JPH01171611A - サンプリング用液処理装置 - Google Patents
サンプリング用液処理装置Info
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- JPH01171611A JPH01171611A JP62330434A JP33043487A JPH01171611A JP H01171611 A JPH01171611 A JP H01171611A JP 62330434 A JP62330434 A JP 62330434A JP 33043487 A JP33043487 A JP 33043487A JP H01171611 A JPH01171611 A JP H01171611A
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Landscapes
- Filtration Of Liquid (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は汚染水等を採取する時に使用されるサンプリン
グ用液処理装置に関する。
グ用液処理装置に関する。
(従来の技術)
従来、生活排水や化学処理等に使用された排水の汚染度
を測定する時は、その汚染水を試料液として所定量を採
取し、その試料液の分析を行う。
を測定する時は、その汚染水を試料液として所定量を採
取し、その試料液の分析を行う。
しかし、試料液には固形物等の異物が含まれているので
ろ過する必要がある。このような装置としては第2図に
示すようなものがある。このサンプリング用液処理装置
1のフィルタ容器2には試料液3をろ過するフィルタ4
が内蔵されている。フィルタ4は多孔質材料からなるも
のであって、フィルタ4の上端部と下端部はフィルタ容
器2の上内壁と下内壁に密着している。フィルタ4の内
壁側は試料液3が流入する一次室2aであり、フィルタ
4の外壁側とフィルタ容器2の内壁との間は試料液3が
フィルタ4を浸透してろ過された後、流出する二次室2
bである。フィルタ容器2の下端部は配管5を通してサ
ンプリングポンプ6の吐出側に接続され、サンプリング
ポンプ6の吸込側はストレーナ本体7の流出側に接続さ
れている。
ろ過する必要がある。このような装置としては第2図に
示すようなものがある。このサンプリング用液処理装置
1のフィルタ容器2には試料液3をろ過するフィルタ4
が内蔵されている。フィルタ4は多孔質材料からなるも
のであって、フィルタ4の上端部と下端部はフィルタ容
器2の上内壁と下内壁に密着している。フィルタ4の内
壁側は試料液3が流入する一次室2aであり、フィルタ
4の外壁側とフィルタ容器2の内壁との間は試料液3が
フィルタ4を浸透してろ過された後、流出する二次室2
bである。フィルタ容器2の下端部は配管5を通してサ
ンプリングポンプ6の吐出側に接続され、サンプリング
ポンプ6の吸込側はストレーナ本体7の流出側に接続さ
れている。
ストレーナ本体7にはストレーナ8が内蔵され、試料液
3に含まれた粗大異物を阻止する。ストレーナ本体7の
流入側には採取管9が接続され、採取管9の先端は汚染
水1oの水面下にある。フィルタ容器2の上端部には戻
り管11が接続され、試料液3が槽12に戻される構造
である。フィルタ容器2の二次室2bには配管5により
供給ポンプ13の吸込側が接続され、この供給ポンプ1
3の吐出側は分析装置14に接続されている。このよう
な構成により、サンプリングポンプ6が作動することに
より試料液3は採取管9を通り、ストレーナ8により異
物の通過が阻止される。そして、試料液3は一次室2a
に流入し、はとんどの試料液3は戻り管11を通り槽1
2に戻る。試料液3がフィルタ容器2の一次室2aを通
る時、一部の試料液3はフィルタ4によりろ過され、二
次室2bに流出する。ろ過された試料液3は供給ポンプ
13の作動により所定量だけ分析装置14に供給される
。
3に含まれた粗大異物を阻止する。ストレーナ本体7の
流入側には採取管9が接続され、採取管9の先端は汚染
水1oの水面下にある。フィルタ容器2の上端部には戻
り管11が接続され、試料液3が槽12に戻される構造
である。フィルタ容器2の二次室2bには配管5により
供給ポンプ13の吸込側が接続され、この供給ポンプ1
3の吐出側は分析装置14に接続されている。このよう
な構成により、サンプリングポンプ6が作動することに
より試料液3は採取管9を通り、ストレーナ8により異
