JPH01178392A - Laser marking device - Google Patents
Laser marking deviceInfo
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- JPH01178392A JPH01178392A JP63003420A JP342088A JPH01178392A JP H01178392 A JPH01178392 A JP H01178392A JP 63003420 A JP63003420 A JP 63003420A JP 342088 A JP342088 A JP 342088A JP H01178392 A JPH01178392 A JP H01178392A
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- laser
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- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は、レーザ光をマスクを通して被マーキング物の
表面に照射し、その表面にマークを施すレーザマーキン
グ装置に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a laser marking device that applies a mark to the surface of an object by irradiating laser light through a mask onto the surface of the object to be marked. .
（従来の技術）
従来、この種のレーザマーキング装置は、特開昭６２−
５００９７Ｑ公報に示されるように、レーザ光を発振す
るレーザ発振器と、このレーザ発振器から照射されるレ
ーザ光を直角に曲げる全反射ミラーと、このレーザ光を
集束するシリンドリカルレンズと、このシリンドリカル
レンズからの集束光を受けるマークパターンを有したマ
スクと、このマークパターンを通過した集束光を被マー
キング物の表面に集光する集光レンズとによって構成さ
れている。(Prior art) Conventionally, this type of laser marking device was disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No.
As shown in Publication No. 50097Q, a laser oscillator that oscillates a laser beam, a total reflection mirror that bends the laser beam irradiated from this laser oscillator at right angles, a cylindrical lens that focuses this laser beam, and a It is composed of a mask having a mark pattern that receives focused light, and a condensing lens that focuses the focused light that has passed through the mark pattern onto the surface of the object to be marked.
この従来のレーザマーキング装置は、マスク表面で反射
する光から光学系を守るために、マスクを光軸に対し、
ある一定の角度で傾けである。In this conventional laser marking device, the mask is aligned with the optical axis in order to protect the optical system from light reflected on the mask surface.
It is tilted at a certain angle.
（発明が解決しようとする課題）
しかし、前記マスクの光軸に対する傾斜角度は一定に固
定されているため、マスクが変形したとき、または光学
系の縮小率が変化したときなどに、このマスクからの反
射光の角度が変わり、マスフから反射したレーザ光が光
学系に当り、光学系を傷めるとともに、マーキングの品
質を劣化させる問題がある。(Problem to be Solved by the Invention) However, since the inclination angle of the mask with respect to the optical axis is fixed, when the mask is deformed or the reduction ratio of the optical system is changed, the The angle of the reflected light changes, and the laser light reflected from the mask hits the optical system, damaging the optical system and degrading the quality of the marking.
本発明は、上記の問題点を解決すべくなされたもので、
その目的とするところは、マスクによる反射光から光学
系を保護するとともに、マーキングの品質を常に一定に
維持することが可能なレーザマーキング装置を提供しよ
うとするものである。The present invention was made to solve the above problems, and
The purpose is to provide a laser marking device that can protect an optical system from light reflected by a mask and maintain constant marking quality at all times.
（１題を解決するための手段）
本発明は、レーザ光学系にマスク１６が光軸に対し斜め
に設けられ、このマスク１６に穿設されたマークパター
ンを透過したレーザ光１９により、被マーキング物１８
の表面にマーキングがなされるレーザマーキング装置に
おいて、マスク１６からの反射光１９ａを感知するセン
サ２１または２２がレーザ光学系の側部に設けられ、こ
のセンサからの光感知信号によりマスク１６の角度を変
えてマスクからの反射光１９ａをレーザ光学系から遠ざ
ける方向に修正するマスク角度制御機構２３がマスク１
６に対して設けられたものである。(Means for Solving a Problem) The present invention provides a laser optical system with a mask 16 provided obliquely to the optical axis, and a laser beam 19 transmitted through a mark pattern drilled in the mask 16 to mark a marked object. thing 18
In a laser marking device that marks the surface of the mask 16, a sensor 21 or 22 that detects the reflected light 19a from the mask 16 is provided on the side of the laser optical system, and the angle of the mask 16 is determined by the light sensing signal from this sensor. A mask angle control mechanism 23 that corrects the reflected light 19a from the mask in a direction away from the laser optical system is the mask 1.
6.
（作用）
本発明は、光学系に設けられたセンサ２１または２２に
よって、マスク１６からの反射光１９ａの熱量が測定さ
れ、この測定熱量がある一定値より大きくなると、その
熱量によってレーザ光学系を損うおそれがあるので、セ
ンサ２１または２２の信号によりマスク角度制ｗＪ機構
２３が駆動され、マスク１６の傾き角度が最適に調整さ
れ、反射光１９ａが光学系に当らないとともに、マスク
１６が過度に傾斜されることもない。(Function) In the present invention, the amount of heat of the reflected light 19a from the mask 16 is measured by the sensor 21 or 22 provided in the optical system, and when this measured amount of heat exceeds a certain value, the amount of heat activates the laser optical system. Therefore, the mask angle control wJ mechanism 23 is driven by the signal from the sensor 21 or 22, and the inclination angle of the mask 16 is optimally adjusted so that the reflected light 19a does not hit the optical system and the mask 16 is not excessively Nor will it be inclined to.
