JPH01105376A - Method for cleaning disk - Google Patents
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的１
（産業上の利用分野）
本発明は、例えば磁気ディスク等の製造工程で用いられ
るディスクの洗浄方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention 1 (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method for cleaning a disk used in the manufacturing process of, for example, a magnetic disk.
（従来の技術）
従来より、この杜のハードディスクの洗浄には、主にス
クラビング方式が採用されていた。(Prior Art) Traditionally, a scrubbing method has been mainly used to clean KonoMori's hard disks.
このスクラビング方式とは、主に洗剤をブラシに付着さ
せ、あるいは付着させながら被処理ディスク板の片面あ
るいは両面を前記ブラシによりスクラビング処理するも
のである。This scrubbing method mainly involves scrubbing one or both sides of the disk to be treated with the brush while attaching detergent to the brush.
また、前記スクラビング方式と併せて、被処理ディスク
板に高圧ジェット噴流を噴出させ、ディスクの洗浄を実
行するものもあった。In addition to the above-mentioned scrubbing method, there has also been a method in which a high-pressure jet is ejected onto the disk to be processed to clean the disk.
（発明が解決しようとする問題点）
上述した従来のディスクの洗浄方法にあっては、被処理
ディスク板上の微細な汚れを確実に除去することが出来
ず、被処理ディスク板上に微細な汚れが残ってディスク
板の不良品を生み出すという問題があった。(Problems to be Solved by the Invention) In the conventional disk cleaning method described above, it is not possible to reliably remove fine dirt on the disk plate to be processed, and it is difficult to remove fine dirt on the disk plate to be processed. There was a problem in that dirt remained and produced defective disk plates.
そこで、本発明の目的とするところは、上述した従来の
問題点を解決し、従来除去不可能であった微細な汚れを
も取り除き、洗浄不良による不良品を大幅に減少するこ
とができるディスクの洗浄方法を提供することにある。Therefore, the object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the conventional disks, remove even the minute dirt that could not be removed conventionally, and significantly reduce the number of defective products due to poor cleaning. The object of the present invention is to provide a cleaning method.
［発明の構成］
（問題点を解決するための手段）
本発明は、ディスクの盤面を洗浄するにあたり、
ディスクを回転させながら、このディスク盤面に向けて
、超音波を照射された洗浄液を噴出する工程を含む構成
としている。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) In the present invention, when cleaning the surface of a disk, a cleaning liquid irradiated with ultrasonic waves is ejected toward the disk surface while rotating the disk. The structure includes processes.
（作用）
超音波を照射された液体内では、キャビテーションによ
り気泡の発生と破壊とが繰り返され、この気泡の破壊時
に大きな力が作用する。(Function) In a liquid irradiated with ultrasonic waves, bubbles are repeatedly generated and destroyed due to cavitation, and a large force acts when the bubbles are destroyed.
そこで、このような超音波を照射された洗浄液をディス
クの盤面に向けて吐出することで、ディスク上の微細な
汚れをも前記気泡の破壊時の力によって除去することが
できる。Therefore, by discharging the cleaning liquid irradiated with such ultrasonic waves toward the surface of the disk, even minute dirt on the disk can be removed by the force generated when the bubbles are destroyed.
ここで、この種の超音波洗浄は液槽の中に被処理体を浸
して行なうものが一般的であるが、液槽を用いる場合に
は装置が大掛かりとなり、液の交換が煩雑であると共に
、他の洗浄作用と同時に実行することができない。This type of ultrasonic cleaning is generally carried out by immersing the object in a liquid bath, but when a liquid bath is used, the equipment is large-scale, and changing the liquid is complicated. , cannot be carried out simultaneously with other cleaning actions.
本発明方法の場合、超音波を照射された洗浄液を噴出さ
せているので、装置の小型化が維持され、液交換は不要
であり、しかも高圧ジェット洗浄等の他の洗浄方法と併
せて実行することができる利点がある。In the case of the method of the present invention, since the cleaning liquid irradiated with ultrasonic waves is ejected, the device can be kept compact, there is no need to replace the liquid, and it can be carried out in conjunction with other cleaning methods such as high-pressure jet cleaning. There is an advantage that it can be done.