物の通過が阻止される。そして、試料液3は一次室2a
に流入し、はとんどの試料液3は戻り管11を通り槽1
2に戻る。試料液3がフィルタ容器2の一次室2aを通
る時、一部の試料液3はフィルタ4によりろ過され、二
次室2bに流出する。ろ過された試料液3は供給ポンプ
13の作動により所定量だけ分析装置14に供給される
。
なお、上記の説明において、槽12内に溜ったものは汚
染水10とし、採取管9から流入し、分析装置14に供
給されるまでのものを試料液3とした。以下の説明にお
いても同じである。
染水10とし、採取管9から流入し、分析装置14に供
給されるまでのものを試料液3とした。以下の説明にお
いても同じである。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら上記のような従来の構成では、試料液が採
取管からフィルタ容器の一次室に流入し、そして、はと
んどの試料液は戻り管から槽へ戻るようになっている。
取管からフィルタ容器の一次室に流入し、そして、はと
んどの試料液は戻り管から槽へ戻るようになっている。
この間に一部の試料液はフィルタに浸透し、ろ過された
後、二次室へ流出するようにしている。この時、サンプ
リングポンプがら試料液が吐出する圧力により試料液の
フィルタへの浸透は幾分促進されるが、試料液は循環し
ているので試料液がフィルタを浸透し、二次室へ流出す
るまでには長時間を要する。また、一定量の試料液を分
析装置へ供給するためには供給ポンプを定量ポンプとし
て作動させるか、または、分析装置側で試料液の流入量
を測定する必要がある。
後、二次室へ流出するようにしている。この時、サンプ
リングポンプがら試料液が吐出する圧力により試料液の
フィルタへの浸透は幾分促進されるが、試料液は循環し
ているので試料液がフィルタを浸透し、二次室へ流出す
るまでには長時間を要する。また、一定量の試料液を分
析装置へ供給するためには供給ポンプを定量ポンプとし
て作動させるか、または、分析装置側で試料液の流入量
を測定する必要がある。
さらに、フィルタ容器内には異物が詰まり易い構造であ
るためにサンプリングポンプやフィルタ容器を頻繁に取
外し、洗浄をしなければならず保守回数が多いために稼
働率の悪い装置となっている。
るためにサンプリングポンプやフィルタ容器を頻繁に取
外し、洗浄をしなければならず保守回数が多いために稼
働率の悪い装置となっている。
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
って、試料液を採取する機器の保守性を高め、所定量の
試料液を安定した状態で採取し、また、試料液のろ適時
間を短縮できるサンプリング用液処理装置を提供するこ
とを目的とする。
って、試料液を採取する機器の保守性を高め、所定量の
試料液を安定した状態で採取し、また、試料液のろ適時
間を短縮できるサンプリング用液処理装置を提供するこ
とを目的とする。
(問題点を解決するための手段)
上記目的を達成するために本発明は、試料液をろ過する
フィルタと、このフィルタを内蔵し、かつ、このフィル
タで仕切られた試料液が流入する一次室およびろ過され
た試料液が流出する二次室を有するフィルタ容器と、こ
のフィルタ容器の一次室に設けられ、試料液の所定量を
検知する液面検知器と、フィルタ容器の一次室に連通さ
れたフィルタ容器の内部圧力を変化させる圧力制御装置
とを備えたものである。
フィルタと、このフィルタを内蔵し、かつ、このフィル
タで仕切られた試料液が流入する一次室およびろ過され
た試料液が流出する二次室を有するフィルタ容器と、こ
のフィルタ容器の一次室に設けられ、試料液の所定量を
検知する液面検知器と、フィルタ容器の一次室に連通さ
れたフィルタ容器の内部圧力を変化させる圧力制御装置
とを備えたものである。
(作 用)
上記のような構成のサンプリング用液処理装置では、ま
ず、圧力制御装置を作動させることによりフィルタ容器
内を負正にする。フィルタ容器内が負圧になると、試料
液がフィルタ容器内の一次室に流入する。−炭室に流入
した試料液は液面検知器により所定量になったことが検
知される。次に、圧力制御装置を作動させることにより
フィルタ容器内を正圧にする。フィルタ容器内が正圧に
なると、試料液はフィルタでろ過され、フィルタ容器の
二次室に流出する。
ず、圧力制御装置を作動させることによりフィルタ容器
内を負正にする。フィルタ容器内が負圧になると、試料
液がフィルタ容器内の一次室に流入する。−炭室に流入
