JPH01247503A - 磁性粒子およびその製造方法 - Google Patents

磁性粒子およびその製造方法

Info

Publication number
JPH01247503A
JPH01247503A JP63077395A JP7739588A JPH01247503A JP H01247503 A JPH01247503 A JP H01247503A JP 63077395 A JP63077395 A JP 63077395A JP 7739588 A JP7739588 A JP 7739588A JP H01247503 A JPH01247503 A JP H01247503A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
core
magnetic particles
coating layer
magnetic
cores
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63077395A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiji Moro
英治 茂呂
Yoshikazu Narumiya
成宮　義和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP63077395A priority Critical patent/JPH01247503A/ja
Priority to US07/187,235 priority patent/US4882224A/en
Publication of JPH01247503A publication Critical patent/JPH01247503A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16D—COUPLINGS FOR TRANSMITTING ROTATION; CLUTCHES; BRAKES
    • F16D37/00—Clutches in which the drive is transmitted through a medium consisting of small particles, e.g. centrifugally speed-responsive
    • F16D37/02—Clutches in which the drive is transmitted through a medium consisting of small particles, e.g. centrifugally speed-responsive the particles being magnetisable
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/16—Metallic particles coated with a non-metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
    • H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
    • H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
    • H01F1/032—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of hard-magnetic materials
    • H01F1/04—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of hard-magnetic materials metals or alloys
    • H01F1/06—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of hard-magnetic materials metals or alloys in the form of particles, e.g. powder
    • H01F1/061—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of hard-magnetic materials metals or alloys in the form of particles, e.g. powder with a protective layer
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
    • H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
    • H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
    • H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
