JPH01286154A - Optical disk substrate - Google Patents
Optical disk substrateInfo
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- JPH01286154A JPH01286154A JP11643288A JP11643288A JPH01286154A JP H01286154 A JPH01286154 A JP H01286154A JP 11643288 A JP11643288 A JP 11643288A JP 11643288 A JP11643288 A JP 11643288A JP H01286154 A JPH01286154 A JP H01286154A
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- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は光ディスク用の基板に関するものである。[Detailed description of the invention] 〔Technical field〕 The present invention relates to a substrate for an optical disc.
プレグルーブ（案内溝）が形成された光ディスクの記録
方法としてはグループ内記録方式とランド記録方式とが
ある。以下第３図及び第４図を参照してこれらの記録方
法について説明する。There are two types of recording methods for optical discs in which pregrooves (guide grooves) are formed: an intra-group recording method and a land recording method. These recording methods will be explained below with reference to FIGS. 3 and 4.
先ず、第３図によりグループ内記録方式について説明す
る。第３図（ａ）はグループ内記録方式を採用した光デ
ィスク基板の一部を拡大して示す平面図で、第３図（ｂ
）及び第３図（ｃ）はそれぞれ第３図（ａ）のｃ−ｃ’
線及びＤ−Ｄ’線断面図である０図中１１はランド、１
２はグループ、１３はプレフォーマット、１４はビット
を示す、なお、本明細書で「ランド」とは、基板作製の
際のエツチング工程における非エツチング部分又はスタ
ンパーの原盤作成工程におけるレジストの非溶解部分を
転写した部分を意味する。First, the intra-group recording method will be explained with reference to FIG. FIG. 3(a) is an enlarged plan view of a part of the optical disk substrate that employs the intra-group recording method, and FIG. 3(b)
) and Figure 3(c) are c-c' in Figure 3(a), respectively.
In Figure 0, which is a cross-sectional view taken along the line and DD' line, 11 is a land, 1
2 is a group, 13 is a preformat, and 14 is a bit. In this specification, "land" refers to a non-etched part in the etching process during substrate production or a non-dissolved part of the resist in the stamper master production process. means the part that has been transcribed.
グループ内記録方式では、第３図（、）に示すように、
グループ１４を゛中心にレーザスポットをあててビット
１４を形成することにより記録が行われる。In the intra-group recording method, as shown in Figure 3 (,),
Recording is performed by applying a laser spot centered on the group 14 to form the bit 14.
そして、プレフォーマット１３は、図示の如くグループ
１２の有無で構成されている。The preformat 13 is composed of the presence or absence of the group 12 as shown in the figure.
グループ内記録方式の場合、再生の際にレーザスポット
がグループ１２にかかる割合が大きいため、戻り光量、
すなわちディスク面からの反射光のうち再びレンズ開口
内に戻ってくる光量が少なくなり、後述のランド記録方
式と比べると、一般にＣハ比が劣ってしまう。また、ビ
ット式の追記型光ディスクでこの方式を採用した場合、
ビットがグループ１２にかかってビット形状が乱れ、−
力先磁気ディスクでこの方式を採用した場合には、段差
によって磁気特性が劣化してしまい、いずれの場合もＣ
／Ｎ比はさらに劣化する傾向にある。In the case of the intra-group recording method, a large proportion of the laser spot falls on group 12 during playback, so the amount of returned light
In other words, the amount of light reflected from the disk surface that returns into the lens aperture is reduced, and the C ratio is generally inferior to that of the land recording method described later. In addition, if this method is adopted for a bit-type write-once optical disc,
The bit falls into group 12 and the bit shape becomes disordered, -
If this method is adopted for the magnetic disk at the tip of the force, the magnetic characteristics will deteriorate due to the difference in level, and in either case, the C
/N ratio tends to further deteriorate.
