JPH01283365A - 電子ビーム蒸着装置 - Google Patents

電子ビーム蒸着装置

Info

Publication number
JPH01283365A
JPH01283365A JP11260488A JP11260488A JPH01283365A JP H01283365 A JPH01283365 A JP H01283365A JP 11260488 A JP11260488 A JP 11260488A JP 11260488 A JP11260488 A JP 11260488A JP H01283365 A JPH01283365 A JP H01283365A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
vapor deposition
slots
phase
magnetic field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11260488A
Other languages
English (en)
Inventor
Noriyuki Kawada
則幸 川田
Mitsuo Kato
光雄 加藤
Naoyuki Nagai
直之 長井
Kuniyuki Kajinishi
梶西 邦幸
Kazuya Tsurusaki
一也 鶴崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP11260488A priority Critical patent/JPH01283365A/ja
Publication of JPH01283365A publication Critical patent/JPH01283365A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分舒〉 本発明は、電子ビームを偏向させる磁界を連続的に移動
させることのできる電子ビーム蒸着装置に関する。
〈従来の技術〉 紙?フィルムなどにアルミニウムや高融点金属を蒸着さ
せる装置において、電子銃を加熱源として用いることが
行なわれている。例えば第4図に示すように真空排気装
置9によって所定の真空度にされた蒸着室6内には蒸発
槽4が設置され、この蒸発槽4にアルミニウムや高融点
金属5が入れられている。蒸発槽4の外周には、アルミ
ニウムや高融点金属5が溶融しても流出することがない
ようにるっぽ19が設けられている。この蒸発槽4は、
その上方を通過する紙やフィルム等の蒸着対象物1の幅
と同程度の長さを有する長方形状のものであり、長さ方
向左右両側にはそれぞれ複数の電磁石7が配設されてい
る。これら電磁石7は、それぞれ対向する位置にあるも
のに電流が供給されると、第4図(bl中に示されるよ
うに磁界8を形成する。更に、これら磁界8を横切る電
子ビーム3を発生する電子銃2が設けられ電子ビーム3
は磁界を横切る際ニローレンッカを受けて偏向し、アル
ミニウム又は高融点金属5に照射される。電流は各電磁
石7に逐次切り換えられて供給され、磁界8の磁束密度
が変化し、電子ビーム3の偏向する位置が第4図(bl
中上下に移動する。
また、電子銃2は第4図Fbl中左右にオシレートする
。このため、スポット径の小さな電子ビーム3がアルミ
ニウム又は高融点金属5に対し広い面積にわたって照射
され、これを均一に加熱することとなる。加熱されたア
ルミニウム又は高融点金属5は蒸発し、上方を通過する
蒸着対象物1に蒸着することとなる。
〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら上記従来の電子ビーム偏向装置では、次の
問題点がある。
(1)電子ビームの出射方向に多数配列された電磁石7
の間隙では磁束密度が低くなるので、全体の磁尋が不連
続、不均一となる。
このため、偏向される電子ビーム3がアルミニウム又は
高融点金属5に均一に照射されず、部分的に未照射の部
分も生じろ。この結果、蒸発が不均一となって、蒸着対
象物1の付着量分布が均一とならなかった。
(2)  多数の電磁石7に電流を切り換えて供給する
ためには、各電磁石ことに切換のための電気回路を必要
とし、回路的構成を複雑としていた。
(3)蒸発量を増加するために蒸発槽4の幅を広げると
、対向する電磁石7の距離が大きくなり、磁界の強さを
維持するためには、電磁石7に供給する電流を大きくす
るか、電磁石7のコイルめを句1増さなければならず、
装置が大規模となって設備費が増大していた。
本発明は上記問題を解決する電子ビーム蒸着装置を提供
することを目的とするものである。
く課@を解決するための手段〉 蒸発槽の両側に、多数のスロットを有する鉄心を配置し
て、これにコイルを連続的に巻回して電磁石としたので
、磁界が空間的に連続となる。そして、このコイルに2
相又は3相の交流電流を供給すると、第5図(C)に示
すように磁界が空間的に連続して移動することとなる。
また、コイルの巻回方法として、第5図(a+(blに
示すように通常の誘動電動機の巻線法として知られてい
る分布巻きとすると、従来に比較して大きな磁束密度を
得ることができる。
例えば、第5図(c+の最大磁束は、従来の最大磁束の
3.5倍程度にも増大する。
尚、第5図(C)に示す磁界分布は、同図(a+のスロ
ットに対し、同図(blに示すようにコイルを分布巻き
した場合に、同図(a)中の各位置を横軸とした磁界分
布であり、縦軸は各位置での磁界の強さを示している。
第5図(C)において、w t lよ供給されろ交流電
流の位相であり、第7図に示す3相交流の各時刻(横軸
をdegにしたもの)に対応する。
〈実 施 例〉 以下、本発明について、実施例に基づいて詳細に説明す
る。
第1図に本発明の一実施例を示す。同図に示すように蒸
着室ケーシング10内に蒸発槽4が設置され、その外周
には溶融した蒸着用金属5の流出を防ぐるつぼ19が設
けられている。更に、るつぼ19の外側は熱伝導を防ぐ
断熱材17で覆われている。蒸発槽4の幅15は必要な
蒸発量により、またビーム出射方向の長さ16は蒸着対
象物1の幅で決められる。一般に、幅15よりも長さ1
6の方が長くなる。蒸発槽4内には、アルミニウム又は
高融点金属等の蒸着用金属5が入れられ、電子ビーム3
を偏向して照射することにより蒸発させられるようにな
っている。電子ビーム3を出射する電子銃2は蒸着室ケ
ーシング10に固定され、これを偏向させる電磁石が蒸
発槽4の両側に設けられている。各電磁石は、その長手
方向に多数のスロット18を配列させた鉄心11と、こ
の鉄心11のスロット18に連続的に巻回されるコイル
12とから構成される。コイル12の巻き方は、第2図
又は第5図(blに示される分布巻きとすることができ
る。このような構造の電磁石は、回転磁界ではなく直線
的に移動する磁界を形成するのでリニアモータ等にも用
いられるものである。コイル12には第3図に示すよう
に、変圧器の1次側コイル13,2次側コイル14を介
して電流が供給され、第5図telに示すように連続的
に移動する磁界が形成される。更に、直流電圧20によ
り直流バイアスをかけ、磁界の向きが逆転するのを防止
している。磁界の向きが逆転すると、電子ビーム3が反
対方向となって蒸着用金属5を加熱する乙とができない
ばかりか、装置破損にもつながるからである。
尚、上記実施例ではコイル12は分布巻きされているが
、これに限るものではない。例えば、蒸発槽4の幅が短
い場合には、第6図(al (bl (clに示すよう
集中巻きとすることもてきる。また、蒸発槽4の長さ方
向に関し、磁界分布は1周期以上あれば、電子ビームの
偏向は可能となるので、3相交流の場合はスロットの数
は7個以上とすれば良い。
〈発明の効果〉 以上、実施例に基づいて具体的に説明したように本発明
の電子ビーム蒸着装置では、連続的に移動する磁界分布
を形成するので、電子ビームが蒸発槽内の蒸着用金属に
均一に照射され、均一に加熱することができる。また、
2相又は3相の交流電流を用いるために、特に磁石切換
用回路なしで磁界の移動が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a) (b)はそれぞれ本発明の一実施例にか
かる電子ビーム蒸着装置の平面図、側面図、第2図は上
記実施例に使用する電磁石の斜視図、第3図は第2図に
示す電磁石に対する入力配線図、第4図(a)’ (b
l tc)はそれぞれ従来の蒸発装置の正面図、平面図
、側面図、第5図は本発明の分布巻きにかかり、同図t
a+はスロットの配置図、同図(b)はスロットに巻回
されるコイルの説明図、同図(c+は移動する磁界分布
を示すグラフ、第6図は本発明の集中巻きにかかり、同
図(a)はスロットの配置図、同図(b)はスロットに
巻回されるコイルの説明図、同図(C)は移動する磁界
分布を示すグラフ、第7図は三相交流波形の時間的変化
を示すグラフである。 図  面  中、 1は蒸着対象物、 2は電子銃、 3ば電子ビーム、 4は蒸発槽、 5(よ蒸着用金属、 6は蒸着室、 7は電磁石、 8は磁界、 9は真空排気装置、 10は蒸着室ケーシング、 11は鉄心、 12はコイル、 13は変圧器1次側コイル、 14は変圧器2次側コイル、 15は蒸発槽の幅、 16ば蒸発槽の長さ、 17は断熱材、 18はスロット、 19はるっぽ1 20ば直流電源である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 電子ビームを偏向させて蒸着用金属に照射し、該蒸着用
    金属を加熱蒸発させる装置において、前記電子ビームの
    出射方向両側にそれぞれ複数個のスロットを長手方向に
    配列すると共に該スロットに連続的にコイルを巻回して
    電磁石を構成し、前記コイルに直流のバイアスをかけた
    2相又は3相の交流電流を供給することにより、前記長
    手方向に連続的に進行する磁界を形成することを特徴と
    する電子ビーム蒸着装置。
JP11260488A 1988-05-11 1988-05-11 電子ビーム蒸着装置 Pending JPH01283365A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11260488A JPH01283365A (ja) 1988-05-11 1988-05-11 電子ビーム蒸着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11260488A JPH01283365A (ja) 1988-05-11 1988-05-11 電子ビーム蒸着装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01283365A true JPH01283365A (ja) 1989-11-14

