JPH01121159A - Method and device for mechanically grinding and polishing inorganic material, particularly, surface of glass - Google Patents
Method and device for mechanically grinding and polishing inorganic material, particularly, surface of glassInfo
- Publication number
- JPH01121159A JPH01121159A JP20428887A JP20428887A JPH01121159A JP H01121159 A JPH01121159 A JP H01121159A JP 20428887 A JP20428887 A JP 20428887A JP 20428887 A JP20428887 A JP 20428887A JP H01121159 A JPH01121159 A JP H01121159A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- axis
- section
- abrasive
- paragraph
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 83
- 238000000227 grinding Methods 0.000 title claims abstract description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 53
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 title claims description 6
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 title claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 title abstract description 38
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 37
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 claims description 16
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims description 16
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 6
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 15
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 10
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007799 cork Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004836 empirical method Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- -1 lead Chemical class 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B7/00—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
- B24B7/20—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
- B24B7/22—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
- B24B7/24—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass
- B24B7/241—Methods
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B19/00—Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group
- B24B19/006—Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group for grinding hollow glassware, bottles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B29/00—Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents
- B24B29/02—Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents designed for particular workpieces
- B24B29/04—Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents designed for particular workpieces for rotationally symmetrical workpieces, e.g. ball-, cylinder- or cone-shaped workpieces
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、無機材料からなる物体の表面を、回転駆動さ
れる少なくとも１つの砥石と研摩材料とを用いて機械的
に研摩する方法に関する。この方法においては、この物
体の表面を対称軸のまわりに回転させ、かつ、この表面
を研削および／または研摩の間を通じて、適宜かつ一定
の圧力で砥石に接触させることにより、砥石をこの表面
上を走査させて所定の深さの面を形成する走査が含まれ
る。なお、本方法の操作は複数の段階に分かれることが
ある。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for mechanically polishing the surface of an object made of inorganic material using at least one rotationally driven grindstone and an abrasive material. In this method, a grinding wheel is applied to the surface of the object by rotating the surface of the object about an axis of symmetry and contacting the surface with the grinding wheel with suitable and constant pressure throughout the grinding and/or polishing. This includes scanning to form a surface with a predetermined depth. Note that the operation of the method may be divided into multiple steps.
＝９−
本発明は、ガラス製品、クリスタルガラス製品、および
、陶器の製造の際に、粗削り、切削、または、鋳造部材
の場合の接合用半溶解ガラス塊の除去操作の結果として
得られる多少ざらついていて艶のない表面を研摩剤を使
い分けて仕上げるのに主として応用される。= 9 - The present invention is intended to reduce the roughness, which is obtained during the production of glass products, crystal glass products, and ceramics, as a result of roughing, cutting, or removal operations of semi-molten glass gobs for joining in the case of cast parts. It is mainly used to finish dull, matte surfaces by using different abrasives.
本発明の方法は、ガラス、クリスタルガラス、または、
セラミック材料からなる物体の平坦な、または湾曲した
表面を機械的に研摩するのに利用される。例えばコツプ
、花瓶、灰皿や、平坦な、または曲率半径が１５０圃〜
１ｍの表面を有する無機材料からなる他のあらゆる物体
が対象となる。The method of the invention can be applied to glass, crystal glass, or
It is used to mechanically polish flat or curved surfaces of objects made of ceramic materials. For example, pots, vases, ashtrays, flat fields, or fields with a radius of curvature of 150~
Any other object made of inorganic material with a surface of 1 m is of interest.
従来の方法は、ガラス物体の平坦な表面を。The traditional method uses a flat surface of a glass object.
この表面に対して垂直な軸線のまおりに回転させ、かつ
、この処理表面の回転軸に平行な幾何学軸のまわりを回
転している回転砥石に取り付けられた円環状研摩材料と
上記表面を接触させておくことにより、この表面を研摩
および／または滑らかにするというものである。The surface is connected to an annular abrasive material attached to a rotating grindstone that is rotated about an axis perpendicular to the surface and about a geometric axis parallel to the axis of rotation of the treated surface. The contact polishes and/or smoothes this surface.
従来のこの方法には、処理表面に痕跡や条線が現れると
いう欠点がある。条線を消すためには、処理済みの表面
を、例えば研摩具を用いて、手で研摩する必要がある。This conventional method has the disadvantage that marks or striations appear on the treated surface. To eliminate the streaks, the treated surface must be manually sanded, for example with an abrasive tool.
また、円環状研摩材料を取り付けた入れ子犬砥石を軌道
運動させることのできる複雑で重い機械を用いてガラス
物体の平坦な表面を研摩または滑らかにする方法も知ら
れている。It is also known to polish or smooth the flat surface of a glass object using a complex and heavy machine capable of orbiting an abrasive wheel fitted with a toroidal abrasive material.
円環状研摩材料にこのような運動をさせると、処理表面
に条線や痕跡が現れないようにすることができる。しか
し、このためには複雑で高価な機械を使用せざるを得な
い。また、この方法を用いたのでは、所望の仕上げ状態
にすることができない。特に処理表面に艶と光沢を回復
させることはできず、表面が艶のない状態のままになる
。This movement of the annular abrasive material helps to avoid the appearance of striations and marks on the treated surface. However, this requires the use of complex and expensive machinery. Moreover, using this method, it is not possible to achieve the desired finished state. In particular, it is not possible to restore gloss and shine to the treated surface, leaving the surface in a dull state.
予備研削操作のために艶がなくなったガラス、クリスタ
ルガラス、または、セラミック材料からなる物体の表面
に光沢をもたらすために、現在のところ従来から知られ
ている様々な方法が用いられている。Various methods known from the prior art are currently used to bring luster to the surface of objects made of glass, crystal glass or ceramic materials that have become dull due to a pre-grinding operation.
研削表面に光沢をもたらすのに通常利用されている第１
の方法は、この表面をフッ化水素酸と硫酸の濃縮溶液に
浸すというものである。この酸がガラスを溶解させてざ
らついた処理表面の凹凸をなくし、その下部の不安定に
なった層をある程度深さ方向にエツチングして除去する
ことにより表面に光沢を与える。The first, which is commonly used to bring shine to the ground surface.
The method involves soaking the surface in a concentrated solution of hydrofluoric acid and sulfuric acid. This acid dissolves the glass, eliminates the roughness of the treated surface, and etches and removes the unstable layer underneath to some extent, giving the surface a glossy appearance.
エツチングの深さはガラスの組成、酸浴の濃度、および
酸をガラスに接触させる時間に依存する。The depth of etching depends on the composition of the glass, the concentration of the acid bath, and the time the acid is in contact with the glass.
光沢の出た表面はアルカリ性の水溶液で洗浄してガラス
表面に残っている酸を中和し、ガラスをさらに深くまで
溶解させることになる化学反応を停止させる。The shiny surface is washed with an alkaline aqueous solution to neutralize any acid remaining on the glass surface and stop the chemical reactions that would cause the glass to dissolve deeper.
この方法は特にガラス彫刻やカットクリスタル工芸品の
研摩の分野で広く利用されているが、以下に記載するよ
うな多数の欠点をもつ。Although this method is widely used, especially in the field of polishing glass sculptures and cut crystal artifacts, it has a number of drawbacks, as described below.
一１１＝
酸溶液は、この溶液に浸されたガラス、クリスタルガラ
ス、または、セラミック材料と接触する全表面をエツチ
ングする。-11= The acid solution etches all surfaces that come into contact with the glass, crystal glass, or ceramic material immersed in the solution.
プレス成形またはブロウ成形により製造したガラス、ク
リスタルガラス、または、セラミック材料からなる製品
を酸溶液に浸すと、この酸溶液は、カットされておらず
、もともと光沢をもっていた表面部分を変化させてしま
う。また、酸溶液によるエツチングにより表面が滑らか
になるため光沢は保たれるが、オレンジの表皮の細孔に
似た細孔が表面に形成される。つまり、処理された表面
は光沢はあるが、ブロウ成形またはプレス成型された当
初の表面よりは滑らかさが低下している。When products made of glass, crystal glass or ceramic materials produced by press molding or blow molding are immersed in an acid solution, the acid solution changes the uncut, originally shiny surface areas. Etching with an acid solution makes the surface smooth and maintains its luster, but pores similar to those in the skin of an orange are formed on the surface. That is, the treated surface is glossy but less smooth than the original blow-molded or press-molded surface.
さらに、処理された表面とブロウ成形またはプレス成形
により最初に成形された表面とが交わる稜部は酸による
エツチングのために鋭さが消えて丸くなる。つまり、切
削により得られたくっきりと鋭い稜は酸による処理で鈍
化してしまう。また、ガラス、クリスタルガラス、また
は、セラミック材料がもともともっていた輝きが失われ
てしまう。酸による処理を施すと、カットした製品もエ
ツチングの程度によってはプレス成形またはブロウ成形
により製造した製品に近くなる。Additionally, the edges where the treated surface meets the surface originally formed by blow molding or press molding become less sharp and rounded due to acid etching. In other words, the sharp edges obtained by cutting are blunted by acid treatment. Additionally, the original shine of the glass, crystal glass, or ceramic material is lost. When treated with acid, the cut product becomes similar to a product manufactured by press molding or blow molding, depending on the degree of etching.
酸処理の第２の問題点は、使用法が難しく危険が伴うこ
とである。酸溶液は非常に腐食性が強い。また、この酸
溶液から発生するガスは毒性が強いので作業者にとって
は大きな危険の発生源となる。A second problem with acid treatment is that it is difficult and dangerous to use. Acid solutions are highly corrosive. Furthermore, the gas generated from this acid solution is highly toxic and is a source of great danger to workers.
