JPH01270605A - 表面形状測定器 - Google Patents

表面形状測定器

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JPH01270605A
JPH01270605A JP9960088A JP9960088A JPH01270605A JP H01270605 A JPH01270605 A JP H01270605A JP 9960088 A JP9960088 A JP 9960088A JP 9960088 A JP9960088 A JP 9960088A JP H01270605 A JPH01270605 A JP H01270605A
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JP
Japan
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optical system
sample
signal
objective lens
light
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Application number
JP9960088A
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English (en)
Inventor
Mitsunori Yamamoto
山本 満則
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、表面形状測定器に関する。
〔従来の技術〕
試料の表面形状を測定する機器はいろいろあるが、その
中でも、非破壊で測定できること、試料の大きさや重さ
に制限されないこと、測定時間が早いことなどの利点を
有していることから、ビーム走査と焦点検出法とを組み
合わせた表面形状測定器が優れており、その−っとして
特開昭61−219805号公報に記載のものがある。
これは、光源からの光を対物レンズから一定距離離れた
位置に集光させ、この集光点と被測定物体表面との位置
関係を焦点検出の原理により検出することにより、物体
表面の凹凸を測定するものである。
第2図は焦点検出法として瞳分割法を用いた表面形状測
定器の光学系及び処理回路を示している。
レーザ光源1からのレーザビームは空間フィルター2.
コリメータレンズ3.偏光ビームスプリッタ4.λ/4
板5を通って瞳位置に置かれた垂直走査用のガルバノメ
ータミラー6に入射し、続いて瞳伝送レンズ7.8を通
って瞳位置に置かれた水平走査用のポリゴンミラー9に
入射する。更に瞳投影レンズ10.結像レンズ11を通
って対物レンズ12に入射し、回折により制限されるス
ポット即ち先触針子を試料13上に形成する。こごで、
プリズム14.アイピース15.コンデンサレンズ16
.ランプ17は、試料13を眼視観測するために設けら
れている。これにより試料13の被測定部の様子を目で
確認できる。
試料13からの反射光は入射時と同し経路を逆に通って
偏光ヒームスプリンタ4に戻ってくる。
更に、瞳分割ミラー18によって光束が分割され、夫々
結像レンズ19.20を通って半導体装置検出器21.
22に入射する。半導体装置検出器21.22によって
夫々測定されたスポット位置は、夫々プリアンプ23.
24;25.26と加算器27.28を通って差動増幅
器29に入力される。
差動増幅器29から出力されたアナログ的な検出信号3
0はザンプルホールl”  A/D変換回路31に入力
されデジタル化される。このデジタル化された信号に基
づいて焦点検出が行なわれるのであるが、回路31はガ
ルハメータミラー6及びポリゴンミラー9の駆動回路3
2の同期信号に同期しており、二次元画像をフレームメ
モリ33に格納する。34は画像処理コンビ、yL−タ
ーであって、鳥徹図等の各種の処理をして表面形状測定
の結果をCRT35に表示したり或はプリンI・アラ)
−シたりする。
そして、コリメータレンズ3をズームレンズで構成しビ
ーム径を調整するようにすれば、対物レンズ12の倍率
を変更しなくても光触釘子の径を変更できるようになっ
ている。
又、この測定器は、対物レンズ12の瞳位置と共役な位
置にガルバノメータミラー6及びポリゴンミラー9が配
置されているため、瞳の情報を利用する臨界角法による
検出法や瞳分割法による検出法が使えると共に、瞳の情
報を利用しない8点収差法でも誤差のない形状測定が行
えるという特徴を持っている。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記表面形状測定器では、光学系のもつ像面
湾曲収差によって測定誤差を生しるという問題点があっ
た。以下それについて説明する。
第8図は、対物レンズ12によるレーザビーJ、の集光
の様子を示す図である。偏向を行っていない場合、レー
ザビームは軸上光36として光軸0に沿って進み、光軸
