JPH01286115A - Base for magnetic disk with superior head attraction preventing effect and its manufacture - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To effectively prevent the attraction of a head from being generated by setting the maximum waviness in a direction perpendicular to the radius of a magnetic disk at a value larger than a specific value. CONSTITUTION:In a base for the magnetic disk, it is necessary to provide the maximum waviness>=0.04mum average per measuring length 2.5mm in the radius direction at least at four points in the landing area of the head. Also, the manufacture of the base for the magnetic disk is performed in such a way that finishing is performed by surface grinding by using a polishing pad having ruggedness on its surface. In such a way, it is possible to obtain the base for the magnetic disk with a superior head attraction preventing effect with a low cost. Also, by manufacturing the substrate in such method, a satisfactory surface without generating a haze groove on the surface can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

（産業上の利用分野） 本発明は、磁気ディスク装置の磁気ディスクに用いられ
るアルミ基盤に係り、より詳しくは、耐ヘツド吸着防止
性に優れた磁気ディスク用基盤及びその製造方法に関す
るものである。 （従来の技術及び解決しようとする課題）磁気ディスク
装置は大容量化、高密度化の趨勢にあり、磁性媒体は従
来の塗布型媒体からスパッタリングやメツキ法による薄
膜媒体へと移行しつつある。 また、高密度化のためには磁気ディスクとヘッドの間隔
、すなわちヘッド浮上量を小さくすることが不可欠であ
り、最近では、０．２μｍ以下のものもある。このよう
な低浮上量を安定して得るために、ディスクの平坦度や
平滑さの向上は勿論のこと、ヘッドのスライダー面の鏡
面化が進められている。 一方、磁気ディスク装置の小型化も共に進められており
、スピンドルの回転用モーター等も益々小さくなってき
ている。 このように、ディスクとヘッドのスライダー面の鏡面化
とスピンドルモーターの小型化による低トルク化のため
に、近年、ヘッドがディスク面に固着したまま浮上しな
いという現象、いわゆるヘッドの吸着現象が発生し問題
となっている。 このヘッド吸着をヘッドと基盤表面の接触を小さくする
ことにより防止する方法として、磁気ディスクの基盤表
面に微細な溝（以下、１条こん」と称す）を形成する等
の方法により表面粗さを５００〜１５００人に調整する
、いわゆるテキスチャリングが採用されている。 テキスチャリング加工の方法としては回転中の基盤表面
に平均砥粒径１〜１５μｍのラッピングテープを加圧ロ
ーラー等で押し付ける方法が主として用いられている。 しかし乍ら、このような方法でテキスチャリングを施し
た場合には、表面に高さ０．０８〜０．５μｍ程度の突
起や深さ０．５〜１μｍ、幅５〜２０μｍの著しく広く
て深い溝（以下、「かみ込み溝」と称す）が存在し、ヘ
ッドの衝突やミッシングエラー等の原因となり、問題と
なっていた。 また、ポリッシング後、テキスチャリングを行うために
工程数が増え、コストアップの原因となっていた。 本発明は、上記従来技術の問題点を解決するためになさ
れたものであって、ヘッド吸着防止効果に優れた磁気デ
ィスク用基盤を安価に提供し、またその製造方法を提供
することを目的とするものである。 （課題を解決するための手段） か）る目的を達成するため、本発明者らは、磁気ディス
クとヘッドの吸着現象について吸着機構の究明並びにそ
の対策を見い出すべく鋭意研究を重ねた結果、ヘッドス
ライダ−の長さ方向、すなわち、ディスクの半径と直角
な方向の最大うねり（Ｗｃｘ）を大きくすることにより
ヘッドの吸着を効果的に防止し得ることを見い出し１本
発明をなすに至ったものである。 すなわち、本発明に係るヘッド吸着防止効果に優れた磁
気ディスク用基盤は、ヘッドのランディングエリヤの少
なくとも４箇所での半径方向に直角な方向の最大うねり
（Ｗｃｖ）が測定長２．５ｎ＋＋ａ当り０．０４μｍ以
上であることを特徴とするものである。 また、この磁気ディスク用基盤の製造方法は。 表面に凹凸を有するポリッシングパッドを用いた表面研
磨により仕上げることを特徴とするものである。 以下に本発明を更に詳細に説明する。 前述の如く、本発明者らは、磁気ディスク用基盤におい
てヘッドスライダ−の長さ方向における表面性状、とり
わけ、最大うねりに着目したものである。 すなわち、この最大うねり（ＷＣＭ）は、ヘッドのラン
ディングエリヤの少なくとも４箇所での半径方向に直角
な方向の最大うねりであって、測定長２．５ｍ鳳当り平
均０．０４μ園以上であることが必要である。より好ま
しくは０．０４５μｍ以上である。０．０４μｍ未満で
はヘッドの吸着防止効果が不充分である。なお、５箇所
又は５箇所以上でのＷＣＭが上記値を満たすならば一層
好ましいことは云うまでもない。 このような表面性状を有する磁気ディスク用基盤は、凹
凸を有するポリッシングパッドを用いて表面研磨を行い
仕上げることにより達成される。 ポリッシングパッドは凹凸を有するものであれば特に限
定されないが、凹凸のパターン、ピッチ、凹部と凸部の
段差、バットの材質、使用する砥粒等々は、上記最大う
ねりが得られるべく以下の如く適宜選定すればよい。 まず、ポリッシングパッドの凹凸パターンとしては、網
目状、格子状、ライン状等のいずれであってもかまわな
いが、ライン状の場合は、ディスク基盤の移動１回転の
接線方向と直交するパターンではＷｃＭが大きくならず
、望ましくない。 凹凸パターンのピッチは、スライダー長以下が望ましく
、より望ましくはスライダー長の半分以下である。ピッ
チがスライダー長以上ではＷＣＭが大きくてもヘッドの
吸着を防止する効果が不充分となる。 パッドの凹部と凸部の段差は０　、１　ａｍ以上、より
好ましくは０．２１１０１以上である。 このような凹凸パターンの形成は１種々の方法で可能で
あるが、ステンレス製などの金網を８０〜２００℃でパ
ッド面に加圧し押し付けることによっても形成される。 パッドとしては、クロス、ポリウレタン、人工皮革等、
表面に凹凸が形成できるものであれば、いずれのものも
使用できる。また、使用する砥粒としては、シリコンカ
ーバイド、アルミナ、ダイヤモンド等、通常研磨に用い
られる材質であればいずれでも差し支えない。砥粒の大
きさは、最終的に必要とされる粗度１組み合わされるパ
ッドの硬さや加工時の荷重等で異なるが、一般に平均粒