様々な塩やガラスの成分、特に鉛をはじめとする金属が
洗浄液中に分散していると周囲の水資源を汚染する危険
性が極めて大きい。If various salts and glass components, especially metals such as lead, are dispersed in the cleaning solution, there is an extremely high risk of contaminating surrounding water resources.
現在施行されている汚染防止基準は非常に厳しいため、
ガラス製造業者は、酸を用いる研摩設備を使用する場合
には浄化設備に多大な投資をせざるを得ない。しかし、
維持費が高くつくにもかかわらず浄化は必ずしも完全で
はない。このため、環境保全に敏感になっている地方ま
たは国の当局は結局のところ酸を用いる研摩方法を無条
件で完全に禁止してしまうことになる。The pollution control standards currently in force are very strict;
Glass manufacturers are forced to invest heavily in purification equipment when using acid polishing equipment. but,
Despite high maintenance costs, purification is not always complete. As a result, environmentally conscious local or national authorities may end up completely banning acid polishing methods without reservation.
しかし本発明により、ガラス物体の表面処理を行なうこ
とにより現れる欠陥を、本明細書の第１０ページの第２
節に記載した従来の方法を変更することなく、防止する
ことが可能であることを見出した。However, according to the present invention, defects that appear due to surface treatment of glass objects can be removed from
We have found that it is possible to prevent this without changing the conventional method described in Sec.
また、先に記述したのと同じ従来の機械を利用して機械
的研摩を行なうことにより、研削表面に再び光沢を取り
戻すことが可能であることを見出した。しかもこの際に
設備投資をさらに行なう必要はなく、１または複数の補
足操作段階を単純に追加実施するだけでよい。We have also found that it is possible to restore gloss to the ground surface by performing mechanical polishing using the same conventional machine as previously described. Moreover, this does not require any further capital investment, and one or more supplementary operating steps can simply be carried out additionally.
本発明は、無機材料からなる物体の表面を、回転駆動さ
れる少なくとも１つの砥石と研摩材料とを用いて、場合
によっては複数の段階の操作により、上記表面を対称軸
のまわりに回転させ、かつ、この表面を研削および／ま
たは研摩の間を通じて適宜な一定の圧力で上記砥石に接
触させることにより、この砥石をこの表面上を走査させ
て所定の深さを形成する機械的研摩方法に関するもので
ある。この方法は、少なくとも研摩工程の１段階におい
て、円環状研摩材料をこの円環状研摩材料の幾何学軸に
対して傾斜した、または、偏心した軸線のまわりに回転
させることを主要な特徴とする。The present invention comprises rotating the surface of an object made of an inorganic material around an axis of symmetry using at least one rotationally driven grinding wheel and an abrasive material, possibly by a multi-step operation; and relates to a mechanical polishing method in which the surface is brought into contact with the grindstone with an appropriate constant pressure throughout grinding and/or polishing, and the grindstone is scanned over the surface to form a predetermined depth. It is. The main feature of this method is that, at least in one stage of the polishing process, the toroidal abrasive material is rotated about an axis that is oblique or eccentric to the geometric axis of the toroidal abrasive material.
本発明の一実施態様によれば、研摩剤のリボンを取り付
けた円錐台形または円環形の側部を有する砥石を使用す
る。この砥石は処理表面の回転軸に対して傾斜した軸線
のまわりを回転させて、この砥石を上記の圧力のもとで
研摩物体に対して接触母線に沿って押し付ける。砥石の
回転軸の処理表面に対する傾斜角は円錐台形の砥石の頂
角の半分に等しい。According to one embodiment of the invention, a grinding wheel is used which has frustoconical or toroidal sides fitted with ribbons of abrasive material. The abrasive wheel is rotated about an axis oblique to the axis of rotation of the surface to be treated, and the abrasive wheel is pressed against the abrasive object along a contact generatrix under the above-mentioned pressure. The angle of inclination of the rotating shaft of the grinding wheel with respect to the processing surface is equal to half the apex angle of the truncated conical grinding wheel.
本発明の別の特徴によれば、上記砥石の円錐台形または
円環形の側部に圧縮可能な弾性材料からなる支持部材に
支持された研摩剤のリボンを備えつけて、上記研摩物体
と上記砥石の間の接触母線に沿って一般に楕円形の接触
面を生成させる。According to another feature of the invention, the frustoconical or toroidal side of the abrasive wheel is provided with an abrasive ribbon supported on a support member of compressible elastic material, so that the abrasive object and the abrasive wheel are A generally elliptical contact surface is created along the contact generatrix between.
本発明の一実施態様によれば、砥石の側部に偏心させて
研摩剤のリボン又はバンドを配置し、このリボンを幾何
学軸に対して円錐台形または円環形の上記側部の平均半
径よりも小さな距離だけずれた軸線のまわりを回転させ
、上記研摩剤のリボンの回転軸を上記幾何学軸および上
記表面の回転軸に対して傾斜させる。According to one embodiment of the invention, a ribbon or band of abrasive is arranged eccentrically on the side of the grinding wheel, the ribbon being arranged with respect to the geometrical axis from the average radius of said side of a frustoconical or toroidal shape. The abrasive ribbons are also rotated about axes offset by a small distance, tilting the axis of rotation of the abrasive ribbon with respect to the geometric axis and the axis of rotation of the surface.
円錐台形の砥石の頂角が平角である場合には、砥石は平
坦で、この砥石に取り付けるリボンは偏心させた円環の
形になる。砥石は研摩表面と同じ平面上を回転させる。When the apex angle of a truncated cone-shaped grindstone is a flat angle, the grindstone is flat and the ribbon attached to this grindstone has the shape of an eccentric ring. The grinding wheel rotates in the same plane as the polishing surface.
この結果、偏心させた円環状研摩剤クラウンの回転軸は
この円環状研摩剤クラウンの幾何学軸に平行になる。円
環状研摩剤クラウンが幾何学軸からずれる距離は該クラ
ウンの半径よりも短かい。As a result, the axis of rotation of the eccentric toroidal abrasive crown is parallel to the geometric axis of the toroidal abrasive crown. The distance that the annular abrasive crown is offset from the geometric axis is less than the radius of the crown.
本発明によるこの実施態様において、上記円環状研摩剤
クラウンがその幾何学軸に平行な偏心回転軸のまわりを
１回回転する間に、上記処理表面との接触区域が、該円
環状研摩剤クラウンの内縁部が上記表面の回転軸の近く
にある位置から該円環状研摩剤クラウンの外縁部が上記
表面の回転軸の近くにある位置まで移動することが分る
。In this embodiment according to the invention, during one revolution of the toroidal abrasive crown about an eccentric axis of rotation parallel to its geometric axis, the area of contact with the treated surface is such that the toroidal abrasive crown It can be seen that the inner edge of the toroidal abrasive crown moves from a position near the axis of rotation of the surface to a position where the outer edge of the annular abrasive crown is near the axis of rotation of the surface.
円錐台形または円環形の側部を有する砥石は限られた接
触面を確保して、上記研摩操作中に上記研摩物体の表面
に微少溶融を引き起こす極めて局所的な加熱を可能にす
ることが好ましい。Preferably, a grinding wheel with frustoconical or toroidal sides ensures a limited contact surface to enable highly localized heating causing micro-melting on the surface of the abrasive object during the abrasive operation.
本発明による機械的研摩法の顕著な利点は、無機材料の
表面の粗削り、切削、その研摩を自動化し、かつ、それ
らを組合せることが可能である点にある。このためには
、例えば１つの機械から別の機械へと移動させる手段を
備えた様々な機械を用いる場合と、多数の研削ステーシ
ョンが処理物体を連続的に受は取る単一の機械を用いる
場合とがある。このよ＝ １８−
うにして、物体を連続的に供給装填することができる。A significant advantage of the mechanical polishing method according to the invention is that it is possible to automate and combine the roughening, cutting and polishing of the surface of inorganic materials. This can be achieved, for example, by using various machines with means of transfer from one machine to another, or by using a single machine in which a number of grinding stations receive and receive the workpieces in succession. There is. In this way, objects can be continuously fed and loaded.
これにより、第一の場合には全機械が、また、第二の場
合には全ステージ目ンが連続的に動作する。This results in continuous operation of the entire machine in the first case and of all stages in the second case.
この結果として、全作業時間が移動時間（ロスタイム）
と最も長い作業時間の和を越えることはない。As a result, the total working time is reduced to travel time (loss time).
and the longest working time.
上記の操作はもちろんすべて自動化することができる。Of course, all of the above operations can be automated.
最終目的は、ガラスまたはクリスタルガラスの表面を（
光学的に）申し分のない光沢にするという操作を完全に
自動化することである。従来は手作業による経験的方法
によってのみこの状態に到達することができた。The final purpose is to create a glass or crystal glass surface (
The goal is to completely automate the process of achieving a perfect (optically) gloss. Previously, this state could only be reached by manual and empirical methods.
この方法こそが全ガラス製造業者ならびにクリスタルガ
ラス製造業者が現在求めているものである。すなわち、
その方法とは、現在利用されている方法、特に酸を用い
る艶出し法をできるだけ利用せずに経済的でよく制御さ
れたクリスタルガラスの仕上がり光沢を回復する方法で
ある。This method is what all glass manufacturers as well as crystal glass manufacturers are currently looking for. That is,
The method is an economical and well-controlled method for restoring the finished luster of crystal glass, avoiding as much as possible the currently available methods, particularly acid polishing methods.
