JPH01100817A - 高温超電導材 - Google Patents
高温超電導材Info
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-
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、ジョセフソン素子や超電導記憶素子等の超
電導デバイス、あるいは超電導マグネット用コイルなど
として使用可能な高温超電導材に関するものである。
電導デバイス、あるいは超電導マグネット用コイルなど
として使用可能な高温超電導材に関するものである。
[従来の技術]
最近に至り、常電導状態から超電導状態に遷移する臨界
温度(Tc)が液体窒素温度以上の高い値を示す酸化物
系の超電導体が種々発見されつつある。そして、このよ
うな酸化物系の超電導体は、液体ヘリウムで冷却する必
要のあった従来の合金系あるいは金属間化合物・系の超
電導体に比較して格段に有利な冷却条件で使用できるこ
とから、実用上極めて有望な超電導材料として種々の研
究と開発がなされている。
温度(Tc)が液体窒素温度以上の高い値を示す酸化物
系の超電導体が種々発見されつつある。そして、このよ
うな酸化物系の超電導体は、液体ヘリウムで冷却する必
要のあった従来の合金系あるいは金属間化合物・系の超
電導体に比較して格段に有利な冷却条件で使用できるこ
とから、実用上極めて有望な超電導材料として種々の研
究と開発がなされている。
ところで、このような酸化物系の超電導体における臨界
温度や臨界電流密度(Jc)は、製造方法、製造条件な
どの種々のファクターにより極めて大きく変動すること
が知られている。そして現在のところでは、化学蒸着法
(以下、CVD法と略称する。)等の薄膜形成手段によ
り形成された超電導体が比較的良好な超電導特性を示す
可能性があるとして有望視されている。
温度や臨界電流密度(Jc)は、製造方法、製造条件な
どの種々のファクターにより極めて大きく変動すること
が知られている。そして現在のところでは、化学蒸着法
(以下、CVD法と略称する。)等の薄膜形成手段によ
り形成された超電導体が比較的良好な超電導特性を示す
可能性があるとして有望視されている。
[発明が解決しようとする問題点]
ところで、CVD法は成膜速度を速くすることが可能で
あり、厚い超電導層でも短時間で生成できる利点を有す
るものの、製造された超電導層は結晶構造が比較的荒く
臨界電流が低い欠点がある。
あり、厚い超電導層でも短時間で生成できる利点を有す
るものの、製造された超電導層は結晶構造が比較的荒く
臨界電流が低い欠点がある。
本発明は、前記問題に鑑みてなされたもので、十分な膜
厚を有し、臨界温度と臨界電流密度が大きいとともに、
効率良く製造することができる高温超電導材を提供する
ことを目的としている。
厚を有し、臨界温度と臨界電流密度が大きいとともに、
効率良く製造することができる高温超電導材を提供する
ことを目的としている。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、前記問題点を解決するために、A−B−C−
D系(ただしAはY、Sc、La、Yb、Er、Ho、
Dy等の周期律表IIIa族元素のうち1種あるいは2
種以上を示し、BはSr、Ba、Ca等の周期律表Il
a族元素のうち1種あるいは2種以上を示し、CはCu
、A g * A uなどの周期律表Ib族元素とN
bのうちCuあるいはCuを含む2種以上を示し、Dは
O,S、Se等の周期律表■b族元素およびF 、Cl
。
D系(ただしAはY、Sc、La、Yb、Er、Ho、
Dy等の周期律表IIIa族元素のうち1種あるいは2
種以上を示し、BはSr、Ba、Ca等の周期律表Il
a族元素のうち1種あるいは2種以上を示し、CはCu
、A g * A uなどの周期律表Ib族元素とN
bのうちCuあるいはCuを含む2種以上を示し、Dは
O,S、Se等の周期律表■b族元素およびF 、Cl
。
Br等の周期律表VIIb族元素のうちOあるいは0を
含む2種以上を示す。)の高温超電導材であって、CV
