JPH01167603A - 干渉計測装置 - Google Patents
干渉計測装置Info
- Publication number
- JPH01167603A JPH01167603A JP32781687A JP32781687A JPH01167603A JP H01167603 A JPH01167603 A JP H01167603A JP 32781687 A JP32781687 A JP 32781687A JP 32781687 A JP32781687 A JP 32781687A JP H01167603 A JPH01167603 A JP H01167603A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- light
- optical path
- 4lambda
- interference fringes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 25
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 24
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims abstract description 17
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 7
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
本発明はトワイマングリーン干渉計を用いた干渉計測i
置に係り、特に反射率の異なる測定資料に対し干渉縞の
フンシラストを最適にできるようにした干渉計測!Ii
:rf1に関する。
置に係り、特に反射率の異なる測定資料に対し干渉縞の
フンシラストを最適にできるようにした干渉計測!Ii
:rf1に関する。
【従来の技術1
この種の干渉計測装置として、例えば!@2図に示すも
のがある。
のがある。
第2図において、可干渉光源10はヘリウムネオンレー
ザ等を用いて構成され、そのレーザビームはビーム拡大
器12に入光される。ビーム拡大器12の後段にはビー
ム拡大器12より供給されるビームを二分するビームス
プリッタ14があり、ここで二分された一方のビームは
基準平面鏡18に、他方は測定試料16に進み、ここで
反射してビームスプリッタ14に戻る。そのビームのい
くらかはビームスプリッタによって反射され、いくらか
は透過されるのでビームスプリッタはそれらの光を再合
成する役目を果し、再び単一ビームを形成する。このビ
ームはレンズ20によってitされカメラ22上で像が
結ぶ様な構成になっている。以上の構成において、可干
渉光源10で発生したレーザビーム拡大器12によって
拡大されたのち、ビームスプリッタ14によって二分さ
れる。
ザ等を用いて構成され、そのレーザビームはビーム拡大
器12に入光される。ビーム拡大器12の後段にはビー
ム拡大器12より供給されるビームを二分するビームス
プリッタ14があり、ここで二分された一方のビームは
基準平面鏡18に、他方は測定試料16に進み、ここで
反射してビームスプリッタ14に戻る。そのビームのい
くらかはビームスプリッタによって反射され、いくらか
は透過されるのでビームスプリッタはそれらの光を再合
成する役目を果し、再び単一ビームを形成する。このビ
ームはレンズ20によってitされカメラ22上で像が
結ぶ様な構成になっている。以上の構成において、可干
渉光源10で発生したレーザビーム拡大器12によって
拡大されたのち、ビームスプリッタ14によって二分さ
れる。
一方のビーム25は基準平面鏡18によって反射され、
参照波として再びビームスプリ・ツタ14に帰還する。
参照波として再びビームスプリ・ツタ14に帰還する。
他方のビーム28は測定試料16の被検面によって反射
され、被測定波として再びビームスプリッタ14に帰還
する。
され、被測定波として再びビームスプリッタ14に帰還
する。
ビームスプリッタ14においては、前記参照波と被測定
波とが合成し、これによって生じる干渉縞がエリアカメ
ラ22上に結像させるべくレンズ20が配5!されてい
る。この干渉縞の明暗はレーザ光の波長をλとすれば、
参照波と被測定波との位相差が入/2毎に現われる。
波とが合成し、これによって生じる干渉縞がエリアカメ
ラ22上に結像させるべくレンズ20が配5!されてい
る。この干渉縞の明暗はレーザ光の波長をλとすれば、
参照波と被測定波との位相差が入/2毎に現われる。
なお、干渉縞のコントラストは測定試料の反射率に応じ
て調整する必要がある場合、従来においては、ビーム2
5又はビーム28の光路に光量滅貨板を挿入し、所定の
光量に調整し、コントラストを最適にしていた。
