ｂｌは第５図（Ａ）のｍ−ｎ線断面矢視図
である。
図、第５図（Ｂｌは第５図（Ａ）のｍ−ｎ線断面矢視図
である。
第４図において、第６，７図と同一符号は第６．７図と
同一部を示し、２“ａ、２“ｂ、２“Ｃ・・・は１本の
シールロールで構成すれるシールロールでｈ ｖ 、入
鞠シールロール及び出側シールロールを兼ネている。こ
れらのシールロール２ａ〜２ｃは、図示しない駆動装置
で各々回転駆動されている。
同一部を示し、２“ａ、２“ｂ、２“Ｃ・・・は１本の
シールロールで構成すれるシールロールでｈ ｖ 、入
鞠シールロール及び出側シールロールを兼ネている。こ
れらのシールロール２ａ〜２ｃは、図示しない駆動装置
で各々回転駆動されている。
これらのシールロールは、第５図（Ａｌ 、 （Ｂｌに
示すように、１本のシールロール２“の両側に配置され
たシールパー１４．１４と共にシール装Ｗを構成する。
示すように、１本のシールロール２“の両側に配置され
たシールパー１４．１４と共にシール装Ｗを構成する。
このシール装置によれば、合計のリーク隙間１９ａ。
１９ｂの箇所が従来の構造に比べて減少するため、構造
的にリーク隙間面積の合計値を低減することかでき、シ
ール性能が向上する。
的にリーク隙間面積の合計値を低減することかでき、シ
ール性能が向上する。
丑た、′ＰＪ４図にツバずよりに、各シールロール間（
すなわち各圧力室６ａ、６ｂ 、６ｃ・・・内）に設け
られたガイドロール２０ａ、２０ｂ’、２０ｃ・・・に
よジ走行基＆１のシールロールへの巻付角が一定以上ヶ
解保しており、カーリークガスが発生してもリークガス
による走行基板のばたつきは毬く少い。従って、走行基
板１が、シールパ＝１４．１４に接触して切断される虞
れはない。
すなわち各圧力室６ａ、６ｂ 、６ｃ・・・内）に設け
られたガイドロール２０ａ、２０ｂ’、２０ｃ・・・に
よジ走行基＆１のシールロールへの巻付角が一定以上ヶ
解保しており、カーリークガスが発生してもリークガス
による走行基板のばたつきは毬く少い。従って、走行基
板１が、シールパ＝１４．１４に接触して切断される虞
れはない。
本発明者らの実験によれば、この巻付角は、前記の第３
図ＦＢＩに示す辿り、１０度以上か適当であり、１０度
以上で奉伺けば走行基板のばたつきの問題はなくなる。
図ＦＢＩに示す辿り、１０度以上か適当であり、１０度
以上で奉伺けば走行基板のばたつきの問題はなくなる。
本発明装置によれば、シールロール都でのリーク隙間が
小さくなるため、シール性能が向上する。
小さくなるため、シール性能が向上する。
また、本発明装置によれは、走行基板が１０度以上の巻
付角度でシールロールへ巻イ」いているため、少々のリ
ークガスがあっても走行基板のばたつきがなくなシ、走
行基板のしわの発生、切断の虞れがない。
付角度でシールロールへ巻イ」いているため、少々のリ
ークガスがあっても走行基板のばたつきがなくなシ、走
行基板のしわの発生、切断の虞れがない。
第１図及び第２図（Ａｌ ｌ ＦＢ＋は本発明−装置の
一例を示す図で、第１図は全体説明図、第２図（Ａｌは
第１図の一部詳細図、第２図（Ｂｌは第２図ＦＡ、ｌの
１−１線断面矢視図、第３区内は本発明の効果を示すグ
ラフ、第３図（Ｂｌは第３図ｆＡｌを導くための条件金
かす図、第４図及び第５図囚１１ ＦＢ＋は本発明装置
の他の例を示す図で、第４図は全体説明図、第５区内は
第４図の一部詳細図、第５図ｔＢｌは第５区内のｕ−ｎ
線断面矢視図、第６図及び第７図（Ａｌ ｌ （Ｂｌは
従来の装置の構成図′ｌ′ある。 １・・・走行基板 ２ａ、２ｂ、２ｃ、２ａ、２ｂ、２ｃ、２ ＝−シー
／Ｌ１０−／ｌ／２ａ、２ｂ、２ｃ ・・・入側シール
ロール３２Ｌ、 ３ｂ、 ３ｃ −出側シールロール
４ａ、４ｂ、４ｃ ・・・真空ポンプ ５・・・蒸着装置 ６ｈ、６ｂ、６Ｃ・・・圧力室 ７・・・蒸着室 ８・・・デフレクタロール ９・・・巻付ロール ＋１’、１２’、 ＋３７．１１ 、１２・・・ピンチ
ロール１ ４ ・・・ シ − ルノ（− １６・・・ケーシング １７・・・上流側圧力室 １８・・・下流側圧力室 ｊ９ａ、１９ｂ、＋９ｃｍリーク隙間
一例を示す図で、第１図は全体説明図、第２図（Ａｌは
第１図の一部詳細図、第２図（Ｂｌは第２図ＦＡ、ｌの
１−１線断面矢視図、第３区内は本発明の効果を示すグ
ラフ、第３図（Ｂｌは第３図ｆＡｌを導くための条件金
かす図、第４図及び第５図囚１１ ＦＢ＋は本発明装置
の他の例を示す図で、第４図は全体説明図、第５区内は
第４図の一部詳細図、第５図ｔＢｌは第５区内のｕ−ｎ
線断面矢視図、第６図及び第７図（Ａｌ ｌ （Ｂｌは
従来の装置の構成図′ｌ′ある。 １・・・走行基板 ２ａ、２ｂ、２ｃ、２ａ、２ｂ、２ｃ、２ ＝−シー
／Ｌ１０−／ｌ／２ａ、２ｂ、２ｃ ・・・入側シール
ロール３２Ｌ、 ３ｂ、 ３ｃ −出側シールロール
４ａ、４ｂ、４ｃ ・・・真空ポンプ ５・・・蒸着装置 ６ｈ、６ｂ、６Ｃ・・・圧力室 ７・・・蒸着室 ８・・・デフレクタロール ９・・・巻付ロール ＋１’、１２’、 ＋３７．１１ 、１２・・・ピンチ
ロール１ ４ ・・・ シ − ルノ（− １６・・・ケーシング １７・・・上流側圧力室 １８・・・下流側圧力室 ｊ９ａ、１９ｂ、＋９ｃｍリーク隙間
Claims (2)
- （１）走行基板を連続的に大気中から真空室に導き、該
真空室にて該走行基板に真空蒸着を施した後、大気中へ
搬出する連続真空蒸着装置において、大気から前記真空
室までをシールロールによつて複数の圧力室に区切り、
各シールロールは３本１組のピンチロールによつて構成
され、かつ前記走行基板が該シールロールに対して巻付
角１０度以上で巻付くようにしてなることを特徴とする