した試料液は液面検知器により所定量になったことが検
知される。次に、圧力制御装置を作動させることにより
フィルタ容器内を正圧にする。フィルタ容器内が正圧に
なると、試料液はフィルタでろ過され、フィルタ容器の
二次室に流出する。
(実施例)
以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第1
図は本発明のサンプリング用液処理装置の一実施例を示
している。このサンプリング用液処理装置1は第2図に
基づいて従来の技術の項ですてに説明したものと同じ構
成を有する。この同じ構成には同じ符号を付し、その詳
細な説明は省略する。フィルタ容器2に内蔵されたフィ
ルタ4は多孔質材料からなるものであり、例えば、セラ
ミックフィルタ等である。フィルタ容器2の一火室2a
でフィルタ容器2の下端部には配管5が接続されており
、この配管5は分岐されている。分岐された一方の配管
5はサンプリング弁15の流出側に接続され、サンプリ
ング弁15の流入側に接続された配管5はストレーナ本
体7の流出側に接続されている。ストレーナ本体7の流
入側には採取管9が接続され、採取管9の先端は汚染水
10の水面下にある。フィルタ容器2の下端部に接続さ
れた配管5のうち分岐された他方の配管5は第1排水弁
16の流入側に接続され、第1排水弁16の流出側に接
続された配管5は次に述べる第2排水弁17の流出側に
接続された排水管18に接続されている。第2排水弁1
7の流入側は配管5によりフィルタ容器2の二次室2b
に接続されている。フィルタ容器2の一火室2aは多量
の試料液3が流入するために二次室2bの上端面よりも
高く、比較的大きい容量に形成されている。
図は本発明のサンプリング用液処理装置の一実施例を示
している。このサンプリング用液処理装置1は第2図に
基づいて従来の技術の項ですてに説明したものと同じ構
成を有する。この同じ構成には同じ符号を付し、その詳
細な説明は省略する。フィルタ容器2に内蔵されたフィ
ルタ4は多孔質材料からなるものであり、例えば、セラ
ミックフィルタ等である。フィルタ容器2の一火室2a
でフィルタ容器2の下端部には配管5が接続されており
、この配管5は分岐されている。分岐された一方の配管
5はサンプリング弁15の流出側に接続され、サンプリ
ング弁15の流入側に接続された配管5はストレーナ本
体7の流出側に接続されている。ストレーナ本体7の流
入側には採取管9が接続され、採取管9の先端は汚染水
10の水面下にある。フィルタ容器2の下端部に接続さ
れた配管5のうち分岐された他方の配管5は第1排水弁
16の流入側に接続され、第1排水弁16の流出側に接
続された配管5は次に述べる第2排水弁17の流出側に
接続された排水管18に接続されている。第2排水弁1
7の流入側は配管5によりフィルタ容器2の二次室2b
に接続されている。フィルタ容器2の一火室2aは多量
の試料液3が流入するために二次室2bの上端面よりも
高く、比較的大きい容量に形成されている。
フィルタ容器2の二次室2bの上端部には圧力制御装置
が接続されている。
が接続されている。
この圧力制御装置について説明する。まず、フィルタ容
器2の上端部には空気管19が接続されている。この空
気管19の終端には空気開放弁20が接続され、空気開
放弁20を開状態にすることによりフィルタ容器2内を
大気圧にする。空気開放弁20の手前の空気管19は、
他の空気管1つに分岐されており、この空気管19は、
さらに、他の空気管19に分岐されている。この空気管
19の一方は三方向の吸気用切換弁21の流入側に接続
され、空気管20の他方は三方向の抜気用切換弁22の
流出側に接続されている。吸気用切換弁21の流出側は
空気ポンプ23の吸込側に接続されている。空気ポンプ
23の吐出側は上記した抜気用切換弁22の流入側に接
続されている。
器2の上端部には空気管19が接続されている。この空
気管19の終端には空気開放弁20が接続され、空気開
放弁20を開状態にすることによりフィルタ容器2内を
大気圧にする。空気開放弁20の手前の空気管19は、
他の空気管1つに分岐されており、この空気管19は、
さらに、他の空気管19に分岐されている。この空気管
19の一方は三方向の吸気用切換弁21の流入側に接続
され、空気管20の他方は三方向の抜気用切換弁22の
流出側に接続されている。吸気用切換弁21の流出側は
空気ポンプ23の吸込側に接続されている。空気ポンプ
23の吐出側は上記した抜気用切換弁22の流入側に接