機械的研削操作ならびに研摩操作は、一般に順次より細
かい研摩粒子からなる砥石を次々に用いる複数の段階を
経て行なわれる。Mechanical grinding as well as polishing operations are generally carried out in multiple stages using successive abrasive wheels comprising successively finer abrasive particles.
最終仕上げ操作は、例えば、フェルト製のリボンを用い
て酸化セリウムの懸濁液を散布しながら実施するとよい
。円環状のフェルトは弾性のあるスポンジ状支持体に取
り付けることが好ましい。The final finishing operation can be carried out, for example, by spreading the cerium oxide suspension using a felt ribbon. Preferably, the annular felt is attached to an elastic sponge-like support.
本発明は、また、少なくとも］の砥石を用いて、上記の
方法に従い、物体のほぼ平坦な表面を機械的に研削およ
び研摩するために、上記物体の締付および中心決定のた
めの把持用頭部と、この把持用頭部および上記研摩物体
を回転軸のまわりに回転させるための手段と、上記把持
用頭部と上記物体を回転している上記砥石の方へ向かわ
せる案内手段とを備え、上記研削および／または研摩操
作の間を通じてこの案内手段を適宜かつ一定の空気圧で
上記砥石に対して押し当てておく機械に関するものであ
る。この機械において、上記砥石は側部が円錐台形また
は円環形であり、研摩剤のリボンを備え、この研摩剤の
リボンは上記研摩表面の回転軸に対して傾斜した軸線の
まわりに回転可能であり、上記砥石が接触母線に沿って
上記研摩物体の表面に対して上記圧力で押し付けられる
。The present invention also provides a gripping head for clamping and centering of said object for mechanically grinding and polishing a substantially flat surface of said object according to the method described above, using at least a grinding wheel. means for rotating the gripping head and the abrasive object about an axis of rotation; and guide means for directing the gripping head and the object toward the rotating grindstone. , in which the guide means is pressed against the grinding wheel with a suitable and constant air pressure throughout the grinding and/or polishing operation. In this machine, the grinding wheel has frustoconical or toroidal sides and is provided with an abrasive ribbon rotatable about an axis oblique to the axis of rotation of the abrasive surface. , the grindstone is pressed against the surface of the abrasive object along the contact generatrix with the pressure.
本発明の機械の一実施態様によると、研摩剤のリボンは
固定されており、砥石の回転軸に対して傾斜し、かつ、
偏心している。また、この研摩剤のリボンはそれ自身の
幅とほぼ等しい距離だけこの回転軸からずれている。According to one embodiment of the machine of the invention, the abrasive ribbon is fixed and inclined with respect to the axis of rotation of the grinding wheel, and
Eccentric. Also, the abrasive ribbon is offset from the axis of rotation by a distance approximately equal to its own width.
本発明の方法および機械の他の特徴ならびに詳細に関し
ては添付の図面を参照した以下の説明により明らかにす
る。Other features and details of the method and machine of the invention will become apparent from the following description with reference to the accompanying drawings, in which: FIG.
各図面において同一または類似の要素は同一の参照番号
で示す。Identical or similar elements in the drawings are designated by the same reference numerals.
第１図に示されているように、平坦な処理表面１は例え
ば矢印Ｘの方向の回転を与えられる。この処理表面は円
形または他の形、例−２〇−
えば多角形である。一方、ダイヤモンドを嵌め込んだ円
環状リボン（バンド）３を備える回転砥石４は回転軸２
に対して角度αだけ傾斜した回転軸５のまわりを回転す
る。リボン３は、砥石４の回転軸５に対して角度β傾斜
した幾何学軸６のまわりに矢印Ｙの方向の回転を与えら
れる。表面１並びにダイヤモンド嵌込リボン３の回転方
向と回転速度は等しくくても異なっていてもかまわない
。As shown in FIG. 1, a flat treatment surface 1 is subjected to a rotation in the direction of arrow X, for example. The treated surface may be circular or other shapes, such as polygons. On the other hand, a rotary grindstone 4 equipped with an annular ribbon (band) 3 in which diamonds are set has a rotating shaft 2.
It rotates around a rotation axis 5 that is inclined by an angle α relative to the rotation axis 5. The ribbon 3 is given a rotation in the direction of the arrow Y around a geometrical axis 6 inclined at an angle β with respect to the rotational axis 5 of the grindstone 4 . The direction and speed of rotation of the surface 1 and the diamond-inlaid ribbon 3 may be the same or different.
第１図かられかるように、表面１は、この表面ｌの回転
軸２と交わる接触母線７を介してダイヤモンド嵌込リボ
ン３と常に接触している。表面１は把持用頭部１８に固
定された研摩物体１９の表面にするとよい。この把持用
頭部は軸２ｏのまわりで回転する。把持用頭部１８を案
内手段２１により移動させて、処理表面１がリボン３に
押し当てられるようにすることができる。As can be seen in FIG. 1, the surface 1 is always in contact with the diamond inlaid ribbon 3 via a contact generatrix 7 which intersects the axis of rotation 2 of this surface l. Surface 1 may be the surface of an abrasive object 19 fixed to gripping head 18 . This gripping head rotates around an axis 2o. The gripping head 18 can be moved by the guide means 21 so that the treatment surface 1 is pressed against the ribbon 3.
表面１とこの表面に接触しているダイヤモンド嵌込リボ
ン３が回転している間に、ダイヤモンド嵌込リボン３が
この表面上をくまなく走査する。While the surface 1 and the diamond-inlaid ribbon 3 in contact with this surface are rotating, the diamond-inlaid ribbon 3 scans over this surface.
ダイヤモンド嵌込リボン３が偏心しているため、このリ
ボンは、それが回転している間中、ガラスの表面１の連
続する区域と接触する。第５図の斜線部分８はダイヤモ
ンドクラウン３と表面１との接触区域を表わす。第１図
かられかるように、リボン３と処理表面１との接触区域
は移動台１７を矢印２の方向に並進運動させることによ
り移動させる。Due to the eccentricity of the diamond inlaid ribbon 3, it is in contact with successive areas of the glass surface 1 throughout its rotation. The shaded area 8 in FIG. 5 represents the area of contact between the diamond crown 3 and the surface 1. As can be seen in FIG. 1, the area of contact between the ribbon 3 and the treatment surface 1 is moved by a translational movement of the carriage 17 in the direction of the arrow 2.
第３図は偏心させたダイヤモンド嵌込リボン３を把持す
る円錐台形または円環形の砥石４を示す。砥石４はモー
タ１４の浮動軸１３にくさび固定される。浮動軸１３の
軸線５は処理表面１の幾何学軸２に対して角度αだけ傾
斜している（第４図を参照のこと）。FIG. 3 shows a truncated conical or annular grinding wheel 4 that grips an eccentric diamond-embedded ribbon 3. The grindstone 4 is wedge-fixed to a floating shaft 13 of a motor 14. The axis 5 of the floating shaft 13 is inclined by an angle α with respect to the geometrical axis 2 of the treatment surface 1 (see FIG. 4).
表面１を処理している間を通じて、この表面にはダイヤ
モンドクラウン３を介してほぼ一定の圧力が加えられる
。圧力を一定にするために浮動軸１３を使用する。この
浮動軸には、ベルギー特許第６９６，８２８号明細書に
記載されているような、流体による圧力がかかっている
。弾性材料からなる支持部材があるために、この圧力に
よって表面と砥石とは限られた部分８でのみ接触する。Throughout the treatment of the surface 1, a substantially constant pressure is applied to this surface via the diamond crown 3. A floating shaft 13 is used to keep the pressure constant. This floating shaft is pressurized by a fluid as described in Belgian Patent No. 696,828. Due to the presence of the support member made of elastic material, this pressure causes contact between the surface and the grinding wheel only in a limited area 8.
この接触部分の形状は一般に楕円形である。接触部分が
限られていることから、研摩作業中にごく局所的に加熱
して研摩材料の表面１に微小溶融を引き起こすことが可
能である。The shape of this contact portion is generally oval. Due to the limited contact area, it is possible to heat the polishing material very locally during the polishing operation to cause micro-melting on the surface 1 of the polishing material.
従来の機械的方法でガラスの研削および研摩操作から仕
上操作に至るまでには以下の４段階操作が含まれる。The conventional mechanical method from glass grinding and polishing operations to finishing operations includes the following four steps:
イ） 一般的に固定されていない炭化ケイ素または固定
させたダイヤモンドのような研摩剤を用いた粗削り。b) Rough cutting, typically with an abrasive such as unfixed silicon carbide or fixed diamond.
口） コランダムやダイヤモンドのようなより硬い研摩
剤を用いた切削。) Cutting with harder abrasives such as corundum or diamond.
ハ） コルク台上に載置した軽石のような研摩剤を用い
た研摩。c) Polishing with an abrasive such as pumice placed on a cork stand.
二） 織布を主体にした支持体上に載置した酸化セリウ
ムのような研摩剤を用いた艶出し。2) Polishing with an abrasive such as cerium oxide on a woven fabric-based support.
第１の工程は所望の大まかな形状を画定する研摩作業に
相当する。この工程では表面がざらざらしている。The first step corresponds to a polishing operation that defines the desired rough shape. This process leaves the surface rough.
次いで、切削作業を行なうことにより表面がくすんだ状
態になる。研摩することにより表面はある程度光沢を取
り戻す。さらに艶出し作業を行なうことにより、ブロウ
成形またはプレス成形により製造された製品がもともと
もっていた光沢が得られる。The surface is then dulled by cutting. Polishing restores the surface to some extent. Furthermore, by performing a polishing operation, the luster originally possessed by products manufactured by blow molding or press molding can be obtained.
