JPH01230601A - ビオロゲン構造を有するヒドロキシプロピルセルロース誘導体,その中間体及びそれらの製造方法 - Google Patents
ビオロゲン構造を有するヒドロキシプロピルセルロース誘導体,その中間体及びそれらの製造方法Info
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- JPH01230601A JPH01230601A JP5696388A JP5696388A JPH01230601A JP H01230601 A JPH01230601 A JP H01230601A JP 5696388 A JP5696388 A JP 5696388A JP 5696388 A JP5696388 A JP 5696388A JP H01230601 A JPH01230601 A JP H01230601A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子伝達機能団であるヒドロゲンfN造を有
するヒドロキシプロピルセルロース誘導体、その中間体
としてのトルエンスルホニル化ヒドロキシプロピルセル
ロース及びそれらの製造方法に関する。
するヒドロキシプロピルセルロース誘導体、その中間体
としてのトルエンスルホニル化ヒドロキシプロピルセル
ロース及びそれらの製造方法に関する。
ビオロゲンはそのカチオン基において可逆的な酸化還元
反応を行うことが知られており、電子伝達触媒(ETC
)として注目を集めている。これまで光化学変換、太陽
エネルギーの貯蔵あるいは高分子膜による電子輸送とい
った用途への応用のため、ビオロゲン構造を有する高分
子の合成に関して多くの研究がなされてきた。
反応を行うことが知られており、電子伝達触媒(ETC
)として注目を集めている。これまで光化学変換、太陽
エネルギーの貯蔵あるいは高分子膜による電子輸送とい
った用途への応用のため、ビオロゲン構造を有する高分
子の合成に関して多くの研究がなされてきた。
その中で、ビオロゲン構造を有するセルロースF 6体
は、そのヒドロキシル基がビオロゲンの光化学還元に対
して効率的な電子供与体として作用し、その結果、他の
高分子に比べて安定な親水性膜を形成することから、良
好な高分子電子キャリアーとして期待されている(例え
ばNature+ 285+p468 (1980)参
照)。
は、そのヒドロキシル基がビオロゲンの光化学還元に対
して効率的な電子供与体として作用し、その結果、他の
高分子に比べて安定な親水性膜を形成することから、良
好な高分子電子キャリアーとして期待されている(例え
ばNature+ 285+p468 (1980)参
照)。
本発明者等も、ビオロゲン構造をペンダントとして有す
るセルロース誘4体の合成とその酸化還元反応機構の解
明について研究を行ってきた。
るセルロース誘4体の合成とその酸化還元反応機構の解
明について研究を行ってきた。
しかしながら、従来用いられてきたセルロースは溶媒に
対して溶解性が低いことから、ビオロゲンへの転換率が
低く、又成膜性も悪かった。そのため、電子伝達触媒等
への実用性において劣る点があった。
対して溶解性が低いことから、ビオロゲンへの転換率が
低く、又成膜性も悪かった。そのため、電子伝達触媒等
への実用性において劣る点があった。
そこで、本発明者は電子伝達触媒等への実用化を図るた
め鋭意研究を行った結果、ヒドロキシプロピルセルロー
スを高分子として用いることにより、ビオロゲン構造の
導入率の向上及び成膜性の向上を図ることができ、本発
明に到達した。
め鋭意研究を行った結果、ヒドロキシプロピルセルロー
スを高分子として用いることにより、ビオロゲン構造の
導入率の向上及び成膜性の向上を図ることができ、本発
明に到達した。
即ち、本発明は粘度平均分子i1o、ooo 〜!io
o、o。
o、o。
Oを有するヒドロキシプロピルセルロースの分子内又は
分子間に、ビオロゲン構造を有する一般式%式%] (式中、Rはアルキル基並びにX及びYは各々IXロゲ
ン又はトルエンスルホニル基を示す)のいずれか1つで
表わされる基がヒドロキシプロピルセルロースの全ヒド
