JP7506975B2 - Cleaning composition and cleaning method - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 133
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 128
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 31
- -1 ester compound Chemical class 0.000 claims description 83
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 81
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 61
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 61
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 61
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 61
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 60
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 58
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 51
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims description 41
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 35
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 29
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 26
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 26
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 claims description 24
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 18
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 239000003599 detergent Substances 0.000 claims description 8
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 8
- MUXOBHXGJLMRAB-UHFFFAOYSA-N Dimethyl succinate Chemical compound COC(=O)CCC(=O)OC MUXOBHXGJLMRAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UDSFAEKRVUSQDD-UHFFFAOYSA-N Dimethyl adipate Chemical compound COC(=O)CCCCC(=O)OC UDSFAEKRVUSQDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 2,2-diethylpropanedioate Chemical compound CCC(CC)(C([O-])=O)C([O-])=O LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- XTDYIOOONNVFMA-UHFFFAOYSA-N dimethyl pentanedioate Chemical compound COC(=O)CCCC(=O)OC XTDYIOOONNVFMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LOMVENUNSWAXEN-UHFFFAOYSA-N Methyl oxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)OC LOMVENUNSWAXEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N dimethyl malonate Chemical compound COC(=O)CC(=O)OC BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 15
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 15
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 10
- XDOFQFKRPWOURC-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O XDOFQFKRPWOURC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 235000019864 coconut oil Nutrition 0.000 description 8
- 239000003240 coconut oil Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 7
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 6
- 235000015278 beef Nutrition 0.000 description 5
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- 239000003760 tallow Substances 0.000 description 5
- MHPUGCYGQWGLJL-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-hexanoic acid Chemical compound CC(C)CCCC(O)=O MHPUGCYGQWGLJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAOABCKPVCUNKO-UHFFFAOYSA-N 8-methyl Nonanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCC(O)=O OAOABCKPVCUNKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N heptadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N heptanoic acid Chemical compound CCCCCCC(O)=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- HGEMCUOAMCILCP-UHFFFAOYSA-N isotridecane Natural products CCCCCCCCCCC(C)C HGEMCUOAMCILCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SIOLDWZBFABPJU-UHFFFAOYSA-N isotridecanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCC(O)=O SIOLDWZBFABPJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OYHQOLUKZRVURQ-IXWMQOLASA-N linoleic acid Natural products CCCCC\C=C/C\C=C\CCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-IXWMQOLASA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 4
- 239000003346 palm kernel oil Substances 0.000 description 4
- 235000019865 palm kernel oil Nutrition 0.000 description 4
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N pentadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000003441 saturated fatty acids Nutrition 0.000 description 4
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical class 0.000 description 4
- IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N tridecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCC IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SZHOJFHSIKHZHA-UHFFFAOYSA-N tridecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(O)=O SZHOJFHSIKHZHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 2-hexoxyethanol Chemical compound CCCCCCOCCO UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SGVYKUFIHHTIFL-UHFFFAOYSA-N 2-methylnonane Chemical compound CCCCCCCC(C)C SGVYKUFIHHTIFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HDLBOHGQTWKFRG-CVBJKYQLSA-N 3-azaniumylpropylazanium;(z)-octadec-9-enoate Chemical compound NCCCN.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O HDLBOHGQTWKFRG-CVBJKYQLSA-N 0.000 description 3
- OEOIWYCWCDBOPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-heptanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCC(O)=O OEOIWYCWCDBOPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical group CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N heptane - octane Natural products CCCCCCCCCCCCCCC YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KYYWBEYKBLQSFW-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O KYYWBEYKBLQSFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VKPSKYDESGTTFR-UHFFFAOYSA-N isododecane Natural products CC(C)(C)CC(C)CC(C)(C)C VKPSKYDESGTTFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 3
- 229940049964 oleate Drugs 0.000 description 3
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZTUXEFFFLOVXQE-UHFFFAOYSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCC(O)=O ZTUXEFFFLOVXQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 3
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical group NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 3
- BITHHVVYSMSWAG-KTKRTIGZSA-N (11Z)-icos-11-enoic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCC(O)=O BITHHVVYSMSWAG-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 2
- GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1 GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZONJATNKKGGVSU-UHFFFAOYSA-N 14-methylpentadecanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCC(O)=O ZONJATNKKGGVSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCDAVJCKGYOYNI-UHFFFAOYSA-N 18-methylnonadecanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UCDAVJCKGYOYNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940043268 2,2,4,4,6,8,8-heptamethylnonane Drugs 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BANXPJUEBPWEOT-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-Pentadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(C)C BANXPJUEBPWEOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XZOYHFBNQHPJRQ-UHFFFAOYSA-N 7-methyloctanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCC(O)=O XZOYHFBNQHPJRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYHQOLUKZRVURQ-UHFFFAOYSA-N 9,12-Octadecadienoic Acid Chemical compound CCCCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSAJTRPXXNCHGB-UHFFFAOYSA-N 9-methyl-decanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCC(O)=O VSAJTRPXXNCHGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIPTZBYHWFNYFB-UHFFFAOYSA-N Anteisomyristic acid Chemical compound CCC(C)CCCCCCCCCC(O)=O JIPTZBYHWFNYFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 2
- OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N Linoleic acid Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N 0.000 description 2
- 239000004907 Macro-emulsion Substances 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N Propionic acid Chemical compound CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N Sorbitan trioleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N 0.000 description 2
- 239000004147 Sorbitan trioleate Substances 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HABLENUWIZGESP-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCC(O)=O HABLENUWIZGESP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLGSIWNFEGRXDF-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCC(O)=O WLGSIWNFEGRXDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940108623 eicosenoic acid Drugs 0.000 description 2
- BITHHVVYSMSWAG-UHFFFAOYSA-N eicosenoic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCC(O)=O BITHHVVYSMSWAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 2
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N glutaric acid Chemical compound OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 2
- JYDNQSLNPKOEII-CFYXSCKTSA-N hexadec-9-enoic acid;(z)-hexadec-9-enoic acid Chemical compound CCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O.CCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O JYDNQSLNPKOEII-CFYXSCKTSA-N 0.000 description 2
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHXTZGXYQYMODD-UHFFFAOYSA-N icosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O NHXTZGXYQYMODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IIUXHTGBZYEGHI-UHFFFAOYSA-N isoheptadecanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCC(O)=O IIUXHTGBZYEGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUBZATZOEPUUQF-UHFFFAOYSA-N isononane Chemical compound CCCCCCC(C)C ZUBZATZOEPUUQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOCYQVNGROEVLU-UHFFFAOYSA-N isopentadecanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCC(O)=O ZOCYQVNGROEVLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CJBFZKZYIPBBTO-UHFFFAOYSA-N isotetradecane Natural products CCCCCCCCCCCC(C)C CJBFZKZYIPBBTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000020778 linoleic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000010721 machine oil Substances 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 229940094933 n-dodecane Drugs 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YZAZXIUFBCPZGB-KVVVOXFISA-N octadec-9-enoic acid;(z)-octadec-9-enoic acid Chemical compound CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O YZAZXIUFBCPZGB-KVVVOXFISA-N 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RQFLGKYCYMMRMC-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O RQFLGKYCYMMRMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ACXGEQOZKSSXKV-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCC(O)=O ACXGEQOZKSSXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 235000019337 sorbitan trioleate Nutrition 0.000 description 2
- 229960000391 sorbitan trioleate Drugs 0.000 description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 2
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- VSLOIHHRIJJNOM-YSMBQZINSA-N tetradec-9-enoic acid;(z)-tetradec-9-enoic acid Chemical compound CCCCC=CCCCCCCCC(O)=O.CCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O VSLOIHHRIJJNOM-YSMBQZINSA-N 0.000 description 2
- BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N tetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(O)=O TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- CUNWUEBNSZSNRX-RKGWDQTMSA-N (2r,3r,4r,5s)-hexane-1,2,3,4,5,6-hexol;(z)-octadec-9-enoic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO.OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O CUNWUEBNSZSNRX-RKGWDQTMSA-N 0.000 description 1
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- LPMBTLLQQJBUOO-KTKRTIGZSA-N (z)-n,n-bis(2-hydroxyethyl)octadec-9-enamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)N(CCO)CCO LPMBTLLQQJBUOO-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- FRAOOIFTSMORED-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethyl-2-(1-phenylethyl)benzene Chemical compound C=1C(C)=CC=C(C)C=1C(C)C1=CC=CC=C1 FRAOOIFTSMORED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical compound CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNXZHVUCNYMNOS-UHFFFAOYSA-N 1-butylpyrrolidin-2-one Chemical compound CCCCN1CCCC1=O BNXZHVUCNYMNOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- QJRRBVNPIKYRQJ-UHFFFAOYSA-N 10-methylundecanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCCC(O)=O QJRRBVNPIKYRQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYHKNCXZYYTLRG-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazole-2-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=NC=CN1 XYHKNCXZYYTLRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCLJODPNBNEBKW-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,8,8-heptamethylnonane Chemical compound CC(C)(C)CC(C)CC(C)(C)CC(C)(C)C VCLJODPNBNEBKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFHGNGNLIWGTTR-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trimethyldecane Chemical compound CCCCCCC(C)C(C)C(C)C YFHGNGNLIWGTTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSSUTSOGIQHRIU-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylundecane Chemical compound CCCCCCCCC(C)C(C)C QSSUTSOGIQHRIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNPVJWYWYZMPDS-UHFFFAOYSA-N 2-methyldecane Chemical compound CCCCCCCCC(C)C CNPVJWYWYZMPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTIQERGVDQYVAK-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanoic acid Chemical compound CC(C)C(O)=O.CC(C)C(O)=O OTIQERGVDQYVAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTJOHISYCKPIMT-UHFFFAOYSA-N 2-methylundecane Chemical compound CCCCCCCCCC(C)C GTJOHISYCKPIMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 3-Methylbutanoic acid Natural products CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100322581 Caenorhabditis elegans add-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100322583 Caenorhabditis elegans add-2 gene Proteins 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical class C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- YEJSPQZHMWGIGP-YFKPBYRVSA-N L-glutamic acid, dimethyl ester Chemical compound COC(=O)CC[C@H](N)C(=O)OC YEJSPQZHMWGIGP-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000305 Nylon 6,10 Polymers 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- IJCWFDPJFXGQBN-RYNSOKOISA-N [(2R)-2-[(2R,3R,4S)-4-hydroxy-3-octadecanoyloxyoxolan-2-yl]-2-octadecanoyloxyethyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC IJCWFDPJFXGQBN-RYNSOKOISA-N 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- YBCVMFKXIKNREZ-UHFFFAOYSA-N acoh acetic acid Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O YBCVMFKXIKNREZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical group 0.000 description 1
- 125000005192 alkyl ethylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229960002255 azelaic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002511 behenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N beta-methyl-butyric acid Natural products CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000861 blow drying Methods 0.000 description 1
- OVYQSRKFHNKIBM-UHFFFAOYSA-N butanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O.OC(=O)CCC(O)=O OVYQSRKFHNKIBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PASOAYSIZAJOCT-UHFFFAOYSA-N butanoic acid Chemical compound CCCC(O)=O.CCCC(O)=O PASOAYSIZAJOCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000011280 coal tar Substances 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003493 decenyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfoxide Natural products CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEJSPQZHMWGIGP-UHFFFAOYSA-N dl-glutamic acid dimethyl ester Natural products COC(=O)CCC(N)C(=O)OC YEJSPQZHMWGIGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXWAIGKJAVEJDQ-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid;tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCC(O)=O BXWAIGKJAVEJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005066 dodecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- XVVLAOSRANDVDB-UHFFFAOYSA-N formic acid Chemical compound OC=O.OC=O XVVLAOSRANDVDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000755 henicosyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XEUHNWODXVYLFD-UHFFFAOYSA-N heptanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O.OC(=O)CCCCCC(O)=O XEUHNWODXVYLFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- YVSCCMNRWFOKDU-UHFFFAOYSA-N hexanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O.OC(=O)CCCCC(O)=O YVSCCMNRWFOKDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHWAQXOSHHKCFK-UHFFFAOYSA-N hexylcyclohexane Chemical compound CCCCCCC1CCCCC1 QHWAQXOSHHKCFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KUVMKLCGXIYSNH-UHFFFAOYSA-N isopentadecane Natural products CCCCCCCCCCCCC(C)C KUVMKLCGXIYSNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000005555 metalworking Methods 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UKNVXIMLHBKVAE-UHFFFAOYSA-N n'-hexadecylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCNCCCN UKNVXIMLHBKVAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXYUWQFEDOQSQY-UHFFFAOYSA-N n'-octadecylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCNCCCN DXYUWQFEDOQSQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSSZZOVUXFLWCQ-UHFFFAOYSA-N n'-tetradecylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCNCCCN SSSZZOVUXFLWCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001196 nonadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005064 octadecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- TWHMVKPVFOOAMY-UHFFFAOYSA-N octanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O.OC(=O)CCCCCCC(O)=O TWHMVKPVFOOAMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000014593 oils and fats Nutrition 0.000 description 1
- BOWVQLFMWHZBEF-KTKRTIGZSA-N oleoyl ethanolamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)NCCO BOWVQLFMWHZBEF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- NIFHFRBCEUSGEE-UHFFFAOYSA-N oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O.OC(=O)C(O)=O NIFHFRBCEUSGEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- HUPQYPMULVBQDL-UHFFFAOYSA-N pentanoic acid Chemical compound CCCCC(O)=O.CCCCC(O)=O HUPQYPMULVBQDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- HJSRRUNWOFLQRG-UHFFFAOYSA-N propanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O.OC(=O)CC(O)=O HJSRRUNWOFLQRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 229960005078 sorbitan sesquioleate Drugs 0.000 description 1
- 239000001589 sorbitan tristearate Substances 0.000 description 1
- 235000011078 sorbitan tristearate Nutrition 0.000 description 1
- 229960004129 sorbitan tristearate Drugs 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 125000005063 tetradecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005040 tridecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 125000005065 undecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 235000015112 vegetable and seed oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000008158 vegetable oil Substances 0.000 description 1
- 239000003981 vehicle Substances 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
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- Detergent Compositions (AREA)
Description
本発明は、洗浄剤組成物及び当該洗浄剤組成物を用いた洗浄方法に関する。 The present invention relates to a cleaning composition and a cleaning method using the cleaning composition.