0上の点へに集光する。こごで、37は点へを通り且つ
光軸0に垂直な面であって、近軸像面と呼ばれるもので
ある。次に偏向を行った場合、対物レンズ12に像面湾
曲収差が無いとすると、レーザビームは軸外光38とし
て近軸像面37上の点Bに集光する。ところが、実際に
は、対物レンズ12ば像面湾曲収差を持つため、レーザ
ビームは軸外光39として点Bより対物レンズ12に近
い点Cに集光する。40は偏向角を変化させた時のレー
ザビームの集光点Cを重ねて成る面即ち像面湾曲収差に
よる湾曲面であり、これは対物レンズ12の合焦位置で
もある。ここでは湾曲面4()は対物レンズ12側に曲
がっているが、逆の場合や複雑な形になる場合もある。
このように像面湾曲収差のある状態で近軸像面37の位
置を試料位置としてそこに平面を置いて形状測定した場
合、軸上では合焦位置と試料位置が一致しているため、
合焦位置からのずれ量は零であるが、軸外では合焦位置
と試料位置にずれが生しるため、合焦位置からのずれを
高さ変化として検出してしまう。その結果、試料が平面
であるにも拘わらず、測定した結果は曲面になってしま
う。以上のように、」−述の如き表面形状測定器では、
試料の形状を測定した場合、試料の形状信号に像面湾曲
収差による誤差信号が加わり、正しい形状測定結果が得
られないという問題点があった。
本発明は、上記問題点に鑑み、光学系の収差によって発
生する誤差を補正して正確なな形状測定が行える表面形
状測定器を捉供することを目的としている。
〔課題を解決するだめの手段及び作用〕本発明による表
面形状測定器は、上述の如き表面形状測定器において、
光学系の収差によって生じる誤差を補正する手段を設け
たことにより、該誤差が補正されるようにしたものであ
る。それは、例えば平面を測定することでその光学系の
像面湾曲収差量が測定でき、それを用いて測定値の補正
を行うようにしたものである。
[実施例〕 以下図示した各実施例に基づき上記従来例と同一の部材
には同一符号を付して本発明の詳細な説明する。
第1図は第1実施例の光学系及び処理回路を示しており
、13′は平面度の高いミラー若しくはオプティカルフ
ラットのような平面から成っていて試料13と同し位置
に交換可能に配置される参照平面である。41は瞳伝送
レンズ7及び8間に配置されたスリット、42.43は
偏光ビームスブリック4と瞳分割ミラー18との間に配
置された瞳伝送レンズ、44は瞳伝送レンズ42及び4
3間に配置されたピンホールであって、スリット41及
びピンボール44は試料13からの反射光以外の余分な
光を遮断するために配置されている。
尚、スリット41及びピンボール44は少なくとも一方
が配置されていれば良い。又、ピンホール44が配置さ
れない場合は瞳伝送レンズ42及び43は必要がない。
44はコンピュータ34に接続された外部記憶装置であ
る。そして、ガルバノメータミラー6からポリゴミラー
9までが走査光学系45を構成し、瞳伝送レンズ42か
ら差動増幅器29までが焦点検出系46を構成している
本実施例は上述の如く構成されているから、レーザ光R
1から出たレーザビームは、空間フィルター2.コリメ
ータレンズ3.偏光ビームスプリッタ4、λ/4板5を
通って走査光学系45に入射する。走査光学系45を出
たレーザビームは対物レンズ12に入射し、参照平面1
3′上に1光する。参照平面13′で反射したレーザビ
ームは、入射時の経路を逆に戻り、偏光ビームスプリッ
タ4で反射されて焦点検出系46に入射する。焦点検出
系46から出た信号30′は参照平面13′を測定した
信号であるから、光学系の像面湾曲収差による誤差(以
後誤差と呼ぶ。)である。これはフレームメモリ33に
格納された後コンピュータ34を介して外部記憶装置4
4に記憶される。
次に、形状測定を行いたい試料(以下試料と呼ぶ)13
に対して参照平面13′を測定した時と同しように測定
を行なう。この時焦点検出系4Gから得られる信号30
は試料13の真の形状信号に誤差が加わったものである
。信号30はフレームメモリ33に格納される。コンピ
ュータ34はフレームメモリ33の測定データを内部メ
モリに読み込み、該測定データから外部記憶装置44の
誤差データを引き算する。その結果、測定データから像
面湾曲収差による誤差が補正された真の形状測定データ
が得られ、これをもとに測定結果の表示が行なわれる。
尚、参照平面13’を測定して得られた誤差データを外
部記憶装置44に記憶する場合、積算。
スムージング等の処理を行っても良い。特に、参照平面
13゛の測定場所を変えながら積算すると、参照平面1
3’自体の形状データがキャンセルされて測定光学系の
みの誤差データが得られるので、良い補正データが得ら
れる。又、参照平面13′による誤差データの測定を一
度行って外部記憶装置44に記1.Oシた後は、その記
4.1された誤差データを繰り返し補正に用いれば良い
ので測定毎に誤差データを測定する必要はない。
第2図は第2実施例の光学系及び処理回路を示しており