D法により形成されたA−B−C−D系の第1の超電導
層と、この第1の超電導層上にレーザ蒸着法により形成
されたA−B−C−D系の第2の超電導層とからなるも
のである。
含む2種以上を示す。)の高温超電導材であって、CV
D法により形成されたA−B−C−D系の第1の超電導
層と、この第1の超電導層上にレーザ蒸着法により形成
されたA−B−C−D系の第2の超電導層とからなるも
のである。
[作用]
CVD法により短時間で大きな膜厚の第1の超電導層を
形成し、レーザ蒸着法により緻密で均一な結晶構造であ
って臨界電流密度の大きな第2の超電導層を形成する。
形成し、レーザ蒸着法により緻密で均一な結晶構造であ
って臨界電流密度の大きな第2の超電導層を形成する。
CVD法とレーザ蒸着法を実施することによって全体で
十分な厚さを確保することができ、臨界電流密度も高く
することができる。
十分な厚さを確保することができ、臨界電流密度も高く
することができる。
以下に、本発明を更に詳細に説明する。
第1図は、この発明の高温超電導材の一例を示すもので
、図中符号lは基体である。この基体1の表面には、2
層構造の酸化物系の高温超電導材2が形成されている。
、図中符号lは基体である。この基体1の表面には、2
層構造の酸化物系の高温超電導材2が形成されている。
この高温超電導材2は、CVD法(化学蒸着法)により
形成された第1の超電導層2aと、レーザ蒸着法により
形成された第2の超導電層2bとから構成されている。
形成された第1の超電導層2aと、レーザ蒸着法により
形成された第2の超導電層2bとから構成されている。
高温超電導2を形成するための基体1は、板材、線材、
テープ材、筒状材、柱状材など、種々の形状のものが用
いられる。また、このような基体lの構成材料としては
、酸化物系の高温超電導材の生成時に加える熱処理時の
高熱に耐えうる材料が選択され、具体的には、銀、金、
白金、アルミニウム、銅等の金属材料、あるいは、これ
らの合金材料、または、これら金属または合金の窒化物
、炭化物、あるいはステンレス鋼などであり、更にはチ
タン酸ストロンチウム(SrT io 3)、アルミナ
(A1*Os)、シリコン(S i)、シリカ(S 1
O2)、ニオブ酸リチウム(L iN bo t)、サ
ファイア、ルビー等の結晶材料などが好適に用いられる
。
テープ材、筒状材、柱状材など、種々の形状のものが用
いられる。また、このような基体lの構成材料としては
、酸化物系の高温超電導材の生成時に加える熱処理時の
高熱に耐えうる材料が選択され、具体的には、銀、金、
白金、アルミニウム、銅等の金属材料、あるいは、これ
らの合金材料、または、これら金属または合金の窒化物
、炭化物、あるいはステンレス鋼などであり、更にはチ
タン酸ストロンチウム(SrT io 3)、アルミナ
(A1*Os)、シリコン(S i)、シリカ(S 1
O2)、ニオブ酸リチウム(L iN bo t)、サ
ファイア、ルビー等の結晶材料などが好適に用いられる
。
次に、このような基体lの表面に2層構造の酸化物系の
高温超電導材2を形成する。この例の高温超電導材2の
形成工程は、2つの工程からなっている。
高温超電導材2を形成する。この例の高温超電導材2の
形成工程は、2つの工程からなっている。
第1の工程では、CVD装置を用いて第1の超電導層2
aを形成し、第2の工程では、レーザー蒸着装置を用い
て第2の超電導層2bを形成する。
aを形成し、第2の工程では、レーザー蒸着装置を用い
て第2の超電導層2bを形成する。
第1の工程におけるCVD法としては、通常の熱CVD
法の他にプラズマCVD法、光CVD法、レーザCVD
法などが用いられる。この工程は、前述の酸化物超電導
体を構成する各元素を含むアルコキシド化合物、オキシ
ケトン化合物、シクロペンタジェニル化合物、アセチル
アセトン化合物などを気相化した雰囲気で行なわれる。
法の他にプラズマCVD法、光CVD法、レーザCVD
法などが用いられる。この工程は、前述の酸化物超電導
体を構成する各元素を含むアルコキシド化合物、オキシ
ケトン化合物、シクロペンタジェニル化合物、アセチル