従来、自動車・車両関連部品、機械部品、電気・電子部品、光学機器部品等の各種工業分野において扱われる部品の加工の際、（ｉ）鉱物油等を主体とする不水溶性加工油、（ｉｉ）鉱物油等に界面活性剤を加えて水に分散させた水溶性加工油、（ｉｉｉ）研磨剤等の微粒子などが使用されている。 Conventionally, when processing parts used in various industrial fields such as automobile and vehicle-related parts, machine parts, electrical and electronic parts, and optical equipment parts, (i) water-insoluble processing oils mainly composed of mineral oils, etc., (ii) water-soluble processing oils in which a surfactant is added to mineral oils, etc. and dispersed in water, and (iii) fine particles of abrasives, etc. have been used.
切削や研削加工などを中心に水溶性加工油が多く使用されているが、複数の加工工程を経て製造される部品は、工程毎に使用される加工油が異なることがある。加工後の部品の表面には不水溶性加工油、水溶性加工油、加工屑等の様々な汚れが混ざった状態で付着している場合が多い。
また、石油精製プラントや化学プラント等の各種工場の配管や装置；自動車や産業機械等を解体した部品；日常生活で使用される金属製品、樹脂製品、及び繊維製品等の種々の物品等にも、グリース、プラスチック、機械油、コールタール、粘土、砂、脂肪質等の様々な汚れが複合して付着している。
Water-soluble processing oils are often used, mainly in cutting and grinding processes, but parts that are manufactured through multiple processing steps may use different processing oils for each step. After processing, the surface of the parts often contains a mixture of various contaminants such as water-insoluble processing oils, water-soluble processing oils, and processing debris.
In addition, various types of contaminants such as grease, plastic, machine oil, coal tar, clay, sand, and fatty substances adhere in combination to the pipes and equipment of various factories such as oil refineries and chemical plants; dismantled parts of automobiles and industrial machinery; and various articles used in daily life such as metal products, resin products, and textile products.
不水溶性加工油や水溶性加工油などの有機や無機の様々な汚れが付着した部品を洗浄する場合には、Ｗ／Ｏ型マクロエマルションを形成した洗浄剤を用いることが知られている。
例えば、特許文献１には、沸点１３０～３５０℃の炭化水素（Ａ）を２０～６０質量部と、沸点１３０～３５０℃の水に微溶であって、水酸基を有しない極性有機化合物（Ｂ）を４０～８０質量部と、水（Ｃ）を前記炭化水素（Ａ）および前記水酸基を有しない極性有機化合物（Ｂ）の合計１００質量部に対し１．０～１００質量部の割合で含み、静置の際、前記炭化水素（Ａ）と前記水酸基を有しない極性有機化合物（Ｂ）とが相溶した有機相と前記水（Ｃ）相とに２相分離し、洗浄の際、物理力の付加によりＷ／Ｏマクロエマルションを形成することにより、有機から無機までの幅広い汚れが洗浄可能であることを特徴とする洗浄剤組成物が開示されている。
When cleaning parts contaminated with various organic or inorganic contaminants such as water-insoluble or water-soluble processing oils, it is known to use a cleaning agent that forms a W/O type macroemulsion.