    • H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
    • H01F1/20—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys in the form of particles, e.g. powder
    • H01F1/22—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys in the form of particles, e.g. powder pressed, sintered, or bound together
    • H01F1/24—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys in the form of particles, e.g. powder pressed, sintered, or bound together the particles being insulated
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16D—COUPLINGS FOR TRANSMITTING ROTATION; CLUTCHES; BRAKES
    • F16D37/00—Clutches in which the drive is transmitted through a medium consisting of small particles, e.g. centrifugally speed-responsive
    • F16D2037/002—Clutches in which the drive is transmitted through a medium consisting of small particles, e.g. centrifugally speed-responsive characterised by a single substantially axial gap in which the fluid or medium consisting of small particles is arranged
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/90—Magnetic feature
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • Y10T428/2991—Coated
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • Y10T428/2991—Coated
    • Y10T428/2993—Silicic or refractory material containing [e.g., tungsten oxide, glass, cement, etc.]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Hard Magnetic Materials (AREA)
  • Soft Magnetic Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、磁性粒子、特に、電磁クラッチ等の電磁連結
装置に用いる耐久性に優れた磁性粒子およびその製造方
法に関する。
〈従来の技術〉 電磁クラッチは、磁性粒子を媒体としてトルクの伝達を
行うものであるが、高負荷あるいは高頻度で使用される
と、例えば磁性粒子が純鉄であるような場合、磁性粒子
が微細な粉末にまで破壊されたり、磁性粒子が過熱して
その表面が酸化されて磁気特性が劣化し、伝達トルクが
低下してしまう。
このような問題点に対し、磁性粒子の耐久性を向上する
ために、磁性粒子の材質としてＦｅにＡ１、Ｓｉ％Ｃｒ
％　８％Ｎｂ等を添加したものを用いたり（特公昭５６
−３１４５１号公報等）、あるいは純鉄粒子の表面にＣ
ｒやＡＩをメツキした粒子などを用いることも試みられ
たが、十分な耐久性は得られていない。
また、磁性粒子の硬度を高めるために、アモルファス磁
性粉の使用も提案されている（特開昭５９−１５９４３
５号、特開昭６１−１７５３２９号公報等）が、アモル
ファス磁性粉はビッカース硬度７００以上の硬いものが
得られる反面、熱に対する信頼性が低く、また、トルク
伝達効率に優れた球状性粉が得られない。
そこで本発明者らは、先に、磁性を有する芯部と、この
芯部を被覆する被覆層とを有し、被覆層がＴｉならびに
Ｎおよび／またはＣを含有するか、あるいはＡｌ１およ
びＮを含有し、好ましくは芯部に振動を与えながらプラ
ズマＣＶＤ法により設層したものである磁性粒子を提案
している（特願昭６２−４９０２８号）。
〈発明が解決しようとする課題〉 この提案のものは、高負荷あるいは高頻度の使用におい
ても表面の熱酸化、破壊等がなく、耐久性にすぐれた電
磁クラッチ等の電磁連結装置用の磁性粒子として機能す
る。
本発明は、このような機能を実現するさらに他の被覆層
を提供しようとするものである。