続されている。
また、フィルタ容器2の二次室2bの上端部には液面検
知器24が取付けられ、液面検知器24は二次室2bに
流入される試料液3が所定の液面に達するとその液面を
検知し、信号を出力する。
知器24が取付けられ、液面検知器24は二次室2bに
流入される試料液3が所定の液面に達するとその液面を
検知し、信号を出力する。
試料液3がフィルタ容器2の一火室2aに流入する流入
速度は試料液3がフィルタ4に浸透して二次室2bに流
出する速度よりも十分速いので、フィルタ4から二次室
2bに流出するまでの速度に影響を受けることなく液面
検知器24は所定量の試料液3を検知する。
速度は試料液3がフィルタ4に浸透して二次室2bに流
出する速度よりも十分速いので、フィルタ4から二次室
2bに流出するまでの速度に影響を受けることなく液面
検知器24は所定量の試料液3を検知する。
フィルタ容器2の一火室2aと二次室2bにはそれぞれ
洗浄装置としての洗浄水供給弁25a。
洗浄装置としての洗浄水供給弁25a。
25bが接続され、これらの洗浄水供給弁25a。
25bの流入側は洗浄水源に接続されている。また、フ
ィルタ容器2の二次室2bには供給管26が接続されて
おり、この供給管26は供給弁27の流入側に接続され
、供給弁27の流出側に接続された供給管26は供給ポ
ンプ13の吸込側に接続されている。供給ポンプ13の
吐出側に接続された供給管26は分析装置14に接続さ
れている。
ィルタ容器2の二次室2bには供給管26が接続されて
おり、この供給管26は供給弁27の流入側に接続され
、供給弁27の流出側に接続された供給管26は供給ポ
ンプ13の吸込側に接続されている。供給ポンプ13の
吐出側に接続された供給管26は分析装置14に接続さ
れている。
上記のような構成のサンプリング用液処理装置1の動作
を説明する。
を説明する。
試料液3を汚染水10から採取する時は、まず、図示省
略された制御装置が抜気用切換弁22を矢印Bで示すよ
うに抜気する状態に、かつ、矢印Aの方向を遮断する状
態に切換え、供給弁27を閉状態に、両方の洗浄水供給
弁25a、25bを閉状態に、第1排水弁16および第
2排水弁17を閉状態に、空気開放弁20を閉状態に、
そして、サンプリング弁15を開状態に、吸気用切換弁
21を矢印りで示す方向に吸気しない状態に、かつ、矢
印Cで示す方向に連通ずる状態に切換える。
略された制御装置が抜気用切換弁22を矢印Bで示すよ
うに抜気する状態に、かつ、矢印Aの方向を遮断する状
態に切換え、供給弁27を閉状態に、両方の洗浄水供給
弁25a、25bを閉状態に、第1排水弁16および第
2排水弁17を閉状態に、空気開放弁20を閉状態に、
そして、サンプリング弁15を開状態に、吸気用切換弁
21を矢印りで示す方向に吸気しない状態に、かつ、矢
印Cで示す方向に連通ずる状態に切換える。
次に、空気ポンプ23を作動させるとフィルタ容器2内
は大気圧に対して減圧されることになる。
は大気圧に対して減圧されることになる。
フィルタ容器2内が減圧されると試料液3が採取管9を
通り、ストレーナ本体7内のストレーナ8により試料液
3に含まれた粗大異物の通過は阻止される。試料液3は
サンプリング弁15を通過した後、フィルタ容器2の一
火室2aに流入する。
通り、ストレーナ本体7内のストレーナ8により試料液
3に含まれた粗大異物の通過は阻止される。試料液3は
サンプリング弁15を通過した後、フィルタ容器2の一
火室2aに流入する。
この試料液3の流入により、試料液3は少しずつフィル
タ4に浸透し始めるが、その浸透は遅い。
タ4に浸透し始めるが、その浸透は遅い。
したがって、一次室2aの試料液3の液面は上昇し、こ
の液面が所定の高さに達すると、液面検知器24がその
液面を検知する。液面検知器24が液面を検知すると信
号を出力し、この信号が制御装置に伝送される。制御装
置は空気ポンプ23の動作を停止し、サンプリング弁1
5を閉状態に、そして、吸気用切換弁21を矢印りの方
向に吸気しない状態に、かつ、矢印Cの方向を遮断する
状態に切換える。さらに、空気開放弁20を開状態とす
ることによりフィルタ容器2内を大気圧にする。このよ
うにして所定量の試料液3が採取される。
の液面が所定の高さに達すると、液面検知器24がその
液面を検知する。液面検知器24が液面を検知すると信
号を出力し、この信号が制御装置に伝送される。制御装
置は空気ポンプ23の動作を停止し、サンプリング弁1
5を閉状態に、そして、吸気用切換弁21を矢印りの方
