JPH01242709A - 循環流動層による紛鉱石の還元操業法 - Google Patents
循環流動層による紛鉱石の還元操業法Info
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- JPH01242709A JPH01242709A JP6924188A JP6924188A JPH01242709A JP H01242709 A JPH01242709 A JP H01242709A JP 6924188 A JP6924188 A JP 6924188A JP 6924188 A JP6924188 A JP 6924188A JP H01242709 A JPH01242709 A JP H01242709A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21B—MANUFACTURE OF IRON OR STEEL
- C21B13/00—Making spongy iron or liquid steel, by direct processes
- C21B13/0033—In fluidised bed furnaces or apparatus containing a dispersion of the material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は循環流動層による粉鉱石の還元操業法に関する
ものである。
ものである。
［従来の技術］
近時鉄鉱原料の溶融還元法が注目を浴びているが、その
予備還元装置として、例λば流動層還元炉に外部粒子循
環装置に付設し、流動層還元炉の上部に設けられている
出口にサイクロンを接続し、還元ガスと同伴し飛散して
きた細粒子を捕捉し、サイクロンの下部には捕捉した粒
子を一時溜めるホッパーが接続し、このホッパーで一時
貯え、所定量を循環切出装置で流動層還元炉に戻す装置
がある。
予備還元装置として、例λば流動層還元炉に外部粒子循
環装置に付設し、流動層還元炉の上部に設けられている
出口にサイクロンを接続し、還元ガスと同伴し飛散して
きた細粒子を捕捉し、サイクロンの下部には捕捉した粒
子を一時溜めるホッパーが接続し、このホッパーで一時
貯え、所定量を循環切出装置で流動層還元炉に戻す装置
がある。
又本出願人はさきに特願昭６２−２６９２８３号明細書
において、微粉状鉄粉の流動層予備、還元装置における
循環量制御が容易な装置を提供した。
において、微粉状鉄粉の流動層予備、還元装置における
循環量制御が容易な装置を提供した。
第４図はその概要説明図である。
図において、１０は流動層還元炉、１Ｇは沈降基で、外
部粒子循環装置を構成する。沈降基１６は上部はサイク
ロン１１と連通してガスと還元鉄粉との選別系統が設け
られている。
部粒子循環装置を構成する。沈降基１６は上部はサイク
ロン１１と連通してガスと還元鉄粉との選別系統が設け
られている。
沈降基１６の下部は水平域２５を形成して流動層還元炉
ＩＯの下部と一体である。
ＩＯの下部と一体である。
還元炉ＩＯの炉底に還元ガス吹込みノズル１３が立設さ
れ、又制御ガス吹込みノズル２Ｂが沈降基１Ｂの下部に
横設される。１５は排出管である。
れ、又制御ガス吹込みノズル２Ｂが沈降基１Ｂの下部に
横設される。１５は排出管である。
流動層還元炉ＩＯにおいては還元ガス吹込みノズル１３
から還元ガスの吹き込みを得て流動層を形成し、還元作
用をうけて沈降基に充填層２８を形成する。 又沈降塔
の水平域においては還元鉄粉の充填層が形成されている
が、制御ガス吹込みノズル２６から前記水平域に制御ガ
スが吹き込まれて、循環流が与えられる。
から還元ガスの吹き込みを得て流動層を形成し、還元作
用をうけて沈降基に充填層２８を形成する。 又沈降塔
の水平域においては還元鉄粉の充填層が形成されている
が、制御ガス吹込みノズル２６から前記水平域に制御ガ
スが吹き込まれて、循環流が与えられる。
［発明が解決しようとする課題］
循環流動層による粉鉱の還元操業では流動層で、安定的
に粒子を移送・循環させることが重要であるが、更に粒
子移送層にも還元ガスを流すことは、反応上有利となる
。
に粒子を移送・循環させることが重要であるが、更に粒
子移送層にも還元ガスを流すことは、反応上有利となる
。
ところで安定的な粒子の移送や生産効率を上げるには、
移送層における通気性を必要とする。しかし、粒径分布
幅や粉鉱石の形状などの影響で、粒子の嵩密度が高くな
ると粒子移送管でのつまり、棚つり、スティッキングが
生じ安定的操業ができなくなる。
移送層における通気性を必要とする。しかし、粒径分布
幅や粉鉱石の形状などの影響で、粒子の嵩密度が高くな
ると粒子移送管でのつまり、棚つり、スティッキングが
生じ安定的操業ができなくなる。
本発明は移動層における通気を確保し、生産効率を向上
する循環流動層による粉鉱石の還元操業法を提供するも
のである。
する循環流動層による粉鉱石の還元操業法を提供するも
のである。
［課題を解決するだめの手段］
本発明は、循環流動層から排出された粉鉱石を固気分離
した後、粒子移送管を経て再度循環流動する還元操業法
において、粒子移送管における粉鉱石原料の充填状態の
空隙率を０．４以上に制御することを特徴とする循環流
動層による粉鉱石の還元操業法である。
した後、粒子移送管を経て再度循環流動する還元操業法
において、粒子移送管における粉鉱石原料の充填状態の
空隙率を０．４以上に制御することを特徴とする循環流
動層による粉鉱石の還元操業法である。
以下本発明を図面について説明する。
第１図において原料供給口Ｉ４より供給された粉鉱石は
還元ガス１３により上昇管１０で流動層を形成して還元
され、高速のガスとともにサイクロン１１に入り、粒子
のみ下降移送管１２を介して再度流動層にもどり、一部
は製品として取出口１５から回収される。
還元ガス１３により上昇管１０で流動層を形成して還元