すなわち本発明の目的は、高負荷あるいは高頻度の使用
においても表面の熱酸化、破壊等がなく、耐久性に優れ
た電磁り゛ラッチ等の電磁連結装置用の磁性粒子および
その製造方法を提供することにある。
く課題を解決するための手段〉 このような目的は、以下の本発明によって達成される。
すなわち、本発明は、磁性を有する芯部と、この芯部を
被覆する被覆層とを有し、 被覆層が酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、窒化ケ
イ素および炭化ケイ素のうちの１種以上を含有すること
を特徴とする磁性粒子である。
また、本発明は、磁性を有する芯部と、この芯部を被覆
する被覆層とを有し、被覆層が酸化アルミニウム、酸化
ジルコニウム、窒化ケイ素および炭化ケイ素のうちの１
種以上を含有する磁性粒子の製造方法であって、 前記芯部に振動を与えながら、プラズマＣＶＤ法により
前記被覆層を設層することを特徴とする磁性粒子の製造
方法である。
以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。
本発明の磁性粒子は、磁性を有する芯部と、この芯部を
被覆する被覆層とを有し、被覆層は酸化アルミニウム、
酸化ジルコニウム、窒化ケイ素および炭化ケイ素のうち
の１種以上を含有する。
酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、窒化ケイ素およ
び炭化ケイ素は一般にそれぞれの化学量論組成、ＡＩＬ
２０ｓ　ｓ　ＺｒＯ％Ｓ　Ｌ３Ｎ４およびＳｉＣとして
含有されるが、これらから偶奇した組成のものであって
もよい。　偶奇の程度は、それぞれＡｆｌを１としたと
き０は１．３〜１．６、Ｚｒを１としたとき０は１．８
〜２．フ、Ｓｔを１としたときＮは１．３〜１．５、Ｃ
は０．９〜１．１程度である。
また、これら各化合物は２種以上含有されてもよく、２
〜４種含有される場合、それらの量比は任意である。
また、被覆層中には、これらの他、Ｈ，ＣＪＺ等が含有
されてもよく、Ｏが含有される場合、その含有量は１５
ａｔ％以下が好ましい、　このような被覆層の厚さは、
２〜７μｍ程度、より好ましくは、３〜５μｍ程度が好
ましい。
被覆層の厚さが２μｍ未満であると耐久性が不十分であ
り、７μｍを越えると芯部との接着強度が不十分となり
、被覆層が剥れやすくなる。
芯部を構成する材質は、磁性を有するものであればどの
よう゛なものであってもよいが、電磁クラッチ等の電磁
連結装置に用いる場合には、コスト等の点で、Ｆｅある
いは、Ｆｅ−Ｃｒ。
Ｆｅ−Ｃｒ−３ｉ、　　Ｆｅ−Ｂ−３ｉ　　％　Ｆｅ　
　−Ｃｒ−３ｔ−Ａｎ、　　Ｆｅ−Ｂ−３ｔ−Ｃｒ。
Ｆｅ−Ｐ−Ｃ，Ｆｅ−Ｐ−Ｃ−Ｃｒ等の合金が好ましい
。　　また、これらは、アトマイズ粉であることが好ま
しい。　このような芯部の粒径は、用途にもよるが３０
〜８０μｍ程度である。
なお、後述する本発明の磁性粒子の製造方法によれば、
磁性を有する芯部に限らず、一般の微細な粒子に上記の
ような高硬度で耐久性に優れた被覆層を設けることがで
きる。
次に、本発明の磁性粒子の製造方法を説明する。
本発明の磁性粒子は、芯部が上記のような被Ｎ層に被覆
されて構成されるが、芯部に被覆層を設層するに際して
は、芯部に振動を与え、振動している芯部にプラズマＣ
ＶＤ法により被覆層を設層する。
具体的には、例えば、設層時に芯部を多数載置する載置
盤に振動子を取り付け、載置盤を介して芯部に振動を与
える。　　このとき載置盤上の芯部は一定の厚さをもっ
た粉体層として存在するが、振動が与えられると、この
芯部層が攪拌され層の内部で芯部の流れが生じ、芯部層
表面に存在する芯部が次々に入れ替わる。　この芯部層
の表面に存在する芯部の表面に、プラズマＣＶＤ法によ
り被覆層を設層することにより、すべての芯部の表面に
被覆層をムラなく均一な厚さに設層することができる。
上記の載置盤に加える振動は、載置盤上のすべての芯部
にムラなく被覆層を設層するため、載置盤の周方向の成
分を有することが好ましい。　また、このような振動の
周波数は、載置盤の大きさにもよるが、５０〜２００Ｈ
ｚ程度、据幅は、０．２〜０．５ｍｍ程度が好ましい。
さらに、上記と同様な理由から、載置盤には溝を設ける
ことが好ましい。　溝は載置盤に放射状に設けられるこ
とが好ましく、より好ましくは、載置盤の径方向に対し
一定の角度を有する溝を設ける。　なお、溝は湾曲して
いてもよい。
プラズマＣＶＤ法は、高周波法によっても、また、マイ
クロ波法によってもよい。
高周波法を用いるときは、１〜３０ＭＨｚ。
１００Ｗ〜２ＫＷ程度の電力を投入すればよい。
また、マイクロ波法によるときは、１〜１０ＧＨｚ、１
００〜ＩＫＷ程度の電力を投入すればよい。
原料ガスとしては、被覆層の組成に応じ種々のものを用
いる。
例えば、ＡＩＬｔＯｓ　　被覆層の場合は、Ａ　ＩＬ　
Ｃ１１ｓ等のハロゲン化アルミニウムまたはＡｉ　（Ｏ
Ｃ２Ｈｓ　）　３、Ａｎ　（ＯＣＨｓ　）ｓ等のアルミ
ニウムアルコキシド等と０２、ＣＯ２、Ｃｏ、Ｈ２０ガ
ス等を用いればよい。
また、ＺｒＯ２被覆層の場合は、Ｚ　ｒ　ＣｊＺ４等の
ハロゲン化ジルコニウムや、 Ｚｒ　（ＯＣＨ３）ｓ等のジルコニウムアルコキシド等