ロキシル基当り2〜30モル%共有結共有子いることを
特徴とするビオロゲン構造を有するヒドロキシプロピル
セルロース誘導体及びその中間体としてのトルエンスル
ホニル化ヒドロキシプロピルセルロース(上記ヒドロキ
シプロピルセルロースにヒドロキシル基を介してトルエ
ンスルホニル基がヒドロキシプロピルセルロースの全ヒ
ドロキシル基当り20〜100モル%結合している)を
提供する。
分子間に、ビオロゲン構造を有する一般式%式%] (式中、Rはアルキル基並びにX及びYは各々IXロゲ
ン又はトルエンスルホニル基を示す)のいずれか1つで
表わされる基がヒドロキシプロピルセルロースの全ヒド
ロキシル基当り2〜30モル%共有結共有子いることを
特徴とするビオロゲン構造を有するヒドロキシプロピル
セルロース誘導体及びその中間体としてのトルエンスル
ホニル化ヒドロキシプロピルセルロース(上記ヒドロキ
シプロピルセルロースにヒドロキシル基を介してトルエ
ンスルホニル基がヒドロキシプロピルセルロースの全ヒ
ドロキシル基当り20〜100モル%結合している)を
提供する。
本発明に使用されるヒドロキシプロピルセルロースは一
最式[■] (式中、RはHまたは+011mC11(CHs)0う
−、Hを示し、mは1以上の整数)で表わされる繰返し
単位を有する粘度平均分子量がio、ooo〜soo、
oooの高分子物質であり、Rが+CIl□C11(C
1ls)0→−、Hである割合は特に限定されないが水
溶性及び溶媒への可溶性を維持するに足りる量を有する
ことが好ましい。
最式[■] (式中、RはHまたは+011mC11(CHs)0う
−、Hを示し、mは1以上の整数)で表わされる繰返し
単位を有する粘度平均分子量がio、ooo〜soo、
oooの高分子物質であり、Rが+CIl□C11(C
1ls)0→−、Hである割合は特に限定されないが水
溶性及び溶媒への可溶性を維持するに足りる量を有する
ことが好ましい。
上記−m式[!]において、Rはアルキル基であり特に
限定されないが、特に低級アルキル基が好ましい。
限定されないが、特に低級アルキル基が好ましい。
上記ヒドロキシプロピルセルロース誘導体の製造方法は
次のとおり。
次のとおり。
粘度平均分子110.000〜500.000を有する
ヒドロキシプロピルセルロースと一般式[■]で表わさ
れるトルエンスルホニルクロリドとを溶媒中で反応させ
て上記トルエンスルホニル化ヒドロキシプロピルセルロ
ースを製造する。
ヒドロキシプロピルセルロースと一般式[■]で表わさ
れるトルエンスルホニルクロリドとを溶媒中で反応させ
て上記トルエンスルホニル化ヒドロキシプロピルセルロ
ースを製造する。
トルエンスルホニルクロリドの使用it ハ、トルエン
スルホニル基をヒドロキシプロピルセルロースにどれだ
け導入するかにより適宜選択しうるが、通常はヒドロキ
シプロピルセルロースのグルコース単位1モル当り5〜
30モルである。又、当該化合物はP−+ IM−及び
0−のいずれも使用しうる。
スルホニル基をヒドロキシプロピルセルロースにどれだ
け導入するかにより適宜選択しうるが、通常はヒドロキ
シプロピルセルロースのグルコース単位1モル当り5〜
30モルである。又、当該化合物はP−+ IM−及び
0−のいずれも使用しうる。
反応温度は0−100℃、好ましくは0〜10℃であり
、反応時間は1〜120hr 、好ましくは24〜36
hrである。
、反応時間は1〜120hr 、好ましくは24〜36
hrである。
又、使用しうる溶媒としては、アセトン、ピリジン、N
、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等
が挙げられるが、特にピリジンが好ましい。
、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等
が挙げられるが、特にピリジンが好ましい。
こうして得られたトルエンスルホニル化ヒドロキシプロ
ピルセルロースから、次の反応によりビオロゲン構造を
有するヒドロキシプロピルセルロース誘導体を製造する
。
ピルセルロースから、次の反応によりビオロゲン構造を