アセトン化合物などを気相化した雰囲気で行なわれる。
また、キャリアガスとしては、酸素ガス、あるいは酸素
ガスとS、Se等の周期律表VIb族元素のガスとF、
CI。
ガスとS、Se等の周期律表VIb族元素のガスとF、
CI。
Br等の周期律表VIIb族のガスとを混合した混合ガ
スなどが用いられる。
スなどが用いられる。
なお、前記のような酸化物超電導体としては、A−B−
C−D系(ただし、Aは、Y、Sc、La、Ce、Pr
、Nd、Ps、Ss、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、
Er、Tm、 Y b、 L u等の周期律表ms族元
素のうち1種あるいは2種以上の元素を示し、BはSr
、Ba、Ca、Be、Mg、Ra等の周期律表[1a族
元素のうち1種あるいは2種以上を示し、CはCu、A
g、Au等の周期律表Ib族元素とNbのうちCuある
いはCuを含む2種以上を示し、DはO,Se、Te、
Po等の周期律表■b族元素およびF、Cl、Br、I
、At等の周期律表VIIb族元素のうち、0あるい
はOを含む2種以上を示す。)のものが用いられる。そ
して、この酸化物超電導体の各構成元素の組成は、例え
ば、Y−Ba−Cu−0系の酸化物高温超電導体の場合
、Y:Ba:Cu:O= 1 :(1〜 3):(
2〜 4):(7−X)とされ、Xは0≦X≦5の範囲
とされる。
C−D系(ただし、Aは、Y、Sc、La、Ce、Pr
、Nd、Ps、Ss、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、
Er、Tm、 Y b、 L u等の周期律表ms族元
素のうち1種あるいは2種以上の元素を示し、BはSr
、Ba、Ca、Be、Mg、Ra等の周期律表[1a族
元素のうち1種あるいは2種以上を示し、CはCu、A
g、Au等の周期律表Ib族元素とNbのうちCuある
いはCuを含む2種以上を示し、DはO,Se、Te、
Po等の周期律表■b族元素およびF、Cl、Br、I
、At等の周期律表VIIb族元素のうち、0あるい
はOを含む2種以上を示す。)のものが用いられる。そ
して、この酸化物超電導体の各構成元素の組成は、例え
ば、Y−Ba−Cu−0系の酸化物高温超電導体の場合
、Y:Ba:Cu:O= 1 :(1〜 3):(
2〜 4):(7−X)とされ、Xは0≦X≦5の範囲
とされる。
そして、このようなCVD法では、短時間で厚い超電導
層を形成することができるので、十分な厚さを有する第
1の超電導層2aを得ることができる。
層を形成することができるので、十分な厚さを有する第
1の超電導層2aを得ることができる。
また第2の工程では、レーザ蒸着装置を用いて第2の超
電導層2bが形成される。
電導層2bが形成される。
ここでこのレーザ蒸着装置として、例えば第2図に示す
装置を用いる。第2図に示す装置は、内部を真空雰囲気
や酸素ガス雰囲気に保持可能な容器10と、この容器I
Oの側方に付設されたレーザビーム発射装置9を具備し
て構成されている。
装置を用いる。第2図に示す装置は、内部を真空雰囲気
や酸素ガス雰囲気に保持可能な容器10と、この容器I
Oの側方に付設されたレーザビーム発射装置9を具備し
て構成されている。
前記容器10の内部には、基板ホルダ11と円筒状の回
転基材12が対向して設けられ、回転基材12の側方側
の容器IOの外壁には導入口が形成され、この導入口に
はZn5eなどからなる透明窓i4が装着されている。
転基材12が対向して設けられ、回転基材12の側方側
の容器IOの外壁には導入口が形成され、この導入口に
はZn5eなどからなる透明窓i4が装着されている。
また、容器lOの内部であって基板ホルダ11の側方に
は、凹面鏡15がその鏡面部分を前記回転基材12と透
明窓14に向けるように設置されていて、レーザビーム
発射装置9から容器lO内に透明窓14を介して入射さ
れたレーザビームを前記回転基材12に照射できるよう
になっている。一方、基板ホルダ11には回転基材I2
に対向して基板lが装着されるとともに、基板ホルダ1
