JPH01261644A - Exposure device for printed circuit board - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To protect the surface of a film for forming pattern by intermittently supplying protective films to the surface of the film for forming pattern by means which supplies the protective films whenever exposure operations are performed for the required number of times. CONSTITUTION:A protective film supplying means E which supplies protective films 10 which protect the surface of a film 1 for forming pattern and updates the previous protective film whenever exposure operations are performed by an exposure device for a required number of times for forming patterns on a substrate 3 is provided. This means E is constituted of a feeding roll 7, take-up roll 8, and tension roll 9. Namely, the protective film 10 is set while covering the film 1 for forming pattern from the feeding roll 7 to the take-up roll 8. Since the tension roll 9 is set so as to push the film 10 upward, no winkle is produced on an exposure glass plate 5. Therefore, damages of the protective films 10 can be minimized.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は印刷配線板（以下基板という）の露光装置に
関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an exposure apparatus for printed wiring boards (hereinafter referred to as substrates).

（従来の技術） 第２図は従来例の露光装置Ａの側断面図であり、図中、
ｌは露光面ガラス５にセットされたパターン形成用フィ
ルム（以下パターンフィルムという）、２はパターンフ
ィルム１の表面パターンの損傷を防止するための保護フ
ィルム、３はパターンフィルム１に位置を合せてセット
され、露光用Ｕｖランプ４のＵｖ光に対して感光する感
光フィルム（図示せず）を表面にラミネートした基板、
５は露光面Ｂのガラス、６はパターンフィルム１と基板
３を真空密着させるカバーシートである。′ 次にこの従来例の動作を第２図を用いて説明する。(Prior Art) FIG. 2 is a side sectional view of a conventional exposure apparatus A, and in the figure,
1 is a pattern forming film (hereinafter referred to as a pattern film) set on the exposure glass 5; 2 is a protective film for preventing damage to the surface pattern of the pattern film 1; 3 is a film set in alignment with the pattern film 1; a substrate on which a photosensitive film (not shown) sensitive to UV light from an exposure UV lamp 4 is laminated;
5 is the glass of the exposure surface B, and 6 is a cover sheet for vacuum-adhering the pattern film 1 and the substrate 3. ' Next, the operation of this conventional example will be explained with reference to FIG.

先ず、感光フィルム（図示せず）を表面にラミネートし
た基板３が自動的または手動で露光装置Ａに供給される
。次に、保護フィルム２によりパターンを保護されたパ
ターンフィルム１を露光面のガラス５上にセットし、基
板３と該フィルムパターンｌを正確に位置合わせした後
、カバーシート６で被覆し、真空装置（図示せず）によ
り真空状態にして、パターンフィルム１のパターン側で
ある保護フィルム２側と基板３を密着させる。その後露
光用Ｕｖランプ４で露光面Ｂを照射し、基板３トにラミ
ネートした感光フィルム（図示せず）１−にパターンを
正確に写像させる。First, a substrate 3 on which a photosensitive film (not shown) is laminated is automatically or manually supplied to the exposure apparatus A. Next, the pattern film 1 whose pattern is protected by the protective film 2 is set on the glass 5 on the exposure surface, and after accurately aligning the substrate 3 and the film pattern 1, it is covered with a cover sheet 6, and a vacuum device (not shown) to bring the protective film 2 side, which is the pattern side of the pattern film 1, into close contact with the substrate 3. Thereafter, the exposure surface B is irradiated with an exposure UV lamp 4, and the pattern is accurately mapped onto a photosensitive film (not shown) 1- laminated on the substrate 3.

以１−の動作におけるパターンフィルムｌと保護フィル
ム２は、熱および圧力等により相互に密着させである。In the operation 1- below, the pattern film 1 and the protective film 2 are brought into close contact with each other by heat, pressure, etc.