また、グループ内記録方式では、プレフォーマット１３
はグループ１２の有無で表すされるため、スタンパ−に
より基板を作製する場合、スタンパ−の原盤作製は一般
にポジレジストを用いて行われ、パターンニングの際の
レーザ光の照射部分が現像液に可溶となり、その部分が
最終的に基板におけるグループ１２となる。このためグ
ループ面にはレジストのパターニングの際に生じた凹凸
が存在し、これにより再生時の照射レーザ光が散乱を起
こし、Ｃハ比劣化の原因となる。特にグループ１２の断
面形状がＶ字状、０字状の場合にはその傾向が強い。In addition, in the intra-group recording method, preformat 13
is expressed by the presence or absence of group 12. Therefore, when producing a substrate with a stamper, the master of the stamper is generally produced using a positive resist, and the part irradiated with laser light during patterning is exposed to the developer. The resulting portion will eventually become group 12 on the substrate. For this reason, there are irregularities on the group surface caused during patterning of the resist, which causes scattering of the irradiated laser light during reproduction, causing a deterioration of the C/C ratio. This tendency is particularly strong when the cross-sectional shape of group 12 is V-shaped or O-shaped.
一方、特開昭６０−１９５７１号公報に示されるように
、フォトマスクを用いてガラス基板上のレジストをパタ
ーンニングし、ドライエツチングしてグループを設ける
場合にも、上記と同様凹凸によるＣ／Ｎ比劣化の問題が
ある。特に膜面に対して垂直な方向に磁化容易軸を持つ
磁性層を利用した光磁気ディスクの場合にはＣ／Ｎ劣化
の傾向は顕著となる。On the other hand, as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-19571, when a resist on a glass substrate is patterned using a photomask and groups are formed by dry etching, the C/N ratio due to unevenness is similar to that described above. There is a problem of ratio deterioration. In particular, in the case of a magneto-optical disk using a magnetic layer having an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface, the tendency of C/N deterioration is remarkable.
次に、第４図によりランド記録方式について説明する。Next, the land recording method will be explained with reference to FIG.
第４図（ａ）はランド記録方式を採用した光ディスク基
板の一部を拡大して示す平面図で、第４図（ｂ）及び第
４図（ｃ）はそれぞれ第４図（ａ）のＥ−Ｅ’線及びＦ
−Ｆ’線断面図である。図中２１はランド、２２はグル
ープ、２２′はプレフォーマット用グループ、２３はプ
レフォーマット、２４はビットを示す。FIG. 4(a) is an enlarged plan view of a part of an optical disk substrate adopting the land recording method, and FIG. 4(b) and FIG. 4(c) are respectively E of FIG. 4(a). -E' line and F
-F' line sectional view. In the figure, 21 is a land, 22 is a group, 22' is a preformat group, 23 is a preformat, and 24 is a bit.
ランド記録方式では、第４図（ａ）に示すように、ラン
ド２１にレーザスポットをあててビット１４を形成する
ことにより記録が行われる。そしてプレフォーマット２
３は、ランド２１内にグループ２２とは異なった深さの
グループ２２′ を形成し、そのグループの有無で構成
される。一般にグループ２２の深さはλ／８ｎ（λはレ
ーザ光の波長、ｎは屈折率）、プレフォーマット用グル
ープ２２′の深さはλ／４ｎとなっている。In the land recording method, recording is performed by applying a laser spot to a land 21 to form a bit 14, as shown in FIG. 4(a). and preformat 2
No. 3 forms a group 22' in the land 21 with a depth different from that of the group 22, and is configured depending on the presence or absence of the group. Generally, the depth of the group 22 is λ/8n (λ is the wavelength of the laser beam, and n is the refractive index), and the depth of the preformat group 22' is λ/4n.
ランド記録方式の場合、再生の際にレーザスポットがグ
ループ２２にかかる割合が小さいため、戻り光量が多く
、相対的にＣ／Ｎ比は良好である。ところが、第４図（
ｃ）に示されるように、深さの異なる２種類のグループ
を設けなくてはならないため、スタンパ−の作製が困難
となり、又エツチングを用いて基板作製を行う場合には
非常に困難となるという不都合があった。In the case of the land recording method, the ratio of the laser spot to the group 22 during reproduction is small, so the amount of returned light is large and the C/N ratio is relatively good. However, in Figure 4 (
As shown in c), it is difficult to produce a stamper because two types of groups with different depths have to be provided, and it is also extremely difficult to produce a substrate using etching. There was an inconvenience.