有するヒドロキシプロピルセルロース誘導体を製造する
。
(1) −m式[VI]
で表わされる4、4゛−ジピリジルと溶媒中で反応させ
ることにより一触式[■1 (ただし、この場合X及びYはいずれもトルエンスルホ
ニル基である)で表わされる基がヒドロキシプロピルセ
ルロースの分子内又は分子間において共有結合している
ヒドロキシプロピルセルロース誘導体、及び−m式[1
111 (ただし、この場合Xはトルエンスルホニル基である)
で表わされる基がヒドロキシプロピルセルロースに共有
結合しているヒドロキシプロピルセルロース誘導体を製
造する。
ることにより一触式[■1 (ただし、この場合X及びYはいずれもトルエンスルホ
ニル基である)で表わされる基がヒドロキシプロピルセ
ルロースの分子内又は分子間において共有結合している
ヒドロキシプロピルセルロース誘導体、及び−m式[1
111 (ただし、この場合Xはトルエンスルホニル基である)
で表わされる基がヒドロキシプロピルセルロースに共有
結合しているヒドロキシプロピルセルロース誘導体を製
造する。
こうして得られたヒドロキシルプロピルセルロース誘導
体は、全ヒドロキシル基当り2〜30モル%の上記−m
式[11]又は[I[l]で表わされる基を有している
。
体は、全ヒドロキシル基当り2〜30モル%の上記−m
式[11]又は[I[l]で表わされる基を有している
。
上記4.4゛−ジピリジルの使用量は、通常トルエンス
ルホニル化ヒドロキシプロピルセルロースのグルコース
単位/E1モル当り0.5〜5モルである。
ルホニル化ヒドロキシプロピルセルロースのグルコース
単位/E1モル当り0.5〜5モルである。
反応温度は50〜100℃、好ましくは80〜100℃
、反応時間は6〜48h「、好ましくは36〜48hr
である。
、反応時間は6〜48h「、好ましくは36〜48hr
である。
又、使用しうる溶媒としては、N、N−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ジク
ロルメタン等が挙げられるが、特にN。
アミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ジク
ロルメタン等が挙げられるが、特にN。
N−ジメチルホルムアミドが好ましい。
+21.−m式[■]
(式中、Rはアルキル基及びZはハロゲン原子を示す)
で表わされるl−アルキル−4−(4’−ピリジル)ピ
リジニウム塩と溶媒中で反応することにより一般式[1
F (ただし、この場合Rはアルキル基、Xはトルエンスル
ホニル基又はハロゲン原子及びYはハロゲン原子を示す
)で表わされる基がヒドロキシプロピルセルロースに共
有結合しているヒドロキシプロピルセルロース誘導体を
製造する。
で表わされるl−アルキル−4−(4’−ピリジル)ピ
リジニウム塩と溶媒中で反応することにより一般式[1
F (ただし、この場合Rはアルキル基、Xはトルエンスル
ホニル基又はハロゲン原子及びYはハロゲン原子を示す
)で表わされる基がヒドロキシプロピルセルロースに共
有結合しているヒドロキシプロピルセルロース誘導体を
製造する。
こうして得られたヒドロキシルプロピルセルロース誘導
体は、全ヒドロキシル基当り7〜30モル%の上記−m
式[1]で表わされる基を有している。
体は、全ヒドロキシル基当り7〜30モル%の上記−m
式[1]で表わされる基を有している。
上記1−アルキル−4−(4°−ピリジル)ピリジニウ
ム塩のアルキル基は特に限定されないが、低級アルキル
基が好ましい、又、当該化合物は通常トルエンスルホニ
ル化ヒドロキシプロピルセルロースのグルコース単位1
モル当り3〜10モル使用される。
ム塩のアルキル基は特に限定されないが、低級アルキル
基が好ましい、又、当該化合物は通常トルエンスルホニ
ル化ヒドロキシプロピルセルロースのグルコース単位1
モル当り3〜10モル使用される。
反応温度は50〜100℃、好ましくは80〜100℃
、反応時間は6〜60hr、好ましくは36〜48hr
である。
、反応時間は6〜60hr、好ましくは36〜48hr
である。