径１〜１５μｍのものがよい。パッドの押し付は荷重と
しては３０〜２００ｇ／ｃｍ”の範囲がよい。 勿論、磁気ディスク用基盤の材質は制限されない。 次に本発明の実施例を示す。 （実施例） 磁気ディスク用基盤材料として、０８５０８６ＡＱ合金
を用いて、常法によりＮ１−Ｐメツキを施して作製した
外径１３０ｍｍ、内径４０＋ｍ、厚さ１．９　ｍｍの穴
あき円板を第１表に示す条件で研磨した。なお、研磨代
は片面２μｍとし、研磨装置としてはスピードファム製
ＤＳＬ−１８Ｂを用い、荷重１００ｇ／ｃｍ”で実施し
た。ポリッシングパッドは第１図（本発明例Ｈ１１１）
及び第２図（比較例Ｈａ３）に示すような断面プロフィ
ールのものである。 研磨後の基盤について、Ｒｔｍ及び最大うねり（ＷＣＭ
）を測定した。その結果を第１表に併記する。 なお、Ｒｔｍは、粗度評価を行った長さ（本例では０．
４９ｍｍの４／６）を等分し、それぞれのサンプリング
範囲でのＲｔｉ（最大粗さ）を求め、そのＲｔｉ（本例
ではｉ＝１〜４）の平均値を表わし、また、ＷＣＭは、
ヘッドのランディングエリヤ４箇所の半径方向に直角な
方向の最大うねりで測定長２．５０Ｉｍ当りの平均値で
求めた。なお、Ｒｔｍの測定にはランクテーラーホブソ
ン製タリステップを用い、ＷｃＭの測定には小板研究所
製５Ｅ−３０Ｄを用いた。 更に、ヘッドの吸着等については、基盤表面にＣｒ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ又はＣをスパッタした後、日本モンテジソン■
製Ｆ　ｏｍｂｌｉｎ　Ａ　Ｍ　２００１を塗布し、ヘッ
ドとしてアルプル電気■製３３７０ＭＩＮＩ−ＭＯＮＯ
ＬＩＴＨＩＣＨＥＡＤを用いて起動した時、ヘッドが吸
着しなかった場合に０印、ヘッドが吸着して基盤が回転
しなかった場合にＸ印を付して評価した。その結果を第
１表に併記する。 第１表より明らかなとおり、本発明例では、ヘッドとデ
ィスク基盤の吸着が充分に防止できるのに対して、単に
表面研磨を行った比較例ではヘッドの吸着を防止できな
い。また、本発明例では、軟質パッドによるポリッシン
グにより仕上げられているため、表面にテープによるテ
キスチャリングを施した時に表面に認められる「かみ込
み溝」もなく、良好な面が得られた。(Industrial Application Field) The present invention relates to an aluminum substrate used for a magnetic disk of a magnetic disk drive, and more particularly to a magnetic disk substrate with excellent head adhesion resistance and a method for manufacturing the same. (Prior Art and Problems to be Solved) Magnetic disk drives are trending toward larger capacities and higher densities, and magnetic media are shifting from conventional coated media to thin film media using sputtering or plating methods. Furthermore, in order to increase the density, it is essential to reduce the distance between the magnetic disk and the head, that is, the flying height of the head, and recently, some have been made smaller than 0.2 μm. In order to stably obtain such a low flying height, efforts are being made not only to improve the flatness and smoothness of the disk, but also to make the slider surface of the head mirror-finished. On the other hand, magnetic disk devices are also becoming smaller, and spindle rotation motors and the like are also becoming smaller and smaller. As described above, due to mirror-finishing of the disk and head slider surfaces and lower torque due to the miniaturization of spindle motors, a phenomenon in which the head remains stuck to the disk surface and does not fly up, the so-called head adsorption phenomenon, has occurred in recent years. This has become a problem. As a method to prevent this head adsorption by reducing the contact between the head and the substrate surface, surface roughness can be reduced by forming fine grooves (hereinafter referred to as 1-row grooves) on the substrate surface of the magnetic disk. So-called texturing is used to adjust the number of people between 500 and 1,500. As a texturing method, a method is mainly used in which a wrapping tape having an average abrasive grain size of 1 to 15 μm is pressed onto the surface of a rotating substrate using a pressure roller or the like. However, when texturing is performed using this method, there are protrusions on the surface with a height of about 0.08 to 0.5 μm, and extremely wide and deep protrusions with a depth of 0.5 to 1 μm and a width of 5 to 20 μm. The presence of grooves (hereinafter referred to as "biting grooves") has caused problems such as head collisions and missing errors. Furthermore, texturing is performed after polishing, which increases the number of steps, which increases