（実施例）
以下、本発明を磁気ディスクの洗浄方法に適用した一実
施例について、図面を参照して具体的に説明する。(Example) Hereinafter, an example in which the present invention is applied to a magnetic disk cleaning method will be specifically described with reference to the drawings.
まず、本実施例方法を実施するためのディスク洗浄装置
について、第１図乃至第５図を参照して説明する。First, a disk cleaning apparatus for carrying out the method of this embodiment will be explained with reference to FIGS. 1 to 5.
このディスク洗浄装置の概略構成は、第２図に示すよう
に、磁気ディスク板１を支持して回転駆動するディスク
回動部１０．前記磁気ディスク１をスクラビング処理す
るスクラビング処理部２０゜前記スクラビング処理と併
せて高圧ジェット噴流を噴出して洗浄する高圧ジェット
洗浄部３０及び超音波を照射された洗浄液例えば純水を
噴出して洗浄する超音波洗浄部４０から構成されている
。As shown in FIG. 2, the general configuration of this disk cleaning device is as shown in FIG. A scrubbing processing section 20 that performs scrubbing processing on the magnetic disk 1; a high-pressure jet cleaning section 30 that ejects a high-pressure jet to clean the magnetic disk 1 in conjunction with the scrubbing processing; and a scrubbing section 30 that ejects a cleaning liquid irradiated with ultrasonic waves, such as pure water, for cleaning. It is composed of an ultrasonic cleaning section 40.
前記ディスク回動部１０は、前記磁気ディスク１の外縁
の３箇所にスピンドルローラ１０ａ、１０ｂ、１０ｃを
設けて構成している。The disk rotating section 10 is constructed by providing spindle rollers 10a, 10b, and 10c at three locations on the outer edge of the magnetic disk 1.
上記スピンドルローラは同一構成であるので、スピンド
ルローラ１０ａについて説明すると、第３図に示すよう
に、このスピンドルローラ１０ａの中央細径部には２つ
のＯリング１１．１２が装着され、このＯリング１１．
１２を前記磁気デスク１の外縁部に押圧して当接し、ス
ピンドルローラ１０ａを回転することで、０リング１１
．１２との摩擦接触によって磁気ディスク１を回転する
＝ ５ −
ようになっている。尚、３つのスピンドルローラ１０ａ
、１０ｂ、１０ｃは同期回転するように構成されており
、この結果磁気ディスク１を等速回転できるようにして
いる。尚、第２図に示すように、前記スピンドルローラ
１０ａの近傍には、磁気ディスク１の外周を洗浄する外
周洗浄用ブラシ１３が設けられている。Since the above-mentioned spindle rollers have the same configuration, the spindle roller 10a will be explained as follows.As shown in FIG. 11.
12 is pressed against the outer edge of the magnetic disk 1, and by rotating the spindle roller 10a, the O-ring 11
．． The magnetic disk 1 is rotated by frictional contact with the magnetic disk 12. In addition, three spindle rollers 10a
, 10b, and 10c are configured to rotate synchronously, and as a result, the magnetic disk 1 can be rotated at a constant speed. As shown in FIG. 2, an outer periphery cleaning brush 13 for cleaning the outer periphery of the magnetic disk 1 is provided near the spindle roller 10a.
前記スクラビング処理部２０は、スクラブブラシ２１と
、このスクラブブラシ２１を揺動自在に支持するアーム
２２と、前記スクラブブラシ２１に洗剤を供給する洗剤
供給用パイプ２３を有している。The scrubbing processing section 20 has a scrubbing brush 21, an arm 22 that swingably supports the scrubbing brush 21, and a detergent supply pipe 23 that supplies detergent to the scrubbing brush 21.
前記スクラブブラシ２１は、第４図に詳図するように、
離間して対向配置された一対のブラシ２１ａ、２１ｂか
ら構成され、２本の前記アーム２２によって回動可能に
支持されている。As shown in detail in FIG. 4, the scrub brush 21 has the following features:
It is composed of a pair of brushes 21a and 21b that are spaced apart and facing each other, and is rotatably supported by the two arms 22.