研摩作業および艶出し作業は微小溶融作業に相当する。Grinding and polishing operations correspond to micromelting operations.
使用する研摩剤と作業方法に応じて、中間工程では研摩
効果と微小溶融効果が様々な割合で組合される。Depending on the abrasive used and the working method, the intermediate steps combine abrasive and micromelting effects in varying proportions.
微小溶融はガラスと回転砥石との間の加熱により生じる
現象である。この結果、ガラス表面でクリープが起こっ
て光沢が回復する。Micromelting is a phenomenon caused by heating between the glass and the rotating grindstone. As a result, creep occurs on the glass surface and the gloss is restored.
粗削りおよび切削に起因する前段階の研削の際の欠陥は
、研削の各工程で不安定状態にさせられた下部層が前工
程に続く各研削工程で除去されなかった場合に現れる。Defects during pre-grinding due to roughing and cutting appear when the underlying layer, which has been destabilized in each step of grinding, is not removed in each subsequent grinding step.
予備研削工程での操作が正し〈実施された場合には、研
摩によりガラスの光沢が完全に回復する。従って、連続
した研削工程の制御を保持して、ある段階の後の段階に
おいて、「メチイエ」すなわち 目に見える加工の痕跡
を除くだけでなく、材料を同様に十分取り除いて不安定
になった下部層を完全に露出させることが重要である。If the operations in the preliminary grinding step are carried out correctly, the polishing will completely restore the gloss of the glass. Therefore, maintaining control over the continuous grinding process, at one stage after another, not only the "Mechiie" i.e. visible traces of machining are removed, but also enough material is removed to remove the unstable lower part. It is important to completely expose the layers.
従来の方法の欠点は、様々な研摩剤を様々な方法で使用
するために各操作が「別々に」実施される必要があると
いう点である。すなわち、粗削り作業では粒子または焼
結状の固定していない研摩剤を用い、仕上げ操作ではや
はり固定していない研摩剤を用いている。A disadvantage of conventional methods is that each operation must be performed "separately" in order to use different abrasives in different ways. That is, roughing operations use loose abrasives in particle or sintered form, and finishing operations also use loose abrasives.
従って、この従来の方法を実施するのに要する全時間は
別々の操作に要する時間の和になる。さらに、炭化ケイ
素またはダイヤモンド等の粗削り用の研磨剤粒子が仕上
げステーシヨンに運ばれる危険性があるので、研摩作業
の間に中間洗浄作業を介在させる必要がある。Therefore, the total time required to perform this conventional method is the sum of the times required for the separate operations. Furthermore, there is a risk that roughing abrasive particles, such as silicon carbide or diamond, may be carried into the finishing station, so that intermediate cleaning operations must be interposed between the polishing operations.
この方法では仕上げは主に手操作で行なう。In this method, finishing is mainly done manually.
このため連続した研摩跡の深さを制御することができな
い。従ってこの方法は時間がかがるだけでなくコストが
かさむ。For this reason, the depth of continuous polishing marks cannot be controlled. This method is therefore not only time consuming but also costly.
円錐台形または円環形の砥石は内径を７５〜１５０ｍｍ
、特に９０ｍｍにすることが好ましい。また外径は１０
０−２００ｍｎ＋、特許１５０ｍにすることが好ましい
。The inner diameter of a truncated conical or annular whetstone is 75 to 150 mm.
, especially preferably 90 mm. Also, the outer diameter is 10
0-200m+, preferably 150m.
ダイヤモンド付リボン３の幅は１０〜３０ｍ、特に１５
ｍｍにすることが好ましい。また、このリボンの外径は
１３５ｎｍとし、内径は約１０５■にするとよい。The width of the diamond-attached ribbon 3 is 10 to 30 m, especially 15 m.
It is preferable to set it to mm. Further, the outer diameter of this ribbon is preferably 135 nm, and the inner diameter is preferably approximately 105 cm.
砥石の回転軸５が表面１の回転軸となす角αは約２〜４
５°、特に４°にすることが好ましい。リボン３の幾何
学軸６の傾斜角βは砥石の円錐台形または円環形の側部
１２上に偏心させて取り付けたリボン３の位置に依存す
る。The angle α between the rotation axis 5 of the grindstone and the rotation axis of the surface 1 is approximately 2 to 4.
Preferably, the angle is 5°, particularly 4°. The angle of inclination β of the geometrical axis 6 of the ribbon 3 depends on the position of the ribbon 3 mounted eccentrically on the frustoconical or toroidal side 12 of the grinding wheel.
第３図にはダイヤモンドクラウン３を担持する砥石４上
にカウンタウェイト１５が取り付けられた状態が簡単に
示されている。カウンタウェイト１５は、砥石４とクラ
ウン３の釣り合いをとって両者の回転速−中に発生する
振動を防止する機能がある。In FIG. 3, a state in which a counterweight 15 is attached to a grindstone 4 carrying a diamond crown 3 is simply shown. The counterweight 15 has a function of balancing the grindstone 4 and the crown 3 and preventing vibrations occurring during the rotation speed of both.
上記の方法を実施するには以下の操作を行なう。To implement the above method, perform the following operations.
１） 金属性または樹脂性のバインダでダイヤモンドを
固定させた道具を正しく選択する。このような道具に関
しては、例えば、公開番号第１３４８６号をもって公開
されたインターフェース ディヴエロップメンツ リミ
テッド（ＩＮＴＥＲＦＡＣＥ ＤＥＶＥＬＯＰＭＥＮＴ
Ｓ ＬＩＭＩＴＥＤ）名義の欧州特許出願第７９３０２
７９２１号を参照のこと。1) Choose the right tool that holds the diamond in place with a metal or resin binder. Regarding such tools, for example, INTERFACE DEVELOPMENTS Limited, published under publication number 13486,
European Patent Application No. 79302 in the name of S LIMITED
See No. 7921.
２） ここで選択した道具は界面活性剤或はその他の添
加剤（生物分解性のある）を添加した排水のみを用いて
滑りよくするとよい。2) The tools selected here should be made slippery using only wastewater with surfactants or other additives (biodegradable).
このようにすると、前段での操作が後段の操作を乱すこ
となく、粗削り、切削、それに研摩の各ステーションを
まとめることができる。In this way, the rough machining, cutting, and polishing stations can be integrated without the operation at the front stage disturbing the operation at the rear stage.
しかも、極端な場合には同一の機械の中で移動を行なわ
せることが可能になる。Moreover, in extreme cases, it becomes possible to perform the movement within the same machine.
３） ガラスを各砥石に対して高度の精密性をもって位
置決めする。3) Position the glass relative to each grinding wheel with a high degree of precision.
４） 道具の形状を精密に決める（丸みが正確でない、
砥石支持部材およびガラス支持部材の軸の硬さ、振動が
ないこと。）
５） 道具を回転軸上で浮いている移動軸に取り付ける
。このようにすると、ガラスに及ぼされる圧力を制御す
ることができる。さらに、必要な場合には、作業の１サ
イクルを通じて圧力をプログラムしておくこともできる
。4) Determine the shape of the tool precisely (the roundness is not accurate,
The shafts of the grindstone support member and glass support member must be hard and free from vibration. ) 5) Attach the tool to the moving shaft floating on the rotating shaft. In this way, the pressure exerted on the glass can be controlled. Additionally, the pressure can be programmed throughout the cycle of operation if desired.
６） 各作業ステーションを通過する際の深さを緊密に
制御する。6) Tightly control the depth of passage through each work station.
７） 粗削りおよび切削の際、道具は回転しているガラ
スと交わるように配置する。7) When roughing and cutting, place tools so that they intersect the rotating glass.
８） 研摩の際、（ダイヤモンドまたはそれ以外の）砥
石と処理表面は少なくとも接触母線に相当する部分で互
いに接触する。砥石４の回転軸は処理表面の回転軸に対
して一般に傾いている（第１図を参照のこと）。傾斜角
αは円錐の頂角の大きさに依存する。従って、平坦な表
面を研摩する場合には「円錐形」の道具を使用し１球面
を研摩する場合には「円環形」の道具を使用する。平坦
面を研摩する場合には、研摩具の尖がり方の程度はこの
道具の柔軟性に依存する。球面を研摩する場合には、円
環形の道具の母線は研摩表面の半径と同じ半径をもつ円
弧であり、この円環の準線の半径はこの道具の柔軟性に
依存する。砥石を処理表面に対して上述のように配置し
であるため単位面積当たりの圧力を大きくすることが可
能である。この方法でごく局所的に加熱することにより
、研摩の最終段階で微小融解を起こさせる。8) During polishing, the grinding wheel (diamond or otherwise) and the surface to be treated come into contact with each other at least at a portion corresponding to the contact generatrix. The axis of rotation of the grinding wheel 4 is generally inclined with respect to the axis of rotation of the treated surface (see Figure 1). The inclination angle α depends on the size of the apex angle of the cone. Therefore, when polishing a flat surface, a "cone-shaped" tool is used, and when polishing a spherical surface, a "ring-shaped" tool is used. When polishing flat surfaces, the degree of sharpness of the polishing tool depends on the flexibility of the tool. When polishing a spherical surface, the generatrix of a toroidal tool is an arc with the same radius as the radius of the polishing surface, and the radius of the directrix of this torus depends on the flexibility of the tool. Since the grindstone is arranged as described above with respect to the treated surface, it is possible to increase the pressure per unit area. This very localized heating causes micro-melting in the final stages of polishing.