本発明は、このような従来技術の問題点に鑑み、プレフ
ォーマットの形成が容易でしかもＣ／Ｎ比の向上した光
ディスク基板を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the problems of the prior art, it is an object of the present invention to provide an optical disk substrate that allows easy formation of a preformat and has an improved C/N ratio.
上記目的を達成するため、本発明によれば、プレグルー
ブが形成された光ディスク基板において、基板作製の際
のエツチング工程における非エツチング部分、又はスタ
ンパ−作製工程におけるレジストの非溶解部分の転写部
分を記録再生部とし、かつ、前記エツチング工程又は前
記スタンパ−作製工程にて所定のフォーマットパターン
に従って前記記録再生部となるべき部分の一部にエツチ
ング部分又はレジストの溶解部分を設けることにより形
成されたプレフォーマットを有することを特徴とする光
ディスク基板が提供される。In order to achieve the above object, according to the present invention, in an optical disk substrate in which a pregroove is formed, a non-etched portion in an etching process during substrate fabrication or a transferred portion of a non-dissolved portion of a resist in a stamper fabrication process is removed. A preform formed by providing an etching portion or a dissolving portion of resist in a part of the portion to become the recording/reproducing portion according to a predetermined format pattern in the etching step or the stamper manufacturing step. An optical disc substrate having a format is provided.
以下、第１図を参照して本発明の光ディスク基板につい
て詳細に説明する。第１図（ａ）は本発明の光ディスク
基板の一部を拡大して示す平面図で。Hereinafter, the optical disc substrate of the present invention will be explained in detail with reference to FIG. FIG. 1(a) is a plan view showing an enlarged part of the optical disc substrate of the present invention.
第１図（ｂ）及び第１図（ｃ）はそれぞれ第１図（ａ）
のＡ−Ａ′線及びＢ−Ｂ’線断面図である０図中１はラ
ンド、２はグループ、３はプレフォーマット、４はビッ
ト、５はランド１に形成された凹部である。Figure 1(b) and Figure 1(c) are respectively Figure 1(a)
In FIG. 0, which is a cross-sectional view taken along the lines AA' and BB', 1 is a land, 2 is a group, 3 is a preformat, 4 is a bit, and 5 is a recess formed in the land 1.
本発明の光ディスク基板はランド記録方式を採
−用したもので、第１図（ａ）に示すように、ランドｌ
にレーザスポットを照射してビット４が形成され記録が
行われる。そしてプレフォーマット３は図示の如くラン
ド１に所定のプレフォーマットパターンに従って凹部５
を形成して構成される。すなわちプレフォーマット３は
ランドの有無により構成される。なお、凹部５はグルー
プ２と同じ深さとなっている。The optical disc substrate of the present invention adopts a land recording method.
- As shown in Figure 1(a), the land l
Bit 4 is formed by irradiating a laser spot onto the area and recording is performed. As shown in the figure, the preformat 3 has recesses 5 in the land 1 according to a predetermined preformat pattern.
It is composed by forming. That is, preformat 3 is configured depending on the presence or absence of lands. Note that the recess 5 has the same depth as the group 2.
