JPH0112788B2

JPH0112788B2 -

Info

Publication number: JPH0112788B2
Application number: JP58213153A
Authority: JP
Inventors: Ei Nachiui Rarii; Kadojera Kurisu
Original assignee: Henkel Loctite Corp
Current assignee: Henkel Loctite Corp
Priority date: 1982-11-12
Filing date: 1983-11-12
Publication date: 1989-03-02
Also published as: JPS59135263A; US4415604A; CA1236240A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、１成分被覆組成物に関する。本発明は、被覆及びシーラントの分野に主に用
いられ、特に、プリント回路板の被覆と、電気的
電子的素子のポツテイングを用途としている。他
の用途にも使用されるが、以下、上記の用途に関
し限定して説明する。プリント回路板及び電気的電子的構成要素は、
汚れによる電気的性能の低下を防いだり、少くと
も最小にするため、保護膜により被覆されたりポ
ツテイングされているとよい。最も損傷を与え、普通最も有力な汚染物は水
分、即ち湿気であると考えられている。湿気が多
過ぎると、導線間の絶縁抵抗を極端に低下させ、
電圧を大きく降下させて、デンドライト成長を促
し、導線を腐食する。プリント回路板と構成要素を損傷する他の汚染
物は、製造段階に入つて残留する種々の化学剤、
例えば、融剤、有機溶剤、剥離剤、金属粒子及び
記帳用インキ並びに人間の手の取り扱いにより付
着する体脂、指紋、化粧品及び食物の汚れであ
る。周囲の作業環境によつて、塩水噴霧、ゴミとほ
こり、油、燃料、酸、腐食性蒸気、及びカビのよ
うな種々の汚染物が付着する。他にも、汚物は、
いろいろとあるが、特別な場合を除き、適当な相
似被覆を施すことにより、上記の有害作用を効果
的に排除しうる。相似被覆を施すと、汚染物から保護する他に、
機械的衝撃、震動から守つたり、第３者が手を加
えたりするのを防止する。従来、種々の被覆ポツテイング処理剤が、この
分野で知られており、市販で入手しうる。それら
には、長所と短所がある。従来使用されている第１の相似被覆ポツテイン
グ処理剤は、アクリル樹脂を基本としている。ア
クリル樹脂は、噴霧、浸漬、刷毛塗りにより容易
に塗布されることから、製造的観点に照らして、
すぐれた被覆ポツテイング処理剤である。アクリ
ル被覆ポツテイング処理は、好適な電気的及び物
理的性質を備え、かつすぐれた耐菌性を持つてい
る。アクリル被覆ポツテイング処理のもう１つの
長所は、寿命が長く、硬化時の発熱が少量か全く
なく、硬化時の収縮もわずかであるか、全くない
という点である。しかし、アクリル被覆ポツテイング膜は、溶媒
が蒸発して形成され、数分後に、硬化時に最適な
物理的性質に達する。従来のアクリル樹脂被覆ポ
ツテイング処理剤は、トリクロロエタン又は塩化
メチレンのような塩素化溶剤に可溶である。従来の第２の相似被覆ポツテイング剤は、ポリ
ウレタンを基本にしている。ポリウレタンは、単
一成分か２成分よりなるかいずれかである。ポリ
ウレタン被覆ポツテイングは、すぐれた耐湿性
と、耐薬品性と、好適な誘電特性とを備えてい
る。単一成分のウレタンは、比較的取り扱いが容易
で、相当に長い可使時間を示す。しかし、単一成
分よりなるウレタンは、最適の物理的性質に達す
るのに、室温で、３日から10日の硬化時間を必要
とする。２成分よりなるポリウレタンは、高温
で、１時間から３時間以内に最適な硬化に達する
が、可使時間が相当に短かい。また、ポリウレタン被覆ポツテイング剤を施す
前の基板と構成要素の表面処理が重要である。こ
れは、基板若しくは構成要素上に極少量の湿気が
あつても、湿潤状態下に膨れが生じる。この膨れ
は、次に、電気的欠陥を招き、高価な再処理を必
要とする。ポリウレタン被覆ポツテイング部は、ほとんど
の普通の溶剤に不溶であるので、再処理の際の障
害となる。そこで、ポリウレタン被覆板又はポツ
テイングされた構成要素の再処理段階では、ポリ
ウレタン膜のすべての痕跡を除去するために、腐
食性ストリツパーが必要とされる。しかし、このストリツパーが板、又は構成要素
の金属表面までも腐食してしまうので、このよう
なストリツパーを使用する場合に、非常に注意を
払わなくてならない。また、相似被覆ポツテイングの従来技術には、
エポキシ樹脂が使用されている。エポキシ樹脂
は、２成分よりなるものとしてのみ入手しうる。