（実施例）
以下、本発明を図面に示される実施例を参照して詳細に
説明する。(Examples) Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples shown in the drawings.
レーザ光学系が、レーザ発振器１１、全反射ミラー１２
．１３．１４、シリンドリカルレンズ１５、マスク１６
および集光レンズ１７によって構成されている。The laser optical system includes a laser oscillator 11 and a total reflection mirror 12.
．． 13.14, cylindrical lens 15, mask 16
and a condensing lens 17.
１８は、被マーキング物であり、この被マーキング物１
８の表面に、レーザ発振器１１から発振されマスク１６
に穿設されたマークパターンを透過したレーザ光１９が
照射され、マスク１６のマークパターンが被マーキング
物１８の表面に転写される。18 is an object to be marked, and this object to be marked 1
A mask 16 is emitted from a laser oscillator 11 on the surface of
The laser beam 19 transmitted through the mark pattern formed in the mask 16 is irradiated, and the mark pattern of the mask 16 is transferred onto the surface of the object 18 to be marked.
前記マスク１６は光軸に対し斜めに設けられ、このマス
ク１６の表面で反射された反射光１９ａが、光学系を構
成する部材に当らないように工夫されている。The mask 16 is provided obliquely to the optical axis, and is designed to prevent reflected light 19a reflected from the surface of the mask 16 from hitting members constituting the optical system.
また、このマスク１６からの反射光１９ａの熱量を測定
するセンサ２１．２２がレーザ光学系の側部に設けられ
ている。すなわちセンサ２１は、シリンドリカルレンズ
１５のホルダに取付けられ、また、センサ２２は、全反
射ミラー１４のホルダに取付けられている。Additionally, sensors 21 and 22 for measuring the amount of heat of the reflected light 19a from the mask 16 are provided on the side of the laser optical system. That is, the sensor 21 is attached to the holder of the cylindrical lens 15, and the sensor 22 is attached to the holder of the total reflection mirror 14.
さらに、このセンサ２１．２２からの熱量感知信号によ
りマスク１６の角度を変えてマスクからの反射光１９ａ
をレーザ光学系から遠ざける方向に修正するマスク角度
制御１ｍ構２３がマスク１６に対して設けられている。Furthermore, the angle of the mask 16 is changed according to the heat quantity sensing signals from the sensors 21 and 22, and the reflected light 19a from the mask is
A mask angle control 1 m mechanism 23 is provided for the mask 16 to correct the angle in the direction of moving away from the laser optical system.
このマスク角度制御機構２３としては、パルスモータま
たはサーボモータ等があり、これらのモータの回転軸に
マスク１６の一側部が一体的に設けられている。センサ
２１またはセンサ２２からの信号は、増幅器２４によっ
て増幅され、前記モータに駆動電流として与えられる。The mask angle control mechanism 23 includes a pulse motor, a servo motor, etc., and one side of the mask 16 is integrally provided with the rotating shaft of these motors. A signal from sensor 21 or sensor 22 is amplified by amplifier 24 and given to the motor as a drive current.
そうして、縮小率を変えるために各光学系ユニットが移
動されたり、マスク１６が変形されたりすると、マスク
１６からの反射光１９ａの光路が変わり、その光路が光
学系に近付いて、前記ミラーホルダやレンズホルダの側
部に設けられた熱量測定センサ２１または２２に当るこ
とがある。この場合、センサ２１．２２が反応し、この
センサからの光感知信号に基づきマスク角度制ｔｏ１機
構２３がマスク１６を少しずつ回動し、マスクの傾斜角
度を大きくしていく。そして、傾斜角度が増大し、反射
光１９ａがセンサ２１または２２に当らなくなると、前
記機構２３によるマスク回動が停止し、マスク１６の傾
斜角度が一定に保たれる。次に、再び縮小率を変えたり
、マスク１６を交換したときは、マスクの傾斜角度を初
期角度に戻す。そして、センサ２１．２２が反応するよ
うであればマスク１６が回動され、反応しないようであ
ればそのままの角度が保たれる。Then, when each optical system unit is moved or the mask 16 is deformed to change the reduction ratio, the optical path of the reflected light 19a from the mask 16 changes, the optical path approaches the optical system, and the mirror This may hit the calorimetric sensor 21 or 22 provided on the side of the holder or lens holder. In this case, the sensors 21 and 22 react, and the mask angle control to1 mechanism 23 rotates the mask 16 little by little based on the light sensing signals from the sensors, increasing the inclination angle of the mask. When the inclination angle increases and the reflected light 19a no longer hits the sensor 21 or 22, the mechanism 23 stops rotating the mask, and the inclination angle of the mask 16 is kept constant. Next, when the reduction ratio is changed again or the mask 16 is replaced, the inclination angle of the mask is returned to the initial angle. Then, if the sensors 21 and 22 react, the mask 16 is rotated, and if the sensors 21 and 22 do not react, the same angle is maintained.