て調整する必要がある場合、従来においては、ビーム2
5又はビーム28の光路に光量滅貨板を挿入し、所定の
光量に調整し、コントラストを最適にしていた。
[発明が解決しようとする問題点1
しかし、従来の干渉計測装置にあっては、参照波または
被測定波のいずれかの光路中に光減衰板を挿入する必要
があるため、その光減衰板の厚さむら等による透過波面
精炭分が干渉計の精度に加算され測定精度が劣化すると
いう問題がある。
被測定波のいずれかの光路中に光減衰板を挿入する必要
があるため、その光減衰板の厚さむら等による透過波面
精炭分が干渉計の精度に加算され測定精度が劣化すると
いう問題がある。
本発明の目的は、光減衰板の使用に起因する測定精度の
劣化を改善できるようにした干渉計測装置を提供するこ
とにある。
劣化を改善できるようにした干渉計測装置を提供するこ
とにある。
E問題点を解決するための手段]
上記目的を達成するために本発明は可干渉光源と、この
可干渉光源からの光ビームの偏光面に対し光軸を傾ける
1/2λ板と、この1/2人板よりの光ビームを透過す
る方向及びこれに直交する方向の各々に所定の光量比を
もって分割する偏光ビームスプリッタと、その分割によ
り形成された各々の光路上に配設されるt51、第2の
1/4λ板と、これら1/4λ板を介して基準平面鏡及
び測定試料の各々より反射する光ビームが前記偏光ビー
ムスプリッタを経由する過程で干渉し、偏光ビームスプ
リッタと撮像装置との間に配設された偏光板により生ず
る干渉縞を取り込む撮像装置を具備したものである。
可干渉光源からの光ビームの偏光面に対し光軸を傾ける
1/2λ板と、この1/2人板よりの光ビームを透過す
る方向及びこれに直交する方向の各々に所定の光量比を
もって分割する偏光ビームスプリッタと、その分割によ
り形成された各々の光路上に配設されるt51、第2の
1/4λ板と、これら1/4λ板を介して基準平面鏡及
び測定試料の各々より反射する光ビームが前記偏光ビー
ムスプリッタを経由する過程で干渉し、偏光ビームスプ
リッタと撮像装置との間に配設された偏光板により生ず
る干渉縞を取り込む撮像装置を具備したものである。
[作用]
偏光ビームスプリッタの入党側に設けられた1/2λ板
によって可干渉光源よりの光ビームの偏光面に傾きを持
たせ、偏向ビームスプリッタとの組合せにより、基準平
面鏡及び測定試料に対する光量比率を光減衰板を用いる
ことな(変えることがでべろ。
によって可干渉光源よりの光ビームの偏光面に傾きを持
たせ、偏向ビームスプリッタとの組合せにより、基準平
面鏡及び測定試料に対する光量比率を光減衰板を用いる
ことな(変えることがでべろ。
【実施例]
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。第
1図は本発明の一実施例を示す構成図である。f51図
においては、第2図の従来例と同一部分については同一
符号を付してその説明を省略し、異なる構成について説
明する。
1図は本発明の一実施例を示す構成図である。f51図
においては、第2図の従来例と同一部分については同一
符号を付してその説明を省略し、異なる構成について説
明する。
PjIJ1図に示すように、可干渉光源10とビーム拡
大器12開の光路中に光量調整(偏光板)30及び1/
2λ板32が配設され、1/2^板32はモータ34に
よって回転できるように構成されている。光を調整板3
0はトータル光量が多い場合に光量を減らすために用い
られるもので、例乏ば偏光板が使用される。その光を調
整は、光11調整板30を回転させ、入射光の偏光面と
光ff!、i!!!!板30の偏光面とに角度をつける
ことにより光量を調整する。また、第2図のビームスプ
リッタ14に代えて、偏光ビームスプリッタ36が用い
られる。偏光ビームスプリッタ36は、たとえば分割面
に垂直な偏光面の光を通過させ、平行な偏光面の光を反
射させる。偏光ビームスプリッタ36と測定試料16の
間には1/4λ板42が配設され、基準面鏡18及び結
像レンズ20の各々との間に1/4λ板44及び46が
配設されている。
大器12開の光路中に光量調整(偏光板)30及び1/
2λ板32が配設され、1/2^板32はモータ34に
よって回転できるように構成されている。光を調整板3
0はトータル光量が多い場合に光量を減らすために用い
られるもので、例乏ば偏光板が使用される。その光を調
整は、光11調整板30を回転させ、入射光の偏光面と
光ff!、i!!!!板30の偏光面とに角度をつける
ことにより光量を調整する。また、第2図のビームスプ
リッタ14に代えて、偏光ビームスプリッタ36が用い
られる。偏光ビームスプリッタ36は、たとえば分割面
に垂直な偏光面の光を通過させ、平行な偏光面の光を反
射させる。偏光ビームスプリッタ36と測定試料16の