エポキシ樹脂被覆ポツテイングは、好適な耐湿性
と耐摩耗性を耐薬品性を有している。しかし、被
覆を除去するストリツパーは、同時に電子的構成
要素を作るのに通常使用されている材料と、プリ
ント回路板のエポキシガラスを破壊してしまう。そこで、エポキシ樹脂で被覆された板、又はポ
ツテイングされた構成要素を修復する唯一の効果
的な方法は、熱いナイフやはんだごてで、エポキ
シ被覆を燃焼させることである。しかし、燃焼法は、美観上の欠点を招き、多く
の需要者には受け入れられない。更に、硬化時に
エポキシ樹脂はいくらか収縮してしまう。従つ
て、収縮からの破損を防止するために、もろい電
子的部品の回りに緩衝材を当ててやらなくてはな
らない。エポキシ樹脂による硬化は、高温で、１時間か
ら３時間、室温で、４日から７日である。エポキ
シ樹脂のもう１つの欠点は、可使時間が相当に短
かいことである。従来技術の相似被覆とポツテイングには、また
珪素樹脂が用いられて来た。珪素樹脂による被覆
ポツテイングは、すぐれた耐湿性と、耐食性と、
耐熱性を有している。そこで、珪素樹脂は、電力レジスタのような放
熱型素子を含む被覆ポツテイングアツセンブリに
好適である。しかし、珪素樹脂は、相当に厚いの
で、使用を困難にする。更に珪素樹脂は、硬化時
間が相当に長く、また一度硬化した珪素樹脂は、
絶対的に不溶であるので、はんだごての熱により
気化しないため、修復が難かしい。そこで、珪素樹脂により被覆された回路板、又
はポツテイングされた構成要素を修復する唯一の
方法は、被覆を機械的に除去することである。従来技術では、また相似被覆ポツテイング処理
剤としてポリイミドが用いられて来た。ポリイミ
ド被覆ポツテイングは、上記よりも長い時間に亘
り、耐熱性と、耐湿性と、耐薬品性にすぐれた性
質を保持している。しかし、１時間から３時間、200℃から250℃位
の高温状態をポリイミド被覆は必要とするので、
このような高温は、熱に敏感な電子的構成要素を
損傷する。そこで、ポリイミド被覆剤の用途を限
定してしまう。またポリイミドは、耐熱性と、耐
湿性と、耐薬品性にすぐれているため、ポリイミ
ドによる被覆板、又はポツテイングされた構成要
素を修復する唯一の方法は、被覆を機械的に除去
することである。従来技術において、更にフタル酸ジアリルワニ
スが、相似被覆ポツテイング処理剤に使用され、
すぐれた耐熱性と耐薬品性を備えている。しかし、フタル酸ジアリルワニスは、ほぼ150
℃の高温硬化を必要とし、その用途を極めて限定
する。そこで、フタル酸ジアリルによる被覆ポツ
テイングは、修復するためには、機械的に除去し
なくてはならない。相似被覆回路板に関する従来技術における前記
の議論は、マグロ−ヒルブツクカンパニー
（McGraw Hill Book Company）により1979年
に発行されたクライド・エフ・クーム．ジユニア
（Clyde F.Coombs、Jr.）編集の「プリント回路
ハンドブツク（Printed Circuits Handbook）」
第２版に記載されている。上記議論から明らかなように、従来技術による
すべての相似被覆ポツテイング処理剤は、処理速
度、使用の容易さ、可使時間及び硬化条件のよう
な使用の性質、並びに電気的性質、温度、耐薬品
性及び耐湿性のような好適な物理性質、及び修復
性においてそれぞれ欠点を持つているので、現在
使用されている相似被覆ポツテイング処理剤のい
ずれも、完全に満足すべきものではない。そこで、本発明の第１の目的は、従来技術にお
ける上記の欠点を克服するための改良された相似
被覆ポツテイング処理法及び処理剤を提供するこ
とにある。本発明の第２の目的は、可使時間を延長し、使
用を容易にし、敏速に指触乾燥状態に硬化させ、
好適な電気的性質と、すぐれた耐粘着性と耐食性
と耐熱性と耐薬品性と耐湿性とを備え、修復が容
易な組成物を含むプリント回路板を相似被覆し、
電気的電子的構成要素をポツテイングするための
改良された組成物を提供することにある。本発明の以上の目的、及びそれ以外の目的は、
二次的架橋硬化機構をその中に備えている紫外線
による硬化重合被覆ポツテイング処理剤により達
成される。特に、本発明の第１実施例によれば、重合用処
理剤は、以下の物質を含む１成分被覆組成物より
なつている。 (1) 過剰のジイソシアネートの存在下に、１つ以
上のポリエーテルジオールと、１つ以上のポリ
エーテルトリオールを反応させることにより生
成したイソシアネートを末端付加したプレポリ
マー。 (2) 単官能性若しくは多官能性のそれぞれアクリ
レート又はメタクリレート反応希釈剤。 (3) 光重合開始型の重合開始剤。第１実施例の特徴と利点は、紫外線による照射
硬化が、被覆ポツテイングの全照射部分を、非常