又、使用しうる溶媒としては、If、N−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ジ
クロロメタン等が挙げられるが、特にN。
ムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ジ
クロロメタン等が挙げられるが、特にN。
N−ジメチルホルムアミドが好ましい。
(3) ハロゲン化剤と溶媒中で反応させてハロゲン
化ヒドロキシプロピルセルロースを製造した後、得られ
たハロゲン化ヒドロキシプロピルセルロースを一般式[
■] (式中、Rはアルキル基及びZはハロゲン原子を示す)
で表わされるl−アルキル−4−(4°−ピリジル)ピ
リジニウム塩と溶媒中で反応させることにより一般式[
+1 (ただし、この場合Rはアルキル基並びにX及びYはい
ずれもハロゲン原子を示す)で表わされる基がヒドロキ
シプロピルセルロースに共有結合しているヒドロキシプ
ロピルセルロース誘導体を製造する。
化ヒドロキシプロピルセルロースを製造した後、得られ
たハロゲン化ヒドロキシプロピルセルロースを一般式[
■] (式中、Rはアルキル基及びZはハロゲン原子を示す)
で表わされるl−アルキル−4−(4°−ピリジル)ピ
リジニウム塩と溶媒中で反応させることにより一般式[
+1 (ただし、この場合Rはアルキル基並びにX及びYはい
ずれもハロゲン原子を示す)で表わされる基がヒドロキ
シプロピルセルロースに共有結合しているヒドロキシプ
ロピルセルロース誘導体を製造する。
こうして得られたヒドロキシプロピルセルロース誘導体
は、全ヒドロキシル基当り5〜10モル%の上記−°m
式[1]で表わされる基を有している。
は、全ヒドロキシル基当り5〜10モル%の上記−°m
式[1]で表わされる基を有している。
上記ハロゲン化剤としてはNaC1! 、にC1l、N
aBr、にBr+ Nal、 K1等が挙げられるが、
特にNalが好ましい、又、その使用量はトルエンスル
ホニル化ヒドロキシプロピルセルロースのグルコース単
位1モル当り3〜10モルである。
aBr、にBr+ Nal、 K1等が挙げられるが、
特にNalが好ましい、又、その使用量はトルエンスル
ホニル化ヒドロキシプロピルセルロースのグルコース単
位1モル当り3〜10モルである。
又、■−アルキルー4−(4’−ピリジル)ピリジニウ
ム塩は、アルキル基としては特に限定されないが低級ア
ルキルが好ましく、又その使用量は通常ハロゲン化ヒド
ロキシプロピルセルロースのグルコース単位1モル当り
3〜lOモルである。
ム塩は、アルキル基としては特に限定されないが低級ア
ルキルが好ましく、又その使用量は通常ハロゲン化ヒド
ロキシプロピルセルロースのグルコース単位1モル当り
3〜lOモルである。
ハロゲン化反応における反応温度は60〜120℃、好
ましくは100〜120℃、反応時間は12〜48hr
、好ましくは36〜48hrである。一方、■−アルキ
ルー4−(4゛、ピリジル)ピリジニウム塩との反応温
度は50〜100℃、好ましくは80〜100℃、反応
時間は6〜48hr 、好ましくは24〜48hrであ
る。
ましくは100〜120℃、反応時間は12〜48hr
、好ましくは36〜48hrである。一方、■−アルキ
ルー4−(4゛、ピリジル)ピリジニウム塩との反応温
度は50〜100℃、好ましくは80〜100℃、反応
時間は6〜48hr 、好ましくは24〜48hrであ
る。
又、使用溶媒はN、N−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、アセトニトリル、ジクロ口メタン等が
挙げられるが、特にN、N−ジメチルホルムアミドが好
ましい。
ルスルホキシド、アセトニトリル、ジクロ口メタン等が
挙げられるが、特にN、N−ジメチルホルムアミドが好
ましい。
なお、電子伝達機能を持つ誘導体としては、ビオロゲン
系以外にもニコチンアミド系、アロキサン系、リボ酸系
、ニトロキシラジカル系などがある。
系以外にもニコチンアミド系、アロキサン系、リボ酸系
、ニトロキシラジカル系などがある。
実施例1 (ヒドロキシプロピルセルロースのトルエン
スルホニル化) ヒドロキシプロピルセルロース(日本t 達Qm l、