、47はP偏光のレーザビームを発するレーザ光源、4
8は空間フィルター、49はコリメータレンズ、50は
ビームスプリッタ、51はミラーである。52はS偏光
のレーザビームを発するレーザ光源、53は空間フィル
ター、54はコリメータレンズ、55はビームスプリッ
タ、56は偏光ビームスプリッタである。57及び58
は第1実施例の焦点検出系46と同じ焦点検出系である
。59は差動増幅器である。
第3図は本実施例の対物レンズ12から試料13までの
間の部分の拡大図であって、60は偏光ビームスプリッ
タ、61は試料13に集光するレーザビームと参照平面
13′に集光するレーザビームの光路長を等しくするた
めに参照平面13′の前に置かれた補償板である。 。
本実施例は上述の如く構成されているから、レーザ光源
47から出たP偏光のレーザビームは空間フィルタ48
.コリメータレンズ49を通り、ビームスプリンタ50
.ミラー51で反射されて偏光ビームスプリッタ56に
入射する。一方、し−ザ光源52から出たS偏光のレー
ザビームは空間フィルター53.コリメータレンズ54
を通り、ビームスブリック55で反射されて偏光ビーム
スプリッタ56に入射する。そしてP偏光及びS偏光の
レーザビームは偏光ビームスプリッタ56で一緒になり
、走査光学系45を通り、対物レンズ12に入射する。
対物レンズ12から出たレーザビームは偏光ビームスプ
リンタ60に入射する。
ここでP偏光のレーザビームは、偏光ビームスプリッタ
60を通過して試料13上に集光する。−方、S偏光の
レーザビームは偏光ビームスプリンタ60で反射され、
補償板61を通って対物レンズ12の合焦位置に置かれ
た参照平面13’上に集光する。試料13.参照平面1
3′で反射された夫々のレーザビームは、偏光ビームス
プリッタ60で再び一緒になり、入射時は同し経路を逆
に戻る。戻ってきたレーザビームのうちP偏光のレーザ
ビームは、偏光ビームスプリッタ56を通過し、ミラー
51で反射され、ビームスプリッタ53を通って焦点検
出系57に入射する。−・方、S偏光のレーデビームは
、偏光ビームスプリッタ56で反射され、ビームスプリ
ッタ55を通って焦点検出系58に入射する。焦点検出
系57から出力される信号62は、試料13を測定した
信号即ち試料13の真の形状信号に誤差が加わった信号
である。一方、焦点検出系58から出力される信号63
は参照平面13′を測定した信号即ち誤差のみの信号で
ある。信号62.63は差動増幅器59に入り、ここで
信号62から信号63を引く演算が行なわれる。この結
果、誤差を含んだ形状信号から誤差が差し引かれ、真の
形状信号64が得られる。この形状信号64はフレーム
メモリ33に格納され、その後コンピュータ34によっ
て測定結果の表示が行なわれる。
尚、レーザ光源は振動方向が直交する二つの偏光が得ら
れるものであれば一個でも良い。又、レーザビームの波
長は同しであっても異なっていても良い。
第4図は第2実施例の変形例の要部拡大図であって、こ
れは対物レンズを二つ用いている。偏光ビームスブリッ
ク65に入射したP偏光、S偏光の光のうちP偏光のレ
ーザビームは偏光ビームスプリッタ65を通過し、対物
レンズ12に入射して試料13上に集光する。一方、S
偏光のレーザビームは対物レンズ12′に入射して参照
平面13′上に集光する。かくして、対物レンズが一個
の場合と同しような効果が得られる。
第5図は第3実施例の光学系及び処理回路を示しており
、66は波長λ1のレーザ光源、67は偏光ビームスブ
リック、68はλ/4板である。
69は波長λ2のレーザ光源、70は偏光ビームスブリ
ック、71はλ/4板である。72.73は何れも波長
λ、の光を透過させ且つ波長λ2の光を反射するダイク
ロイックミラーである。
第6図は本実施例の対物レンズ12から試料13までの
拡大図である。
本実施例は上述の如く構成されているから、レーザ光a
66から出た波長λ、のレーザビームは、空間フィルタ
ー48.コリメータレンズ49を通った後偏光ビームス
プリッタ67で反射され、λ/4板68を通り、ミラー
51で反射されてダイクロイックミラー72に入射する
。一方、レーザ光源69から出た波長λ2のレーザビー
ムは、空間フィルター53.コリメータレンズ54を通
った後、偏光ビームスプリッタ70で反射され、λ/4
板71を通り、ダイクロイックミラー72に入射する。
ダイクロイックミラー72は特定の波長の光を反射し、
それ以外の光は透過させる性質をもつミラーであって、
ここでは波長λ1の光を透過させ且つ波長λ2の光は反
射するので、両方のレーザビームはダイクロイックミラ
ー75で一緒になり、走査光学系45を通って対物レン
ズ12に入射する。対物レンズ12から出たレーザビー
ムは、ダイクロイックミラー73に入射する。
ここで波長λ1のレーザビームはダイクロイックミラー
73を通過して試料13上に集光する。−方波長λ2の
レーザビームは、ダイクロイ・7クミラー73で反射さ
れ、補償板61を通って対物レンズ12の合焦位置に置