向に吸気しない状態に、かつ、矢印Cの方向を遮断する
状態に切換える。さらに、空気開放弁20を開状態とす
ることによりフィルタ容器2内を大気圧にする。このよ
うにして所定量の試料液3が採取される。
次に、試料液3をろ過する時は、抜気用切換弁22を矢
印Bで示す方向に抜気しない状態に、かつ、矢印Aの方
向に連通ずる状態に切換え、両方の洗浄水供給弁25a
、25bおよび第1排水弁16、第2排水弁17は閉状
態にしたままで、空気開放弁20を閉状態に、サンプリ
ング弁15を閉状態に、そして、吸気用切換弁21を矢
印りで示すように吸気する状態に、かつ、矢印Cの方向
を遮断する状態に切換える。次に、空気ポンプ23を作
動させるとフィルタ容器2内は加圧される。加圧される
ことによりフィルタ容器2の一次室2aの所定量の試料
液3はフィルタ4を浸透し、そして、ろ過される。この
ろ過速度はフィルタ容器2内の加圧により速められる。
印Bで示す方向に抜気しない状態に、かつ、矢印Aの方
向に連通ずる状態に切換え、両方の洗浄水供給弁25a
、25bおよび第1排水弁16、第2排水弁17は閉状
態にしたままで、空気開放弁20を閉状態に、サンプリ
ング弁15を閉状態に、そして、吸気用切換弁21を矢
印りで示すように吸気する状態に、かつ、矢印Cの方向
を遮断する状態に切換える。次に、空気ポンプ23を作
動させるとフィルタ容器2内は加圧される。加圧される
ことによりフィルタ容器2の一次室2aの所定量の試料
液3はフィルタ4を浸透し、そして、ろ過される。この
ろ過速度はフィルタ容器2内の加圧により速められる。
ろ過された試料液3はフィルタ容器2の二次室2bに溜
り、試料液3の溜り具合にしたつかて供給弁27を開状
態に、そして、供給ポンプ13を作動させると、試料液
3は分析装置14に供給される。
り、試料液3の溜り具合にしたつかて供給弁27を開状
態に、そして、供給ポンプ13を作動させると、試料液
3は分析装置14に供給される。
なお、上記のように試料液3を分析装置14に供給する
時は供給ポンプ13を作動させているが、この供給ポン
プ13を使用せず、空気ポンプ23の加圧により試料液
3をろ過しながら分析装置14へ圧送することもできる
。
時は供給ポンプ13を作動させているが、この供給ポン
プ13を使用せず、空気ポンプ23の加圧により試料液
3をろ過しながら分析装置14へ圧送することもできる
。
次に、ストレーナ本体7内のストレーナ8とフィルタ4
を洗浄する時は、まず、上記したようにフィルタ容器2
の二次室2bに試料液3を溜めた後、空気開放弁20閉
状態に、両方の洗浄水供給弁25a、25bを閉状態に
、供給弁27を閉状態に、第1排水弁16および第2排
水弁17を閉状態に、そして、抜気用切換弁22を矢印
Bで示す方向に抜気しない状態に、かつ、矢印Aで示す
方向に連通する状態に切換え、吸気用切換弁21を矢印
りで示す方向に吸気する状態に、かつ、矢印Cで示す方
向に遮断する状態に切換える。次に、サンプリング弁1
5を開状態に、そして、空気ポンプ23を作動させるこ
とによりフィルタ容器2内は加圧されるので、フィルタ
容器2の二次室2bに溜っている試料液3はストレーナ
8を洗浄することになりストレーナ8に溜まっている粗
大異物は採取管9から槽12に流れ出る。さらに、洗浄
水供給弁25bを開状態にし、洗浄水を二次室2bに供
給すればフィルタ4を洗浄し、この洗浄水をストレーナ
8を通すことによりストレーナ8を洗浄することにもな
る。この洗浄水を槽へ流すことができなければ、サンプ
リング弁15を閉状態とし、第1排水弁16を開状態と
することにより洗浄水を排水管18から排水側へ流すこ
とにする。
を洗浄する時は、まず、上記したようにフィルタ容器2
の二次室2bに試料液3を溜めた後、空気開放弁20閉
状態に、両方の洗浄水供給弁25a、25bを閉状態に
、供給弁27を閉状態に、第1排水弁16および第2排
水弁17を閉状態に、そして、抜気用切換弁22を矢印
Bで示す方向に抜気しない状態に、かつ、矢印Aで示す
方向に連通する状態に切換え、吸気用切換弁21を矢印
りで示す方向に吸気する状態に、かつ、矢印Cで示す方
向に遮断する状態に切換える。次に、サンプリング弁1
5を開状態に、そして、空気ポンプ23を作動させるこ
とによりフィルタ容器2内は加圧されるので、フィルタ
容器2の二次室2bに溜っている試料液3はストレーナ
8を洗浄することになりストレーナ8に溜まっている粗
大異物は採取管9から槽12に流れ出る。さらに、洗浄