に敏速に指触乾燥状態に硬化し、それにより、被
覆生成物を敏速に処理して、被覆の型を整え、た
るみが出来たり、クリープ変形が生じるのを防止
する。同時に、イソシアネートを末端付加したプ
レポリマーを湿潤状態で反応させ生じた二次的な
硬化により、室温及び通常湿度の下に、被覆ポツ
テイングの紫外線非照射領域、即ち未照射部をほ
ぼ完全に硬化する。本発明の第２実施例によれば、重合剤は、以下
の組成物を含む１成分被覆剤である。即ち、少く
とも１つのウレタンアクリレート又はウレタンメ
タクリレート、アリル基を含むアクリレート又は
メタクリレート、アリル基をそれぞれ含まないア
クリレート又はメタクリレート希釈剤、光重合型
の重合開始剤及び金属乾燥剤である。第２実施例の特徴と利点は、紫外線照射硬化に
より、被覆の全照射領域を非常に敏速に指触乾燥
状態に硬化させ、それにより、被覆生成物を敏速
に処理して、被覆の型を保持し、たるみやクリー
プ変形を防止する。同時に、単官能性又は多官能
性のそれぞれ、アクリレート希釈剤、又はメタク
リレート希釈剤のアリル結合を介しての架橋反応
により生じた二次的硬化が、室温と通常湿度の下
に、被覆の未照射、即ち暗影部をほぼ完全に硬化
する。本発明の特徴と目的を十分に理解するために、
本発明を、実施例に基づき詳細に説明する。物質の物理的特徴に関して述べた用語、例えば
「液状」、「固体状」及び「指触乾燥状態」は、特
定の状態の下にあるこのような性質を意味するも
のである。例えば、「液状」なる用語は、物質が
容易に流動する物理的状態を示し、「固体状」及
び「指触乾燥状態」なる用語は、それぞれ、容易
に変形しないような物理的状態、並びに表面の粘
着性を示す遊離した表面水のない状態を現してい
る。第１実施例本発明による被覆ポツテイング法、及び組成物
の第１実施例に使用されたイソシアネートを末端
とするプレポリマーは、１個以上のポリエーテル
ジオールと、１個以上のポリエーテルトリオール
との混合物を、少くとも１種類の過剰のジイソシ
アネートと反応させて作つたものである。好適なポリエーテルジオールは、約300から約
5000までの範囲の分子量のものから選択され、好
適なポリエーテルトリオールは、約200から約
3000までの範囲の分子量のものから選択される。
特に、約400から約1000までの範囲の分子量を有
するポリエーテルジオールと、約700の分子量を
有するポリエステルトリオールとの混合物が好適
である。ポリエーテルジオールとポリエーテルトリオー
ルの混合物は、ポリエーテルジオールを、主要な
割合、即ち70％以上と、ポリエーテルトリオール
を極少量、即ち１％から３％位含んでいるのが代
表的である。好適なジイソシアネートは、トルエ
ンジイソシアネート（TDI）である。しかし、次
式で示される比較的低分子量の他のジイソシアネ
ートであつてもよい。（）（Ｏ＝Ｃ＝Ｎ）₂R 式中、Ｒは、それぞれ炭素原子２個から20個を
有するアルキレン基、アルケニレン基若しくはシ
クロアルキレン基であるか、又は、それぞれ炭素
原子６個から40個を有するアリレン基、アルカリ
レン基若しくはアラルキレン基である。ポリエーテルジオールとポリエーテルトリオー
ルの混合物は、過剰のジイソシアネートと反応す
る。ジイソシアネートに対するポリエーテルジオ
ールとポリエーテルトリオール混合物の当量反応
比は、ジイソシアネート約1.6から2.2当量に対
し、ブレンド約1.0当量の範囲である。好適な反
応比は、ジイソシアネート2.0当量毎に、ポリエ
ーテルジオールとポリエーテルジオールのブレン
ド1.0当量である。最終組成物の性質にとつて、好適な反応比は特
に重要である。２：１の割合にすると、耐加水分
解性にすぐれた高品質の化学溶剤よりなる化学的
構造の最終生成物を作る。現在、好適なプレポリマーは、ジフエニルメタ
ンジイソシアネート（MDI）2.0当量と反応させ
た、ポリエーテルジオール（平均分子量1000）
0.916当量と、ポリエーテルトリオール（平均分
子量700）0.084当量の混合物である。生成した樹脂は、次に、アクリレート反応希釈
剤又はメタクリレート反応希釈剤と混合される。
この希釈剤は、例えばトリメチロールプロパンエ
トキシレートトリアクリレート、ジシクロペンタ
ジエンメタクリレート並びにジシクロペンタジエ
ンアクリレートであるが、これらに限定されるも
のではない。イソブチルメタクリレート、イソボ
ルニルメタクリレート、ラウリルメタクリレート
並びにシクロヘキシルメタクリレートのような他
の反応メタクリレート化合物を用いることも出来
る。反応は、他の非反応性希釈剤が存在しない状態
でなされる。イソシアネートを末端基に有するプレポリマー
は、反応混合物の約50重量％から約75重量％、好
ましくは約65重量％であり、これに対し、アクリ