９）極端な場合には、砥石の頂角は１８０゜になる。こ
の場合、砥石は平坦であり、研摩剤のリボンはそれ自身
の幾何学軸に対して偏心させて取り付けた環状の研摩剤
クラウンで構成される。9) In extreme cases, the apex angle of the grinding wheel will be 180°. In this case, the wheel is flat and the abrasive ribbon consists of an annular abrasive crown mounted eccentrically with respect to its own geometric axis.
１０） 砥石に対してガラスを僅かずつ遠ざける操作
および／または接触圧力を徐々に減らす操作を行なうこ
とにより研摩が終了するとともに微小融解領域が拡大す
る。10) By gradually moving the glass away from the grindstone and/or gradually reducing the contact pressure, the polishing is completed and the micro-melting region is expanded.
１１） 研摩表面に応じてプログラムされた研摩物体
の往復運動、並びに、この研摩物体の適切な駆動速度に
より幾何学的に「完全な」表面を得ることかできる。11) A geometrically "perfect" surface can be obtained by a programmed reciprocating movement of the abrasive object depending on the abrasive surface and an appropriate drive speed of this abrasive object.
切削前の自然の平坦面（または凹型球面）を有するガラ
スまたはクリスタルガラスの処理表面を処理して得られ
た結果は、９０ｍｍの直径に対して以下のようになった
。The results obtained by treating the treated surface of glass or crystal glass with a naturally flat surface (or concave spherical surface) before cutting were as follows for a diameter of 90 mm.
−凹凸度Ｒａ （ＣＬ Ａ）は２マイクロインチであり
、光学的平滑度は１マイクロインチである。- The roughness Ra (CL A) is 2 microinches and the optical smoothness is 1 microinch.
−表面の平坦度は約０．０１＋＋ｎ＋である。- The flatness of the surface is approximately 0.01++n+.
第５図は、ゆがんだ環状のダイヤモンド嵌込リボン３が
砥石４の回転軸５に沿って移動する回転中心のまわりを
表面１と接触して回転する場合、砥石４が１回回転する
間に、このダイヤモンド嵌込リボン３の占める極端な位
置を部分的に示す図である（第８図の部分８と９を参照
のこと）。FIG. 5 shows that when the distorted annular diamond-embedded ribbon 3 rotates in contact with the surface 1 around the rotation center moving along the rotation axis 5 of the grinding wheel 4, the grinding wheel 4 rotates once. , which partially shows the extreme position occupied by this diamond-inlaid ribbon 3 (see parts 8 and 9 of FIG. 8).
第５図においては、ダイヤモンド嵌込リボン３の内縁部
１０が表面１の回転軸２の近くにあるという極端な位置
が実線で示されている。これに対して、ダイヤモンド嵌
込リボンの外縁部１１が表面１の回転軸２の近くにある
というもう１つの極端な位置が点線で示されている。In FIG. 5, the extreme position of the inner edge 10 of the diamond inlaid ribbon 3 near the axis of rotation 2 of the surface 1 is shown in solid lines. In contrast, the other extreme position, in which the outer edge 11 of the diamond inlaid ribbon is close to the axis of rotation 2 of the surface 1, is shown in dotted lines.
酸化セリウムを直接塗布して最小の時間で艶出し操作を
実施することが可能である。作業者はこの操作を空き時
間を利用して手作業で行なう。というのは、これ以前の
操作はすべて自動だからである。この艶出し作業もまた
本発明の機械の互いに似通った作業ステーションで自動
的に行なわせることが可能である。艶出し作業は、定義
上、研摩工程の最後の操作であり、例えばフェルト製リ
ボンを用いて酸化セリウムの懸濁液を散布しながら実施
する。It is possible to apply cerium oxide directly and carry out the polishing operation in a minimum amount of time. The operator manually performs this operation in his free time. This is because all operations before this are automatic. This polishing operation can also be carried out automatically at similar working stations of the machine of the invention. The polishing operation is by definition the last operation in the polishing process and is carried out with the spreading of a suspension of cerium oxide, for example with a felt ribbon.
第６図は偏心させた研摩剤のリボン３を備えた平坦な砥
石をどのようにして使用するかを示す略図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing how a flat abrasive wheel with an eccentric ribbon 3 of abrasive material may be used.
この方法において、研摩剤のリボンはダイヤモンドを嵌
め込んだ環状のクラウン２３であり、それ自身の幾何学
軸２４に対してこのクラウンの半径Ｒよりも短かい距離
だけ離れた軸線２６のまわりで回転運動を与えられる。In this method, the abrasive ribbon is a diamond-set annular crown 23 rotating about an axis 26 separated from its own geometric axis 24 by a distance less than the radius R of this crown. given exercise.
このクラウン２３の回転軸２６は幾何学軸２４ならびに
処理表面の回転軸２と平行である。The axis of rotation 26 of this crown 23 is parallel to the geometrical axis 24 as well as to the axis of rotation 2 of the treated surface.
ダイヤモンドクラウン２３の回転軸２６が偏心している
ため、このクラウンは回転中にガラスの表面１と接触す
る区域が連続的に変化する。第８図の斜線部８と９は、
ダイヤモンドクラウン２３が表面１と接触する両極端一
３２＝
の場合を示す。第８図かられかるように、ダイヤモンド
クラウン２３が完全に１回転する間に、処理表面１との
接触区域は両極端位置８．９を移動する。Due to the eccentricity of the axis of rotation 26 of the diamond crown 23, the area of contact of this crown with the surface 1 of the glass changes continuously during rotation. Shaded areas 8 and 9 in FIG.
The case is shown where the diamond crown 23 is in contact with the surface 1 at both ends 32=. As can be seen in FIG. 8, during one complete revolution of the diamond crown 23, the area of contact with the treated surface 1 moves between extreme positions 8.9.
区域８で示される位置において、ダイヤモンドクラウン
２３の内縁部１０は表面１の回転軸２の近くにある。こ
れに対して、区域９で示される位置において、回転軸２
の近くにくるのはダイヤモンドクラウン２３の外縁部１
１である（第８図を参照のこと）。In the position indicated by area 8, the inner edge 10 of the diamond crown 23 is close to the axis of rotation 2 of the surface 1. On the other hand, at the position indicated by area 9, the rotation axis 2
The outer edge 1 of the diamond crown 23 is near the
1 (see Figure 8).
第６図かられかるように、ダイヤモンドクラウン２３は
回転軸２６のまわりを枢動するカップ形砥石１２に対し
て偏心して取り付けられている。ダイヤモンドクラウン
２３の幾何学軸２４は、回転軸２６に対してダイヤモン
ドクラウン２３の幅りの半分にほぼ等しい距離りだけず
れている。As can be seen from FIG. 6, the diamond crown 23 is mounted eccentrically with respect to the cup-shaped grindstone 12 which pivots about the rotation axis 26. The geometric axis 24 of the diamond crown 23 is offset with respect to the axis of rotation 26 by a distance approximately equal to half the width of the diamond crown 23.
本特許出願の出願人は、ダイヤモンドクラウンをそれ自
身の幾何学軸に対して偏心させた軸のまわりで回転させ
てガラス表面を処理すると、先に説明した従来の方法を
実施する際に現れる欠陥が見られなくなることを確認し
た。The applicant of the present patent application has discovered that when a diamond crown is rotated about an axis eccentric to its own geometrical axis to treat the glass surface, the defects that appear when carrying out the conventional method described above I confirmed that it is no longer visible.
上記の方法と同様に、カップ形砥石１２は電動モータ１
４の浮動軸１３にくさび固定されている。この浮動軸１
３はダイヤモンドクラウン２３の幾何学軸２４に対して
偏心している。Similar to the above method, the cup-shaped grinding wheel 12 is connected to the electric motor 1
A wedge is fixed to the floating shaft 13 of No. 4. This floating axis 1
3 is eccentric with respect to the geometrical axis 24 of the diamond crown 23.
表面１を処理している間、はぼ一定の圧力がダイヤモン
ドクラウン２３を介してこの表面１に加えられる。この
定圧力は浮動軸１３から供給される。この浮動軸自体に
は液圧がかかっている。While treating the surface 1, a more or less constant pressure is applied to this surface 1 via the diamond crown 23. This constant pressure is supplied from the floating shaft 13. This floating shaft itself is under hydraulic pressure.
浮動軸１３が静止位置にあるときには、その下端部１５
は加圧用シリンダ１７のピストンを構成するボール１６
に支承され、圧縮空気用のパイプ２０に接続されている
。なお、このシリンダの本体１８はモータ１４の国体１
９に固定されている。When the floating shaft 13 is in the rest position, its lower end 15
is the ball 16 that constitutes the piston of the pressurizing cylinder 17
and is connected to a pipe 20 for compressed air. In addition, the main body 18 of this cylinder is the national body 1 of the motor 14.
It is fixed at 9.
研摩表面１の処理を始めると、圧縮空気をその供給用パ
イプ２０を通してシリンダ１７に導入する。圧縮空気の
圧力により、ボール１６が浮動軸１３を持ち上げるため
、ダイヤモンドクラウン２３が処理表面１と接触する状
態が維持されてこの表面上にほぼ一定の圧力が加えられ
る。When processing the abrasive surface 1, compressed air is introduced into the cylinder 17 through its supply pipe 20. Due to the pressure of the compressed air, the ball 16 lifts the floating shaft 13 so that the diamond crown 23 remains in contact with the treated surface 1 and exerts a substantially constant pressure on this surface.