と０２等を用いればよい。
また、Ｓｉ３Ｎ４被覆層を形成する場合は、Ｓ　ｉ　Ｃ
１４等のハロゲン化シランやＳｉ（ＣＨ３）４等のシラ
ン化合物とＮ　２　、Ｎ　Ｈ３等を用い、ＳｉＣ被覆層
を形成する場合は、シラン化合物とＣＨ４、Ｃ２Ｈａ等
の炭化水素ガスを用いる。
これらは混合して用いてもよい。
キャリアーガスとしては、Ｈ２、Ａｒ１　Ｈｅ等、特に
Ｈ２を用いることが好ましい。
作動圧力はＯ，ｌ〜１．５Ｔｏｒｒ程度、芯部の温度は
３００〜７００℃程度とすればよい。
また、パワー密度は０　、　１〜１０　Ｗ／ｃｍ’、成
膜速度は１００〜５００人／　ｍ　ｉ　ｎ程度とすれば
よい。
以上のようにして製造された本発明の磁性粒子は、磁性
を有する芯部の表面全面に、ムラなく均一で耐摩耗性、
耐衝磁性および耐酸化性に優れた被覆層を有することに
なる。
なお、特開昭５１３−１７１５０２号公報には、セラミ
ックの表面層と金属の芯部とよりなるセラミックー金属
複合微粉末体の製造方法が記載されているが、この方法
によっては本発明の磁性粒子は製造することができず、
また、この方法により磁性を有する粒子を製造しても、
磁気特性の良好な磁性粒子は得られない。
〈実施例〉 ［実施例１］ 下記表１に示す条件にて、プラズマＣＶＤ法により本発
明の磁性粒子を製造した（サンプルＮｏ、１．３．４．
５．６）。
なお、磁性粒子の芯部は表１に示す組成のアトマイズ粉
であり、その平均粒径は５０μｍとした。　また、被覆
層の厚さは３μｍとした。
なお、プラズマＣＶＤにおいて、芯部の載置盤は直径２
００ｍｍのディスク状とし、その表面には、放射状に溝
を設けた。　そして、載置盤には、振動子により振動数
１５０Ｈｚ、振幅０．４ｍｍの振動を与えた。
このようにして設層された被覆層の厚さは、３μｍ±２
０％以内の均一なものであった。
［比較例１］ 比較例として、被覆層を設けない他は実施例１のサンプ
ルと同様な磁性粒子を作製した（サンプルＮ００２．７
）。
以上のサンプルについて、０ｗｍ　　（ｅａｕ　／ｇ）
およびＨｖ　　（Ｋ　ｇ　／　ｍ　ｍ　”　）を測定し
た。
結果を表１に示す。
［実施例２コ 実施例１のサンプルＮｏ、１．３．４．５．６および７
の磁性粒子および比較例１のサンプルＮＯ１２および８
の磁性粒子を用いて耐久試験を行なった。　実施例１の
サンプルでは１００００時間経過後もトルク伝達効率の
低下はみられなかったが、比較例１のサンプルでは、１
００００時間経過後に４０％前後のトルク伝達効率の低
下がみられた。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
なお、このような効果は、Ａ１２０３、ＺｒＯ２、Ｓｉ
Ｃ，Ｓｉ３Ｎ４の混合膜でも実現した。
く効果〉 本発明の磁性粒子は耐摩耗性、耐衝撃性および耐酸化性
が高く、電磁連結装置等に用いれば、高負荷、高頻度の
使用でも磁気特性の劣化がなく、耐久性が高いものであ
る。
また、本発明の磁性粒子は、製造に際し、芯部に振動を
与えながらプラズマＣＶＤ法により被覆層を設層する。
このため、すべての芯部の表面全面にムラなく均一に被
覆層が設層でき、耐久性の高い磁性粒子が高生産性、高
信頼性で得られる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）磁性を有する芯部と、この芯部を被覆する被覆層
    とを有し、 被覆層が酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、窒化ケ
    イ素および炭化ケイ素のうちの１種以上を含有すること
    を特徴とする磁性粒子。
  2. （２）磁性を有する芯部と、この芯部を被覆する被覆層
    とを有し、被覆層が酸化アルミニウム、酸化ジルコニウ
    ム、窒化ケイ素および炭化ケイ素のうちの１種以上を含
    有する磁性粒子の製造方法であって、 前記芯部に振動を与えながら、プラズマ ＣＶＤ法により前記被覆層を設層することを特徴とする
    磁性粒子の製造方法。
JP63077395A 1988-03-30 1988-03-30 磁性粒子およびその製造方法 Pending JPH01247503A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63077395A JPH01247503A (ja) 1988-03-30 1988-03-30 磁性粒子およびその製造方法
US07/187,235 US4882224A (en) 1988-03-30 1988-04-28 Magnetic particles, method for making and electromagnetic clutch using same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63077395A JPH01247503A (ja) 1988-03-30 1988-03-30 磁性粒子およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01247503A true JPH01247503A (ja) 1989-10-03