第２図に本発明の光ディスク基板におけるランド幅／レ
ーザスポット径に対する諸特性の関係（計算値）を示す
。第２図（ａ）が戻り光量、第２図（ｂ）がプレフォー
マットによるＩＤ信号出力、第２図（ｅ）がトラッキン
グ・エラー信号（ＴＥ倍信号出力との関係を示す。図中
Ｐはグループ深さがλ／８ｎの場合、Ｑはグループ深さ
がλ／６ｎの場合である。これらの図から分かるように
、ランド幅がレーザスポット径の１／３に近づくにつれ
てＩＤ信号出力、ＴＥ信号出力は大きくなるが、戻り光
量が減少するためまたグループのエツジ部の影響のため
、 Ｃ／Ｎ比が劣化する。逆にランド幅が大きくなると
戻り光量が増加してＣ／Ｎ比は向上するが、ＩＤ信号出
力及びＴＥ信号出力が小さくなる傾向がある。ランド幅
をどこまで大きくできるかは光ディスクのドライブ装置
のサーボ性能、光ディスク基板の面傾斜の大きさ等にも
左右されるが、少なくとも最低限必要なＩＤ信号出力及
びＴＥ信号出力が得られる様なランド幅に設定すればよ
い、ガラス基板の様な反りの少ない基板ではランド幅を
大きく設定可能である０反りが大きい基板ではＴＥ信号
出力にバイアスがかかり、トラッキングがずれ、ＩＤ信
号出力が低下するので、ランド幅をあまり大きく設定で
きない、また、Ｃ／Ｎ比がある程度低くくても、 ＩＤ
信号出力及びＴＥ信号出力を大きく取りたい場合にはグ
ループを深くすると良い（図中でｐ−＋Ｑ）。FIG. 2 shows the relationship (calculated values) of various characteristics with respect to the land width/laser spot diameter in the optical disk substrate of the present invention. FIG. 2(a) shows the relationship between the amount of returned light, FIG. 2(b) shows the ID signal output by pre-formatting, and FIG. 2(e) shows the relationship with the tracking error signal (TE multiplied signal output. In the figure, P is When the group depth is λ/8n, Q is when the group depth is λ/6n.As can be seen from these figures, as the land width approaches 1/3 of the laser spot diameter, the ID signal output and TE Although the signal output increases, the C/N ratio deteriorates due to the decrease in the amount of returned light and the influence of the edge of the group.On the other hand, as the land width increases, the amount of returned light increases and the C/N ratio improves. However, the ID signal output and TE signal output tend to become smaller.The extent to which the land width can be increased depends on the servo performance of the optical disk drive device, the size of the surface inclination of the optical disk substrate, etc., but at least The land width can be set to such a value that the minimum necessary ID signal output and TE signal output can be obtained.For substrates with little warpage, such as glass substrates, the land width can be set large.For boards with large warpage, the TE signal Since the output will be biased, tracking will shift, and the ID signal output will drop, the land width cannot be set too large, and even if the C/N ratio is low to some extent, the ID
If you want to increase the signal output and TE signal output, it is better to make the group deeper (p-+Q in the figure).
本発明の光ディスク基板の作製には、以下に示すスタン
パ一方式とフォトマスクによる密着露光方式が使用可能
である。前者のスタンパ一方式では２ビ一ム方式または
１ビ一ム方式が用いられる。The following contact exposure method using a stamper and a photomask can be used to manufacture the optical disk substrate of the present invention. In the former type of stamper, a 2-beam type or a 1-beam type is used.
ｉ）スタンパ一方式
ａ）２ビ一ム方式・・・ガラス原盤の上にポジのレジス
トをスピナー塗布した後、プリベークする。i) Single stamper method a) Two-beam method: After applying a positive resist onto a glass master using a spinner, prebaking is performed.
次に、２ビーム（グループとランドに対応）のＡｒレー
ザで露光を行う、プレフォーマットの形成は、所定のプ
レフォーマットパターンに従いランドを照射するＡｒレ
ーザをオンオフして行う、ランド無しの所は２つのビー
ムが重なる様にして露光される。その後、通常のスタン
パ−作製工程を行い。Next, exposure is performed with a 2-beam Ar laser (corresponding to groups and lands). The preformat is formed by turning on and off the Ar laser that irradiates the land according to a predetermined preformat pattern. The two beams are exposed so that they overlap. After that, the usual stamper manufacturing process is performed.
スタンパ−を作製し、２Ｐ法あるいはインジェクション
法により所望の光ディスク基板を得る。A stamper is prepared and a desired optical disc substrate is obtained by the 2P method or injection method.
ｂ）ｌビーム法・・・ガラス原盤の上にネガのレジスト
をスピナー塗布した後、プリベークする。b) L-beam method: After applying a negative resist onto a glass master using a spinner, prebaking is performed.
次にランドを１ビームのＡｒレーザで照射し露光する。Next, the land is exposed by irradiating it with a single beam of Ar laser.
プレフォーマットの形成はプレフォーマットパターンに
従いＡｒレーザをオンオフして行う、その後は２ビ一ム
方式と同様にしてスタンパ−を作製し、そのスタンパ−
を用いて所望の光ディスク基板を得る。The preformat is formed by turning the Ar laser on and off according to the preformat pattern.After that, a stamper is produced in the same manner as the 2-beam method, and the stamper is
A desired optical disc substrate is obtained using the following method.