このスクラブブラシ２１の回転駆動機構１５として、第
４図に示すように、モータ１６．このモータ１６によっ
て回転されるシャフト１７．このシャフト１７に固着さ
れたプーリ１８及びこのプ−リ１８に掛は渡されたベル
ト１９から成り、このベルト１９を前記ブラシ側のプー
リ２１ｃに掛は渡すことにより、前記スクラブブラシ２
１を回転駆動するようになっている。As the rotational drive mechanism 15 for the scrub brush 21, a motor 16. A shaft 17 rotated by this motor 16. It consists of a pulley 18 fixed to this shaft 17 and a belt 19 that is passed around this pulley 18. By passing this belt 19 to the pulley 21c on the brush side, the scrub brush 21c is
1 to rotate.
尚、前記スクラブブラシ２１の位置調整用として、ディ
スク板１との接触圧を調整するブラシ高さ調整具２４．
ブラシ位置調整具２５及びブラシ位置固定用具２６が設
けられている。また、このスクラビング処理部２０での
洗浄時に、前記アーム２２を第２図の破線位置に位置決
めするなめ、ブラシストッパー２７と、ブラシストッパ
取り付は具２８とが設けられている。In addition, for adjusting the position of the scrub brush 21, there is a brush height adjuster 24 for adjusting the contact pressure with the disk plate 1.
A brush position adjustment tool 25 and a brush position fixing tool 26 are provided. Further, a brush stopper 27 and a brush stopper attachment tool 28 are provided to position the arm 22 at the position indicated by the broken line in FIG. 2 during cleaning in the scrubbing processing section 20.
前記高圧ジェット洗浄部３０は、第５図にも示すように
、前記磁気ディスク１の両面側より、ディスク面に対し
て傾斜した角度で洗浄液例えば炭酸水を噴出する高圧ジ
ェットノズル３１．３１と、この高圧ジェットノズル３
１．３１に炭酸水を供給するスプレーアーム３２，３２
と、前記ディスク１の下方より上方に向けて高圧ジェッ
トを噴出する一方のノズル３１に対応して配置された高
圧ジェット受具３３とから構成されている。As shown in FIG. 5, the high-pressure jet cleaning section 30 includes high-pressure jet nozzles 31 and 31 that spout cleaning liquid, such as carbonated water, from both sides of the magnetic disk 1 at an angle inclined to the disk surface. This high pressure jet nozzle 3
1. Spray arms 32, 32 supplying carbonated water to 31
and a high-pressure jet receiver 33 disposed corresponding to one nozzle 31 that ejects a high-pressure jet upward from below the disk 1.
尚、前記スプレーアーム３２，３２には、例えば３５〜
２１０ｋｇ／ｃ＋＆程度の高圧で炭酸水が供給されるよ
うになっている。Incidentally, the spray arms 32, 32 include, for example, 35 to 35.
Carbonated water is supplied at a high pressure of about 210 kg/c+&.
次に、前記超音波洗浄部４０について第１図をも参照し
て説明する。Next, the ultrasonic cleaning section 40 will be explained with reference to FIG. 1 as well.
この超音波洗浄部４０は、前記磁気ディスク板１と直交
する方向で、このディスク板１を挾んで上下に対向して
配置された低圧リンスノズル４１゜４１と、直角に屈曲
した先端に前記ノズル４１゜４１を設け、このノズル４
１．４１に洗浄液例えば純水を供給する低圧リンス用ス
プレーアーム４２．４２と、前記ノズル４１．４１の噴
出端と対向して前記スプレーアーム４２，４２に配置さ
れた超音波振動子（超音波振動面がディスク板１と平行
に配置されている）４３．４３と、この振動子駆動用の
ケーブル４４．４４と、前記ディスク板１の上方に配置
された一方の前記ノズル４１の周囲に形成された低圧リ
ンス受具４５とから構成されている。The ultrasonic cleaning unit 40 includes low-pressure rinse nozzles 41° 41 disposed vertically facing each other with the disk plate 1 sandwiched between them in a direction orthogonal to the magnetic disk plate 1, and a nozzle at a tip bent at right angles. 41°41 is provided, and this nozzle 4
A low-pressure rinsing spray arm 42.42 supplies a cleaning liquid such as pure water to the nozzle 41.41, and an ultrasonic vibrator (ultrasonic 43, 43 whose vibration surface is arranged parallel to the disk plate 1, a cable 44, 44 for driving this vibrator, and one of the nozzles 41 arranged above the disk plate 1. and a low-pressure rinse receiver 45.