され、高速のガスとともにサイクロン１１に入り、粒子
のみ下降移送管１２を介して再度流動層にもどり、一部
は製品として取出口１５から回収される。
原料の粉鉱石は必要に応じて性状の異なる鉱石を混合し
て使用されるが、この際、形状の差異や粒度分布、平均
粒径の差異により充填空隙率が異なる。
て使用されるが、この際、形状の差異や粒度分布、平均
粒径の差異により充填空隙率が異なる。
実験によると粉鉱石を適切に篩い分け、もしくは混合条
件を変えた場合の移送管におけるトラブル頻度と充填状
態における空隙率との関係は第２図のようになった。
件を変えた場合の移送管におけるトラブル頻度と充填状
態における空隙率との関係は第２図のようになった。
第２図により本発明は、流動させる粉鉱石粒子の充填層
状態での嵩密度を０．４以上となるものを用いる。従っ
てこの条件を満足させるため原料鉱石の選別、篩い分け
、物理性状（見掛密度、形状、嵩密度など）の異なる粒
子の混合などを事前に行う。
状態での嵩密度を０．４以上となるものを用いる。従っ
てこの条件を満足させるため原料鉱石の選別、篩い分け
、物理性状（見掛密度、形状、嵩密度など）の異なる粒
子の混合などを事前に行う。
その結果、通気が確保されるとともに、粉鉱石どうしの
あいだに空隙が確保されるために、還元の進行に伴い生
成した粒子表面の金属鉄による粒子間のスティッキング
が少くなる。
あいだに空隙が確保されるために、還元の進行に伴い生
成した粒子表面の金属鉄による粒子間のスティッキング
が少くなる。
第３図は第１表に示す４種類の鉱石を使用した時の充填
空隙率と下降移送管トラブル頻度の推移である。鉱石Ｃ
，Ｄは粗粒と細粒とに篩い分けて使用しているが、期間
５を除き下降移送管トラブルはなく良好に推移した。
空隙率と下降移送管トラブル頻度の推移である。鉱石Ｃ
，Ｄは粗粒と細粒とに篩い分けて使用しているが、期間
５を除き下降移送管トラブルはなく良好に推移した。
第 １ 表
［発明の効果コ
本発明は粒子移送管における粉鉱石の充填状態の空隙率
を０．４以上に制御するので粒子移送過程におけるつま
り、棚つり、スティッキングか防止される。
を０．４以上に制御するので粒子移送過程におけるつま
り、棚つり、スティッキングか防止される。
更に粒子移送層の空隙率が確保されるため移送層の通気
が安定するとともに、還元反応を移送層で行うこともで
きる。
が安定するとともに、還元反応を移送層で行うこともで
きる。
これらの結果、循環流動層における粒子の循環が安定し
円滑に還元が進行する。
円滑に還元が進行する。
第１図は本発明の説明図、第２図は空隙率と移送置トラ
ブル頻度の図表、第３図は充填空隙率と鉱石条件、トラ
ブル頻度の図表、第４図は比較例の説明図である。 ｌＯ：上昇管 ｌＩ：サイクロン１２：移
送管 １３：還元ガス代 理 人 弁理
士 茶野木 立 夫＝隙】 第３図
ブル頻度の図表、第３図は充填空隙率と鉱石条件、トラ
ブル頻度の図表、第４図は比較例の説明図である。 ｌＯ：上昇管 ｌＩ：サイクロン１２：移
送管 １３：還元ガス代 理 人 弁理
士 茶野木 立 夫＝隙】 第３図
Claims (1)
- 循環流動層から排出された粉鉱石を固気分離した後、粒
子移送管を経て再度循環流動する還元操業法において、
粒子移送管における粉鉱石原料の充填状態の空隙率を０
．４以上に制御することを特徴とする循環流動層による
粉鉱石の還元操業法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6924188A JPH01242709A (ja) | 1988-03-25 | 1988-03-25 | 循環流動層による紛鉱石の還元操業法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6924188A JPH01242709A (ja) | 1988-03-25 | 1988-03-25 | 循環流動層による紛鉱石の還元操業法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01242709A true JPH01242709A (ja) | 1989-09-27 |
Family
ID=13397059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6924188A Pending JPH01242709A (ja) | 1988-03-25 | 1988-03-25 | 循環流動層による紛鉱石の還元操業法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01242709A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6110527A (ja) * | 1984-06-15 | 1986-01-18 | バスフ アクチェン ゲゼルシャフト | α‐メチル置換ケトンの製法 |
| JPS62228870A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-07 | 新日本製鐵株式会社 | 流動層予備還元炉の炉外循環装置 |
-
1988
- 1988-03-25 JP JP6924188A patent/JPH01242709A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6110527A (ja) * | 1984-06-15 | 1986-01-18 | バスフ アクチェン ゲゼルシャフト | α‐メチル置換ケトンの製法 |
| JPS62228870A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-07 | 新日本製鐵株式会社 | 流動層予備還元炉の炉外循環装置 |
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