For example, Patent Document 1 discloses a cleaning agent composition which contains 20 to 60 parts by mass of a hydrocarbon (A) having a boiling point of 130 to 350° C., 40 to 80 parts by mass of a polar organic compound (B) having no hydroxyl group and which is slightly soluble in water having a boiling point of 130 to 350° C., and 1.0 to 100 parts by mass of water (C) per 100 parts by mass of the total of the hydrocarbon (A) and the polar organic compound (B) having no hydroxyl group, and which separates into two phases, an organic phase in which the hydrocarbon (A) and the polar organic compound (B) having no hydroxyl group are dissolved, and the water (C) phase, when allowed to stand, and which forms a W/O macroemulsion by the application of a physical force during cleaning, thereby enabling cleaning of a wide range of soils, from organic to inorganic.
しかしながら、特許文献１に記載の洗浄剤組成物において、ステンレスの深絞り加工等の金属加工によって生じる、該金属表面に焼き付いた汚れ等の難洗浄性の汚れの洗浄性については、さらなる検討の余地がある。 However, there is room for further study regarding the cleaning ability of the cleaning composition described in Patent Document 1 to remove stains that are difficult to clean, such as stains that are baked onto metal surfaces and are produced by metal processing such as deep drawing of stainless steel.
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、ステンレスの深絞り加工等の金属加工によって生じる、該金属表面に焼き付いた汚れの洗浄性に優れる洗浄剤組成物、及び当該洗浄剤組成物を用いた洗浄方法を提供することを課題とする。 The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and aims to provide a cleaning composition that has excellent cleaning properties for stains that are baked onto metal surfaces and are generated during metal processing such as deep drawing of stainless steel, and a cleaning method that uses the cleaning composition.
上記の課題を解決するために、本発明は以下の構成を採用した。
すなわち、本発明の第１の態様は、炭化水素系溶剤（Ａ）と、界面活性剤（Ｂ）と、エステル化合物（Ｃ）と、水（Ｗ）とを含有し、前記界面活性剤（Ｂ）は、脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）及びＮ－アルキルトリメチレンジアミン脂肪酸塩（Ｂ２）を含む、洗浄剤組成物である。
In order to solve the above problems, the present invention employs the following configuration.
That is, a first aspect of the present invention is a cleaning agent composition comprising a hydrocarbon solvent (A), a surfactant (B), an ester compound (C), and water (W), wherein the surfactant (B) contains a fatty acid alkanolamide (B1) and an N-alkyltrimethylenediamine fatty acid salt (B2).
本発明の第１の態様に係る洗浄剤組成物において、エステル化合物（Ｃ）は、下記一般式（Ｃ－１）で表される化合物（Ｃ１）を含んでいてもよい。 In the cleaning composition according to the first aspect of the present invention, the ester compound (C) may contain a compound (C1) represented by the following general formula (C-1):
本発明の第１の態様に係る洗浄剤組成物において、Ｎ－アルキルトリメチレンジアミン脂肪酸塩（Ｂ２）は、下記一般式（Ｂ２－１）で表される化合物であってもよい。 In the cleaning composition according to the first aspect of the present invention, the N-alkyltrimethylenediamine fatty acid salt (B2) may be a compound represented by the following general formula (B2-1):
本発明の第１の態様に係る洗浄剤組成物において、炭化水素系溶剤（Ａ）は、飽和炭化水素系溶剤であってもよい。 In the cleaning composition according to the first aspect of the present invention, the hydrocarbon solvent (A) may be a saturated hydrocarbon solvent.
本発明の第１の態様に係る洗浄剤組成物は、金属加工によって被洗浄物の表面に焼き付いた汚れを除去するための洗浄剤として用いてもよい。 The cleaning composition according to the first aspect of the present invention may be used as a cleaning agent for removing stains that have been baked onto the surface of an object to be cleaned due to metal processing.
本発明の第２の態様は、前記第１の態様に係る洗浄剤組成物を用いて、被洗浄物を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄剤組成物が付着した被洗浄物を、前記炭化水素系溶剤（Ａ）、前記界面活性剤（Ｂ）及び前記エステル化合物（Ｃ）を含有するすすぎ液、前記炭化水素系溶剤（Ａ）及び前記エステル化合物（Ｃ）からなるすすぎ液、又は、前記炭化水素系溶剤（Ａ）からなるすすぎ液ですすぐすすぎ工程と、前記すすぎ工程において、前記洗浄剤組成物中の水（Ｗ）が混入したすすぎ液から、少なくとも一部の水（Ｗ）を系外に排出する排出工程とを有する、洗浄方法である。 The second aspect of the present invention is a cleaning method comprising: a cleaning step of cleaning an object to be cleaned using the cleaning composition according to the first aspect; a rinsing step of rinsing the object to which the cleaning composition is attached with a rinsing liquid containing the hydrocarbon solvent (A), the surfactant (B) and the ester compound (C), a rinsing liquid consisting of the hydrocarbon solvent (A) and the ester compound (C), or a rinsing liquid consisting of the hydrocarbon solvent (A); and a discharging step of discharging at least a part of the water (W) from the rinsing liquid containing the water (W) in the cleaning composition to the outside of the system during the rinsing step.