costs. The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a magnetic disk substrate that is excellent in preventing head adsorption at a low cost, and to provide a method for manufacturing the same. It is something to do. (Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the inventors of the present invention have conducted extensive research to clarify the attraction mechanism and countermeasures for the attraction phenomenon between magnetic disks and heads. The present invention was based on the discovery that head adhesion can be effectively prevented by increasing the maximum waviness (Wcx) in the length direction of the slider, that is, in the direction perpendicular to the radius of the disk. be. That is, the magnetic disk substrate according to the present invention, which has an excellent effect of preventing head adsorption, has a maximum waviness (Wcv) in a direction perpendicular to the radial direction at at least four locations in the landing area of the head of 0.00000000000000000000 per 2.5n++a measured length. It is characterized by having a diameter of 0.04 μm or more. Also, what is the manufacturing method for this magnetic disk substrate? It is characterized by finishing by surface polishing using a polishing pad having an uneven surface. The present invention will be explained in more detail below. As mentioned above, the present inventors focused on the surface properties in the longitudinal direction of the head slider in a magnetic disk substrate, particularly the maximum waviness. In other words, this maximum waviness (WCM) is the maximum waviness in the direction perpendicular to the radial direction at at least four locations in the landing area of the head, and must be an average of 0.04μ or more per 2.5m measurement length. is necessary. More preferably, it is 0.045 μm or more. If the thickness is less than 0.04 μm, the effect of preventing adsorption of the head is insufficient. It goes without saying that it is more preferable if the WCM at five or more locations satisfies the above value. A magnetic disk base having such a surface quality is achieved by polishing the surface using a polishing pad having unevenness. The polishing pad is not particularly limited as long as it has unevenness, but the pattern of the unevenness, the pitch, the level difference between the concave and convex parts, the material of the bat, the abrasive grains used, etc. may be adjusted as appropriate to obtain the maximum waviness as described below. Just choose. First, the uneven pattern of the polishing pad may be in the form of a mesh, a grid, or a line, but in the case of a line, a pattern perpendicular to the tangential direction of one rotation of the disk substrate is WcM. does not increase, which is not desirable. The pitch of the uneven pattern is preferably equal to or less than the slider length, and more preferably equal to or less than half the slider length. If the pitch is longer than the slider length, even if the WCM is large, the effect of preventing head adsorption will be insufficient. The height difference between the concave portion and the convex portion of the pad is 0.1 am or more, more preferably 0.21101 am or more. Such an uneven pattern can be formed by various methods, but it can also be formed by pressing a wire mesh made of stainless steel or the like against the pad surface at 80 to 200°C. Pads include cloth, polyurethane, artificial leather, etc.