1には基板lを加熱可能なヒータ16が付設されている
。なお、回転基材12は容器lOの内部に設けられた図
示路の回転装置によってその周回りに回転自在に支持さ
れている。
は、凹面鏡15がその鏡面部分を前記回転基材12と透
明窓14に向けるように設置されていて、レーザビーム
発射装置9から容器lO内に透明窓14を介して入射さ
れたレーザビームを前記回転基材12に照射できるよう
になっている。一方、基板ホルダ11には回転基材I2
に対向して基板lが装着されるとともに、基板ホルダ1
1には基板lを加熱可能なヒータ16が付設されている
。なお、回転基材12は容器lOの内部に設けられた図
示路の回転装置によってその周回りに回転自在に支持さ
れている。
前記回転基材12は、酸化物超電導体から構成され、具
体的にはA−B−C−D系(ただし、Aは、Y、Sc、
La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd。
体的にはA−B−C−D系(ただし、Aは、Y、Sc、
La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd。
T b、D y、Ho、Er、T m、Y b、L u
等の周期律表I[a族元素のうち1種あるいは2種以上
の元素を示し、BはS r、Ba、Ca、Be、Mg、
Ra等の周期律表na族元素のうち1種あるいは2種以
上を示し、CはCu、 A g、 A u等の周期律表
rb族元素とNbのうちCuあるいはCuを含む2種以
上を示し、DはO,Se。
等の周期律表I[a族元素のうち1種あるいは2種以上
の元素を示し、BはS r、Ba、Ca、Be、Mg、
Ra等の周期律表na族元素のうち1種あるいは2種以
上を示し、CはCu、 A g、 A u等の周期律表
rb族元素とNbのうちCuあるいはCuを含む2種以
上を示し、DはO,Se。
T e、 P o等の周期律表VIb族元素およびF、
C1,Br。
C1,Br。
1等の周期律表VIIb族元素のうち、0あるいは0を
含む2種以上を示す。)のものが用いられる。
含む2種以上を示す。)のものが用いられる。
そして、この酸化物超電導体の各構成元素の組成は、例
えば、Y−Ba−Cu−0系の酸化物高温超電導体の場
合、Y :Ba:Cu:O= 1 :(1〜3 ):(
2〜4):(7−X)とされ、Xは0≦X≦5の範囲と
される。
えば、Y−Ba−Cu−0系の酸化物高温超電導体の場
合、Y :Ba:Cu:O= 1 :(1〜3 ):(
2〜4):(7−X)とされ、Xは0≦X≦5の範囲と
される。
第2図に示す構造のレーザ蒸着装置を使用して第2の超
電導層2bを形成するには、基板ホルダ1夏にCVD法
により第1の超電導層2aが形成された基板1を装着し
て、容器10の内部を酸素雰囲気とし、所定の温度にす
るとともに、回転基材12を回転させる。次いでレーザ
ビーム発射装置9から発射したレーザビームを凹面鏡1
5を介して回転基材12に照射して回転基材12の外周
部を蒸発させ、蒸発原子を基板l上に形成された第1の
超電導層2a上に蒸着させる。このような処理によって
第1の超電導層2aの表面上に第2の超電導層2bを形
成することができる。
電導層2bを形成するには、基板ホルダ1夏にCVD法
により第1の超電導層2aが形成された基板1を装着し
て、容器10の内部を酸素雰囲気とし、所定の温度にす
るとともに、回転基材12を回転させる。次いでレーザ
ビーム発射装置9から発射したレーザビームを凹面鏡1
5を介して回転基材12に照射して回転基材12の外周
部を蒸発させ、蒸発原子を基板l上に形成された第1の
超電導層2a上に蒸着させる。このような処理によって
第1の超電導層2aの表面上に第2の超電導層2bを形
成することができる。
以上のように形成された第2の超電導層2bは、レーザ
蒸着法で形成されたものであるために、緻密で−様な結
晶構造を有している。なお、このようなレーザ蒸着法に
よれば、レーザの出力調節と回転基材12の回転速度の
調節と、回転基材12の温度調節により0.5〜1.0