本発明によれば、ステンレスの深絞り加工等の金属加工によって生じる、該金属表面に焼き付いた汚れの洗浄性に優れる洗浄剤組成物及び当該洗浄剤組成物を用いた洗浄方法を提供することができる。 The present invention provides a cleaning agent composition that is excellent in cleaning stains that are baked onto metal surfaces and are generated by metal processing such as deep drawing of stainless steel, and a cleaning method using the cleaning agent composition.
（洗浄剤組成物）
本実施形態の洗浄剤組成物は、炭化水素系溶剤（Ａ）と、界面活性剤（Ｂ）と、エステル化合物（Ｃ）と、水（Ｗ）とを含有する。
(Cleaning agent composition)
The cleaning composition of the present embodiment contains a hydrocarbon solvent (A), a surfactant (B), an ester compound (C), and water (W).
＜炭化水素系溶剤（Ａ）＞
本実施形態の洗浄剤組成物における炭化水素系溶剤（Ａ）（以下、（Ａ）成分ともいう）としては、脂肪族飽和炭化水素系溶剤、脂肪族不飽和炭化水素系溶剤（オレフィン系炭化水素）、脂環式炭化水素系溶剤（ナフテン系炭化水素）、芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。
該脂肪族飽和炭化水素系溶剤は、直鎖状の飽和炭化水素系溶剤（ノルマルパラフィン系炭化水素）であっても、分岐鎖状の飽和炭化水素系溶剤（イソパラフィン系炭化水素）であってもよい。
<Hydrocarbon Solvent (A)>
Examples of the hydrocarbon solvent (A) (hereinafter also referred to as component (A)) in the cleaning agent composition of this embodiment include aliphatic saturated hydrocarbon solvents, aliphatic unsaturated hydrocarbon solvents (olefinic hydrocarbons), alicyclic hydrocarbon solvents (naphthenic hydrocarbons), and aromatic hydrocarbon solvents.
The aliphatic saturated hydrocarbon solvent may be a straight-chain saturated hydrocarbon solvent (normal paraffin hydrocarbon) or a branched-chain saturated hydrocarbon solvent (isoparaffin hydrocarbon).
直鎖状の飽和炭化水素系溶剤（ノルマルパラフィン系炭化水素）としては、炭素原子数７～２２の直鎖状の飽和炭化水素系溶剤（ノルマルパラフィン系炭化水素）が好ましく、炭素原子数７～１６の直鎖状の飽和炭化水素系溶剤（ノルマルパラフィン系炭化水素）がより好ましく、炭素原子数９～１５の直鎖状の飽和炭化水素系溶剤（ノルマルパラフィン系炭化水素）がさらに好ましい。
好適な具体例としては、ｎ－ノナン、ｎ－デカン、ｎ－ウンデカン、ｎ－ドデカン、ｎ－トリデカン、ｎ－テトラデカン、ｎ－ペンタデカン、ｎ－ヘキサデカン等が挙げられ、その中でも、ｎ－デカン、ｎ－ウンデカン、ｎ－ドデカン、ｎ－トリデカンがより好ましい。
As the linear saturated hydrocarbon solvent (normal paraffin hydrocarbon), a linear saturated hydrocarbon solvent (normal paraffin hydrocarbon) having 7 to 22 carbon atoms is preferable, a linear saturated hydrocarbon solvent (normal paraffin hydrocarbon) having 7 to 16 carbon atoms is more preferable, and a linear saturated hydrocarbon solvent (normal paraffin hydrocarbon) having 9 to 15 carbon atoms is even more preferable.
Specific preferred examples include n-nonane, n-decane, n-undecane, n-dodecane, n-tridecane, n-tetradecane, n-pentadecane, and n-hexadecane, and among these, n-decane, n-undecane, n-dodecane, and n-tridecane are more preferred.