ダイヤモンドクラウン２３の外径ＤＥは約１５０ｍｎで
幅りは１５ｍｎにするとよい。このダイヤモンドクラウ
ンの幾何学軸２４とその回転軸２６間の距離りは約７．
５＋＠にするとよい。この距離りはもちろん別の値でも
よいが、この値はダイヤモンドクラウン２３の半径Ｒよ
りも小さいことが好ましい。The outer diameter DE of the diamond crown 23 is preferably about 150 mm and the width is preferably 15 mm. The distance between the geometric axis 24 of this diamond crown and its rotation axis 26 is approximately 7.
It is better to make it 5 + @. Although this distance may of course have a different value, it is preferable that this value is smaller than the radius R of the diamond crown 23.
第７図は、第６図に示したカップ形砥石１２を半回転さ
せた図である。FIG. 7 is a diagram showing the cup-shaped grindstone 12 shown in FIG. 6 rotated half a turn.
第７図には、ダイヤモンドクラウン２３を担持する砥石
１２上にカウンタウェイト２１を取り付けた状態が簡単
に示されている。該カウンタウェイト２１は砥石１２と
ダイヤモンドクラウン２３とのバランスをとって、両者
が偏心した回転軸２６のまわりを回転する際に振動する
のを防止するためのものである。In FIG. 7, the state in which the counterweight 21 is mounted on the grindstone 12 carrying the diamond crown 23 is simply shown. The counterweight 21 is used to balance the grindstone 12 and the diamond crown 23 and prevent them from vibrating when they rotate around an eccentric rotation shaft 26.
本発明が上記の実施例のみに限定されないことはもちろ
んである。それどころか本発明の範囲を越えない限りは
上記の実施例に対して様々な変更を施すことができる。It goes without saying that the present invention is not limited to the above embodiments. On the contrary, various modifications can be made to the embodiments described above without exceeding the scope of the invention.
第８図はダイヤモンドクラウン２３がそれ自身の偏心し
た軸線６のまわりを表面１と接触しながら回転する際に
占める両極端の位置を部分的に示す図である（部分８と
９）。FIG. 8 partially shows the extreme positions occupied by the diamond crown 23 as it rotates about its own eccentric axis 6 in contact with the surface 1 (sections 8 and 9).
第８図では、ダイヤモンドクラウン２３の内縁部１０が
表面１の回転軸２の近傍位置にある場合を実線で示して
いる。これに対して。In FIG. 8, the case where the inner edge 10 of the diamond crown 23 is located near the rotation axis 2 of the surface 1 is shown by a solid line. On the contrary.
ダイヤモンドクラウンの外縁部１１が表面１の回転軸２
の近傍位置にある別の極端な場合を点線で示している。The outer edge 11 of the diamond crown is the rotation axis 2 of the surface 1
Another extreme case in the vicinity of is shown by the dotted line.
第１図は、ガラス物体の表面を円錐台形の砥石を用いて
研摩または滑らかにする本発明の方法を示す正面図。
一３６＝
第２図は、偏心したダイヤモンドを嵌め込んだ環状のリ
ボンを担持する円錐台形砥石の平面図。
第３図は、回転軸が中心からずれたダイヤモンド嵌込リ
ボンを担持する、側部が円錐台形の砥石の正面図。（こ
の図は砥石が浮動軸を備えるモータにくさび固定された
状態も示している。）
第４図は、球面部分を有するガラスを円環形砥石を用い
て滑らかにする本発明の方法を示す、第１図と類似の図
。
第５図は、処理表面と、円錐台形砥石の側部表面に傾斜
かつ偏心させて固定したリボンとの接触区域が移動位置
の端にきたときを示す平面図。
第６図は、側面上に偏心した環状研摩剤クラウンを構成
する偏心研摩剤リボンを担持する平坦な砥石を本発明の
方法に従って使用する態様を示す、第１図と類似の正面
図。
第７図は、回転軸がこの図面から離れた位置にある、ダ
イヤモンドクラウンを担持するカップ形砥石の正面図。
（この図には砥石が浮動軸を有するモータに固定された
状態も示されている。）
第８図は、ダイヤモンドクラウンが処理表面と接触して
偏心回転する際に占める両極端の位置を示す部分平面図
。
［主要部分の符号の説明］
１・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・処理表面２、６．２４・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・幾何学軸３・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・研摩剤の
バンド４・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・研摩盤５．２６・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・回転
軸７・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・接触母線８．９・・・・・・・・・・
・・・・・・・・接触区域の通過位置１０・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・内 縁１１・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・外 縁１２・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・研摩盤の側面
１３・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・浮動軸１４・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・原動機１
７・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・移動台１８・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・把持用頭部１９・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・研摩加
工対象物２０・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・軸（シャフト）２１・・・・・・不均衡
おもり（カウンターバランス）２３・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・研摩用クラウン−４０
＝
手続補正歯（方式）
昭和６２年１１月２６日FIG. 1 is a front view showing the method of the present invention for polishing or smoothing the surface of a glass object using a frustoconical grindstone. 136= Figure 2 is a plan view of a truncated conical grinding wheel carrying an annular ribbon inlaid with eccentric diamonds. FIG. 3 is a front view of a grindstone with truncated conical sides carrying a diamond-embedded ribbon whose rotational axis is offset from the center. (This figure also shows the grinding wheel wedged in a motor with a floating shaft.) FIG. 4 shows the method of the present invention for smoothing glass having a spherical portion using a toroidal grinding wheel. Figure similar to Figure 1. FIG. 5 is a plan view showing the contact area between the treated surface and a ribbon fixed obliquely and eccentrically to the side surface of the frustoconical grinding wheel at the end of the travel position; FIG. 6 is a front view similar to FIG. 1 showing the use of a flat abrasive wheel carrying an eccentric abrasive ribbon forming an eccentric annular abrasive crown on the side according to the method of the present invention; FIG. 7 is a front view of a cup-shaped grinding wheel carrying a diamond crown, with the axis of rotation located away from this drawing. (This figure also shows the grinding wheel fixed to a motor with a floating shaft.) Figure 8 shows the extreme positions occupied by the diamond crown as it rotates eccentrically in contact with the treated surface. Plan view. [Explanation of symbols of main parts] 1・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
...... Treated surface 2, 6.24...
・・・・・・・・・・・・・・・Geometric axis 3・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・Abrasive band 4・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・Grinding machine 5.26・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・Rotation axis 7・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・Contact busbar 8.9・・・・・・・・・・
......Contact area passing position 10...
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・Inner edge 11・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・Outer edge 12・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・Side surface of the polishing machine 13・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
......Floating axis 14...
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・Motor 1
7・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・Movement stand 18・・・・・・・・・・・・
...... Grasping head 19...
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・Polishing object 20・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
......Axis (shaft) 21...Unbalanced weight (counterbalance) 23...
