JPH01278240A - 半導体製造装置用無停電電源 - Google Patents
半導体製造装置用無停電電源Info
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- JPH01278240A JPH01278240A JP63106800A JP10680088A JPH01278240A JP H01278240 A JPH01278240 A JP H01278240A JP 63106800 A JP63106800 A JP 63106800A JP 10680088 A JP10680088 A JP 10680088A JP H01278240 A JPH01278240 A JP H01278240A
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- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract 1
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- Stand-By Power Supply Arrangements (AREA)
- Control Of Voltage And Current In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は拡散装置、低圧ＣＶＤ装置等の半導体製造装
置に適用される無停？ｌｔ電源に関する。
置に適用される無停？ｌｔ電源に関する。
［従来の技術］
拡散装置、低圧ＣＶＤ装置等の半導体製造装置は通常、
条件設定、自動制御等のために小型コンピュータを備え
、それら小型コンピュータは電源として通常の１００Ｖ
あるいは２００Ｖ交流電源を直流に変換したものを用い
ている。
条件設定、自動制御等のために小型コンピュータを備え
、それら小型コンピュータは電源として通常の１００Ｖ
あるいは２００Ｖ交流電源を直流に変換したものを用い
ている。
しかし、これら通常の電源は停電のおそれがあるほか、
コンマ数秒単位の瞬停と呼ばれる停電状態が頻繁に生じ
ている。そこで、このような停電状態を回避するため、
従来、電源バックアップ用の無停電電源が使用されてい
る。このような無停電電源は第２図に示すようにｆｆｉ
源部２′と電圧比較回路３′とを備え、電圧比較回路３
′は外部の電源６からの電圧とｆ４．源部２″の電圧と
を比較し電圧の高い方の電力を二次側に供給し、これに
より外部電源の停電があっても二次側に常に所定の電力
が供給できるように構成されている。
コンマ数秒単位の瞬停と呼ばれる停電状態が頻繁に生じ
ている。そこで、このような停電状態を回避するため、
従来、電源バックアップ用の無停電電源が使用されてい
る。このような無停電電源は第２図に示すようにｆｆｉ
源部２′と電圧比較回路３′とを備え、電圧比較回路３
′は外部の電源６からの電圧とｆ４．源部２″の電圧と
を比較し電圧の高い方の電力を二次側に供給し、これに
より外部電源の停電があっても二次側に常に所定の電力
が供給できるように構成されている。
［発明が解決しようとする課題］
ところで、このような従来の無停電電源においては、内
蔵されている電源（ｆｌ！池）の経時的変化により電圧
が低下した場合、二次側の電圧も低下し、その機能を果
すことができない、すなわち、この電源を使用する小型
コンピュータ等電子機器への供給電力が低下し、それら
電子機器等が正常に作動することができない、このため
、半導体製造装置本体に対しても影響が及び歩留りの低
下や作業効率の低下を招くおそれがある。また、−次側
の電圧は正常であっても何らかの原因で二次側の負荷が
増大し、二次側の電圧が低下し、やはり使用中の電子機
器が正常に作動しない場合も起こりうる０例えばプラズ
マＣＶＤによる場合にはプラズマ発生電圧が変動すると
、プラズマの発生が停止し、所望する膜厚が得られない
。
蔵されている電源（ｆｌ！池）の経時的変化により電圧
が低下した場合、二次側の電圧も低下し、その機能を果
すことができない、すなわち、この電源を使用する小型
コンピュータ等電子機器への供給電力が低下し、それら
電子機器等が正常に作動することができない、このため
、半導体製造装置本体に対しても影響が及び歩留りの低
下や作業効率の低下を招くおそれがある。また、−次側
の電圧は正常であっても何らかの原因で二次側の負荷が
増大し、二次側の電圧が低下し、やはり使用中の電子機
器が正常に作動しない場合も起こりうる０例えばプラズ
マＣＶＤによる場合にはプラズマ発生電圧が変動すると
、プラズマの発生が停止し、所望する膜厚が得られない
。
従来、内蔵されている電源の電圧を備え付けの電圧計等
によって表示したものもあるが、これらは操作者に表示
の確認を常に強いることになり無人工程の多い半導体製
造部門においては不向きであった。また、二次側の原因
によってその電圧が低下した場合には対処できない。
によって表示したものもあるが、これらは操作者に表示
の確認を常に強いることになり無人工程の多い半導体製
造部門においては不向きであった。また、二次側の原因
によってその電圧が低下した場合には対処できない。
本発明はこのような従来の問題点を解決し、二次側に所
定の電力を確実に供給することのできる無停［ｆ！！源
を提供することを目的とする。
定の電力を確実に供給することのできる無停［ｆ！！源
を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