水供給弁25bを開状態にし、洗浄水を二次室2bに供
給すればフィルタ4を洗浄し、この洗浄水をストレーナ
8を通すことによりストレーナ8を洗浄することにもな
る。この洗浄水を槽へ流すことができなければ、サンプ
リング弁15を閉状態とし、第1排水弁16を開状態と
することにより洗浄水を排水管18から排水側へ流すこ
とにする。
次に、両方の洗浄水供給弁25a、25bを開状態とし
、フィルタ容器2の一次室2aと二次室2bに洗浄水を
供給し、フィルタ容器2内を加圧することによりフィル
タ4が洗浄される。この時、第1排水弁16および第2
排水弁17を開状態とすれば洗浄水は排水側へ流れる。
、フィルタ容器2の一次室2aと二次室2bに洗浄水を
供給し、フィルタ容器2内を加圧することによりフィル
タ4が洗浄される。この時、第1排水弁16および第2
排水弁17を開状態とすれば洗浄水は排水側へ流れる。
上記のような洗浄の機能の他に、このサンプリング用液
処理装置1が休止状態にある時は、両方の洗浄水供給弁
25a、25bを開状態とし、フィルタ容器2内に液面
検知器24が検知するぐらい洗浄水を溜める。この洗浄
水は異物が乾燥してフィルタ4を閉塞するのを防止する
。運転を再開する時は第1排水弁16および第2排水弁
17を開状態とすることによりフィルタ容器2内の洗浄
水を排水側へ流す。
処理装置1が休止状態にある時は、両方の洗浄水供給弁
25a、25bを開状態とし、フィルタ容器2内に液面
検知器24が検知するぐらい洗浄水を溜める。この洗浄
水は異物が乾燥してフィルタ4を閉塞するのを防止する
。運転を再開する時は第1排水弁16および第2排水弁
17を開状態とすることによりフィルタ容器2内の洗浄
水を排水側へ流す。
このようにフィルタ容器2に洗浄機能を持たせたことに
より分解して洗浄するような保守回数が少なくなる。
より分解して洗浄するような保守回数が少なくなる。
以上述べたことから本発明によるサンプリング用液処理
装置ではフィルタ容器の一次室に液面検知器を設けたこ
とにより所定量の試料液を溜めることができるので、定
量ポンプ等の高価な装置が不要となり、それだけ保守性
が向上する。試料液を採取する時はポンプを使用しない
ので従来のように異物によるポンプの故障は解消され保
守回数は少くなり稼働率が向上する。また、フィルタ容
器内の圧力を変化させることにより所定量の試料液がフ
ィルタを浸透することを促進するので、従来のろ適時間
よりも短縮されることになりろ過能力が向上する。さら
に、フィルタ容器内の圧力を変化させることにより一次
室に試料液を流入させることができるので試料液の流入
が円滑となり液面検知器で検知される試料液の液面は安
定する。
装置ではフィルタ容器の一次室に液面検知器を設けたこ
とにより所定量の試料液を溜めることができるので、定
量ポンプ等の高価な装置が不要となり、それだけ保守性
が向上する。試料液を採取する時はポンプを使用しない
ので従来のように異物によるポンプの故障は解消され保
守回数は少くなり稼働率が向上する。また、フィルタ容
器内の圧力を変化させることにより所定量の試料液がフ
ィルタを浸透することを促進するので、従来のろ適時間
よりも短縮されることになりろ過能力が向上する。さら
に、フィルタ容器内の圧力を変化させることにより一次
室に試料液を流入させることができるので試料液の流入
が円滑となり液面検知器で検知される試料液の液面は安
定する。
この結果、ろ過処理能力が向上する装置が実現できた。
第1図は本発明のサンプリング用液処理装置を示す機器
構成図、第2図は従来のサンプリング用液処理装置を示
す機器構成図である。 1・・・サンプリング用液処理装置、2・・・フィルタ
容器、2a・・・−夕空、2b・・・二次室、3・・・
試料液、4・・・フィルタ、20,21,22.23・
・・圧力制御装置(空気開放弁、吸気用切換弁、抜気用
切換弁、空気ポンプ)、24・・・液面検知器、25a
。 25b・・・洗浄装置(洗浄水供給弁)。 出願人代理人 佐 藤 −雄
構成図、第2図は従来のサンプリング用液処理装置を示
す機器構成図である。 1・・・サンプリング用液処理装置、2・・・フィルタ
容器、2a・・・−夕空、2b・・・二次室、3・・・
試料液、4・・・フィルタ、20,21,22.23・
・・圧力制御装置(空気開放弁、吸気用切換弁、抜気用
切換弁、空気ポンプ)、24・・・液面検知器、25a
。 25b・・・洗浄装置(洗浄水供給弁)。 出願人代理人 佐 藤 −雄