ｉｔ）フォトマスクによる密着露光方式先ずフォトマス
クを作製する。次に基板上にレジストをスピナー塗布し
た後、プリベークする。it) Contact exposure method using a photomask First, a photomask is prepared. Next, a resist is applied onto the substrate using a spinner, and then prebaked.
そして密着露光でレジストをパターニングした後。After patterning the resist with contact exposure.
現像し、さらにホストベークする０次に基板をエツチン
グして所望の光ディスク基板を得る。A desired optical disk substrate is obtained by developing, host baking, and etching the zero-order substrate.
本発明によれば、スタンパ−原盤露光時のレジスト溶解
部分が転写されていない部分又は基板の非エツチング部
分（ランド部）を記録再生部としたので、面の凹凸の影
響がなくなり、従来のグループ内記録方式の光ディスク
基板よりＣ／Ｎ比を向上させることができる。また、こ
のときのプレフォーマットはランドの有無で構成するが
、平面性の良いガラス等の基板を用いることにより、Ｉ
Ｄ信号出力、ＴＥ信号出力の低下を実効的に抑えて、ラ
ンドの幅を広くすることができ、この場合Ｃ／Ｎ比はさ
らに向上する。According to the present invention, since the recording and reproducing portion is the portion where the resist melted portion during exposure of the stamper master is not transferred or the non-etched portion (land portion) of the substrate, the influence of surface irregularities is eliminated, and the conventional group It is possible to improve the C/N ratio compared to an optical disk substrate using an internal recording method. In addition, the preformat at this time is configured with or without a land, but by using a substrate such as glass with good flatness, it is possible to
The reduction in the D signal output and the TE signal output can be effectively suppressed and the width of the land can be increased, and in this case, the C/N ratio is further improved.
また１本発明によれば、従来のランド記録と比較した場
合、プレフォーマットをランドの有無で構成しているの
で１種類の深さのグループを設けるだけで良く、したが
って、そりの少ない基板を用いればデータ部のＣ／Ｎ比
を殆んど低下させる事なくプレフォーマットの形成が非
常に容易となる利点がある。Furthermore, according to the present invention, when compared with conventional land recording, since the preformat is configured with or without a land, it is only necessary to provide a group of one type of depth, and therefore, a substrate with less warpage can be used. This has the advantage that the preformat can be formed very easily without substantially reducing the C/N ratio of the data section.
したがって、本発明によれば、プレフオーマットの形成
が容易でＣ／Ｎ比の向上した光ディスク基板の提供が可
能となる。Therefore, according to the present invention, it is possible to provide an optical disk substrate whose preformat is easily formed and whose C/N ratio is improved.
以下に実施例をあげて本発明をさらに説明するが、本発
明はこれら実施例のみに限定されるものではない。The present invention will be further explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
実施例１
ガラス原盤にポジレジストをスピナーで７００人（：λ
／８ｎ；λはレーザ波長で８３０１、ｎはポリカーボネ
ート（ｐｃ）の屈折率で１．５８）の厚さに塗布し、プ
リベークした後、原盤露光機で２ビームのＡｒレーザに
より、ランド部はプレフォーマットパターンに従って露
光し、グループ部は連続露光し、その後、現像、ポスト
ベークを行った。露光、現像条件は、グループ、ランド
部共、現像後ガラス面が表出し、プレフォーマットのラ
ンド無しの部分はその底面とグループとがガラス面でつ
ながる様設定した。グループ部の断面形状は０字型であ
った。トラックピッチは１．６７ａ、現像、ポストベー
ク後のランド幅は０．５μｍ、グループ幅１．１μｓ（
各々半値幅）、深さは６８０人であった６次に導電性皮
膜処理、電鋳を行い、スタンパ−を作製した。このスタ
ンパ−を用いてポリカーボネート（ＰＣ）のインジェク
ション基板を作成し、その基板の上に中間層としてＳｉ
Ｎ膜をスパッタ法により８００人の膜厚に形成し、該中
間層の上に記録層としてＴｂＤｙＦｅＣｏ膜をスパッタ
法により１０００人の膜厚に形成し、さらにその上に保
護層としてＳｉＮ膜をスパッタ法により１０００人の膜
厚に形成し、光磁気ディスクを得た。Example 1 700 people (:λ
/8n; λ is the laser wavelength of 8301 and n is the refractive index of polycarbonate (PC) of 1.58). After pre-baking, the land area is pre-printed using a two-beam Ar laser using a master exposure machine. Exposure was performed according to the format pattern, and the group portions were continuously exposed, followed by development and post-baking. The exposure and development conditions were set so that the glass surface of both the group and land portions was exposed after development, and the bottom surface of the preformat portion without land was connected to the group through the glass surface. The cross-sectional shape of the group portion was a 0-shape. The track pitch is 1.67a, the land width after development and post-bake is 0.5μm, and the group width is 1.1μs (
A stamper was produced by performing conductive film treatment and electroforming at a depth of 680 people. A polycarbonate (PC) injection board was created using this stamper, and Si was placed as an intermediate layer on the board.