時間でIgm程度の厚さの超電導層を形成することがで
きる。
蒸着法で形成されたものであるために、緻密で−様な結
晶構造を有している。なお、このようなレーザ蒸着法に
よれば、レーザの出力調節と回転基材12の回転速度の
調節と、回転基材12の温度調節により0.5〜1.0
時間でIgm程度の厚さの超電導層を形成することがで
きる。
このようにして得られた第1図に示した高温超電導材に
あっては、短時間で厚い超電導層を形成することができ
るCVD法によって形成された、十分な厚さを有する第
1の超電導層・2aと、レーザ蒸着法によって形成され
た、緻密で均一な結晶構造を有する第2の超電導層2b
とからなるものであるので、全体として十分な厚さを確
保し、かつ高い臨界電流密度を有するなど、十分な超電
導特性を示すことができる。
あっては、短時間で厚い超電導層を形成することができ
るCVD法によって形成された、十分な厚さを有する第
1の超電導層・2aと、レーザ蒸着法によって形成され
た、緻密で均一な結晶構造を有する第2の超電導層2b
とからなるものであるので、全体として十分な厚さを確
保し、かつ高い臨界電流密度を有するなど、十分な超電
導特性を示すことができる。
なお、以上のように形成された高温超電導材2は、必要
に応じて酸素ガスを含む雰囲気中で熱処理することが好
ましい。この熱処理は、400〜tooo℃程度の温度
において、l−100時間程度加熱することで行う。こ
のような熱処理により、高温超電導体2内の各構成元素
が更に十分に反応しあうことから、高温超電導材2の超
電導特性の向上を図ることができる。また、前記熱処理
時の雰囲気には、酸素ガス以外に、S、Seなどの周期
律表■b族元素のガスまたはF、Cl、Brなどの周期
律表VIIb族元素のガスを含めることもできる。これ
らの元素ガスは、得られた高温超電導体の構成元素の一
部として結晶内部に侵入し、超電導特性の向上に寄与す
るものとなる。また、高温超電導材2が形成された基体
1として、銀あるいは銀合金からなるものを用いれば、
熱処理雰囲気中の酸素が基体1の内部を透過することか
ら、第1の超電導層2aに十分な酸素を供給することが
でき、このようにしても超電導特性を向上させることが
可能となる。
に応じて酸素ガスを含む雰囲気中で熱処理することが好
ましい。この熱処理は、400〜tooo℃程度の温度
において、l−100時間程度加熱することで行う。こ
のような熱処理により、高温超電導体2内の各構成元素
が更に十分に反応しあうことから、高温超電導材2の超
電導特性の向上を図ることができる。また、前記熱処理
時の雰囲気には、酸素ガス以外に、S、Seなどの周期
律表■b族元素のガスまたはF、Cl、Brなどの周期
律表VIIb族元素のガスを含めることもできる。これ
らの元素ガスは、得られた高温超電導体の構成元素の一
部として結晶内部に侵入し、超電導特性の向上に寄与す
るものとなる。また、高温超電導材2が形成された基体
1として、銀あるいは銀合金からなるものを用いれば、
熱処理雰囲気中の酸素が基体1の内部を透過することか
ら、第1の超電導層2aに十分な酸素を供給することが
でき、このようにしても超電導特性を向上させることが
可能となる。
[実施例]
この発明の実施例の高温超電導材を、図示路のCVD装
置と、第2図に示す装置と同等の構成のレーザ蒸着装置
とを用いて製造した。
置と、第2図に示す装置と同等の構成のレーザ蒸着装置
とを用いて製造した。
まず、銀製の基板をCVD装置にセットし、基板の表面
に、アセチルアセトンバリウム、メリメトキシンイット
リウム、ジメトキシ銅の3つの気相源を用いたCVD法
により第1の超電導層を生成して厚さ0.6μ劇の第1
の高温超電導層を形成した。
に、アセチルアセトンバリウム、メリメトキシンイット
リウム、ジメトキシ銅の3つの気相源を用いたCVD法
により第1の超電導層を生成して厚さ0.6μ劇の第1
の高温超電導層を形成した。
次いで、前記第1の超電導層を形成した基板を、レーザ
蒸着装置内の基板ホルダに装着するとともに、回転基材
として円筒状のY +B a*、sc ua、、0 ?