尚、前記スプレーアーム４２，４２には、このディスク
洗浄装置の配置される工場内のポンプ圧力例えば１．５
〜２ ｋｇ／ ｃｎＹ程度の低圧力によって純水が供給
されるようになっている。The spray arms 42, 42 are equipped with a pump pressure of, for example, 1.5 in the factory where this disk cleaning device is installed.
Pure water is supplied under low pressure of ~2 kg/cnY.
次に、上記ディスク洗浄装置を用いて、本発明の一実施
例であるディスクの洗浄方法について説明する。Next, a method for cleaning a disk, which is an embodiment of the present invention, will be described using the disk cleaning apparatus described above.
まず、磁気ディスクの製造方法について簡単に説明する
と、第６図に示すように、磁気ディスク板１の材料とな
るアルミ板を打ち抜き加工しくステップ１）、これを旋
盤加工してドーナツ形状に形成する（ステップ２）。First, to briefly explain the method of manufacturing a magnetic disk, as shown in FIG. 6, an aluminum plate, which is the material of the magnetic disk plate 1, is punched out (Step 1), and then lathed to form a donut shape. (Step 2).
次に、砥石研磨を実行しくステップ３）、さらに塗粒に
よる鏡面研磨を行なう（ステップ４）。Next, grindstone polishing is performed (step 3), and mirror polishing is performed using coating particles (step 4).
この後、本発明の対象となる１回目のディスク洗浄を実
行しくステップ５）、例えばＮｉ −Ｐにより１５μｍ
〜２０μｍ程度のメッキ厚でメツキ加工しくステップ６
）、再度塗粒研磨を実行する（ステップ７）。After this, perform the first disk cleaning which is the object of the present invention (Step 5), for example, by cleaning the disk with Ni-P to a thickness of 15 μm.
Step 6: Plating with a plating thickness of about 20μm
), and performs coating polishing again (step 7).
この後、２回目のディスク洗浄を実行しくステツブ８）
、例えば数ミクロンの厚さでテーピングを実行するテク
スチャー工程を行ないくステップ９）、その後３回目の
ディスク洗浄を実行する（ステップ１０）。After this, perform the second disk cleaning step 8)
, a texturing process is performed in which taping is performed to a thickness of, for example, several microns (step 9), and then a third disk cleaning is performed (step 10).
そして、最後にディスク板上に磁性体をスパッタによっ
て形成しくステップ１１）、以降の検査工程（ステップ
１３）に移行することになる。Finally, a magnetic material is formed on the disk plate by sputtering (step 11), and the process proceeds to the subsequent inspection process (step 13).
このように、磁気ディスクの製造工程では、例えば３回
に亘ってディスクの洗浄を実行しているが、本実施例で
は、上記ディスクの洗浄を下記の方法によって実行して
いる。As described above, in the manufacturing process of a magnetic disk, the disk is cleaned three times, for example, and in this embodiment, the disk is cleaned by the following method.
すなわち、ディスク板１は３個のスピンドルローラ１０
ａ〜１０ｃによって保持され、第２図に示す洗浄位置ま
で搬送される。この搬送中に、洗剤供給用パイプ２３を
介して洗剤がスクラブブラシ２１に供給される。そして
、このスクラブブラシ２１は、前記モータ１６．シャフ
ト１７．プーリ１８．ベルト１９及びプーリ２１ｃによ
って回転駆動され、この回転によってブラシ２１の全体
に均一に洗剤を含むようにしている。That is, the disk plate 1 has three spindle rollers 10.
a to 10c and transported to the cleaning position shown in FIG. During this conveyance, detergent is supplied to the scrub brush 21 via the detergent supply pipe 23. This scrub brush 21 is connected to the motor 16. Shaft 17. Pulley 18. The brush 21 is rotationally driven by the belt 19 and the pulley 21c, and this rotation allows the entire brush 21 to contain the detergent uniformly.