・・・・・・・・・・・・・・・ Crown for polishing-40
= Procedural correction tooth (method) November 26, 1988
Claims (1)
料の加工対象物の表面を機械的に研削及び研摩する方法
において、該表面（１）を対称軸（２）の回りで回転駆
動させるとともに、研削及び／又は研摩作業の間、該表
面を適宜かつ一定の加圧力下で前記１又は複数個の研摩
盤と接触させて、該表面（１）を走査し、かつ、明確に
画定された通過用の深さを実現するようにし、又、少な
くとも研摩 作業の諸工程の１において、研摩剤のバンド（３）を備
えた円錐台状或は円環状の側面（１２）を有する前記研
摩盤（４）を該表面（１）の回転軸（２）に対して傾斜
した軸（５）の回りで回転させ、接触母線（７）に沿っ
て前記研摩盤を前記加圧力下で研摩加工対象物に押圧す
るようにしたことを特徴とする方法。 ２、円錐台状或は円環状の研摩盤（４） の側面（１２）が圧縮可能な弾性材料でできた支持部材
によって担持された研摩剤のバンド（３）を備え、該研
摩加工対象物と該研摩盤（４）の間の接触母線（７）に
沿って、全体として楕円形の接触面（８）を作り出すよ
うにしたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
方法。 ３、前記研摩盤の各々が、４度に等しい 角度で、研摩加工対象物の回転軸に対して傾斜して取り
付けられることを特徴とする特許請求の範囲第１項又は
第２項記載の方法。 ４、前記研摩盤の各々が、前記円錐台状 の研摩盤（４）の側面（１２）の傾斜角又は前記円環状
の研摩盤の側面の平均傾斜角に等しい角度で、研摩加工
対象物の回転軸に対して傾斜して取り付けられることを
特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項記載の方法
。 ５、前記研摩剤のバンド（３）が、前記 円錐台状或は円環状側面（１２）の平均半径よりも短か
い距離で該バンドの幾何学軸に対してずれている軸（５
）の回りを回転し、該バンド（３）の回転軸はその幾何
学軸（６）及び前記表面（１）の回転軸に対して傾斜し
ていることを特徴とする特許請求の範囲第１項、第２項
、第３項又は第４項記載の方法。 ６、前記円錐台状或は円環状研摩盤（４） が、空気圧を受ける浮動軸（１３）を有する液圧原動機
又は電動機（１４）上に取り付けられることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項、第２項、第３項、第４項又は
第５項記載の方法。 ７、前記円錐台状或は円環状側面を有す る研摩剤が、研摩作業の間、研摩加工機の表面（１）に
微小融解を引き起こす極めて局部的な加熱を可能にする
、全体的に楕円形の限定接触面を確保することを特徴と
する特許請求の範囲第１項、第２項、第３項、第４項、
第５項又は第６項記載の方法。 ８、研削作業及び／又は研摩作業の間、 該研摩加工対象物（１９）と該研摩盤（４）間の相対的
移動が研摩盤担持移動台（１７）により行なわれること
を特徴とする特許請求の範囲第１項、第２項、第３項、
第４項、第５項、第６項又は第７項記載の方法。 ９、前記研摩盤（４）から研摩加工対象 物（１９）を極く僅か離間させながら前記微小融解を拡
大させて、研摩作業並びに艶出し作業の最終工程を容易
にすることを特徴とする特許請求の範囲第１項、第２項
、第３項、第４項、第５項、第６項、第７項又は第８項
記載の方法。 １０、前記艶出し作業が、酸化セリウムの 懸濁液を散布しながら、処理表面（１）に対し傾斜して
取り付けられ、かつ、偏心したフェルトのバンド（３）
を備えた典型的な研摩盤を用いて行なわれることを特徴
とする特許請求の範囲第１項、第２項、第３項、第４項
、第５項、第６項、第７項、第８項又は第９項記載の方
法。 １１、研摩盤（４）の回転軸に対して偏心 した環状の研摩用クラウン（２３）を平らな側面に設け
た平面研摩盤（４）を使用し、且つ、前記研摩用クラウ
ン（２３）を、その幾何学軸（４）に対して、前記クラ
ウン（２３）の半径（Ｒ）より短かい距離（Ｄ）だけず
れている軸（２６）の回りで回転させ、前記クラウン（
２３）の回転軸（２６）はその幾何学軸（２４）並びに
前記表面（１）の回転軸（２）に並行であることを特徴
とする特許請求の範囲第１項、第２項、第３項、第４項
、第５項、第６項、第７項、第８項、第９項又は第１０
項記載の方法。 １２、前記研摩用クラウン（２３）の回転 運動の各周回の間、該クラウンと該処理表面（１）との
接触領域は、該クラウン（２３）の内縁（１０）が前記
表面（１）の回転軸（２）に隣接する位置（８）から該
クラウン（２３）の外縁（１１）が前記表面（１）の回
転軸（２）に隣接する他の位置（９）まで移動すること
を特徴とする特許請求の範囲第１１項記載の方法。 １３、前記研摩用クラウン（２３）の回転 軸（２６）が、該クラウン（２３）の幅（Ｌ／２）にほ
ぼ等しい距離（Ｄ）だけ幾何学軸（２４）に対してずれ
ていることを特徴とする特許請求の範囲第１１項又は第
１２項記載の方法。 １４、前記研摩用バンド（３）と処理表面 （１）との間で、前記表面（１）の処理期間全体に亘っ
て、一定の圧力を維持することを特徴とする特許請求の
範囲第１項、第２項、第３項、第４項、第５項、第６項
、第７項、第８項、第９項、第１０項、第１１項、第１
２項又は第１３項記載の方法。 １５、前記研摩盤を電動機（１４）の浮動 軸（１３）により回転駆動させることを特徴とする特許
請求の範囲第１項、第２項、第３項、第４項、第５項、
第６項、第７項、第８項、第９項、第１０項、第１１項
、第１２項、第１３項又は第１４項記載の方法。 １６、前記研摩盤に不均衡おもり（２１） を設けて、前記研摩用クラウン（３）の振動を防止する
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項、第２項、第３
項、第４項、第５項、第６項、第７項、第８項、第９項
、第１０項、第１１項、第１２項、第１３項、第１４項
又は第１５項記載の方法。 １７、少なくとも１の研摩盤により加工対 象物の実質的に平坦な表面を機械的に研削・研摩する装
置において、前記加工対象物（１９）を緊締するととも
に中心合せするための把持用頭部（１８）と；前記把持
用頭部（１８）と前記加工対象物（１９）とを回転軸（
２）の回りで回転させる手段（２０）と；研削作業及び
／又は研摩作業の間、適宜かつ一定の空気圧下で加工対
象物を研摩盤に対して押圧するために、前記把持用頭部
（１８）及び前記加工対象物（１９）から前記研摩盤（
４）の方へ向かわせる案内手段（２１）と；を含み、前
記研摩盤（４）は研摩剤のバンド（３）を備えた円錐台
状或は円環状の側面（１２）を有し、前記バンド（３）
は、接触母線（７）に沿って、前記研摩盤（４）を加圧
力下で研摩加工表面（１）に押圧するよう、前記研摩加
工表面（１）の回転軸（２）に対して傾斜した軸（５）
の回りで回転可能であることを特徴とする装置。 １８、前記研摩盤（４）が研摩加工表面（１）の走査を
行なえるよう、往復運動を行なう研摩盤担持移動台上に
該研摩盤を取り付けることを特徴とする特許請求の範囲
第１７項記載の装置。 １９、前記バンド（３）が圧縮可能な弾性 材料でできた支持部材によって担持されることを特徴と
する特許請求の範囲第１７項又は第１８項記載の装置。 ２０、前記研摩剤のバンド（３）が円錐台 状或は円環状の研摩盤（４）上に偏心して取り付けられ
ていることを特徴とする特許請求の範囲第１８項又は第
１９項記載の装置。 ２１、前記研摩用バンド（３）がカップ形 研摩盤（１２）に取り付けられたダイヤモンド・クラウ
ンであることを特徴とする特許請求の範囲第１７項、第
１８項、第１９項又は第２０項記載の装置。[Claims] 1. A method for mechanically grinding and polishing the surface of an inorganic material workpiece using at least one rotationally driven grinding machine and an abrasive agent, if necessary, in a plurality of steps. , driving said surface (1) rotationally around an axis of symmetry (2) and bringing said surface into contact with said one or more polishing wheels under suitable and constant pressure during the grinding and/or polishing operation. to scan said surface (1) and achieve a well-defined depth of passage, and at least in one of the steps of the abrasive operation, a band (3) of abrasive is applied. The polishing disk (4) having a truncated conical or annular side surface (12) is rotated around an axis (5) inclined with respect to the axis of rotation (2) of the surface (1), and brought into contact. A method characterized in that the polishing disk is pressed against the workpiece under the pressure along the generatrix (7). 2. The side surface (12) of a truncated conical or annular polishing machine (4) is provided with an abrasive band (3) carried by a support member made of a compressible elastic material, and the object to be polished is 2. A method according to claim 1, characterized in that a generally elliptical contact surface (8) is created along the contact generatrix (7) between the grinding wheel and the grinding wheel (4). 3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that each of the polishing discs is mounted at an angle equal to 4 degrees with respect to the axis of rotation of the object to be polished. . 4. Each of the polishing discs polishes the workpiece at an angle equal to the inclination angle of the side surface (12) of the truncated conical polishing disc (4) or the average inclination angle of the side surface of the annular polishing disc. 3. The method according to claim 1, wherein the method is mounted at an angle with respect to the rotation axis. 5. said abrasive band (3) having an axis (5) offset with respect to the geometrical axis of said band by a distance less than the average radius of said frustoconical or toroidal side surface (12);
), the axis of rotation of said band (3) being inclined to its geometrical axis (6) and to the axis of rotation of said surface (1). 2. The method according to paragraph 2, paragraph 3, or paragraph 4. 6. The truncated conical or annular polishing machine (4) is mounted on a hydraulic motor or electric motor (14) having a floating shaft (13) receiving air pressure. 2. The method according to item 2, item 3, item 4, or item 5. 7. The abrasive material with truncated conical or toroidal sides has a generally elliptical shape, which allows very localized heating during the abrasive operation to cause micro-melting on the surface (1) of the abrasive machine. Claims 1, 2, 3, and 4, characterized by ensuring a limited contact surface of
The method described in paragraph 5 or 6. 8. A patent characterized in that during the grinding work and/or the polishing work, relative movement between the object to be polished (19) and the polishing machine (4) is performed by a polishing machine carrying platform (17). Claims 1, 2, 3,
The method according to paragraph 4, paragraph 5, paragraph 6 or paragraph 7. 9. A patent characterized in that the micro-melting is expanded while the object to be polished (19) is separated from the polishing machine (4) by a very small distance, thereby facilitating the final process of polishing and polishing operations. A method according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 or 8. 10. The polishing operation is carried out by applying a felt band (3) which is attached at an angle to the treated surface (1) and is eccentric while dispersing a suspension of cerium oxide.
Claims 1, 2, 3, 4, 5, 6, and 7, characterized in that the polishing process is carried out using a typical polishing machine equipped with: The method according to item 8 or 9. 11. A flat surface polishing machine (4) is used which has an annular polishing crown (23) eccentric to the rotational axis of the polishing machine (4) on a flat side surface, and the polishing crown (23) is , about an axis (26) offset with respect to its geometrical axis (4) by a distance (D) less than the radius (R) of said crown (23);
23) is parallel to its geometrical axis (24) as well as to the rotation axis (2) of said surface (1). Paragraph 3, Paragraph 4, Paragraph 5, Paragraph 6, Paragraph 7, Paragraph 8, Paragraph 9 or Paragraph 10
The method described in section. 12. During each revolution of the rotational movement of said abrasive crown (23), the area of contact between said crown and said working surface (1) is such that the inner edge (10) of said crown (23) characterized in that from a position (8) adjacent to the axis of rotation (2) the outer edge (11) of said crown (23) moves to another position (9) adjacent to the axis of rotation (2) of said surface (1); 12. The method according to claim 11. 13. The axis of rotation (26) of the polishing crown (23) is offset from the geometric axis (24) by a distance (D) approximately equal to the width (L/2) of the crown (23). 13. The method according to claim 11 or 12, characterized in that: 14. A constant pressure is maintained between the polishing band (3) and the treatment surface (1) throughout the treatment period of the surface (1). Section 2, Section 3, Section 4, Section 5, Section 6, Section 7, Section 8, Section 9, Section 10, Section 11, Section 1.