間には1/4λ板42が配設され、基準面鏡18及び結
像レンズ20の各々との間に1/4λ板44及び46が
配設されている。
、次に、以上の構成による実施例の作用について説明す
る。可干渉光源10から発した直線偏光のレーザビーム
は、光1に調!!坂30によって必要な光量に調整され
たのち、1/2λ板32へ供給される。1/2λ板32
はモータ34によりて所望の角度へ回転させることがで
きる。172λ板32に対する入射直線偏光は、1/2
λ板32の光軸方向とその垂直方向成分の直線偏光との
合成である考えると、その光軸方向成分を垂直方向成分
に対して、1/2人板32に上って位相を相対的に1/
2λだけ遅らせるようになる。すなわち、1/2λ板3
2は入射光の偏光面に対し、その光軸をθ傾けた場合、
その出射光の偏光面は2θ傾くことになる。1/2λ板
32を出射したレーザビームは、ビーム拡大器12によ
って、その拡大率に応じたビーム径にされ、偏光ビーム
スプリッタ36に送られる。例えば、ビーム拡大器12
上りの光ビームの偏光面が15度傾いているとすると、
測定試料16に対する光量は入射光に対し約97%(c
osl 5°)となり、基準平面鏡18に対しては、約
26%(5in15°)となり、その光量比は約1対3
.7となる。この状態では、測定試料16の反射率を基
準平面I!18の1/3.7になるようにした場合と同
一になる。
る。可干渉光源10から発した直線偏光のレーザビーム
は、光1に調!!坂30によって必要な光量に調整され
たのち、1/2λ板32へ供給される。1/2λ板32
はモータ34によりて所望の角度へ回転させることがで
きる。172λ板32に対する入射直線偏光は、1/2
λ板32の光軸方向とその垂直方向成分の直線偏光との
合成である考えると、その光軸方向成分を垂直方向成分
に対して、1/2人板32に上って位相を相対的に1/
2λだけ遅らせるようになる。すなわち、1/2λ板3
2は入射光の偏光面に対し、その光軸をθ傾けた場合、
その出射光の偏光面は2θ傾くことになる。1/2λ板
32を出射したレーザビームは、ビーム拡大器12によ
って、その拡大率に応じたビーム径にされ、偏光ビーム
スプリッタ36に送られる。例えば、ビーム拡大器12
上りの光ビームの偏光面が15度傾いているとすると、
測定試料16に対する光量は入射光に対し約97%(c
osl 5°)となり、基準平面鏡18に対しては、約
26%(5in15°)となり、その光量比は約1対3
.7となる。この状態では、測定試料16の反射率を基
準平面I!18の1/3.7になるようにした場合と同
一になる。
偏光ビームスプリッタ36の分割による光路40a、4
0bに配設された1/4λ板42及び44は、供給され
る光ビームの光軸方向の偏光成分をその垂直方向の偏光
成分に対し、位相を174波艮遅らせるように機能する
。この結果、例えば、入射光の偏光面に対し光軸を仮に
45度とした場合、1/4λ板を透過し、測定試料16
及び基準平面鏡18で反射して再び174λ板を透過す
る際に、λ/4+λ/4=λ/2すなわち1/4λ板の
光軸方向に1/2λ板を用いて光軸を合せた場合と同じ
になる。したがって前記の45度の場合、1/4λ板を
2回透過した光は、偏光面が90度変えられたものにな
る。
0bに配設された1/4λ板42及び44は、供給され
る光ビームの光軸方向の偏光成分をその垂直方向の偏光
成分に対し、位相を174波艮遅らせるように機能する
。この結果、例えば、入射光の偏光面に対し光軸を仮に
45度とした場合、1/4λ板を透過し、測定試料16
及び基準平面鏡18で反射して再び174λ板を透過す
る際に、λ/4+λ/4=λ/2すなわち1/4λ板の
光軸方向に1/2λ板を用いて光軸を合せた場合と同じ
になる。したがって前記の45度の場合、1/4λ板を
2回透過した光は、偏光面が90度変えられたものにな
る。
1/4λ板44がら偏光ビームスプリッタ36に入射す
る光ビームは分割面に対し垂直に変えられた結果、偏光
ビームスプリッタ36を通過して光路40cへ抜け、1
/4λ板42がら偏光ビームスプリッタ36に入射する
光ビームは、分割面に対し平行に変えられているため、
偏光ビームスプリッタ36で光路40cへ反射する。光
路40Cに送り出された各々の光ビーム(参照光及び被
測定光)は偏光方向が直交しているため、干渉縞を生じ
ない。このため、偏光板46によって基準光と測定光の
偏光面の同一成分を取り出し、干渉縞を形成させる。こ
の干渉縞は結像レンズ2oによってワークカメう22の
受像面に結像される。
る光ビームは分割面に対し垂直に変えられた結果、偏光
ビームスプリッタ36を通過して光路40cへ抜け、1
/4λ板42がら偏光ビームスプリッタ36に入射する
光ビームは、分割面に対し平行に変えられているため、
偏光ビームスプリッタ36で光路40cへ反射する。光