上述したようなブラシ２１への洗剤供給作業が終了後、
前記ディスク板１が回転されると同時に、スクラブブラ
シ２１を回転させながら前記アーム２２を図示しない駆
動機構によって揺動させ、スクラブブラシ２１を第２図
に示す位置、すなわち一対のブラシ２１ａ、２１ｂ間に
前記ディスク板１が配置される位置まで移動する。After the detergent supply work to the brush 21 as described above is completed,
At the same time as the disk plate 1 is rotated, the arm 22 is swung by a drive mechanism (not shown) while rotating the scrub brush 21, and the scrub brush 21 is moved to the position shown in FIG. 2, that is, between the pair of brushes 21a and 21b. The disk plate 1 is moved to the position where it is placed.
この動作によって、一対のブラシ２１ａ、２１ｂによっ
てディスク板１の両面がスクラビング処理されることに
なる。Through this operation, both sides of the disk plate 1 are scrubbed by the pair of brushes 21a and 21b.
また、高圧ジェットノズル３１．３１には、図示しない
ポンプによって高圧に加圧された炭酸水が、スプレーア
ーム３２を介して供給され、この高圧ジェットノズル３
１．３１が第２図の揺動範囲に亘って数回揺動し、ディ
スク１の両面に向けて炭酸水を噴出することになる。Further, carbonated water pressurized to a high pressure by a pump (not shown) is supplied to the high-pressure jet nozzle 31.31 via the spray arm 32.
1.31 swings several times over the swing range shown in FIG.
この結果、洗剤を使用したスクラビング処理と、高圧ジ
ット噴流とを使用した洗浄作業が被処理ディスク板１上
で実行されることになる。尚、前記高圧ジェットノズル
３１．３１がディスク板１より外れた位置に来たときに
は、下方より上方に向けて噴出された炭酸水は、高圧ジ
ェット受具３３によって収容されるので、装置外部に飛
び出すということはない。As a result, a scrubbing process using a detergent and a cleaning operation using a high-pressure jet jet are performed on the disk plate 1 to be treated. Incidentally, when the high-pressure jet nozzle 31.31 comes to a position away from the disk plate 1, the carbonated water jetted upward from the bottom is contained by the high-pressure jet receiver 33, so that it is ejected to the outside of the device. That's not the case.
また、高圧ジェットノズル３１．３１がらの洗浄液を炭
酸水としている理由は、この炭酸水によって静電気を除
去するなめであり、これを純水等の他の洗浄液に変更し
て実施することも可能である。In addition, the reason why carbonated water is used as the cleaning liquid for the high-pressure jet nozzle 31.31 is that this carbonated water removes static electricity, and it is also possible to change this to other cleaning liquids such as pure water. be.
前記スクラビング処理が終了すると、アーム２２の駆動
によりスクラブブラシ２１はディスク板１より外される
ホームポジションに移動して待機することになる。When the scrubbing process is completed, the arm 22 is driven to move the scrubbing brush 21 to the home position where it is removed from the disk plate 1 and stands by.
次に、工場側の圧力によって純水が低圧リンス用スプレ
ーアーム４２に供給され、この純水は、前記スプレーア
ーム４２の屈曲部に配置された超音波振動子４３によっ
て励振され、超音波が乗った純水となる。そして、この
超音波を照射された純水が、低圧リンスノズル４１．４
１を介してディスク板１の両面に垂直に噴出されること
になる。Next, pure water is supplied to the low-pressure rinsing spray arm 42 by pressure from the factory, and this pure water is excited by the ultrasonic vibrator 43 disposed at the bending part of the spray arm 42, and ultrasonic waves are applied to the pure water. It becomes pure water. Then, the pure water irradiated with ultrasonic waves flows through the low-pressure rinse nozzle 41.4.