−Xの組成の酸化物超電導体よりなる基材を用い、容器
内を内部圧10−’T orrの雰囲気とした。次に炭
酸ガスレーザビームを発射して前記回転基材に照射する
とともに、回転基材を1回/秒で回転させた。このよう
な操作により回転基材の原子をレーザによって溶融飛散
させて基板表面に設けられている第1の超電導層の上に
厚さ0.2μmの第2の超電導層を形成した。
蒸着装置内の基板ホルダに装着するとともに、回転基材
として円筒状のY +B a*、sc ua、、0 ?
−Xの組成の酸化物超電導体よりなる基材を用い、容器
内を内部圧10−’T orrの雰囲気とした。次に炭
酸ガスレーザビームを発射して前記回転基材に照射する
とともに、回転基材を1回/秒で回転させた。このよう
な操作により回転基材の原子をレーザによって溶融飛散
させて基板表面に設けられている第1の超電導層の上に
厚さ0.2μmの第2の超電導層を形成した。
こうして、全体として厚さ0.8μmの高温超電導材を
得た。以上の工程において、レーザ蒸着装置およびCV
D装置による成膜に要した時間は、それぞれ0.5時間
、0,2時間であった。
得た。以上の工程において、レーザ蒸着装置およびCV
D装置による成膜に要した時間は、それぞれ0.5時間
、0,2時間であった。
この後に、酸素雰囲気中において、900℃に加熱する
熱処理を3時間行って、最終製品の高温超電導材を得た
。
熱処理を3時間行って、最終製品の高温超電導材を得た
。
この超電導材は、
臨界温度(Tc) 92.8に臨界電流密度(
J c) I X 10 ’A/am”を示した。
J c) I X 10 ’A/am”を示した。
なお、比較例として、厚さ0.8μ−の超電導層をCV
D法により形成し、これに前記と同等の条件で熱処理す
ることによって、高温超電導材を製造した。
D法により形成し、これに前記と同等の条件で熱処理す
ることによって、高温超電導材を製造した。
この高温超電導材は、
臨界電流密度(Jc) 4X10’A/cm”(7
7Kにおいて) を示した。
7Kにおいて) を示した。
以上の結果から、本発明の構造を採用することによって
、高い臨界電流密度を有し、厚さも十分な超電導材を製
造できることが判明した。
、高い臨界電流密度を有し、厚さも十分な超電導材を製
造できることが判明した。
[発明め効果]
以上説明したように、本発明の高温超電導材は、成膜時
間の短いCVD法により形成された厚い第1の超電導層
と、レーザ蒸着法により形成され、臨界電流密度が高く
緻密で−様な結晶構造の第2の超電導層とから構成され
ているので、全体として高い臨界電流密度を有するとと
もに、十分な厚さを有する高温超電導材を短時間で製造
できる効果がある。また、本発明によれば厚い超電導層
でも短時間で効率良く形成できる構造であるので、電流
容量の大きな超電導材が短時間で得られる効果もある。
間の短いCVD法により形成された厚い第1の超電導層
と、レーザ蒸着法により形成され、臨界電流密度が高く
緻密で−様な結晶構造の第2の超電導層とから構成され
ているので、全体として高い臨界電流密度を有するとと
もに、十分な厚さを有する高温超電導材を短時間で製造
できる効果がある。また、本発明によれば厚い超電導層
でも短時間で効率良く形成できる構造であるので、電流
容量の大きな超電導材が短時間で得られる効果もある。
第1図は本発明の一実施例を示す断面図であり、第2図
は本発明の実施に用いるレーザ蒸着装置の一例を示す構
成図である。 l・・・・・・基板、 2・・・・・・高温超電導
材、2a・・・・・・第1の超電導層、 2b・・・・・・第2の超電導層。
は本発明の実施に用いるレーザ蒸着装置の一例を示す構
成図である。 l・・・・・・基板、 2・・・・・・高温超電導
材、2a・・・・・・第1の超電導層、 2b・・・・・・第2の超電導層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 A−B−C−D系 (ただし、AはY、Sc、La、Yb、Er、Ho、D
y等の周期律表IIIa族元素のうち1種あるいは2種以