粘度平均分子159000、ヒドロキシプロポキシル含
1ft63.2χ)3.3g(グルコース単位として9
s+mol に相当する)をピリジン100+w j中
に完全に溶解させ、9− )ルエンスルホニルクロリド
54yamol ’jr 加、t、0℃で30時間均一
反応を行った後、エチルエーテル中に投入し、生成物を
分離した。これをアセトン/エチルエーテル系で再沈精
製を繰り返し、置換率90molχ(D、S、、2.7
) のトシル化ヒドロキシプロピルセルロースを得た。
スルホニル化) ヒドロキシプロピルセルロース(日本t 達Qm l、
粘度平均分子159000、ヒドロキシプロポキシル含
1ft63.2χ)3.3g(グルコース単位として9
s+mol に相当する)をピリジン100+w j中
に完全に溶解させ、9− )ルエンスルホニルクロリド
54yamol ’jr 加、t、0℃で30時間均一
反応を行った後、エチルエーテル中に投入し、生成物を
分離した。これをアセトン/エチルエーテル系で再沈精
製を繰り返し、置換率90molχ(D、S、、2.7
) のトシル化ヒドロキシプロピルセルロースを得た。
トシル化ヒドロキシプロピルセルロースの分析結果は次
のとおりであった。
のとおりであった。
(1) 夏R: 1597. 902.
660 C11−’ (合) 、 1304
゜1175clI−’ (−5ow ) 、
925. 817C11−’(C−0−5) (21NMR: 7.8.7.3 ppm (合)
、 2.5 ppm(3) 溶解度: CHCl s
、 CllIC1!、C1hCN、 DMF。
660 C11−’ (合) 、 1304
゜1175clI−’ (−5ow ) 、
925. 817C11−’(C−0−5) (21NMR: 7.8.7.3 ppm (合)
、 2.5 ppm(3) 溶解度: CHCl s
、 CllIC1!、C1hCN、 DMF。
DMSO,THF 、アセトン、ピリジン等に可溶
Hx O+ M e OHsエーテル、ヘキサン等に不
溶 実施例2 (ビオロゲン構造を有するヒドロキシプロピ
ルセルロース誘導体の製造) 2−1〔式(A) (式中、Tsはトシルi l Prはプロピル基を示す
)で表わされるビオロゲン基を有するヒドロキシプロピ
ルセルロースの製造〕 実施例1で得たトシル化ヒドロキシプロピルセルロース
0.21g (グルコース単位として0.3a+mo
lに相当する)と1−プロピル−4−(4°−ピリジル
)ピリジウムプロミド1.8−molをDMFSmj中
に加え、80℃で24時間均一反応を行った後、水で再
沈し、置換率18.9solχの標記ビオロゲン構造を
有するヒドロキシプロピルセルロース誘導体Aを得た。
溶 実施例2 (ビオロゲン構造を有するヒドロキシプロピ
ルセルロース誘導体の製造) 2−1〔式(A) (式中、Tsはトシルi l Prはプロピル基を示す
)で表わされるビオロゲン基を有するヒドロキシプロピ
ルセルロースの製造〕 実施例1で得たトシル化ヒドロキシプロピルセルロース
0.21g (グルコース単位として0.3a+mo
lに相当する)と1−プロピル−4−(4°−ピリジル
)ピリジウムプロミド1.8−molをDMFSmj中
に加え、80℃で24時間均一反応を行った後、水で再
沈し、置換率18.9solχの標記ビオロゲン構造を
有するヒドロキシプロピルセルロース誘導体Aを得た。
この物質の分析結果は次のとおりであった。
(kl IR: 1620.840 cm−’ (
p−置換ピリジニウム劃 (2) NMR: 5.1 ppm (
’ll:Q1.− ) 、 8.1〜9.3
ppm(二@−) (3) 元素分析: C46,62,H6,58,N
1.66!41 N a 、 S 、Oaによる還
元反応:ビオロゲンカチオンラジカルによる青色を示し
た。
p−置換ピリジニウム劃 (2) NMR: 5.1 ppm (
’ll:Q1.− ) 、 8.1〜9.3
ppm(二@−) (3) 元素分析: C46,62,H6,58,N
1.66!41 N a 、 S 、Oaによる還
元反応:ビオロゲンカチオンラジカルによる青色を示し
た。
+51 UV : NatS*Oa水溶液中で605