またパターンフィルム１は通常ポリエステルプラスチッ
クをベースとし、１７５μｍ程度の厚さを持っているの
に対して、保護フィルム２は６〜１０μｍ程度の厚さと
なっている。Further, the pattern film 1 is usually based on polyester plastic and has a thickness of about 175 μm, whereas the protective film 2 has a thickness of about 6 to 10 μm.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

以上のように、従来例においては、パターンフィルムｌ
と保護フィルム２を一体化したものを使用するため、基
板３の角などが、その供給時に保護フィルム２に接触し
、保護フィルムを破損する恐れがある。この場合は、そ
の後のパターン形成時である露光時に、保護フィルム２
の破損個所で、Ｕｖランプ４よりのＵＶ光が散乱し、露
光不良をおこし、最終的には基板３十に形成される導体
に小人な欠陥を引きおこす。As mentioned above, in the conventional example, the pattern film l
Since a combination of the substrate 3 and the protective film 2 is used, there is a risk that the corners of the substrate 3 may come into contact with the protective film 2 during supply and damage the protective film. In this case, at the time of exposure which is the subsequent pattern formation, the protective film 2
At the damaged part, the UV light from the UV lamp 4 is scattered, causing poor exposure, and ultimately causing small defects in the conductor formed on the substrate 30.

また、パターンフィルム１と保護フィルム２の温度ある
いは湿度の変化による伸縮ｑが、前記のように、それぞ
れの膜厚の相違により異なってくるため、保護フィルム
２上に“しわ”が発生し、前記保護フィルム２の破損の
場合と同様の欠陥を引きおこ′１−０特に、生産性の高
い自動供給装置に付帯した自動露光装置（図示せず）で
は、前記のような保護フィルム２十の欠陥が大量の不良
品を発生させる可能性があるなどの問題点があった。In addition, since the expansion and contraction q of the pattern film 1 and the protective film 2 due to changes in temperature or humidity differs due to the difference in their respective film thicknesses, as described above, "wrinkles" occur on the protective film 2, and the In particular, an automatic exposure device (not shown) attached to a high-productivity automatic feeding device may cause defects similar to those in the case of damage to the protective film 2. However, there were problems such as the possibility of producing a large number of defective products.

この発明はＦ記のような問題点を解消するためになされ
たもので、保護フィルム上に生しる破損を最少限にとど
めるとともに、前記の伸縮量の相違等による“しわ“を
保護フィルム十に生じさせずに露光することのできる露
光装置をＩＪることを［１的とする。This invention was made in order to solve the problems mentioned in F. It minimizes the damage that occurs on the protective film, and also eliminates the wrinkles caused by the difference in the amount of expansion and contraction of the protective film. The first objective is to develop an exposure device that can perform exposure without causing any damage.

〔３２ｆｌを解決するための手段〕 このため、この発明においては、露光装置により、基板
上にパターンを形成する必要回数の露光操作の度毎に、
パターン形成用フィルムの表面を保護する保護フィルム
を間欠的に供給し、更新する保護フィルム供給手段を設
けることにより、前記目的を達成しようとするものであ
る。[Means for solving 32fl] Therefore, in the present invention, each time the exposure device performs the necessary number of exposure operations to form a pattern on the substrate,
The above object is achieved by providing a protective film supplying means that intermittently supplies and renews a protective film that protects the surface of a pattern forming film.

〔作用〕[Effect]

この発明における露光装置は、必要回数の露光操作の度
毎に、新しい保護フィルムを供給する手段によって保護
フィルムをパターン形成用フィルム面に間欠的に供給し
、更新してパターン形成用フィルムの表面を保護するこ
とができる。The exposure apparatus according to the present invention intermittently supplies the protective film to the surface of the pattern-forming film by means of supplying a new protective film every time a necessary number of exposure operations are performed, and renews the surface of the pattern-forming film. can be protected.

（実施例） 以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説明する。(Example) Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described based on the drawings.

第１図はこの発明の一実施例である露光装置の側断面図
であり、図中、前記従来例におけると同−又は相当構成
要素は同一符号で表わし、重複説明は省略する。FIG. 1 is a side sectional view of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. In the figure, the same or equivalent components as in the conventional example are denoted by the same reference numerals, and redundant explanation will be omitted.

また同図中、７はパターン形成用フィルム１の表面を保
護する帯状の保護フィルム１０を巻回した供給ロール、
８はパターン形成用フィルムｌで使用された保護フィル
ム１０を巻き取る巻き取りロール、９は保護フィルム１
０に“しわ”を発生させないために保護フィルム１０を
緊張させるテンションロールである。Further, in the figure, 7 is a supply roll wound with a band-shaped protective film 10 for protecting the surface of the pattern forming film 1;
8 is a winding roll for winding up the protective film 10 used in the pattern forming film 1; 9 is a winding roll for winding up the protective film 1;
This is a tension roll that tensions the protective film 10 to prevent wrinkles from forming on the film.