1 and is ejected perpendicularly to both sides of the disk plate 1.
この際、低圧リンス用スプレーアーム４２を第２図の揺
動範囲に亘って揺動し、ディスク板１の全面に純水が噴
出されるようにする。尚、低圧リンスノズル４１．４１
がディスク板１より外れた位置に設定された場合に、デ
ィスク１の下方より上方に向けて純水を吐出する低圧リ
ンスノズル４１からの純水は、低圧リンス受具４５によ
って装置外部への飛び出しを防止されている。At this time, the low-pressure rinsing spray arm 42 is oscillated over the oscillation range shown in FIG. 2 so that pure water is sprayed over the entire surface of the disk plate 1. In addition, low pressure rinse nozzle 41.41
is set at a position away from the disk plate 1, the deionized water from the low-pressure rinse nozzle 41 that discharges deionized water from the bottom to the top of the disk 1 is discharged to the outside of the device by the low-pressure rinse receiver 45. is prevented.
ここで、このように、超音波を照射された純水によるデ
ィスクの洗浄作用について説明すると、超音波によって
純水中にキャビテーション（空洞現象〉が生じ、液中で
気泡の発生と破壊とが繰り返され、破壊時に大きな力を
発生するので、このような純水を前記ディスク１に噴出
することで破壊時の力によって微細な汚れ等を除去する
洗浄が実行されることになる。Here, to explain the disk cleaning action of pure water irradiated with ultrasonic waves, the ultrasonic waves cause cavitation (cavity phenomenon) in pure water, and bubbles are repeatedly generated and destroyed in the liquid. Since this generates a large force at the time of destruction, by jetting such pure water onto the disk 1, cleaning is performed to remove minute dirt and the like by the force at the time of destruction.
尚、超音波洗浄は通常液槽内に被処理体を浸して行なう
ものが一般的であるが、このように、超音波を照射され
た液体を噴出させることにより、装置の小型化が維持さ
れ、かつ前記高圧ジェット洗浄と併せての洗浄が可能と
なる。Although ultrasonic cleaning is generally carried out by immersing the object in a liquid bath, by ejecting the liquid that has been irradiated with ultrasonic waves, the device can be kept compact. , and cleaning can be performed in conjunction with the high-pressure jet cleaning.
そして、本実施例のように、高圧ジェット洗浄と併せて
実行することにより、静電気の除去が同時に行われるの
で、微細な汚れの除去を効果的に実行することができる
。Further, as in this embodiment, by performing the cleaning in conjunction with high-pressure jet cleaning, static electricity is removed at the same time, so that fine dirt can be effectively removed.
尚、超音波を照射された純水をディスク１に対して垂直
に噴出させることにより、前述したキャビテーヨンによ
る破壊時の力を最も効率よく利用することができ、この
場合、超音波振動子４３の振動面をディスク１と平行に
設定することが好ましい。Incidentally, by ejecting the pure water irradiated with ultrasonic waves perpendicularly to the disk 1, the force at the time of destruction by the cavitayon described above can be used most efficiently; in this case, the ultrasonic vibrator 43 It is preferable to set the vibration plane parallel to the disk 1.
また、本実施例の場合、純水に照射されられる超音波の
周波数を１．８ＭＨｚという高周波を用いているので、
加速度が大となり、前述したキャビテーション効果が従
来の周波数帯域（２０〜４０ＫＨｚ ）の超音波洗浄に
比べて極めて大きくなり、微細な汚れの除去をより確実
に実行することができる。In addition, in the case of this example, the high frequency of 1.8 MHz is used as the frequency of the ultrasonic waves irradiated to the pure water.
The acceleration is large, and the cavitation effect described above is extremely large compared to conventional ultrasonic cleaning in the frequency band (20 to 40 KHz), making it possible to more reliably remove fine dirt.