n−にビオロゲン基に基づく吸収があった。
n−にビオロゲン基に基づく吸収があった。
(6) サイクリックボルタ、モグラム:金電極にキ
ャストした膜を0.2M MCl−トリスバッファー(
pH?、5)中で測定した結果、図に示すようにビオロ
ゲンの1電子還元及 び2電子還元に基づく酸化還元波を示 したCB+ −−0,44V、 B+ r −−0,
85V) −(7)溶解性:水、Meoll、アセトン
、ジクロロエタン、DMF等に可溶 エーテル、ヘキサン等に不溶 (8) アセトンに溶解し、80℃で3時間キャスト
して得た膜は水に不溶性 2−2〔式(B) (式中、Tsは上述のとおり)で表わされるビオロゲン
基を有するヒドロキシプロピルセルロース誘導体B及び
式(C) (式中、Tsは上述のとおり)で表わされるビオロゲン
基を有するヒドロキシプロピルセルロース誘ぷ体Cの製
造〕 実施例1で得たトシル化ヒドロキシプロピルセルロース
0.126g(グルコース単位として0.18s+mo
lに相当する)と4.4゛−ジピリジ7Lz0.54m
m+olをDMF3IIIe中に加え、100℃で24
時間反応を行い、標記ヒドロキソプロピルセルロースE
A LS体B及びCを得た。上記ビオロゲンの置換率は
Bが2.5s+olχ、Cが4.5■olχであった。
ャストした膜を0.2M MCl−トリスバッファー(
pH?、5)中で測定した結果、図に示すようにビオロ
ゲンの1電子還元及 び2電子還元に基づく酸化還元波を示 したCB+ −−0,44V、 B+ r −−0,
85V) −(7)溶解性:水、Meoll、アセトン
、ジクロロエタン、DMF等に可溶 エーテル、ヘキサン等に不溶 (8) アセトンに溶解し、80℃で3時間キャスト
して得た膜は水に不溶性 2−2〔式(B) (式中、Tsは上述のとおり)で表わされるビオロゲン
基を有するヒドロキシプロピルセルロース誘導体B及び
式(C) (式中、Tsは上述のとおり)で表わされるビオロゲン
基を有するヒドロキシプロピルセルロース誘ぷ体Cの製
造〕 実施例1で得たトシル化ヒドロキシプロピルセルロース
0.126g(グルコース単位として0.18s+mo
lに相当する)と4.4゛−ジピリジ7Lz0.54m
m+olをDMF3IIIe中に加え、100℃で24
時間反応を行い、標記ヒドロキソプロピルセルロースE
A LS体B及びCを得た。上記ビオロゲンの置換率は
Bが2.5s+olχ、Cが4.5■olχであった。
これらの物質の生成を確認するための分析結果を次に示
す。
す。
2−3〔式(D)
(式中、Prはプロピル基を示す)で表わされるビオロ
ゲン基ヲ有するヒドロキシプロピルセルロース誘導体り
の製造〕 実施例1で得たトシル化ヒドロキシプロピルセルロース
0.7g(グルコース単位として1.0 mmolに相
当する)とNar 311aolをDMF5ml中に
加え、80℃で24時間反応を行い、ヨードによる置換
率27.7■olχのヨード化ヒドロキシプロピルセル
ロースを得た。
ゲン基ヲ有するヒドロキシプロピルセルロース誘導体り
の製造〕 実施例1で得たトシル化ヒドロキシプロピルセルロース
0.7g(グルコース単位として1.0 mmolに相
当する)とNar 311aolをDMF5ml中に
加え、80℃で24時間反応を行い、ヨードによる置換
率27.7■olχのヨード化ヒドロキシプロピルセル
ロースを得た。
次に、得られたヨード化ヒドロキシプロピルセルロース
0.15g(グルコース単位として0.351鴎o1に
相当する)と1−プロピル−4−(4’−ピリジル)ピ
リジニウムプロミド1.8鋼−olをDHF5sJ!中
に加え、100℃で48時間反応を行い、上記式(D)
で表わされるビオロゲンの置換率が7.8■olχであ
るヒドロキシプロピルセルロース誘導体りを得た。誘導
体りの分析結果を次に示す。
0.15g(グルコース単位として0.351鴎o1に
相当する)と1−プロピル−4−(4’−ピリジル)ピ
リジニウムプロミド1.8鋼−olをDHF5sJ!中
に加え、100℃で48時間反応を行い、上記式(D)
で表わされるビオロゲンの置換率が7.8■olχであ