A N film was formed to a thickness of 800 nm by sputtering, a TbDyFeCo film was formed as a recording layer on the intermediate layer to a thickness of 1000 nm, and an SiN film was sputtered on top of it as a protective layer. A magneto-optical disk was obtained by forming a film with a thickness of 1000 mm using the method.
この光磁気ディスクを用いて回転速度９００ｒｐｍ、
Ｒ＝３００ｍｍ、記録周波数ｆ＝１．０ＭＨｚの条件で
情報をランド部に記録した。そしてこれを再生し、その
再生波形のＣ／Ｎ比を測定したところ４９．６ｄＢであ
った。Using this magneto-optical disk, the rotation speed is 900 rpm,
Information was recorded on the land portion under the conditions of R = 300 mm and recording frequency f = 1.0 MHz. When this was reproduced and the C/N ratio of the reproduced waveform was measured, it was 49.6 dB.
またＩＤ信号出力（ピーク・ツー・ピーク値／ミラー面
出力、以下同じ）は４２％、 ＴＥ信号出力（ピーク・
ツー・ピーク値／ミラー面出力、以下同じ）は７３％で
あり、ドライブ装置に対しては充分な値であった。In addition, the ID signal output (peak-to-peak value/mirror surface output, same below) is 42%, and the TE signal output (peak-to-peak value/mirror surface output, same below) is 42%.
The two-peak value/mirror surface output (the same applies hereinafter) was 73%, which was a sufficient value for the drive device.
比較例１
グループ幅０．５４、ランド幅１．１ｐｍ（各々半値＃
）。Comparative Example 1 Group width 0.54, land width 1.1 pm (each half value #
).
トラックピッチ１．６４．グルレープ深さ６７０人、グ
ル−プの断面形状０字型の従来のグループ内記録方式の
基板上に実施例１と同じ構成で各膜を設けて光磁気ディ
スクを得、上記と同じ条件で情報をグループ部に記録し
、再生を行いＣ／Ｎ比を測定したところ４７．２ｄＢで
あった。このことより１本発明による基板の方がＣ／Ｎ
比が向上してることが判明した。Track pitch 1.64. A magneto-optical disk was obtained by providing each film with the same configuration as in Example 1 on a conventional intra-group recording method substrate with a group rape depth of 670 people and a zero-shaped group cross-section, and information was recorded under the same conditions as above. was recorded in the group section, reproduced, and the C/N ratio was measured and found to be 47.2 dB. From this, it can be seen that the substrate according to the present invention has a higher C/N
It was found that the ratio was improved.
実施例２
実施例１において、ポストベーク後のランド幅を１．１
．、グループ幅を０．５７ａ（各々半値幅）とした以外
は同様にしてスタンパ−を作製し、このスタンパ−を用
いてディスク基板を作製し、その上に実施例１と同様の
構成で各膜を形成して光磁気ディスクを得、ランド部に
記録した。この光磁気ディスクのＣ／Ｎ比は５３．２ｄ
Ｂ、 ＩＤ信号出力は３１％、ＴＥ信号出力は４９％で
あった。 ＩＤ信号出力及びＴＥ信号出力共、実施例１
と比べると減少したがドライブ装置に対しては充分であ
った。Example 2 In Example 1, the land width after post-baking was changed to 1.1
．． A stamper was produced in the same manner except that the group width was set to 0.57a (each half width), and a disk substrate was produced using this stamper, and each film was formed on it in the same manner as in Example 1. A magneto-optical disk was obtained, and recording was performed on the land portion. The C/N ratio of this magneto-optical disk is 53.2d
B. The ID signal output was 31% and the TE signal output was 49%. Both ID signal output and TE signal output, Example 1
Although it decreased compared to , it was sufficient for the drive device.