Family

ID=14590888

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11260488A Pending JPH01283365A (ja) 1988-05-11 1988-05-11 電子ビーム蒸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01283365A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3710072A (en) Vapor source assembly
JPH072988B2 (ja) アーク蒸発装置
US6026763A (en) Thin-film deposition apparatus using cathodic arc discharge
JP2004523658A (ja) 大きい表面領域を有するターゲットのための強力な磁気ガイドを伴うアーク蒸着装置
US3235647A (en) Electron bombardment heating with adjustable impact pattern
US5250779A (en) Method and apparatus for heating-up a substrate by means of a low voltage arc discharge and variable magnetic field
US4105890A (en) Device for electron-beam heating of materials
US20040154919A1 (en) Electric arc evaporator
US6475333B1 (en) Discharge plasma processing device
US3582529A (en) Electron beam heating apparatus and control system therein
US3394217A (en) Method and apparatus for controlling plural electron beams
JPH01283365A (ja) 電子ビーム蒸着装置
US3622679A (en) Heating system for electron beam furnace
US3655902A (en) Heating system for electron beam furnace
JPH01204384A (ja) 加熱装置
US3592955A (en) Electron beam furnace
KR960005808B1 (ko) 전자비임 증착용 전자총
US3535428A (en) Apparatus for producing and directing an electron beam
KR100246490B1 (ko) 저전압 아크방전 및 가변자석에 의한 기판 가열방법 및 장치
JPH0524616B2 (ja)
JPH0243866Y2 (ja)
US3488426A (en) Apparatus for uniform vaporisation of high melting materials in particular quartz
EP0428682A4 (en) Magnetic structure for electron-beam heated evaporation source
JP2942301B2 (ja) 電子銃磁界補正用フェンス装置
CN115863126B (zh) 真空蒸镀成膜装置的电源机构及消磁方法