レート反応希釈剤又はメタクリレート反応希釈剤
は、反応混合物の約25重量％から約50重量％、好
ましくは約35重量％である。第２実施例本発明による被覆ポツテイング用組成物及び方
法の第２実施例に使用されるウレタン−アクリレ
ート又はウレタンメタクリレートは、ポリエステ
ルジオールをジイソシアネートと反応させ、この
生成物を、重合性アクリル酸エステル又はメタク
リル酸エステルと反応させて生成したポリエステ
ル−ウレタン−アクリレートであるとよい。好適
なポリエステルジオールは、イノレツクスカンパ
ニーにより、イノレツクス（Inolex）1400−120
なる商品名の下に製造されている。このポリエス
テルジオールはネオペンチルグリコールと1.6−
ヘキンジオールをアジピン酸と反応させて生成し
た。有効な他のポリエステルジオールは、ネオペン
チルグリコールと、３個以上の炭素原子を有する
ジオール、例えば、１−４−ブタンジオールをア
ジピン酸と反応させて生成する。好適なジイソシ
アネートは、トルエンジイソシアネート（TDI）
である。しかし、次の一般式で示される比較的低
分子量の他のジイソシアネートであつてもよい。（）（Ｏ＝Ｃ＝Ｎ）₂R 上式中、Ｒは、前に定義した通りである。ジイソシアネートに対するポリエステルジオー
ルの当量の反応比は、普通約2.2のジイソシアネ
ートに対し、約1.0のポリエステルジオールの範
囲ではくてはならない。好適な反応比は、ジイソ
シアネート1.9当量毎にポリエステルジオール1.0
当量である。この好適な反応は、特に最終組成物の性質に重
要である。１：1.9の割合が、可撓性と安定性に
すぐれた化学構造の組成物を生成する。生成した
共重合体は、不規則な共重合体構造を普通なして
いる。この共重合体生成物は、水酸基を含むアク
リレートエステル単量体、又はメクタリレートエ
ステル単量体と反応して、アクリレートを末端と
する重合体を生成する。エステル単量体の当量有
効範囲は、約0.9から約3.0であり、1.6から2.0好
ましく、1.8当量が最も好ましい。ポリエステルジイソシアネート反応生成物に末
端付加するのに用いられる重合性アクリレートエ
ステル単量体、及びメタクリレートエステル単量
体は、単官能性又は二官能性であるとよい。最も
有効性のある単量体は、ヒドロキシアルキルアク
リレート、ヒドロキシアルキルメタクリレート、
アミノアルキルアクリレート、アミノアルキルア
クリレートよりなる群から選択される。最適の重
合性エステル単量体は、ヒドロキシエチルメタク
リレート及びヒドロキシプロピルメタクリレート
である。有用と考えられるもう１つの単官能性重合性エ
ステル単量体は、次式に示される。式中、Ｘは、−Ｏ−又は

【式】で、このR³ は、水素又は１個から７個までの炭素原子を有す
る低級アルキル基、R¹は、水素、塩素、メチル
基及びエチル基よりなる群から選択され、、R²
は、１個から８個までの炭素原子を有する低級ア
ルキレン基、フエニレン基及びナフチレン基より
なる群から選択される。好適な水酸基又はアミンを含む物質は、次の通
りであるが、これらに限定されるものではない。
即ち、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキ
シエチルメタクリレート、アミノエチルメタクリ
レート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、アミノプロピルメタクリレート、ヒドロキシ
エチルアクリレート、ｔ−ブチルアミノエチルメ
タクリレート、ヒドロキシオクチルメタクリレー
ト、ビスフエノール−Ａのモノアクリレートエス
テル、ビスフエノールＡのモノメタクリレートエ
ステル、シクロヘキシルジオール、ポリエチレン
グリコールメタクリレート及びその類似物であ
る。希釈剤なしに末端付加反応が行われるとよい
が、これは必ずしも必要はことではない。希釈剤
を使用する場合、単官能性アクリレート、単官能
性メタクリレート、多官能性アクリレート、及び
多官能性メタクリレートのいずれかを使用すると
よい。本発明による被覆ポツテイング処理剤に使用さ
れる単官能性アクリレート、多官能性アクリレー
ト、単官能性メタクリレート、及び多官能性メタ
クリレート各希釈剤は、次式に示されるアクリレ
ート又はメタクリレートを含むアクリル結合を有
している。式中、R⁴は、水素若しくは１個から４個まで
の炭素原子を有する低級アルキル基で、R⁵は、
少くとも１個のアリル結合を含む有機基であつ
て、本発明による被覆剤に逆効果を与える基を一
切含有していない。R⁵は、アリル結合を有する
脂肪族炭素環構造又は置換脂肪族炭化環構造より
なるのが好ましい。例えば、ジシクロペンテニル