尚、高圧ジェット噴出による洗浄作用と、超音波洗浄と
は、それぞれコントローラによって制御−１Ａ −
されるので、個別の動作を実行することができ、上記両
洗浄作用を同時にもしくは連続的に実行することができ
る。Note that the cleaning action by high-pressure jet jetting and the ultrasonic cleaning are each controlled by a controller, so they can be executed individually, and both of the above cleaning actions can be performed simultaneously or consecutively. Can be done.
さらに、本実施例では、超音波を照射された純水の吐出
圧を１．５ ｋｇ ／ ａｔｆ程度の低圧としているが
、この理由は、あまり高圧で吐出すると超音波を乗ぜら
れないためである。尚、工場側の設定圧力以上の圧力で
噴出しない場合には低圧リンスノズル４１のノズル効果
を利用することができ、本実施例ではノズル径を５１Ｔ
ＩＩ１１としている。Furthermore, in this example, the discharge pressure of ultrasonic-irradiated pure water is set to a low pressure of about 1.5 kg/atf, but the reason for this is that ultrasonic waves cannot be multiplied if the pure water is discharged at too high a pressure. . In addition, if the jet does not occur at a pressure higher than the factory setting pressure, the nozzle effect of the low-pressure rinse nozzle 41 can be used, and in this example, the nozzle diameter is set to 51T.
It is set as II11.
上述した高圧ジェット洗浄と超音波洗浄との終了時は、
高圧ジェットノズル３３をホームポジションに戻し、か
つ、炭酸水の供給を終了する。また、低圧リンスノズル
４１からの純水噴出も停止させ、かつ、ディスク板１の
回転を停止することでディスク板１の洗浄作業が終了す
ることになる。At the end of the high-pressure jet cleaning and ultrasonic cleaning described above,
The high-pressure jet nozzle 33 is returned to the home position, and the supply of carbonated water is ended. Further, the jetting of pure water from the low-pressure rinse nozzle 41 is also stopped, and the rotation of the disk plate 1 is also stopped, thereby completing the cleaning operation of the disk plate 1.
尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本
発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。Note that the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.
本発明は、ディスク洗浄に際して、超音波を照射された
洗浄液を噴出させることを特徴とするものであり、上記
実施例のように必ずしも高圧ジェット洗浄と併せて実施
するものに限らない。The present invention is characterized in that a cleaning liquid irradiated with ultrasonic waves is ejected during disk cleaning, and is not necessarily carried out in conjunction with high-pressure jet cleaning as in the above embodiment.
また、超音波が乗る洗浄液として純水を採用した理由は
、不純物が乾燥後にディスク表面に付着して残留するこ
とを防止するためであり、必ずしも純水を用いるもので
なくても良い。Further, the reason why pure water is used as the cleaning liquid on which ultrasonic waves are carried is to prevent impurities from adhering to and remaining on the disk surface after drying, and it is not necessary to use pure water.
また、本発明が適用されるディスクとしては、必ずしも
磁気ディスクに限らず、光デ仁スク等盤状をなし、かつ
、製造工程で洗浄を要する種々のディスクに適用可能で
ある。Further, the disks to which the present invention is applied are not necessarily limited to magnetic disks, but can be applied to various disks such as optical discs that are disk-shaped and require cleaning during the manufacturing process.
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば超音波を照射され
た洗浄液をディスク板に向けて噴出することにより、主
にキャビテーションによる大きな力を利用してディスク
面上の微細な汚れをも除去することが可能となり、洗浄
不良に伴うディスクの不良品の発生を大幅に低減するこ
とができる。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, by ejecting cleaning liquid irradiated with ultrasonic waves toward the disk plate, fine particles on the disk surface are removed mainly by utilizing the large force caused by cavitation. It is also possible to remove dirt, and the occurrence of defective disks due to poor cleaning can be significantly reduced.