かれた参照平面13゛上に集光する。試料13.参照平
面13′で反射された夫々のレーザビームはダイクロイ
ックミラー73で再び一緒になり、入射時と同し経路を
逆に戻る。戻ってきたレーザビームのうち、波長λIの
レーザビームは、ダイクロイックミラー72を通過し、
ミラー51で反射され、λ/4板68゜偏光ビームスプ
リンタ67を通って焦点検出系57に入射する。一方波
長λ2のレーザビームは、ダイクロイックミラー72で
反射され、λ/4板71、偏光ビームスプリッタ70を
通って焦点検出系58に入射する。焦点検出系57から
出力される信号74は試料13を測定した信号即ち真の
形状信号に誤差が加わった信号である。一方焦点検出系
58から出力される信号75は参照平面13′を測定し
た信号即ち誤差のみの信号である。
信号74.75は差動増幅器59に入り、ここで信号7
4から信号75を引く演算が行われる。この結果誤差を
含んだ形状信号から誤差が差し引かれ、真の形状信号7
6が得られる。この形状信号76はフレームメモリ33
に格納され、その後コンピュータ34によって測定結果
の表示が行われる。
尚、レーザ光源は二つの波長の光が得られるものであれ
ば一個でも良い。又、第2実施例と同様に本実施例でも
、対物レンズを二つ用いても同し効果が得られる。即ぢ
、第4図において、偏光ビームスプリッタ65をダイク
ロインクミラーに代えれば、本実施例と同じ効果が得ら
れる。
〔発明の効果〕
上述の如く、本発明による表面形状測定器は、光学系の
収差によって発生する誤差を補正して“正確な形状測定
が行えるという実用上重要な利点を有している。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による表面形状測定器の第1実施例の光
学系及び処理回路を示す図、第2図は第2実施例の光学
系及び処理回路を示す図、第3図は上記第2実施例の対
物レンズから試料までの間の部分の拡大図、第4図は上
記第2実施例の変形例の要部拡大図、第5図は第3実施
例の光学系及び処理回路を示す図、゛第6図は上記第3
実施例の対物レンズから試料までの間の部分の拡大図、
第7回は従来例の光学系及び処理回路を示す図、第8図
は上記実施例の対物レンズによるレーザビームの集光の
様子を示す図である。 1.47,52,66、’69・・・・レーザ光源、2
.4B、53.70・・・・空間フィルタ、3,49.
54・・・・コリメータレンズ、4,60,65゜67
・・・・偏光ビームスプリッタ、5,68.71・・・
・λ/4板、6・・・・ガルバノメータミラー、7゜8
.42.43・・・・瞳伝送レンズ、9・・・・ポリゴ
ンミラー、10・・・・瞳投影レンズ、11.19゜2
0・・・・結像レンズ、12.12’・・・・対物レン
ズ、13・・・・試料、13′・・・・参照平面、14
・・・・プリズム、15・・・・アイピース、16・・
・・コンデンサレンズ、17・・・・ランプ、18・・
・・瞳分割ミラー、21.22・・・・半導体装置検出
器、23゜24.25.26・・・・プリアンプ、27
.28・・・・加算器、29.59・・・・差動増幅器
、30・・・・検出信号、31・・・・サンプルホール
ド・A/D変換回路、32・・・・駆動回路、34・・
・・画像処理コロ ンピユータ、35・・・・CRT、41・・・・スリッ
ト、44・・・・ピンホール、45・・・・走査光学系
、46.57.58・・・・焦点検出系、50.55・
・・・ビームスプリンタ、51・・・・ミラー、61・
・・・補償板、62.63・・・・信号、64・・・・
形状信号。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 光源と、前記光源から発した光を試料上に集光する対物
    レンズと、前記光源と前記対物レンズとの間に配置され
    ていて前記対物レンズに入る光の入射角度を変えること
    により前記集光された光で試料上を走査する光偏向部材
    と、試料面で反射した光を受けて試料面の所定の合焦位
    置からのズレを検出する焦点検出光学系とを具備して成
    る表面形状測定器において、光学系の収差によって生じ
    る誤差を補正する手段を設けたことを特徴とする表面形
    状測定器。
JP9960088A 1988-04-22 1988-04-22 表面形状測定器 Pending JPH01270605A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7747101B2 (en) 2005-11-15 2010-06-29 Olympus Corporation Lens evaluation device
KR101023193B1 (ko) * 2007-08-29 2011-03-18 한국전광(주) 삼차원 형상 측정용 엘티피 시스템

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