オキシエチルであるとよい。しかし、ジシクロペ
ンテニルのような他のアリル結合含有炭素環構造
のものを用いてもよい。被覆組成物に、他の非アリル反応希釈剤を含ん
でいてもよい。この希釈剤は、アクリレート化合
物又はメタクリレート化合物であり、ヒドロキシ
エチルメタクリレート（HEMA）が最適である。ウレタンアクリレート又はウレタンメタクリレ
ートは、普通、反応混合物中に、約20重量％から
約50重量％含まれている。約20重量％から約30重
量％までであるのが好ましい。アリル基含有アク
リレート又はアリル基含有メタクリレートと、非
アリル基反応希釈剤は、それぞれ反応混合物中
に、約10重量％から約50重量％、及び約60重量％
から約20重量％、普通含まれている。反応混合物
中に、それぞれ約35重量％含まれていると最も好
ましい。本発明の第２実施例の被覆ポツテイング処理剤
は、適当な金属乾燥剤を含んでいる。好適な金属乾燥剤は、２価以上の金属塩又は不
飽和有機塩である。コバルト、マンガン、セリウ
ム、鉛、クロム、鉄、ニツケル、ウラン及び亜鉛
の、それぞれリノレエート、ナフテネート及びレ
ジネートが、好適な乾燥剤である。全被覆剤中に、約0.01％から５％の間以下の濃
度で、普通金属乾燥剤が含まれている。両実施例に含まれる成分本発明に使用される重合開始剤は、紫外線で活
性化される遊離基生成剤を含んでいるとよい。特
に、この重合開始剤は、被覆ポツテイング剤中
に、約１％から約10％の割合で含んでいるのが好
ましいが、より多くか、より少量の割合であつて
もよい。多くの紫外線活性化重合開始剤が、当業者によ
り知られており、本発明に使用するに好適であ
る。例えば、紫外線重合開始剤は、式M_x（CO）_y
で示されるカルボニル金属から選択される。この
式中、Ｍは金属原子、ｘは１又は２、ｙは、金属
原子の全原子価により決められ、普通４から10で
ある。好適な紫外線活性化開始剤は、次の化合物から
選択される。 (a) 炭素原子１個から16個までを有する直鎖状又
は分枝状アルキルジオン、 (b) 一般式R⁵（CO）R⁶で示されるカルボニル化
合物。式中、R⁵は、それぞれ１個から10個ま
での炭素原子を有するアルキル基、アリル基、
アラルキル基又はアルカリル基であり、R⁶は
R⁵と同じか、又は水素である。また、R⁵又は
R⁶は、機能を妨げるような逆効果を与えない
置換剤である。例えば、R⁵又はR⁶は、α位置
で、アルキル基、アリル基、アルカリル基、ア
ルコキシ基若しくはアリルオキシ基であるか、
それらのアミノ誘導体、モノ誘導体若しくはジ
アルキルアミノ誘導体である。上記置換体は、
それぞれ大体６個までの炭素原子を含んでい
る。また、カルボニル基と結合したR⁵とR⁶は、
約16個以下の炭素原子を有する芳香族ケトン又
は複素環式ケトンを生成する。本発明による処理剤中に、付着開始剤を含んで
いるとよいが、必らずしも必要ではない。この付
着開始剤は、当業者に通常知られた化合物から選
択される。２種類の開始剤が好適である。第１の種類は、モノカルボン酸とジカルボン酸
であり、これらは、アクリレート反応希釈剤又は
メタクリレート反応希釈剤とともに共重合する能
力がある。これらは、メタクリル酸とアクリル酸
から生成される。このような酸は、処理剤中に１
重量％乃至20重量％の割合で含まれ、１重量％か
ら10重量％までと、１重量％から15重量％までの
割合が好適である。第２の種類の好適は付着開始剤は、シランを含
む周知のもので、全処理剤中に１重量％乃至10重
量％の割合で含まれているとよい。１種以上のキレート化剤、架橋剤又は重合抑制
剤を含んでいてもよい。これは任意であるが、好
ましいことである。キレート化剤と抑制剤は、全処理剤中に約0.1
重量％から約１重量％の割合で含んでいると効果
的である。エチレンジアミン四酢酸：そのナトリ
ウム塩（Na₄EDTA）、1.1−エチレンビス−ニト
リルメチリジンジピリジン、並びにβ−ジケトン
に類するものが、普通最も効果的で、好ましい。架橋剤を、全処理剤中に、０から約10重量％ま
での割合を含んでいてもよい。架橋剤の例として
は、共重合性ジメタクリレートがある。製造時から単量体に含まれている抑制剤の濃度
は、安定性を良好にするべく十分に高いとよい。
しかし、保存時間を最大にするために、上記に述
べた割合、即ち全処理剤中に約0.1重量％から約
１重量％であるのが好ましい。好適な抑制剤は、ヒドロキノン、ベンゾキノ
ン、ナフトキノン、フエナントラキノン、アント
ラキノン、並びに以上のいずれかで置換した化合
物である。また、抑制剤として種々のフエノール
を使用することも出来る。好適なものは1.6−ジ
−タート−ブチル−４−メチルフエノールであ
る。厚さ、粘度及びチキソトロピーは、用途に応じ