第１図は本発明方法を実施するための主要部である超音
波洗浄部の概略説明図、
第２図は本発明方法を実施するためのディスク洗浄装置
の一例を示ず平面図、
第３図はディスク回動部の部分拡大図、第４図はスクラ
ビング処理部の詳細図、第５図は高圧ジェット洗浄部の
詳細図、第６図は洗浄工程を含む磁気ディスク板の製造
工程を示すフローチャートである。
１・・・被処理ディスク板、
１０・・・ディスク回動部、
２０・・・スクラビング処理部、
３０・・・高圧ジェット洗浄部、
４０・・・超音波洗浄部、
４１・・・低圧リンスノズル、
４３・・・超音波振動子。
代理人 弁理士 井 上 −（外１名）第１図
→４クーグル
第５図
第６図
アルミＪＴ９ａう ステップ＠１’ｉｉ＊
刀ロエ ステップ２λ、ｔｙ；、石−１３ス
テップ・３
Ｊ＋＃伍冴辱冴 スメ２フ・４
シ見オ ステツク゛５
メソＡカロエ テ、ブ６FIG. 1 is a schematic explanatory diagram of an ultrasonic cleaning section which is a main part for implementing the method of the present invention, FIG. 2 is a plan view showing an example of a disk cleaning device for implementing the method of the present invention, and FIG. The figure shows a partially enlarged view of the disk rotating section, FIG. 4 shows a detailed view of the scrubbing processing section, FIG. 5 shows a detailed view of the high-pressure jet cleaning section, and FIG. 6 shows the manufacturing process of a magnetic disk plate including the cleaning process. It is a flowchart. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Disk plate to be processed, 10...Disc rotating part, 20...Scrubbing processing part, 30...High pressure jet cleaning part, 40...Ultrasonic cleaning part, 41...Low pressure rinsing Nozzle, 43... Ultrasonic vibrator. Agent Patent Attorney Inoue - (1 other person) Fig. 1 → 4 Kugle Fig. 5 Fig. 6 Aluminum JT9a Step @1'ii*
Katana Roe Step 2λ, ty;, Stone-13 Step 3 J+#Gosae Humiliation Sme 2F 4 Shimio Step 5 Meso A Caloe Te, Bu 6
Claims (5)
回転させながら、このディスク盤面に向けて、超音波を
照射された洗浄液を噴出する工程を含むことを特徴とす
るディスクの洗浄方法。(1) A method for cleaning a disk, which includes the step of spraying a cleaning liquid irradiated with ultrasonic waves toward the disk surface while rotating the disk.
て垂直に噴出させるものである特許請求の範囲第１項記
載のディスクの洗浄方法。(2) The disk cleaning method according to claim 1, wherein the cleaning liquid irradiated with ultrasonic waves is ejected perpendicularly to the disk surface.
して超音波励振を行なうものである特許請求の範囲第２
項記載のディスクの洗浄方法。(3) Claim 2, wherein the ultrasonic vibration surface is arranged parallel to the surface of the disk to perform ultrasonic excitation.
Disc cleaning method described in section.
ｃｍ＾２程度の低圧力によって噴出されるものである特
許請求の範囲第１項乃至第３項のいずれか１項記載のデ
ィスクの洗浄方法。(4) The cleaning liquid irradiated with ultrasonic waves weighs 1.5 to 2 kg/
The disk cleaning method according to any one of claims 1 to 3, wherein the cleaning method is performed by ejecting the liquid at a low pressure of about cm^2.
たは連続的に、高圧ジェット噴流による洗浄を実行する
ものである特許請求の範囲第１項乃至第４項のいずれか
１項記載のディスクの洗浄方法。(5) The disk according to any one of claims 1 to 4, wherein the disk is cleaned by a high-pressure jet stream simultaneously or continuously with cleaning by a cleaning liquid irradiated with ultrasonic waves. cleaning method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62262384A JPH0695382B2 (en) | 1987-10-17 | 1987-10-17 | Disc cleaning method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62262384A JPH0695382B2 (en) | 1987-10-17 | 1987-10-17 | Disc cleaning method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01105376A true JPH01105376A (en) | 1989-04-21 |
| JPH0695382B2 JPH0695382B2 (en) | 1994-11-24 |
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ID=17375006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62262384A Expired - Fee Related JPH0695382B2 (en) | 1987-10-17 | 1987-10-17 | Disc cleaning method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0695382B2 (en) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1987
- 1987-10-17 JP JP62262384A patent/JPH0695382B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0695382B2 (en) | 1994-11-24 |
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