分岐鎖状の飽和炭化水素系溶剤としては、炭素原子数７～２２の分岐鎖状の飽和炭化水素系溶剤（イソパラフィン系炭化水素）が好ましく、炭素原子数７～１６の分岐鎖状の飽和炭化水素系溶剤（イソパラフィン系炭化水素）がより好ましく、炭素原子数９～１５の分岐鎖状の飽和炭化水素系溶剤（イソパラフィン系炭化水素）がさらに好ましい。
好適な具体例としては、イソノナン、イソデカン、イソウンデカン、イソドデカン（２，２，４，６，６－ペンタメチルヘプタン等）、イソトリデカン（２，３，４－トリメチルデカン、２，３－ジメチルウンデカン、２－メチルドデカン等）、イソテトラデカン、イソヘキサデカン（２，２，４，４，６，８，８－ヘプタメチルノナン等）、イソオクタデカン（２－メチルヘプタデカン）等が挙げられる。
As the branched-chain saturated hydrocarbon solvent, a branched-chain saturated hydrocarbon solvent having 7 to 22 carbon atoms (isoparaffinic hydrocarbon) is preferable, a branched-chain saturated hydrocarbon solvent having 7 to 16 carbon atoms (isoparaffinic hydrocarbon) is more preferable, and a branched-chain saturated hydrocarbon solvent having 9 to 15 carbon atoms (isoparaffinic hydrocarbon) is even more preferable.
Preferred specific examples include isononane, isodecane, isoundecane, isododecane (2,2,4,6,6-pentamethylheptane, etc.), isotridecane (2,3,4-trimethyldecane, 2,3-dimethylundecane, 2-methyldodecane, etc.), isotetradecane, isohexadecane (2,2,4,4,6,8,8-heptamethylnonane, etc.), isooctadecane (2-methylheptadecane), and the like.
環式炭化水素系溶剤（ナフテン系炭化水素）として、具体的には、デカヒドロナフタレン、ヘキシルシクロヘキサン等が挙げられる。
芳香族炭化水素系溶剤として、具体的には、１，２，４－トリメチルベンゼン、１，４－ジメチル－２－（１－フェニルエチル）ベンゼン等が挙げられる。
Specific examples of cyclic hydrocarbon solvents (naphthenic hydrocarbons) include decahydronaphthalene and hexylcyclohexane.
Specific examples of aromatic hydrocarbon solvents include 1,2,4-trimethylbenzene and 1,4-dimethyl-2-(1-phenylethyl)benzene.
本実施形態の洗浄剤組成物における（Ａ）成分は、上記の中でも、脂肪族飽和炭化水素系溶剤が好ましく、直鎖状の脂肪族飽和炭化水素系溶剤（ノルマルパラフィン系炭化水素）がより好ましい。 Of the above, component (A) in the cleaning composition of this embodiment is preferably an aliphatic saturated hydrocarbon solvent, and more preferably a linear aliphatic saturated hydrocarbon solvent (normal paraffin hydrocarbon).
本実施形態の洗浄剤組成物において、（Ａ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 In the cleaning composition of this embodiment, component (A) may be used alone or in combination of two or more types.
本実施形態の洗浄剤組成物における（Ａ）成分の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、１０質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることがより好ましく、３０質量％以上であることがさらに好ましい。
一方で、（Ａ）成分の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、９０質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることがさらに好ましい。
The content of the component (A) in the cleaning composition of the present embodiment is preferably 10 mass % or more, more preferably 20 mass % or more, and further preferably 30 mass % or more, relative to 100 mass % of the total amount of the cleaning composition.
On the other hand, the content of the component (A) is preferably 90% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, and even more preferably 70% by mass or less, relative to 100% by mass of the total amount of the cleaning composition.
本実施形態における（Ａ）成分の含有量は、例えば、１０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以上７０質量％以下であることがさらに好ましい。 In this embodiment, the content of component (A) is, for example, preferably 10% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or more and 70% by mass or less.
（Ａ）成分の含有量が上記の好ましい範囲の下限値以上であれば、不水溶性加工油の洗浄性がより向上する。
（Ａ）成分の含有量が上記の好ましい範囲の上限値以下であれば、水溶性加工油や微粒子の洗浄性がより向上する。
When the content of the component (A) is at least the lower limit of the above preferred range, the cleanability of the water-insoluble processing oil is further improved.
When the content of component (A) is equal to or less than the upper limit of the above-mentioned preferred range, the cleaning properties for water-soluble processing oils and fine particles are further improved.