Any material can be used as long as it can form unevenness on its surface. Furthermore, the abrasive grains used may be any material that is commonly used for polishing, such as silicon carbide, alumina, and diamond. The size of the abrasive grains varies depending on the final required roughness, the hardness of the pad to be combined, the load during machining, etc., but it is generally preferable to have an average grain size of 1 to 15 μm. The pressing load of the pad is preferably in the range of 30 to 200 g/cm''. Of course, the material of the magnetic disk substrate is not limited. Next, examples of the present invention will be shown. (Example) Magnetic disk substrate material A perforated disc with an outer diameter of 130 mm, an inner diameter of 40+ m, and a thickness of 1.9 mm prepared by applying N1-P plating using the 085086AQ alloy by a conventional method was polished under the conditions shown in Table 1. The polishing allowance was set to 2 μm on one side, and the polishing device used was Speed Fam DSL-18B at a load of 100 g/cm. The polishing pad is shown in Figure 1 (Invention Example H111)
and a cross-sectional profile as shown in FIG. 2 (Comparative Example Ha3). Regarding the substrate after polishing, Rtm and maximum waviness (WCM
) was measured. The results are also listed in Table 1. Note that Rtm is the length at which roughness evaluation was performed (in this example, 0.
49mm (4/6) is divided into equal parts, the Rti (maximum roughness) in each sampling range is determined, and the average value of the Rti (in this example, i = 1 to 4) is expressed, and the WCM is
The maximum undulation in the direction perpendicular to the radial direction at four locations in the landing area of the head was determined as an average value per measurement length of 2.50 Im. In addition, Talystep manufactured by Rank Taylor Hobson was used to measure Rtm, and 5E-30D manufactured by Koita Institute was used to measure WcM. Furthermore, for head adsorption, etc., Cr and C are added to the substrate surface.
After sputtering o-Ni or C, Nippon Montageson■
Fomblin A M 2001 manufactured by Alpur Denki was applied and the head was 3370 MINI-MONO manufactured by Alpur Electric ■.
When starting up using LITHICHEAD, a 0 mark was given if the head did not stick, and an X mark was given if the head did not stick and the base did not rotate. The results are also listed in Table 1. As is clear from Table 1, in the example of the present invention, adhesion between the head and the disk substrate can be sufficiently prevented, whereas in the comparative example in which the surface is simply polished, adsorption of the head cannot be prevented. In addition, in the example of the present invention, since the finish was performed by polishing with a soft pad, a good surface was obtained without any "bitten grooves" that were observed on the surface when texturing with tape was applied to the surface.

【以下余白】[Left below]

（発明の効果） 以上詳述したように、本発明によれば、磁気ディスク用
基盤において所定の最大うねりを具備した表面性状にし
たので、ヘッド吸着防止効果に優れているものとするこ
とができ、しかもテキスチャリング加工によるような「
かみこみ溝」がないので、ヘッドの衝突、ミッシングエ
ラー等の問題を生ずることもない。また、本発明法は従
来より工程数が少ないので、コスト低減も可能である。(Effects of the Invention) As described in detail above, according to the present invention, since the magnetic disk substrate has a surface texture with a predetermined maximum undulation, it can have an excellent effect of preventing head adsorption. , moreover, it looks like it's due to texturing processing.
Since there is no "biting groove", problems such as head collisions and missing errors do not occur. Furthermore, since the method of the present invention requires fewer steps than the conventional method, it is also possible to reduce costs.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第１図は実施例Ｎａ　１　（本発明例）に用いたパッド
の断面プロフィールであり、第２図は実施例Ｎα３（比
較例）に用いたパッドの断面プロフィールである。 特許出願人　　株式会社神戸裏鋼所 代理人弁理士　中　　村　　　尚 第１図 第２図 １肯ｍFIG. 1 is a cross-sectional profile of a pad used in Example Na 1 (an example of the present invention), and FIG. 2 is a cross-sectional profile of a pad used in Example Nα3 (comparative example). Patent applicant Takashi Nakamura, Patent attorney representing Kobe Urakosho Co., Ltd. Figure 1 Figure 2 Figure 1

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）磁気ディスク用基盤において、ヘッドのランディ
ングエリヤの少なくとも４箇所での半径方向に直角な方
向の最大うねり（Ｗ＿Ｃ＿Ｍ）が測定長２．５ｍｍ当り
平均０．０４μｍ以上であることを特徴とするヘッド吸
着防止効果に優れた磁気ディスク用基盤。(1) The magnetic disk substrate is characterized in that the maximum waviness (W_C_M) in the direction perpendicular to the radial direction at at least four locations in the landing area of the head is 0.04 μm or more on average per 2.5 mm of measurement length. A magnetic disk base with excellent head adsorption prevention effects. （２）請求項１に記載の磁気ディスク用基盤を製造する
に際し、凹凸を有するポリッシングパッドを用いた表面
研磨により仕上げることを特徴とするヘッド吸着防止効
果に優れた磁気ディスク用基盤の製造方法。(2) A method for manufacturing a magnetic disk substrate having an excellent effect of preventing head adsorption, characterized in that the magnetic disk substrate according to claim 1 is finished by surface polishing using a polishing pad having unevenness.