て変えることが出来る。所望の性質を得るべく、
当業者には知られたシツクナー、可塑剤、希釈剤
及び他の種々の試薬を使用することも出来る。好適な結果を挙げるべく、被覆ポツテイング剤
中に界面活性剤を含んでいるとよいが、含んでい
なくてもよい。好適な界面活性剤の選択は、簡単な実験により
決められる。界面活性剤は、重合体に可溶で、か
つイソシアネートを末端付加したプレポリマーと
反応しないものでなくてはならない。界面活性剤
は、次式に示される石油スルホネートのようなア
ニオン物質であるとよい。（）（C_oH_2o-10SO₃）_xMe 式中、ｎは21以上で、Meは原子価ｘの金属を
示す。このような物質は、米国ニユーヨーク州ニ
ユーヨークのウイトコケミカルコーポレーシヨン
（Witco Chemical Corp.）により商標名
「Alconate80」の下に市販されているものか、米
国ペンシルバニア州バトラー、ペンゾイルのペン
レコ・デイビジヨン（Penreco Division）によ
り、商標名「Petrobase」の下に市販されてい
る。もう１つの好適なアニオン物質は、次式に示さ
れるアルキルスルホン酸ナトリウム又はアルキル
アリルスルホン酸ナトリウムである。この物質は、商標名「Alkanol189−Ｓ」と
「DW」の下に、米国デラウエア州ウイルミント
ンのイー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムールア
ンドカンパニー（E.I.duPont de Nemours
＆ Co.）より市販されているものか、連番を付
した商標名「Tengitol」の下に、米国ニユーヨ
ーク州ニユーヨークのユニオンカーバイドコーポ
レーシヨン（Union Carbide Corporation）に
より市販されているものである。別の好適なアニオン物質は、商標名「Alipal」
の下に、米国ニユーヨーク州ニユーヨークのガフ
コーポレーシヨン（GAF Corp.）により市販さ
れているスルホンエトキシ化されたものか、商標
名「Neodol25−35」の下に、米国テキサス州ヒ
ユーストンのシエルケミカルカンパニー（Shell
Chemical Co.）により市販されている。「Union Carbide Ｌ−5320」のような非イオ
ン界面活性剤を、本発明に用いてもよい。界面活性剤の濃度は、どんな場合にも使用され
る個々の界面活性剤と、反応希釈剤の種類に応じ
て定められる。最適条件は、当業者の慣行の問題
である。しかし、アニオン界面活性剤の場合、全処理剤
中、約0.25％の界面活性剤が、好適な乳化状態を
達成するための最少濃度として必要であり、普通
少くとも約0.5％の濃度が好適である。最大の濃
度は約10％である。これ以上になると、硬化速度、安定性又は硬化
生成物を抑制することにより、界面活性剤は、全
処理剤の性質を妨害し始める。実際に、上限濃度
を約５％とすると普通好適である。非イオン界面
活性剤の場合、最適濃度は、より低く、全処理剤
中、約0.1重量％以下であるとよい。また、100万部に付き500重量部以下のような低
濃度の遊離基安定剤、即ち紫外線安定剤を加える
とよい。これらの多くは公知であり、目的とされ
る使用時の前の組成物の見かけの重合化を防止す
る。好適な遊離基安定剤は、ヒドロキノン、ｐ−
ベンゾキノン、ヒドロキシトルエンのブチレー
ト、及びヒドロキシアニゾールのブチレートであ
る。本発明による被覆ポツテイング剤は、始め紫外
線硬化生成物として生成された。しかし、多くの
回路板と電気的電子的構成要素の構造により、紫
外線によつては硬化出来ない暗影部が存在してい
る。この欠点を克服するために、被覆ポツテイング
剤中に、２次的な硬化機構が組み込まれた。特
に、本発明によれば、紫外線を照射した後に、被
覆とポツテイングにおける未硬化領域を完全に硬
化するための湿潤硬化機構が与えられる。本発明の第１実施例の全硬化機構は、次の通り
である。 (1) 紫外線が、アクリレート又はメタクリレート
を重合化して、被覆ポツテイングを定着する。 (2) イソシアネートを末端付加したプレポリマー
を、水、特に大気中の湿分と反応させる。この
反応は、次式に示されている。この後者の反応により、最終の物理的性質を与
え、24時間又はそれ以下の時間以内に、被覆ポツ
テイング部の未照射部を完全に硬化する。第２実施例の全硬化段階は、次の通りである。 (1) 紫外線がアクリレート又はメタクリレートを
硬化し、被覆ポツテイングを定着させる。 (2) 次に、金属乾燥剤の存在下に、アリル結合に
より架橋反応を生じさせる。アリル結合は最終
的な物理的性質を与え、24時間後又はそれ以内
の時間で、被覆ポツテイング部の未照射領域を
