JPH01184010A - フイルター - Google Patents
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Landscapes
- Filtering Materials (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
iCフィルターの製造方法に関する。
クリーンルームで塵埃を除去するだめに用いる。
有殿系の気孔径の小さいものが使用されているが、捕集
された塵埃はフィルター層表面に凝集し、ある程度大ぎ
くなるとフィルターから剥れ落ち、クリーンルーム内を
再汚染する問題があった。
になると不純物がSiC粒子の外に移動し、雰囲気を汚
染する問題があった。
集された塵埃が凝集しない耐久性の優れたフィルターを
提供することを目的とする。
クスとなっている。このSiC粒子の粒界部分を除<S
i C粒子のほぼ全表面に500オングストローム〜5
0μIの5i02FJを設ける。
と、SiC粒子から移動する不純物をトラップする効果
がなく、好ましくない。また膜厚が50μmより大きい
と、3iC粒子とSiO2膜の膨脹差から剥離しやすく
なるので好ましくない。
外周部から内周部まですべての構成SiC粒子に対して
酸化雰囲気において熱処理する。この熱処理時間を調整
することにより全SiC粒子の表面に所定厚みのSiO
2膜を形成する。
ある。SiC焼結体のSIC粒子はマトリックスを構成
している。これらのSiC粒子の粒界部分を除<Si
C粒子のほぼ全表面にはたとえば5000オンゲス1−
ロームのSiO2膜が形成されている。この5i0zB
’)の存在により、高温で使用し−(SIG粒子内部に
存在する不純物が移動しても、高ITI度のSiO2膜
でトラップされるのでSiC粒子から不純物が出ること
がなく雰囲気を汚染することがない。
て酸化雰囲気においてたとえば1000℃で熱処理する
ことによって得られる。1000℃1時間熱処理をする
ことにより100オングストロームのSiO2膜を形成
可能である。この熱処理時間を変化させることにより、
SiC粒子表面に生成する3i02IlIJを自由に設
定できる。
はない。
るので、S i C粒子内に含まれる不純物が高温にな
っても粒子の外に放出されることがなく、安定して口過
を行うことができる。
Claims (1)
- SiC粒子をマトリックスとするフィルターにおいて、
粒界部分を除くSiC粒子のほぼ全表面に500オング
ストローム〜50μmの厚みのSiO_2膜を設けたこ
とを特徴とするフィルター。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63004687A JP2545257B2 (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | フイルター |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63004687A JP2545257B2 (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | フイルター |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH01184010A true JPH01184010A (ja) | 1989-07-21 |
JP2545257B2 JP2545257B2 (ja) | 1996-10-16 |
Family
ID=11590806
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63004687A Expired - Fee Related JP2545257B2 (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | フイルター |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2545257B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013145245A1 (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-03 | イビデン株式会社 | ハニカム構造体、排ガス浄化用ハニカムフィルタ及び排ガス浄化装置 |
EP2853303A4 (en) * | 2012-05-21 | 2016-03-02 | Ibiden Co Ltd | WAVE FILTER, EXHAUST GAS CLEANING DEVICE AND EXHAUST GAS CLEANING PROCEDURE |
-
1988
- 1988-01-14 JP JP63004687A patent/JP2545257B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013145245A1 (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-03 | イビデン株式会社 | ハニカム構造体、排ガス浄化用ハニカムフィルタ及び排ガス浄化装置 |
JPWO2013145245A1 (ja) * | 2012-03-29 | 2015-08-03 | イビデン株式会社 | ハニカム構造体、排ガス浄化用ハニカムフィルタ及び排ガス浄化装置 |
EP2853303A4 (en) * | 2012-05-21 | 2016-03-02 | Ibiden Co Ltd | WAVE FILTER, EXHAUST GAS CLEANING DEVICE AND EXHAUST GAS CLEANING PROCEDURE |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2545257B2 (ja) | 1996-10-16 |
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