るヒドロキシプロピルセルロース誘導体りを得た。誘導
体りの分析結果を次に示す。
(111R: 1620.840 cm−’ (p−
置換ピリジニウム塩) f21 NMR: 5.1 ppm (N
:Qlr )8、1−9.3 ppm (:e
)(3) 元素分析: C41,83、N5.54.
N1.36(4) 溶解性 :水、メタノール、
アセトン、N、 N−ジメチルホルムアミドに可溶 (5) 真空中における光化学還元 〔効果〕 従来のセルロースに比して、ヒドロキシプロピルセルロ
ースは溶媒に溶は易いため、化学反応性が良くなりビオ
ロゲンをより多く導入することが可能となると共に、得
られたビオロゲン構造を有スるヒドロキシプロピルセル
ロースの成s性t。
置換ピリジニウム塩) f21 NMR: 5.1 ppm (N
:Qlr )8、1−9.3 ppm (:e
)(3) 元素分析: C41,83、N5.54.
N1.36(4) 溶解性 :水、メタノール、
アセトン、N、 N−ジメチルホルムアミドに可溶 (5) 真空中における光化学還元 〔効果〕 従来のセルロースに比して、ヒドロキシプロピルセルロ
ースは溶媒に溶は易いため、化学反応性が良くなりビオ
ロゲンをより多く導入することが可能となると共に、得
られたビオロゲン構造を有スるヒドロキシプロピルセル
ロースの成s性t。
良くなる。また、ヒドロキシプロピルセルロースのトル
エンスルホニル化を経由することにより、ビオロゲン構
造を有するヒドロキシプロピルセルロース膜が容易に得
られる。そのため、電子伝達触媒や表示素子等としての
効率が格段に向上する。
エンスルホニル化を経由することにより、ビオロゲン構
造を有するヒドロキシプロピルセルロース膜が容易に得
られる。そのため、電子伝達触媒や表示素子等としての
効率が格段に向上する。
以上のとおり、本発明は、電子伝達触媒や表示素子等と
して有用なビオロゲン構造を有するヒドロキシプロピル
セルロース及びその中間体を提供するものである。
して有用なビオロゲン構造を有するヒドロキシプロピル
セルロース及びその中間体を提供するものである。
図は実施例2−1で得たヒドロキシプロピルセルロース
誘導体Aのサイクリックポルクモグラム
誘導体Aのサイクリックポルクモグラム
Claims (3)
- (1)粘度平均分子量10,000〜500,000を
有するヒドロキシプロピルセルロースの分子内又は分子
間に、ビオロゲン構造を有する次式[ I ]〜[III] ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[II] ▲数式、化学式、表等があります▼[III] (式中、Rはアルキル基及びX並びにYは各々ハロゲン
又はトルエンスルホニル基を示す)のいずれか1つで表
わされる基がヒドロキシプロピルセルロースの全ヒドロ
キシル基当り、2〜30モル%共有結合していることを
特徴とするビオロゲン構造を有するヒドロキシプロピル
セルロース誘導体。 - (2)粘度平均分子量10,000〜500,000を
有するヒドロキシプロピルセルロースと一般式[IV]▲
数式、化学式、表等があります▼[IV] で表わされるトルエンスルホニルクロリドとを反応させ
ることによりトルエンスルホニル基がヒドロキシプロピ
ルセルロースの全ヒドロキシル基当り20〜100モル
%結合したトルエンスルホニル化ヒドロキシプロピルセ
ルロースを製造し、ついで、得られたトルエンスルホニ
ル化ヒドロキシプロピルセルロースを、必要ならばハロ
ゲン化剤と反応させてハロゲン化ヒドロキシプロピルセ
ルロースを製造した後、一般式[VI] ▲数式、化学式、表等があります▼[VI] で表わされる4,4′−ジピリジル又は一般式[VII]
▲数式、化学式、表等があります▼[VII] (式中、Rはアルキル基及びZはハロゲンを示す)で表
わされる1−アルキル−4−(4′−ピリジル)ピリジ
ニウム塩と反応させることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載のビオロゲン構造を有するヒドロキシプロピ
ルセルロース誘導体の製造方法。 - (3)粘度平均分子量10,000〜500,000を