実施例３
厚さ１．５■のガラス基板上に膜厚１０００人のＣｒを
スパッタリングで作製し、その上に１０００人のポジレ
ジストをスピナーで塗布し、その後は実施例１と同じく
、２ビームのＡｒレーザーを用いた原盤露′光機により
、トラックピッチ１．６−、ランド部１．１戸、ランド
部の有無によるプレフォーマットより成るレジストパタ
ーンを作製し１次にＣｒ膜をドライエツチングし、レジ
ストを剥離して、ハードマスクを作製した０次に、厚さ
１．２ｍ−のアルミノケイ酸ガラス基板上にポジレジス
トを２０００人の膜厚にスピナー塗布し、プリベークし
た０次に上記のハードマスクを用いて密着露光を行い、
次いで現像、ポストベークをした後、反応性イオンエツ
チング装置を用いてアルミノケイ酸ガラス基板をエツチ
ング深さ６９０人（：λ／８ｎ；λはレーザ波長で８３
０ｎｍ、 ｎはガラスの屈折率で１．５０）でエツチン
グし、レジストを剥離してガラスディスク基板とした。Example 3 A 1,000-layer Cr film was formed by sputtering on a 1.5-inch-thick glass substrate, and a 1,000-layer positive resist was applied thereon using a spinner. After that, as in Example 1, 2-beam chromium was applied. Using a master exposure machine using an Ar laser, a resist pattern consisting of a track pitch of 1.6, a land part of 1.1 units, and a preformat with or without a land part was prepared, and the Cr film was first dry-etched. , the resist was peeled off to create a hard mask, and then a positive resist was applied to a 1.2 m thick aluminosilicate glass substrate with a spinner to a thickness of 2,000 mm, and the hard mask was prebaked. Perform close exposure using a mask,
After developing and post-baking, the aluminosilicate glass substrate was etched using a reactive ion etching device to a depth of 690 mm (λ/8n; λ is the laser wavelength of 83 nm).
Etching was performed to a thickness of 0 nm (n = 1.50, where n is the refractive index of glass), and the resist was peeled off to obtain a glass disk substrate.
このときのグループの断面形状は実施例１．２のものよ
り矩形に近い形状であった６次にガラスディスク基板上
に実施例１と同様の構成の膜を設け、光磁気ディスクを
得た。この光磁気ディスクを用いて実施例１と同様に、
ランド部に記録し、測定を行った結果、Ｃ／Ｎ比５３．
８ｄＢ、 ＩＤ信号出力３３％。The cross-sectional shape of the group at this time was closer to a rectangle than that of Example 1.2. A film having the same structure as in Example 1 was provided on a sixth-order glass disk substrate to obtain a magneto-optical disk. Using this magneto-optical disk, as in Example 1,
As a result of recording and measuring on the land part, the C/N ratio was 53.
8dB, ID signal output 33%.
ＴＥ信号出力５４％であった。 Ｃ／Ｎ比は従来のエツ
チング面におけるランド記録（ランドの幅は同じ）と比
べて約３ｄＢ向上した。またＩＤ信号出力及びＴＥ信号
出力は実施例２より幾分増加した。The TE signal output was 54%. The C/N ratio was improved by about 3 dB compared to conventional land recording on an etched surface (land width is the same). Furthermore, the ID signal output and TE signal output were somewhat increased compared to the second embodiment.