上を示し、BはSr、Ba、Ca等の周期律表IIa族元
素のうち1種あるいは2種以上を示し、CはCu、Ag
、Au等の周期律表 I b族元素とNbのうちCuある
いはCuを含む2種以上を示し、DはO、S、Se等の
周期律表VIb族元素およびF、Cl、Br等の周期律表
VIIb族元素のうちOあるいはOを含む2種以上を示す
。)の高温超電導材であって、 化学蒸着法により形成されたA−B−C−D系の第1の
超電導層と、この第1の超電導層上にレーザ蒸着法によ
り形成されたA−B−C−D系の第2の超電導層とから
なることを特徴とする高温超電導材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62258776A JPH01100817A (ja) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | 高温超電導材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62258776A JPH01100817A (ja) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | 高温超電導材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01100817A true JPH01100817A (ja) | 1989-04-19 |
Family
ID=17324921
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62258776A Pending JPH01100817A (ja) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | 高温超電導材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01100817A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105393065A (zh) * | 2013-03-15 | 2016-03-09 | 卫斯曼·福尔克蒙 | 一种吸收材料以及使用这种材料的太阳能板 |
CN105551681A (zh) * | 2016-02-05 | 2016-05-04 | 上海上创超导科技有限公司 | 一种钡铜氧高温超导涂层导体的多层结构 |
US10844479B2 (en) | 2014-02-21 | 2020-11-24 | Ut-Battelle, Llc | Transparent omniphobic thin film articles |
-
1987
- 1987-10-14 JP JP62258776A patent/JPH01100817A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105393065A (zh) * | 2013-03-15 | 2016-03-09 | 卫斯曼·福尔克蒙 | 一种吸收材料以及使用这种材料的太阳能板 |
CN105393065B (zh) * | 2013-03-15 | 2018-04-27 | 卫斯曼·福尔克蒙 | 一种吸收材料以及使用这种材料的太阳能板 |
US10844479B2 (en) | 2014-02-21 | 2020-11-24 | Ut-Battelle, Llc | Transparent omniphobic thin film articles |
CN105551681A (zh) * | 2016-02-05 | 2016-05-04 | 上海上创超导科技有限公司 | 一种钡铜氧高温超导涂层导体的多层结构 |
CN105551681B (zh) * | 2016-02-05 | 2017-03-29 | 上海上创超导科技有限公司 | 一种钡铜氧高温超导涂层导体的多层结构 |
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