Family

ID=13632703

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63077395A Pending JPH01247503A (ja) 1988-03-30 1988-03-30 磁性粒子およびその製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4882224A (ja)
JP (1) JPH01247503A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02115565U (ja) * 1989-02-28 1990-09-17
US6827758B2 (en) 2001-05-30 2004-12-07 Tdk Corporation Method for manufacturing magnetic metal powder, and magnetic metal powder
CN107475689A (zh) * 2017-08-28 2017-12-15 常州亿晶光电科技有限公司 一种改善理想机台沉积ALOx膜均匀性的方法

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5045390A (en) * 1988-04-22 1991-09-03 Konica Corporation Magnetic recording medium
US5084342A (en) * 1988-04-28 1992-01-28 Konica Corporation Magnetic recording medium
ES2066851T3 (es) * 1988-05-24 1995-03-16 Anagen Uk Ltd Particulas atraibles magneticamente y metodo de preparacion.
US5175056A (en) * 1990-06-08 1992-12-29 Potters Industries, Inc. Galvanically compatible conductive filler
US5399432A (en) * 1990-06-08 1995-03-21 Potters Industries, Inc. Galvanically compatible conductive filler and methods of making same
CA2070779A1 (en) * 1990-10-09 1992-04-10 Iver E. Anderson Environmentally stable reactive alloy powders and method of making same
DE4140900A1 (de) * 1991-12-12 1993-06-17 Basf Ag Als carrier fuer die elektrophotographie geeignete teilchen
WO1996012048A2 (en) * 1994-10-11 1996-04-25 Gelest, Inc. Conformal titanium-based films and method for their preparation
DE19746332C2 (de) * 1997-02-19 1999-10-07 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtung zum Beschichten von Bauteilen oder anderen Materialien
KR20010032764A (ko) 1997-12-02 2001-04-25 베리 아이클스 아이오도사일렌 전구체로부터 형성된 실리콘계 필름과 그제조방법
US6410433B1 (en) 1999-04-27 2002-06-25 Tokyo Electron Limited Thermal CVD of TaN films from tantalum halide precursors
US6265311B1 (en) 1999-04-27 2001-07-24 Tokyo Electron Limited PECVD of TaN films from tantalum halide precursors
US6268288B1 (en) 1999-04-27 2001-07-31 Tokyo Electron Limited Plasma treated thermal CVD of TaN films from tantalum halide precursors
US6410432B1 (en) 1999-04-27 2002-06-25 Tokyo Electron Limited CVD of integrated Ta and TaNx films from tantalum halide precursors
US6413860B1 (en) 1999-04-27 2002-07-02 Tokyo Electron Limited PECVD of Ta films from tanatalum halide precursors
US20010051215A1 (en) * 2000-04-13 2001-12-13 Gelest, Inc. Methods for chemical vapor deposition of titanium-silicon-nitrogen films
US6486822B1 (en) 2000-06-07 2002-11-26 The Boeing Company Chemically modified radar absorbing materials and an associated fabrication method
US20050250028A1 (en) * 2004-05-07 2005-11-10 Qian Julie Y Positively charged coated electrographic toner particles and process
US20050249871A1 (en) * 2004-05-07 2005-11-10 Zbigniew Tokarski Process for coating particles
US7183030B2 (en) 2004-05-07 2007-02-27 Samsung Electronics Company Negatively charged coated electrographic toner particles and process
US8247074B2 (en) * 2006-09-20 2012-08-21 Hitachi Metals, Ltd. Coated, fine metal particles comprising specific content of carbon and nitrogen, and their production method
JP5470683B2 (ja) * 2007-05-31 2014-04-16 Ｊｆｅスチール株式会社 圧粉磁心用金属粉末および圧粉磁心の製造方法
CA2792399A1 (en) * 2010-04-01 2011-10-06 Hoeganaes Corporation Magnetic powder metallurgy materials
JP6057938B2 (ja) * 2014-03-20 2017-01-11 株式会社栗本鐵工所 磁気粘性流体及びこれを用いたクラッチ
JP6243298B2 (ja) * 2014-06-13 2017-12-06 株式会社豊田中央研究所 圧粉磁心およびリアクトル