完全に硬化する。実施例本発明を以下、好適実施例に基づき説明する。ステンレススチール撹拌器、窒素導入管、温度
計、凝縮器及び入口を備えた窒素清浄四頚紫外線
遮蔽樹脂釜に、アツプジヨン（Upjohn）LF−
168ジフエニルメタンジイソシアネート（MDI）
286ｇ添加した。次に、ポリエーテルジオール466ｇ（平均分子
量1000）とポリエーテルトリオール20ｇ（平均分
子量700）を、60℃で撹拌しながら、ゆつくりと
添加した。60℃で１時間撹拌した後、加熱し、90
℃で１時間半撹拌した。室温まで冷却し、トリメチロールプロパンエト
キシレートトリアクリレート260ｇと、チバガイ
ギ−イルガキユア（Ciba−Geigy Irgacure）651
ジメトキシ−２−フエニルアセトエノンを添加
し、混合した。最終混合物に、オーデイオスピーカーコーンの
裏面を浸漬した。スピーカーに、20秒間、3650オ
ングストローム、60000μW／cm²の紫外線を照射
して、被膜を硬化させた。紫外線照射した被膜
は、25秒から45秒以内に、固い指触乾燥状態にな
つた。紫外線を照射しなかつたスピーカーコーンの部
分は、最初は、湿つた手触りだつたが、24時間、
室温で湿つた状態に置くと、十分に硬化すること
が発見された。「暗影部」即ち紫外線の当らなか
つた部分のスピーカーを薄く切断すると、24時間
後には、この部分の表面が、十分に硬化している
のが見つけられた。被膜を、次のように湿度試験した。被覆されたスピーカーコーンを、ステンレスス
チールタンクの棚に置き、タンクの底から水500
ｇを入れた。タンクを閉塞し、密封し、115℃の
温度まで加熱した。40時間加熱した後、タンクを
冷却した。次に、タンクを開き、コーンを取り出
して検査した。目に見える泡などの被膜の欠陥は現れなかつ
た。実施例トリメチロールプロパンエトキシレートトリア
クリレートの代わりに、ジシクロペンチルメタク
リレート260ｇを使用する以外は、実施例と同
様にして行なつた。実施例と同じ様な結果を得た。実施例トリメチロールプロパンエトキシレートトリア
クリレートの代わりに、ジシクロペンタジエンア
クリレート260ｇを使用する以外は、実施例と
同様にして行なつた。実施例と同じ様な結果を得た。実施例実施例と同様な窒素清浄四頚紫外線遮閉樹脂
釜を、ほぼ40℃まで加熱し、「MOBAY」TDIト
ルエンジイソシアネート165ｇを添加し、次に、
1.6−ヘキサンジオール／ネオペンチルグリコー
ルアジペートを、20分以上かけてゆつくりと添加
した。このグリコールは、米国ペンシルバニア州
フイラデルフイアのイノレツクスカンパニー製造
のイノレツクス（Inolex）1400−120ポリエステ
ルである。ポリエステルの添加を完了した後、１時間、40
℃から45℃の温度で撹拌しながら加熱を続け、次
に、100℃で撹拌しながら２時間加熱した。３時
間で反応が完了するとすぐに、槽の温度を50℃に
下げ、ヒドロキシエチルメタクリレート230ｇを
添加した。反応混合物を更に加熱し、50℃に維持
し、その温度で、２時間撹拌した。反応混合物を室温に戻した。この生成樹脂170
℃に、撹拌しながら、次の化合物を加えた。ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレー
ト275ｇ、アクリル酸29ｇ、グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン5.5ｇ、チバガイギ−イガ
キユール651ジメトキシ−２−フエニル−アセト
フエノン20ｇ、ユニオンカーバイトＬ−5320シリ
コーン界面活性剤0.5ｇ、並びに3Mカンパニーフ
ルオラード（Fluorad）FC430均展剤1.5ｇであ
る。すべての成分が溶解するまで、この混合物を
撹拌した。最終溶液は、ポリエステル−ウレタン−メタク
リレート樹脂（PEUMA）を約34％濃度含んでい
た。上記樹脂溶液を66.4％、ヒドロキシエチルメタ
クリレートを33.2％、６％コバルトナフタネート
を0.3％含む混合物を次の使用例に用いた。実験例プリント回路板の上面、即ち、構成要素の側面
に、最終溶液を噴霧した。回路板に、3650Å、
60000μW／cm²の紫外線を照射して、被膜を硬化
した。紫外線照射した被膜部分は、10秒から45秒
以内に固い指触乾燥状態になつた。構成要素の「暗影部」、即ち紫外線照射を直接
受けなかつた部分は、湿つた手触りであつたが、
室温、湿潤状態で24時間放置の後に、十分に硬化
した。24時間後、「暗影部」の回路板を細かく切
ると、板の被膜が十分に硬化しているのがわかつ
た。ステンレススチールタンクの棚に被膜を施した
板を置き、タンクの底に、500ｇの水を添加した。
タンクを閉塞し、密封して、115℃の温度になる
まで加熱した。40時間、加熱した後に、タンクを