第１図は本発明の光ディスク基板の説明図であって、第
１図（ａ）は該光ディスク基板の一部を拡大して示す平
面図、第１図（ｂ）は第１図（ａ）のＡ−Ａ’線断面図
、第１図（ｃ）は第１図（ａ）のｃ−ｃ’線断面図であ
る。
第２図は本発明の光ディスク基板を用いた光ディスクの
ランド幅／レーザスポット径に対する諸特性の関係を示
す図であって、第２図（ａ）は戻り光量との関係を示す
グラフ、第２図（ｂ）はＩＤ信号出力との関係を示すグ
ラフ、第２図（Ｃ）はＴＥ信号出力との関係を示すグラ
フである。
第３図はグループ内記録方式の光ディスク基板の説明図
であって、第３図（ａ）は該光ディスク基板の一部を拡
大して示す平面図、第３図（ｂ）は第３図（ａ）のＣ−
Ｃ’線断面図、第３図（Ｃ）は第３図（ａ）のＤ−Ｄ線
断面図である。
第４図は従来のランド記録方式を用いた光ディスク基板
の説明図であって、第４図（ａ）は該光ディスク基板の
一部を拡大して示す平面図、第４図（ｂ）は第４図（ａ
）のＥ−Ｅ’線断面図、第４図（Ｃ）は第４図（ａ）の
Ｆ−Ｆ’線断面図である。
１・・・ランド、２・・・グループ、３・・・プレフォ
ーマット、４・・・ビット、５・・・凹部特許出願人
株式会社 リ コ −
図FIG. 1 is an explanatory view of an optical disk substrate of the present invention, FIG. 1(a) is a plan view showing an enlarged part of the optical disk substrate, and FIG. 1(b) is a plan view showing an enlarged part of the optical disk substrate. 1(c) is a sectional view taken along line cc' of FIG. 1(a). FIG. 2 is a diagram showing the relationship of various characteristics to the land width/laser spot diameter of an optical disk using the optical disk substrate of the present invention, and FIG. 2(a) is a graph showing the relationship with the amount of returned light; FIG. 2(b) is a graph showing the relationship with the ID signal output, and FIG. 2(C) is a graph showing the relationship with the TE signal output. FIG. 3 is an explanatory diagram of an optical disk substrate of the intra-group recording method, FIG. 3(a) is a plan view showing an enlarged part of the optical disk substrate, and FIG. a) C-
3(C) is a sectional view taken along the line DD of FIG. 3(a). FIG. 4 is an explanatory diagram of an optical disk substrate using the conventional land recording method, in which FIG. 4(a) is a plan view showing an enlarged part of the optical disk substrate, and FIG. Figure 4 (a
4(C) is a sectional view taken along the line FF' of FIG. 4(a). 1...Land, 2...Group, 3...Preformat, 4...Bit, 5...Concave Patent Applicant
Ricoh Co., Ltd. - Diagram
Claims (1)
て、基板作製の際のエッチング工程における非エッチン
グ部分、又はスタンパー作製工程におけるレジストの非
溶解部分の転写部分を記録再生部とし、かつ、前記エッ
チング工程又は前記スタンパー作製工程にて所定のフォ
ーマットパターンに従って前記記録再生部となるべき部
分の一部にエッチング部分又はレジストの溶解部分を設
けることにより形成されたプレフォーマットを有するこ
とを特徴とする光ディスク基板。(1) In an optical disk substrate in which a pregroove is formed, a non-etched part in the etching process during substrate production or a transferred part of the non-dissolved part of the resist in the stamper production process is used as a recording/reproducing part, and An optical disc substrate characterized in that it has a preformat formed by providing an etched part or a dissolved part of resist in a part of the part to become the recording/reproducing part according to a predetermined format pattern in the stamper manufacturing process.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11643288A JPH01286154A (en) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | Optical disk substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11643288A JPH01286154A (en) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | Optical disk substrate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01286154A true JPH01286154A (en) | 1989-11-17 |
Family
ID=14686958
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11643288A Pending JPH01286154A (en) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | Optical disk substrate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01286154A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0628952A2 (en) * | 1993-06-08 | 1994-12-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical disk, and information recording/reproduction apparatus |
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1988
- 1988-05-13 JP JP11643288A patent/JPH01286154A/en active Pending
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| US6021101A (en) * | 1993-06-08 | 2000-02-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical disk, and information recording/reproduction apparatus |
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