このようにして、反射光１９ａは光学系に照射されない
ので、光学系が反射光１９ａにより損傷することがなく
、マーキングの品質を一定に保つことが可能となる。In this way, the optical system is not irradiated with the reflected light 19a, so the optical system is not damaged by the reflected light 19a, and the quality of marking can be maintained constant.
なお、センサ２１．２２をレーザ光学系の側部に設ける
場所としては、実施例のようなミラー、レンズのホルダ
に限定されるものではなく、主光路の反射光側の近傍に
熱り測定センサを独立的に設けるようにしても良い。Note that the location where the sensors 21 and 22 are installed on the side of the laser optical system is not limited to the mirror or lens holder as in the embodiment, but the heat measurement sensor may be installed near the reflected light side of the main optical path. may be provided independently.
本発明によれば、マスクからの反射光を感知するセンサ
がレーザ光学系の側部に設けられ、このセンサからの光
感知信号によりマスクの角度を変えてマスクからの反射
光をレーザ光学系から遠ざける方向に修正するマスク角
度制御機構がマスクに対して設けられたから、光学系に
マスクからの反射光が照射されないようにマスクの傾斜
角度が常に調整され、マスクによる反射光から光学系を
保護できるとともに、マーキングの品質を常に一定に維
持することができる。According to the present invention, a sensor that detects the reflected light from the mask is provided on the side of the laser optical system, and the angle of the mask is changed according to the light detection signal from this sensor, so that the reflected light from the mask is removed from the laser optical system. Since a mask angle control mechanism that corrects the mask angle in the direction of moving away from the mask is provided, the inclination angle of the mask is constantly adjusted so that the optical system is not irradiated with the reflected light from the mask, and the optical system can be protected from the reflected light from the mask. At the same time, the quality of marking can always be maintained constant.
図は本発明のレーザマーキング装置の一実施例を示す側
面図である。
１６・・マスク、１８・・被マーキング物、１９・・レ
ーザ光、１９ａ ・・反射光、２１．２２・・センサ、
２３・・マスク角度制御機構。The figure is a side view showing an embodiment of the laser marking device of the present invention. 16...Mask, 18...Object to be marked, 19...Laser light, 19a...Reflected light, 21.22...Sensor,
23...Mask angle control mechanism.
Claims (1)
れ、このマスクに穿設されたマークパターンを透過した
レーザ光により、被マーキング物の表面にマーキングが
なされるレーザマーキング装置において、マスクからの
反射光を感知するセンサがレーザ光学系の側部に設けら
れ、このセンサからの光感知信号によりマスクの角度を
変えてマスクからの反射光をレーザ光学系から遠ざける
方向に修正するマスク角度制御機構がマスクに対して設
けられたことを特徴とするレーザマーキング装置。(1) In a laser marking device, a mask is provided in the laser optical system obliquely to the optical axis, and the surface of the object to be marked is marked by laser light transmitted through a mark pattern formed in the mask. A sensor is installed on the side of the laser optical system to detect the reflected light from the laser optical system, and the mask angle is corrected by changing the angle of the mask to move the reflected light from the mask away from the laser optical system based on the light detection signal from this sensor. A laser marking device characterized in that a control mechanism is provided on a mask.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63003420A JPH01178392A (en) | 1988-01-11 | 1988-01-11 | Laser marking device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63003420A JPH01178392A (en) | 1988-01-11 | 1988-01-11 | Laser marking device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01178392A true JPH01178392A (en) | 1989-07-14 |
Family
ID=11556887
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63003420A Pending JPH01178392A (en) | 1988-01-11 | 1988-01-11 | Laser marking device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01178392A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000343257A (en) * | 1999-06-07 | 2000-12-12 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Method and device for return beam removal |
| US6644070B2 (en) | 2001-03-29 | 2003-11-11 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Three-dimensional fabric for seat |
| JP2011079051A (en) * | 2009-10-05 | 2011-04-21 | Samsung Mobile Display Co Ltd | Laser irradiation system and laser irradiation method |
| JPWO2016002643A1 (en) * | 2014-07-01 | 2017-04-27 | 株式会社村田製作所 | Mask for laser processing |
-
1988
- 1988-01-11 JP JP63003420A patent/JPH01178392A/en active Pending
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| JP2000343257A (en) * | 1999-06-07 | 2000-12-12 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Method and device for return beam removal |
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| CN102034682A (en) * | 2009-10-05 | 2011-04-27 | 三星移动显示器株式会社 | Laser irradiation system and laser irradiation method |
| JPWO2016002643A1 (en) * | 2014-07-01 | 2017-04-27 | 株式会社村田製作所 | Mask for laser processing |
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