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、試料液をろ過するフィルタと、このフィルタを内蔵
し、かつ、このフィルタで仕切られた前記試料液が流入
する一次室およびろ過された前記試料液が流出する二次
室を有するフィルタ容器と、このフィルタ容器の一次室
に設けられ、前記試料液の所定量を検知する液面検知器
と、前記フィルタ容器の前記一次室に連通された前記フ
ィルタ容器の内部圧力を変化させる圧力制御装置とを備
えたことを特徴とするサンプリング用液処理装置。 2、フィルタ容器は一次室と二次室に接続された洗浄装
置を含むことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載
のサンプリング用液処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62330434A JPH01171611A (ja) | 1987-12-26 | 1987-12-26 | サンプリング用液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62330434A JPH01171611A (ja) | 1987-12-26 | 1987-12-26 | サンプリング用液処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01171611A true JPH01171611A (ja) | 1989-07-06 |
Family
ID=18232568
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62330434A Pending JPH01171611A (ja) | 1987-12-26 | 1987-12-26 | サンプリング用液処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01171611A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100782262B1 (ko) * | 2006-12-20 | 2007-12-04 | 주식회사 포스코 | 래들슬래그를 이용한 제강용 플럭스 제조방법 및 이를이용하여 제조된 제강용 플럭스 |
JP2015081906A (ja) * | 2013-10-24 | 2015-04-27 | 栗田工業株式会社 | モニタリング装置 |
WO2016189950A1 (ja) * | 2015-05-28 | 2016-12-01 | 三浦工業株式会社 | バラスト水処理装置及びバラスト水処理方法 |
US11542566B2 (en) | 2016-12-27 | 2023-01-03 | Jfe Steel Corporation | Method for dephosphorization of hot metal, and refining agent |
-
1987
- 1987-12-26 JP JP62330434A patent/JPH01171611A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100782262B1 (ko) * | 2006-12-20 | 2007-12-04 | 주식회사 포스코 | 래들슬래그를 이용한 제강용 플럭스 제조방법 및 이를이용하여 제조된 제강용 플럭스 |
JP2015081906A (ja) * | 2013-10-24 | 2015-04-27 | 栗田工業株式会社 | モニタリング装置 |
WO2016189950A1 (ja) * | 2015-05-28 | 2016-12-01 | 三浦工業株式会社 | バラスト水処理装置及びバラスト水処理方法 |
JPWO2016189950A1 (ja) * | 2015-05-28 | 2017-06-15 | 三浦工業株式会社 | バラスト水処理装置及びバラスト水処理方法 |
US11542566B2 (en) | 2016-12-27 | 2023-01-03 | Jfe Steel Corporation | Method for dephosphorization of hot metal, and refining agent |
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