上記供給ロール７、巻き取りロール８．テンシ！−ンロ
ール９によって、保護フィルム供給手段（Ｅ）か構成さ
れている。The supply roll 7, the take-up roll 8. Tenshi! - The roll 9 constitutes a protective film supply means (E).

次に、この一実施例の動作を、手段（Ｅ）を中心にして
第１図を用いて説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained with reference to FIG. 1, focusing on means (E).

第１図において、露光面ガラス５上にパターン形成用フ
ィルムｌをセットする。次に、帯状の保護フィルム１０
を供給ロール７から、パターン形成用フィルム１の−Ｆ
面を被覆して、巻き取りロール８にセットする（１段（
Ｅ））。テンションロール９は通常のテンション機構（
図示せず）により、矢印の方向へ保護フィルム１０を押
すようにされている（手段（Ｅ））ため、露光面ガラス
５　ｌｘでは“しわ”を発生しない。この状態でカバー
シート６を被せた？＆５基板３．パターン形成フィルム
１および保護フィルム１０を真空装置（図示せず）によ
り真空密着させ、露光用ＵＶランプ４によって所定の露
光を行う。露光が完ｒしたＪｌ（板３は、カバーシート
６が除かれた後に露光ｒｌ’ｌｉ　Ｂより外へ排出され
る。この際に、保護フィルム１０を通常の一定量、自動
または手動の巻き取り機構（図示せず）により、基板３
の長さ分だけ巻き取りロール８に巻き取り、供給ロール
７より新しい保護フィルム１０をパターン形成用フィル
ム１上に供給する（手段（Ｅ））。In FIG. 1, a pattern forming film 1 is set on an exposure glass 5. As shown in FIG. Next, a strip-shaped protective film 10
-F of the pattern forming film 1 from the supply roll 7
Cover the surface and set it on the take-up roll 8 (1 stage (
E)). The tension roll 9 is a normal tension mechanism (
(not shown) to push the protective film 10 in the direction of the arrow (means (E)), "wrinkles" do not occur on the exposure surface glass 5 lx. Did you cover it with cover sheet 6 in this state? &5 board 3. The pattern forming film 1 and the protective film 10 are brought into close contact with each other in a vacuum using a vacuum device (not shown), and a predetermined exposure is performed using an exposure UV lamp 4. After the exposure has been completed, the plate 3 is discharged from the exposed plate 3 after the cover sheet 6 is removed. At this time, the protective film 10 is rolled up by a regular fixed amount automatically or manually. By a mechanism (not shown), the substrate 3
The protective film 10 is wound up on a take-up roll 8 by the length of , and a new protective film 10 is supplied onto the pattern forming film 1 from the supply roll 7 (means (E)).

このように基板３上のパターン（図示せず）を形成する
１回の露光ごとにキズ等のない新しい保護フィルム１０
を用いれば、万一、保護フィルム１０上に基板３のパタ
ーン形成に重大な欠陥を引き起こすキズが発生した場合
においても、影響を与えるのは最大でも基板３の１枚で
ある。このため、特に連続して基板３を自動供給するよ
うな生産性の高い自動露光装置において、同一の保護フ
ィルム１０のキズ等で大量の不良を発生させることはな
い。In this way, a new protective film 10 with no scratches etc. is removed each time a pattern (not shown) is formed on the substrate 3.
If this is used, even if a scratch occurs on the protective film 10 that causes a serious defect in the pattern formation of the substrate 3, at most one of the substrates 3 will be affected. Therefore, especially in a highly productive automatic exposure apparatus that automatically feeds substrates 3 continuously, a large number of defects will not occur due to scratches or the like on the same protective film 10.

また、この一実施例では厚さの相違するパターン形成用
フィルム１と保護フィルム１０が圧着−体化されていな
いため、伸縮率の相違による“しわ”の発生や、パター
ン形成用フィルム１の反りねじれ、又はこの反りねじれ
に起因する寸法不良等は皆無となった。In addition, in this embodiment, the pattern forming film 1 and the protective film 10, which have different thicknesses, are not bonded together, so "wrinkles" may occur due to the difference in expansion and contraction ratio, and the pattern forming film 1 may warp. There were no dimensional defects caused by twisting or warping or twisting.