有するヒドロキシプロピルセルロースに、トルエンスル
ホニル基がヒドロキシプロピルセルロースの全ヒドロキ
シル基当り20〜100モル%共有結合したトルエンス
ルホニル化ヒドロキシプロピルセルロース。(4)粘度
平均分子量10,000〜500,000を有するヒド
ロキシプロピルセルロースと一般式[IV]▲数式、化学
式、表等があります▼[IV] で表わされるトルエンスルホニルクロリドとを反応させ
ることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のトルエ
ンスルホニル化ヒドロキシプロピルセルロースの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5696388A JPH01230601A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | ビオロゲン構造を有するヒドロキシプロピルセルロース誘導体,その中間体及びそれらの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5696388A JPH01230601A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | ビオロゲン構造を有するヒドロキシプロピルセルロース誘導体,その中間体及びそれらの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01230601A true JPH01230601A (ja) | 1989-09-14 |
Family
ID=13042189
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5696388A Pending JPH01230601A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | ビオロゲン構造を有するヒドロキシプロピルセルロース誘導体,その中間体及びそれらの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01230601A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100943417B1 (ko) * | 2008-03-14 | 2010-02-19 | 주식회사 폴리크롬 | 전기변색 비올로겐 유도체 및 대응전극물질 류코 염료를포함하는 전기변색 소자 |
JP2016035017A (ja) * | 2014-08-04 | 2016-03-17 | セイコーエプソン株式会社 | セルロース系材料、セルロース系部材および記録物 |
JP2016034731A (ja) * | 2014-08-04 | 2016-03-17 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物の製造方法および三次元造形物 |
-
1988
- 1988-03-10 JP JP5696388A patent/JPH01230601A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100943417B1 (ko) * | 2008-03-14 | 2010-02-19 | 주식회사 폴리크롬 | 전기변색 비올로겐 유도체 및 대응전극물질 류코 염료를포함하는 전기변색 소자 |
JP2016035017A (ja) * | 2014-08-04 | 2016-03-17 | セイコーエプソン株式会社 | セルロース系材料、セルロース系部材および記録物 |
JP2016034731A (ja) * | 2014-08-04 | 2016-03-17 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物の製造方法および三次元造形物 |
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