路40Cに送り出された各々の光ビーム(参照光及び被
測定光)は偏光方向が直交しているため、干渉縞を生じ
ない。このため、偏光板46によって基準光と測定光の
偏光面の同一成分を取り出し、干渉縞を形成させる。こ
の干渉縞は結像レンズ2oによってワークカメう22の
受像面に結像される。
[発明の効果J
以上説明した通り、本発明によれば、光路中に1/2λ
板と1/4λ板を適宜配設して偏光処理により光jl調
整を行なうようにして、減衰板を不要にしたため、反射
率の異なる測定試料に対する干渉縞のコントラストを最
適にすることができる。
板と1/4λ板を適宜配設して偏光処理により光jl調
整を行なうようにして、減衰板を不要にしたため、反射
率の異なる測定試料に対する干渉縞のコントラストを最
適にすることができる。
また、光量減衰板を用いていないため、この挿入に起因
する測定精度の劣化を無くすることができる。
する測定精度の劣化を無くすることができる。
第1図は本発明の一実施例を示す構成図、第2図は従来
の干渉計測装置を示す構成図である。 10・・・可干渉光源 12・・・ビーム拡大器16
・・・測定試料 18・・・基準平面鏡20・・・結
像レンズ 22・・・エリアカメラ32・・・1/2
λ板 42,44・・・1/4λ板46・・・偏光板 特許出願人 株式会社 東京¥?I密 第1図 第2図
の干渉計測装置を示す構成図である。 10・・・可干渉光源 12・・・ビーム拡大器16
・・・測定試料 18・・・基準平面鏡20・・・結
像レンズ 22・・・エリアカメラ32・・・1/2
λ板 42,44・・・1/4λ板46・・・偏光板 特許出願人 株式会社 東京¥?I密 第1図 第2図
Claims (1)
- 可干渉光源と、この可干渉光源からの光ビーム偏光面に
対し光軸を傾ける1/2λ板と、この1/2λ板よりの
光ビームを二分する偏光ビームスプリッタと、その分割
により形成された各々の光路上に配設される第1、第2
の1/4λ板と、これら1/4λ板を介して基準平面鏡
及び測定試料の各々より反射する光ビームが前記偏光ビ
ームスプリッタを経由する過程で干渉して生ずる干渉縞
を取り込む撮像装置と、この撮像装置と前記偏光ビーム
スプリッタとの間に配設される偏光板を具備することを
特徴とする干渉計測装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32781687A JPH01167603A (ja) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | 干渉計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32781687A JPH01167603A (ja) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | 干渉計測装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01167603A true JPH01167603A (ja) | 1989-07-03 |
Family
ID=18203300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32781687A Pending JPH01167603A (ja) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | 干渉計測装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01167603A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0476404A (ja) * | 1990-07-19 | 1992-03-11 | Ind Technol Res Inst | レーザ干渉測長器 |
US5340504A (en) * | 1991-02-05 | 1994-08-23 | Bayer Ag | Light-polarizing films containing dichroic dyes |
JP2001351842A (ja) * | 2000-06-05 | 2001-12-21 | Canon Inc | 位置検出方法、位置検出装置、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
JP2007225341A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Lasertec Corp | 干渉計、及び形状の測定方法 |