上記目的を達成する本発明の無停電電源は、外部１！！
源および内部電源の出力電圧の高い方の電圧を半導体製
造装置の電源として出力し、この出力電圧について予め
設定した値と比較し前記設定値以下の時に警報を発する
ようにしたことを特徴とする。
源および内部電源の出力電圧の高い方の電圧を半導体製
造装置の電源として出力し、この出力電圧について予め
設定した値と比較し前記設定値以下の時に警報を発する
ようにしたことを特徴とする。
［作用］
二次側出力を検出することにより内蔵される電源の電圧
低下あるいは二次側の負荷増大のいずれの場合をも検知
して警報を発することができる。警報は遠隔操作の場合
でも操作者が感知できるので操作者は警報によって速や
かに電源の交換その他事数等のチエツクをすることがで
き、また、電子機器の誤動作による判断ミス等を防止す
ることができる。
低下あるいは二次側の負荷増大のいずれの場合をも検知
して警報を発することができる。警報は遠隔操作の場合
でも操作者が感知できるので操作者は警報によって速や
かに電源の交換その他事数等のチエツクをすることがで
き、また、電子機器の誤動作による判断ミス等を防止す
ることができる。
［実施例］
以下、本発明の好適な実施例を図面を参照して説明する
。
。
第１図に示すように無停電電源１は内部な源２、電圧比
較回路３．この回路３の出力電圧を予め定めた許容値内
か否かを判定する電圧判定回路４、この回路４の判定に
より信号を出力する警報駆動回路５から成る。
較回路３．この回路３の出力電圧を予め定めた許容値内
か否かを判定する電圧判定回路４、この回路４の判定に
より信号を出力する警報駆動回路５から成る。
上記内部型ｇ２は外部電源６とほぼ等しい電力供給が可
能な電源で例えば二次電池等の電池から成る。電圧比較
回路３は外部電源回路６からの電圧（−次電圧）と電源
部２の電圧とを比較し、電圧の高い方の電力を予め定め
た電気回路系即ち二次歯に出力する。電圧判定回路４は
。
能な電源で例えば二次電池等の電池から成る。電圧比較
回路３は外部電源回路６からの電圧（−次電圧）と電源
部２の電圧とを比較し、電圧の高い方の電力を予め定め
た電気回路系即ち二次歯に出力する。電圧判定回路４は
。
二次側の電圧と予め、設定された値（例えば二次側の最
大電圧の９０％程度に設定した値）と比較し、二次側電
圧が設定値以下になった時、信号を警報駆動回路５に送
出する。警報駆動回路５は電圧判定回路４からの信号に
よって作動し。
大電圧の９０％程度に設定した値）と比較し、二次側電
圧が設定値以下になった時、信号を警報駆動回路５に送
出する。警報駆動回路５は電圧判定回路４からの信号に
よって作動し。
警報装置例えば音声による警報器７、警報ランプ８等を
作動させる。警報駆動回路５の駆動電力は電源部２によ
り供給することができる。
作動させる。警報駆動回路５の駆動電力は電源部２によ
り供給することができる。
以上のような構成における動作を説明する。
通常の動作状態では、電圧比較回路３において外部電源
６からの電圧を電源部２の電圧と比較することによって
監視しつつ高電圧側の出力電圧を二次側に供給しており
、外部ｆｌｉＷＸ６の瞬停時にも常に所定の二次側電圧
を保持している。
６からの電圧を電源部２の電圧と比較することによって
監視しつつ高電圧側の出力電圧を二次側に供給しており
、外部ｆｌｉＷＸ６の瞬停時にも常に所定の二次側電圧
を保持している。
また、停電により外部電源６からの電力供給が断たれた
場合は、ａ源は内部電源２に自動的に切換ねり二次側に
供給される。この２次側出力は半導体製造装置例えばＣ
ＶＤ、エツチング装置、熱処理炉、イオン注入装置、ス
パッタリング装置の制御回路などの電気回路系の駆動源
として接続される。この際、電流判定回路４は常に二次
側電圧を予め設定された値と比較することにより監視し
ている。
場合は、ａ源は内部電源２に自動的に切換ねり二次側に
供給される。この２次側出力は半導体製造装置例えばＣ
ＶＤ、エツチング装置、熱処理炉、イオン注入装置、ス
パッタリング装置の制御回路などの電気回路系の駆動源
として接続される。この際、電流判定回路４は常に二次
側電圧を予め設定された値と比較することにより監視し
ている。
そして、内部電源２の電圧が低下したり、何らかの原因
で二次側の負荷が増大することにより二次側電圧が設定
値より低下したことを検知すると信号を警報駆動回路５
に送出する。これによって警報駆動回路５が作動し、例
えば警報ランプ８を点灯すると共に音声による警報を発
する。
で二次側の負荷が増大することにより二次側電圧が設定
値より低下したことを検知すると信号を警報駆動回路５
に送出する。これによって警報駆動回路５が作動し、例
えば警報ランプ８を点灯すると共に音声による警報を発
する。
操作者はこれら警報に基き、内部電源２の電池の交換、
二次側の使用機器の点検等を速やかに行うことができる
。電源２の更に予備となる電池を用意し、警報ランプ表
示すると共にこの予［ｌ電池に切換え、この際、電源２
の電池を交換することにより半導体製造工程を中断する
ことなく続行できることはいうまでもない。
二次側の使用機器の点検等を速やかに行うことができる
。電源２の更に予備となる電池を用意し、警報ランプ表
示すると共にこの予［ｌ電池に切換え、この際、電源２
の電池を交換することにより半導体製造工程を中断する
ことなく続行できることはいうまでもない。
［発明の効果］
以上の説明からも明らかなように本発明によれば、処理
期間の安定性が歩留まり向上の上から極めて重要である
半導体製造装置においては。