The method described in Section 2 or Section 13. 15. Claims 1, 2, 3, 4, and 5, characterized in that the polishing machine is rotationally driven by a floating shaft (13) of an electric motor (14).
The method according to item 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, or 14. 16. Claims 1, 2, and 3, characterized in that the polishing machine is provided with an unbalanced weight (21) to prevent vibration of the polishing crown (3).
Section 4, Section 5, Section 6, Section 7, Section 8, Section 9, Section 10, Section 11, Section 12, Section 13, Section 14, or Section 15. the method of. 17. A device for mechanically grinding and polishing a substantially flat surface of a workpiece by means of at least one grinding machine, comprising a gripping head for tightening and centering the workpiece (19); 18); The gripping head (18) and the workpiece (19) are connected to a rotating shaft (
means (20) for rotating the workpiece around the grinding wheel (2); during grinding and/or polishing operations, said gripping head ( 18) and the workpiece (19) to the polishing machine (
4); said abrasive disk (4) has a frustoconical or annular side surface (12) with an abrasive band (3); Said band (3)
is inclined with respect to the axis of rotation (2) of said abrasive surface (1) along a contact generatrix (7) so as to press said abrasive disk (4) against the abrasive surface (1) under pressure. Axis (5)
A device characterized in that it is rotatable around. 18. Claim 17, characterized in that the polishing machine (4) is mounted on a reciprocating polishing machine carrying carriage so that the polishing machine (4) can scan the polished surface (1). The device described. 19. Device according to claim 17 or 18, characterized in that the band (3) is carried by a support member made of compressible elastic material. 20. The abrasive band (3) according to claim 18 or 19, characterized in that the abrasive band (3) is eccentrically mounted on a truncated conical or annular polishing plate (4). Device. 21. Claims 17, 18, 19 or 20, characterized in that the abrasive band (3) is a diamond crown attached to a cup-shaped abrasive (12). The device described.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| BE0/217058A BE905292A (en) | 1986-08-19 | 1986-08-19 | Polishing planar glass surfaces with abrasive ring - rotating about eccentric axis |
| BE0/217058 | 1986-08-19 | ||
| BE08700437 | 1987-04-22 | ||
| BE8700437A BE1000491A5 (en) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | Glass grinding and polishing method - uses wheel cone face with abrasive strip during polishing pass |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01121159A true JPH01121159A (en) | 1989-05-12 |
Family
ID=25655021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20428887A Pending JPH01121159A (en) | 1986-08-19 | 1987-08-19 | Method and device for mechanically grinding and polishing inorganic material, particularly, surface of glass |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0257013B1 (en) |
| JP (1) | JPH01121159A (en) |
| DE (1) | DE3775655D1 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006068888A (en) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Speedfam Co Ltd | Manufacturing method of surface table and surface polishing apparatus |
| CN106002550A (en) * | 2016-06-08 | 2016-10-12 | 芜湖万辰电光源科技有限公司 | Integrated polishing machine for glasses |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3632482A1 (en) * | 1986-09-24 | 1988-03-31 | Lindner Maschinen Gmbh W | Apparatus for working edge surfaces of glass articles |
| JP2719855B2 (en) * | 1991-05-24 | 1998-02-25 | 信越半導体株式会社 | Mirror chamfering device around wafer |
| EP0868976A3 (en) * | 1997-03-06 | 2000-08-23 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and method for high speed lapping with a rotatable abrasive platen |
| CN102452034B (en) * | 2010-10-26 | 2013-08-14 | 洛阳北方玻璃技术股份有限公司 | Automatic polishing machine for circular glass hole |
| CN102601691B (en) * | 2012-04-06 | 2013-12-25 | 大连理工大学 | Conical surface grinding method |
| CN108789124A (en) * | 2018-07-06 | 2018-11-13 | 福建福晶科技股份有限公司 | A kind of processing method of cone-shaped product |
| CN110788698B (en) * | 2019-10-14 | 2020-11-06 | 上海交通大学 | Based on atomized CeO2Grinding method, system, medium and equipment with auxiliary axial feed |
| CN113681440B (en) * | 2021-09-24 | 2022-11-08 | 义乌工商职业技术学院 | Hydraulic polishing equipment for processing cylindrical workpiece |
| CN114425737B (en) * | 2022-01-26 | 2023-06-16 | 黄河水利职业技术学院 | Intelligent ultrasonic polishing and cleaning device for interface cone |
| CN117020911B (en) * | 2023-10-09 | 2024-01-16 | 河南百合特种光学研究院有限公司 | Lamp cup shaping and polishing process and device |
| CN117067051B (en) * | 2023-10-18 | 2023-12-26 | 赣州得辉达科技有限公司 | Automatic grinding device of stereo set shell |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2676439A (en) * | 1952-07-18 | 1954-04-27 | Baker Dan Dysart | Rotary sander |
| US3007288A (en) * | 1957-12-16 | 1961-11-07 | Pilkington Brothers Ltd | Production of polished bevels on glass plates |
| FR1268852A (en) * | 1959-10-17 | 1961-08-04 | Fortuna Werke Spezialmaschinen | Method and apparatus for dynamic and static balancing of grinding machines equipped with an oscillation indicator |
| US3030744A (en) * | 1960-03-08 | 1962-04-24 | Harig Mfg Corp | Air film bearing for machine tools |
| US3119210A (en) * | 1961-08-08 | 1964-01-28 | Roland E Doeden | Air operated tool |
| BE696828A (en) * | 1967-04-10 | 1967-09-18 | ||
| DE2016615A1 (en) * | 1970-04-08 | 1971-10-28 | Vüleroy & Boch, Keramische Werke KG, 6642 Mettlach | Device for grinding the bottom of glasses |
| US3624969A (en) * | 1970-07-15 | 1971-12-07 | American Optical Corp | Lens generating apparatus |
| JPS5217915B1 (en) * | 1970-08-05 | 1977-05-18 | ||
| CH651773A5 (en) * | 1983-03-31 | 1985-10-15 | Comadur Sa | PROCESS FOR FORMING A CONVERGENT LENS IN A PLATE OF TRANSPARENT MINERAL MATERIAL. |
| IT1169121B (en) * | 1983-04-27 | 1987-05-27 | Ermanno Pacini | ABRASIVE SURFACE TRUNK CONE ROLLER FOR TOOL SANDER RADIAL TRUNK CONE ROLLERS |
-
1987
- 1987-08-18 EP EP87870115A patent/EP0257013B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-18 DE DE8787870115T patent/DE3775655D1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-19 JP JP20428887A patent/JPH01121159A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006068888A (en) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Speedfam Co Ltd | Manufacturing method of surface table and surface polishing apparatus |
| CN106002550A (en) * | 2016-06-08 | 2016-10-12 | 芜湖万辰电光源科技有限公司 | Integrated polishing machine for glasses |
| CN106002550B (en) * | 2016-06-08 | 2018-06-29 | 芜湖万辰电光源科技有限公司 | Glass polishing all-in-one machine |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0257013B1 (en) | 1992-01-02 |
| DE3775655D1 (en) | 1992-02-13 |
| EP0257013A3 (en) | 1988-05-11 |
| EP0257013A2 (en) | 1988-02-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5993298A (en) | Lapping apparatus and process with controlled liquid flow across the lapping surface | |
| US5910041A (en) | Lapping apparatus and process with raised edge on platen | |
| US6120352A (en) | Lapping apparatus and lapping method using abrasive sheets | |
| US5967882A (en) | Lapping apparatus and process with two opposed lapping platens | |
| US5005319A (en) | Knife sharpener | |
| US6048254A (en) | Lapping apparatus and process with annular abrasive area | |
| EP2601015B1 (en) | Abrasive tool and a method for finishing complex shapes in workpieces | |
| JP3620679B2 (en) | Chamfering device and chamfering method for wafer with loose abrasive grains | |
| JPH01121159A (en) | Method and device for mechanically grinding and polishing inorganic material, particularly, surface of glass | |
| CA1255105A (en) | Method and apparatus for high speed profile grinding of rotation symmetrical workpieces | |
| US5720649A (en) | Optical lens or lap blank surfacing machine, related method and cutting tool for use therewith | |
| US7029367B2 (en) | Automated polishing process for mechanical parts in titanium or titanium alloy | |
| JP2007245337A (en) | Grinding wheel, machine tool with grinding wheel and method for grinding cutting tools | |
| JPH0224063A (en) | Cup type grinding wheel | |
| JP2010076013A (en) | Polishing method of rotary grindstone and polishing apparatus, grinding grindstone and grinding apparatus using the grindstone | |
| EP1032486B1 (en) | Process and device for working a workpiece | |
| JP5300939B2 (en) | Machining method using finishing tools | |
| JP3290235B2 (en) | Polishing method and polishing device | |
| EP0642887B1 (en) | Apparatus for producing hollow ground needles | |
| US2355345A (en) | Optical device and method of making same | |
| JPS61146471A (en) | Dressing device | |
| JP3651527B2 (en) | Curved surface polishing equipment for glass articles | |
| JP3630950B2 (en) | Manufacturing method of spherical lens | |
| CN214642700U (en) | Crystal disc polishing machine with automatic dust collection effect | |
| BE1000491A5 (en) | Glass grinding and polishing method - uses wheel cone face with abrasive strip during polishing pass |