連続真空蒸着装置。 - （２）走行基板を連続的に大気中から真空室に導き、該
真空室にて該走行基板に真空蒸着を施した後、大気中へ
搬出する連続真空蒸着装置において、大気から前記真空
室までをシール装置によつて複数の圧力室に区分し、各
シール装置は１本のシールロールおよび該シールロール
の両側に設置されたシールバーから構成され、かつ該シ
ールロールの両側に前記走行基板がそれぞれ巻付角１０
度以上で巻付くようにしてなることを特徴とする連続真
空蒸着装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63113469A JPH0768621B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 連続真空蒸着装置 |
| KR1019890004722A KR920003591B1 (ko) | 1988-04-11 | 1989-04-10 | 연속진공증착장치 |
| EP89106353A EP0337369B1 (en) | 1988-04-11 | 1989-04-11 | Continuous vacuum vapor deposition apparatus |
| DE89106353T DE68909988T2 (de) | 1988-04-11 | 1989-04-11 | Vorrichtung zur kontinuierlichen Vacuumbeschichtung. |
| US07/336,349 US5000114A (en) | 1988-04-11 | 1989-04-11 | Continuous vacuum vapor deposition system having reduced pressure sub-chambers separated by seal devices |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63113469A JPH0768621B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 連続真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01287275A true JPH01287275A (ja) | 1989-11-17 |
| JPH0768621B2 JPH0768621B2 (ja) | 1995-07-26 |
Family
ID=14613041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63113469A Expired - Fee Related JPH0768621B2 (ja) | 1988-04-11 | 1988-05-12 | 連続真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0768621B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6696096B2 (en) | 2000-06-22 | 2004-02-24 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Apparatus for and method of vacuum vapor deposition and organic electroluminescent device |
| WO2011111626A1 (ja) * | 2010-03-08 | 2011-09-15 | 積水化学工業株式会社 | 表面処理装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6270575A (ja) * | 1985-09-21 | 1987-04-01 | Kawasaki Steel Corp | 連続ドライプレ−テイング用差圧シ−ル装置 |
-
1988
- 1988-05-12 JP JP63113469A patent/JPH0768621B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6270575A (ja) * | 1985-09-21 | 1987-04-01 | Kawasaki Steel Corp | 連続ドライプレ−テイング用差圧シ−ル装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6696096B2 (en) | 2000-06-22 | 2004-02-24 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Apparatus for and method of vacuum vapor deposition and organic electroluminescent device |
| WO2011111626A1 (ja) * | 2010-03-08 | 2011-09-15 | 積水化学工業株式会社 | 表面処理装置 |
| JP5130413B2 (ja) * | 2010-03-08 | 2013-01-30 | 積水化学工業株式会社 | 表面処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0768621B2 (ja) | 1995-07-26 |
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