JP2015503754A (ja) * | 2012-01-11 | 2015-02-02 | コー・ヤング・テクノロジー・インコーポレーテッド | 非対称偏光を用いた干渉計及びそれを用いた光学装置 |
CN104776983A (zh) * | 2015-04-14 | 2015-07-15 | 成都太科光电技术有限责任公司 | 偏振激光自准直测试仪 |
-
1987
- 1987-12-24 JP JP32781687A patent/JPH01167603A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0476404A (ja) * | 1990-07-19 | 1992-03-11 | Ind Technol Res Inst | レーザ干渉測長器 |
US5340504A (en) * | 1991-02-05 | 1994-08-23 | Bayer Ag | Light-polarizing films containing dichroic dyes |
JP2001351842A (ja) * | 2000-06-05 | 2001-12-21 | Canon Inc | 位置検出方法、位置検出装置、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
JP2007225341A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Lasertec Corp | 干渉計、及び形状の測定方法 |
JP2015503754A (ja) * | 2012-01-11 | 2015-02-02 | コー・ヤング・テクノロジー・インコーポレーテッド | 非対称偏光を用いた干渉計及びそれを用いた光学装置 |
CN104776983A (zh) * | 2015-04-14 | 2015-07-15 | 成都太科光电技术有限责任公司 | 偏振激光自准直测试仪 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7230718B2 (en) | Simultaneous phase-shifting fizeau interferometer | |
EP1746384B1 (en) | Phase shift interferometer | |
US4659185A (en) | Light beam splitter | |
US7483145B2 (en) | Simultaneous phase shifting module for use in interferometry | |
US7405830B2 (en) | Vibration-insensitive interferometer | |
JPS63311121A (ja) | エンコ−ダ− | |
CN100552375C (zh) | 同时相移的斐索干涉仪 | |
US20220049952A1 (en) | Optical measurement device and multiple mirror | |
US4798468A (en) | Interference apparatus for detecting state of wave surface | |
JP2007537436A (ja) | 偏光漏れによって生じるエラービームの除去または分離機能付きの偏光干渉計 | |
JPH01167603A (ja) | 干渉計測装置 | |
JPH03504768A (ja) | 特に可動な構成要素の距離及至シフト運動を測定するための干渉計システム | |
CN101694369B (zh) | 同时相移的斐索干涉仪 | |
US11262191B1 (en) | On-axis dynamic interferometer and optical imaging systems employing the same | |
JP2572111B2 (ja) | レーザ干渉測定装置 | |
JP2000329535A (ja) | 位相シフト干渉縞の同時計測装置 | |
JPH08285697A (ja) | 干渉計 | |
JPH05302810A (ja) | ヘテロダイン2波長変位干渉計 | |
JP2003133210A (ja) | コヒーレンス低減装置、及び、コヒーレンス低減方法 | |
JPH10213486A (ja) | 偏光干渉計 | |
JP2891715B2 (ja) | 縞走査型干渉測定装置 | |
KR100593783B1 (ko) | 진동에 둔감한 간섭계 | |
JPH03195907A (ja) | 偏光フィゾー干渉計 | |
KR100766876B1 (ko) | 실시간 광간섭계에 사용하기 위한 공간위상천이장치 | |
JPH0829115A (ja) | 干渉顕微鏡 |