以上のように、この一実施例によれば、保護フィルム！
０を帯状にし、ロール７．８による供給、ａき取りを行
うようにした手段（Ｅ）により、保護フィルムｌＯとパ
ターン形成用フィルム１を分離することができ、常に新
しい保護フィルムｌＯで露光作業ができるため、ｐ度の
高い基板３のパターン形成に適し、また保護フィルム１
０の破Ｉ１１等に起因した連続する同一不良を大量に発
生させることを抑制できる効果がある。As described above, according to this embodiment, the protective film!
By means (E) in which the protective film 10 is made into a strip and is supplied by a roll 7.8 and removed by a, the protective film 10 and the pattern forming film 1 can be separated, and the exposure operation can always be carried out using a new protective film 10. Therefore, it is suitable for pattern formation on a substrate 3 with a high p degree, and it is also suitable for forming a pattern on a substrate 3 with a high p degree.
This has the effect of suppressing the occurrence of a large number of successive identical defects caused by failure of 0 I11 or the like.

なお、萌記−実施例では片面の露光装置Ａを示したが、
基板３の両面を同時に露光する装置においても同様に、
第１図の４−面側に萌記−実施例と同様に供給ロール７
、巻き取りロール８およびテンションロール９等を設け
ることにより、前記と同様な作用と効果が得られる。In addition, although the single-sided exposure apparatus A was shown in the Moekki Example,
Similarly, in an apparatus that exposes both sides of the substrate 3 at the same time,
On the 4th side of FIG.
, the winding roll 8, the tension roll 9, etc., the same functions and effects as described above can be obtained.

さらに、保護フィルム供給手段による保護フィルムの移
送供給は、パターンの種類に応じて二回以上の露光操作
後に働かせるようにしても良い。Further, the protective film supply means may transport and supply the protective film after two or more exposure operations depending on the type of pattern.

（発明の効果） 以上説明したように、この発明によれば、印刷配線板（
基板）の露光装置に、基板上にパターンを形成する一回
ないし二回以上の必要回数の露光ごとに、該パターン形
成用フィルム表面を保護する保護フィルムを間欠的に供
給し、更新する保護フィルム供給手段を設けたことによ
り、保護フィルム上に生じる破損を最少限にとどめると
ともに、保護フィルム上に“しわ”を生じさせず露光す
ることができる効果がある。(Effect of the invention) As explained above, according to the present invention, the printed wiring board (
A protective film that intermittently supplies and renews a protective film that protects the surface of the pattern-forming film to an exposure device for a substrate (substrate) each time a required number of exposures (one or two or more times) to form a pattern on the substrate. The provision of the supply means has the effect of minimizing damage to the protective film and allowing exposure without causing "wrinkles" on the protective film.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第１図はこの発明の一実施例である露光装置の側断面図
、第２図は従来例の露光装置の側断面図である。 Ａ−・・・・・露光装置 Ｅ−・・・・・保護フィルム供給手段 １・・・・・・パターン形成用フィルム２．１０・・・
・・・保護フィルム ３・・・・・・基板 ７・・・・・・供給ロール ８・・・・・・巻き取りロール ９・・・・・・テンションロール 第１図 第２図FIG. 1 is a side sectional view of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side sectional view of a conventional exposure apparatus. A-... Exposure device E-... Protective film supply means 1... Pattern forming film 2.10...
... Protective film 3 ... Substrate 7 ... Supply roll 8 ... Take-up roll 9 ... Tension roll Fig. 1 Fig. 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 基板上にパターンを形成する必要回数の露光操作の度毎
に、該パターン形成用フィルムの表面を保護する保護フ
ィルムを間欠的に供給し更新する保護フィルム供給手段
を設けたことを特徴とする印刷配線板の露光装置。Printing characterized by being provided with a protective film supply means that intermittently supplies and renews a protective film that protects the surface of the pattern forming film every time a necessary number of exposure operations are performed to form a pattern on a substrate. Exposure equipment for wiring boards.