冷却した。次に、タンクを開き、板を取り出し検
査した。板には、目に見える膨れや他の被膜欠損は観察
されなかつた。実施例ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレー
トの代わりに、等量のアルコラツクシポマー
（Alcolac SIPOMER）DCPMジシクロペンテニ
ルメタクリレートを用いる以外は、実施例と同
様な方法を繰り返した。実施例と同様な結果を
得た。実施例ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレー
トの代わりに、等量のジシクロブタジエンメタク
リレートを使用する以外は、実施例の方法を繰
り返した。実施例と同様な結果を得た。前記のように、本発明は、プリント回路板、並
びに電気的及び電子的構成要素等を相似被覆した
り、ポツテイングするための、新規で改良された
化合物と方法を提供するものである。本発明による被覆ポツテイング法は、ブラシで
塗つたり、滴下したり、ローラ引きしたり、浸漬
したり、あるいは適当に希釈して噴霧したりする
ような手段により、回路板又は構成要素に施され
る。また、この方法は、紫外線硬化を含む二元的構
造により、敏速に定着硬化し、即座に指触乾燥状
態に硬化することを特徴としている。しかし、従来の紫外線で硬化した製品と異な
り、本発明による処理剤は組成物の二次的硬化機
構により、完全に硬化するのに、全領域に亘る紫
外線照射を必要としない。更に、硬化被覆ポツテイング法は、プラスチツ
ク、金属、ガラス及び木材に対するすぐれた付着
性と、すぐれた耐摩耗性と、熱循環における加水
分解に対する安定性、及び耐性を有している。この被膜とポツテイングは、修繕しうるもので
ある。即ち、メチルエチルケトンのような好適な
溶剤により除去し、次に、ブラシを使用したり、
噴霧したり、紫外線照射して、置換しうる。本発明は、特に回路板を相似被覆し、オーデイ
オスピーカーコーンをポツテイングするのに用い
られる。しかし、当業者ならば、本発明による組成物及
び方法を、電気的変圧器などの他の部品に使用す
ることも出来る。更に、この組成物と方法は、電
子的分野に用途を限定されるものではなく、保護
相似被覆又はポツテイングを必要とする他の分野
においても使用されるとよい。

Claims

【特許請求の範囲】１特に相似被覆及びポツテイングに使用される
１成分被覆組成物であつて、 (A) 次の群から選択された重合性物質、 (a) 少なくとも１つのウレタンアクリレート又
はウレタンメタクリレート、 (b) アリル基を含むアクリレート又はメタクリ
レート、 (c) 非アリルアクリレート希釈剤又は非アリル
メタクリレート希釈剤 (d) 金属乾燥剤、並びに (B) 光重合型の重合開始剤を含むことを特徴とす
る１成分被覆組成物。２ウレタンアクリレート又はウレタンメタクリ
レートが、それぞれポリエステルウレタンアクリ
レート又はポリエステルウレタンメタクリレート
である特許請求の範囲第１項に記載の１成分被覆
組成物。３ポリエステルウレタンメタクリレートのポリ
エステル部が、ポリエステルジオールよりなり、
このポリエステルジオールが、好ましくはベンチ
ルグリコール及び１，６−ヘキサンジオールとア
ジピン酸との反応生成物である特許請求の範囲第
２項に記載の１成分被覆組成物。４ (a) 非アリル希釈剤がヒドロキシエチルメタ
クリレートよりなること、 (b) 金属乾燥剤が、少なくとも２価の金属塩と不
飽和有機酸を含み、かつコバルト、マンガン、
セリウム、鉛、クロム、鉄、ニツケル、ウラン
及び亜鉛のそれぞれリノレート、ナフテネート
及びレジネートよりなる群から選択されたもの
であるのが好ましく、より好ましくはコバルト
ナフテネートであること、 (c) ウレタンアクリレート又はウレタンメタクリ
レートが、組成物中に約20重量％から約50重量
％までの範囲で含まれていること、 (d) 前記非アリルアクリレート希釈剤又は前記非
アリルメタクリレート希釈剤が、前記組成物中
に、約20重量％から60重量％までの範囲で含ま
れていること、 (e) アリル基を含むアクリレート又はメタクリレ
ートが、前記組成物中に、約10重量％から60重
量％までの範囲で含まれていること、及び (f) アリル基を含む前記アクリート又はメタクリ
レートが、ジシクロペンテニルオキシエチルメ
タクリレート及びジシクロペンテニルメタクリ
レートよりなる群から選択されたものであるこ
と、以上の(a)から(f)までに記載された事項のうちの
１つ以上の特徴を有する特許請求の範囲第１項乃
至第３項のいずれかに記載の１成分被覆組成物。５界面活性剤を含む特許請求の範囲第１項乃至
第４項のいずれかに記載の１成分被覆組成物。