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3429295A (en) * 1963-09-17 1969-02-25 Nuclear Materials & Equipment Apparatus for producing vapor coated particles
US4218507A (en) * 1975-01-13 1980-08-19 Graham Magnetics, Inc. Coated particles and process of preparing same
US4092459A (en) * 1975-01-13 1978-05-30 Graham Magnetics Incorporated Powder products
US4699082A (en) * 1983-02-25 1987-10-13 Liburdi Engineering Limited Apparatus for chemical vapor deposition
US4606941A (en) * 1983-07-21 1986-08-19 Jenkin William C Deposition metalizing bulk material by chemical vapor
US4632866A (en) * 1984-04-05 1986-12-30 Tdk Corporation Magnetic recording medium

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02115565U (ja) * 1989-02-28 1990-09-17
US6827758B2 (en) 2001-05-30 2004-12-07 Tdk Corporation Method for manufacturing magnetic metal powder, and magnetic metal powder
KR100603051B1 (ko) * 2001-05-30 2006-07-24 티디케이가부시기가이샤 자성 금속 분말의 제조방법 및 자성 금속 분말
US7416795B2 (en) 2001-05-30 2008-08-26 Tdk Corporation Method for manufacturing magnetic metal powder, and magnetic metal powder
CN107475689A (zh) * 2017-08-28 2017-12-15 常州亿晶光电科技有限公司 一种改善理想机台沉积ALOx膜均匀性的方法

Also Published As

Publication number Publication date
US4882224A (en) 1989-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH01247503A (ja) 磁性粒子およびその製造方法
US5070587A (en) Roll for use in heat treating furnace and method of producing the same
US5161306A (en) Roll for use in heat treating furnace and method of producing the same
JPS63169371A (ja) セラミツク溶射層の形成方法
JPS63216904A (ja) 磁性粒子およびその製造方法
JPS58125679A (ja) 熱処理台板用炭素質又は黒鉛質製品に対するセラミックのコ−ティング方法
JPS6059897A (ja) スピ−カ用振動板の製造方法
JPH0733559A (ja) セラミック溶射皮膜を備えた炭素製部材
JPS59150002A (ja) 粉末冶金用熱処理板
JPS6251913B2 (ja)
JPS63208208A (ja) 磁気デイスク用スライダ−材
JPH03138373A (ja) 耐摩耗性、耐熱衝撃性に優れたセラミック被覆材
JPH0717784A (ja) セラミック摺動部材およびその製造方法
JP3147511B2 (ja) 工具用アルミナ焼結体
JPH03274252A (ja) 耐摩耗性複合溶射材料とその製造方法
JPS63161522A (ja) 磁性粉末およびそれを用いた磁気記録媒体
JPH06293949A (ja) 摺動部材及びその製造方法
JPH0768440A (ja) 耐摩耗性セラミックス製電磁チャック部品及びその製造方法
JPS62222052A (ja) セラミツクス被覆体の製造法及びその被覆体
JPS63111103A (ja) 磁性合金粉末
JPH08246123A (ja) 密着耐久性に優れた金属化合物被覆層を有する炭素部材とその製造方法
JPS628700A (ja) スピ−カ用振動板
JPS63100105A (ja) 磁性合金粉末
JPS62148370A (ja) 高耐酸化性窒化ケイ素系セラミツクスの製造方法
SU549494A1 (ru) Спеченный фрикционный материал