期間の安定性が歩留まり向上の上から極めて重要である
半導体製造装置においては。
各種機器の電圧低下を操作者が速やかに知ることができ
るので、それ以上の電圧低下及び電圧低下に伴う弊害を
未然に防止し、これら機器へ所定の電力を確実に供給す
ることができる。また、稀にではあるが二次側に事故等
があっても速やかに対処することができる。
るので、それ以上の電圧低下及び電圧低下に伴う弊害を
未然に防止し、これら機器へ所定の電力を確実に供給す
ることができる。また、稀にではあるが二次側に事故等
があっても速やかに対処することができる。
第１図は本発明の無停ｍ電源の一実施例を示す図、第２
図は従来の無停Ｗ１電源を示す図である。 １・・・・・・・無停電電源 ２・・・・・・・内部電源 ３・・・・・・・電圧比較回路 ４・・・・・・・電圧判定回路 ５・・・・・・・警Ｉ！ｌ叩動回路 ６・・・・・・・外部電源 ７・・・・・・・警報器 ８・・・・・・・警報ランプ 代理人 弁理士 守 谷 −雄
図は従来の無停Ｗ１電源を示す図である。 １・・・・・・・無停電電源 ２・・・・・・・内部電源 ３・・・・・・・電圧比較回路 ４・・・・・・・電圧判定回路 ５・・・・・・・警Ｉ！ｌ叩動回路 ６・・・・・・・外部電源 ７・・・・・・・警報器 ８・・・・・・・警報ランプ 代理人 弁理士 守 谷 −雄
Claims (1)
- 外部電源および内部電源の出力電圧の高い方の電圧を半
導体製造装置の電源として出力し、この出力電圧につい
て予め設定した値と比較し前記設定値以下の時に警報を
発するようにした半導体製造装置用無停電電源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63106800A JPH01278240A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 半導体製造装置用無停電電源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63106800A JPH01278240A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 半導体製造装置用無停電電源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01278240A true JPH01278240A (ja) | 1989-11-08 |
Family
ID=14442950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63106800A Pending JPH01278240A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 半導体製造装置用無停電電源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01278240A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100383865B1 (ko) * | 2000-02-11 | 2003-05-16 | 김태극 | 어조용 교류 무정전 전원장치 |
| EP1659620A1 (en) * | 2003-08-29 | 2006-05-24 | Nikon Corporation | Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device production method |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
-
1988
- 1988-04-28 JP JP63106800A patent/JPH01278240A/ja active Pending
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US8867017B2 (en) | 2003-08-29 | 2014-10-21 | Nikon Corporation | Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
| US9041901B2 (en) | 2003-08-29 | 2015-05-26 | Nikon Corporation | Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
| US7847916B2 (en) | 2003-08-29 | 2010-12-07 | Nikon Corporation | Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
| EP1659620A1 (en) * | 2003-08-29 | 2006-05-24 | Nikon Corporation | Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device production method |
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| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
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