＜界面活性剤（Ｂ）＞
本実施形態の洗浄剤組成物における界面活性剤（Ｂ）（以下、（Ｂ）成分ともいう）は、脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）及びＮ－アルキルトリメチレンジアミン脂肪酸塩（Ｂ２）を含む。
<Surfactant (B)>
The surfactant (B) (hereinafter, also referred to as component (B)) in the cleaning composition of this embodiment contains a fatty acid alkanolamide (B1) and an N-alkyltrimethylenediamine fatty acid salt (B2).
≪脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）≫
本実施形態の洗浄剤組成物における脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）（以下、（Ｂ１）成分ともいう）は、例えば、脂肪酸とアルカノールアミンとを反応させることにより得ることができる。
<Fatty acid alkanolamide (B1)>
The fatty acid alkanolamide (B1) (hereinafter, also referred to as component (B1)) in the cleaning composition of this embodiment can be obtained, for example, by reacting a fatty acid with an alkanolamine.
・脂肪酸
脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）の原料として使用される脂肪酸としては、炭素原子数７～２２の脂肪酸が好ましく、炭素原子数８～２０の脂肪酸がより好ましい。
好適な具体例としては、ｎ－ヘプタン酸、ｎ－オクタン酸（カプリル酸）、ｎ－ノナン酸、ｎ－デカン酸（カプリン酸）、ｎ－ウンデカン酸、ｎ－ドデカン酸（ラウリン酸）、ｎ－トリデカン酸、ｎ－テトラデカン酸（ミリスチン酸）、ｎ－ペンタデカン酸、ｎ－ヘキサデカン酸（パルミチン酸）、ｎ－ヘプタデカン酸、ｎ－オクタデカン酸（ステアリン酸）、ｎ－イコサン酸（アラキジン酸）等の直鎖状の飽和脂肪酸；イソヘプタン酸、イソオクタン酸、イソノナン酸、イソデカン酸、イソウンデカン酸、イソドデカン酸、イソトリデカン酸、イソテトラデカン酸、イソペンタデカン酸、イソヘキサデカン酸、イソヘプタデカン酸、イソオクタデカン酸、イソイコサン酸等の分岐鎖状の飽和脂肪酸；９－テトラデセン酸（ミリストレイン酸）、９－ヘキサデセン酸（パルミトレイン酸）、９－オクタデセン酸（オレイン酸）、エイコセン酸、リノール酸（９，１２－オクタデカジエン酸）等の不飽和脂肪酸これらの混合物；これらの脂肪酸を１種以上含む天然由来の脂肪酸（例えば、牛脂、ヤシ油など）等が挙げられる。
Fatty Acids The fatty acids used as raw materials for the fatty acid alkanolamide (B1) are preferably fatty acids having 7 to 22 carbon atoms, and more preferably fatty acids having 8 to 20 carbon atoms.
Specific preferred examples of the fatty acids include linear saturated fatty acids such as n-heptanoic acid, n-octanoic acid (caprylic acid), n-nonanoic acid, n-decanoic acid (capric acid), n-undecanoic acid, n-dodecanoic acid (lauric acid), n-tridecanoic acid, n-tetradecanoic acid (myristic acid), n-pentadecanoic acid, n-hexadecanoic acid (palmitic acid), n-heptadecanoic acid, n-octadecanoic acid (stearic acid), and n-icosanoic acid (arachidic acid); isoheptanoic acid, isooctanoic acid, isononanoic acid, isodecanoic acid, isoundecanoic acid, and iso-octanoic acid. Examples of branched-chain saturated fatty acids include dodecanoic acid, isotridecanoic acid, isotetradecanoic acid, isopentadecanoic acid, isohexadecanoic acid, isoheptadecanoic acid, isooctadecanoic acid, and isoicosanoic acid; unsaturated fatty acids such as 9-tetradecenoic acid (myristoleic acid), 9-hexadecenoic acid (palmitoleic acid), 9-octadecenoic acid (oleic acid), eicosenoic acid, and linoleic acid (9,12-octadecadienoic acid); and mixtures of these unsaturated fatty acids; and naturally occurring fatty acids containing one or more of these fatty acids (for example, beef tallow, coconut oil, etc.).
・アルカノールアミン
脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）の原料として使用されるアルカノールアミンとしては、アルカン骨格にヒドロキシ基とアミノ基とを持つ化合物であれば特に限定されず、例えば、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モノイソ－プロパノールアミン、これらの混合物等が挙げられる。
Alkanolamine The alkanolamine used as a raw material for the fatty acid alkanolamide (B1) is not particularly limited as long as it is a compound having a hydroxy group and an amino group in an alkane skeleton, and examples thereof include diethanolamine, monoethanolamine, monoisopropanolamine, and mixtures thereof.
上記脂肪酸とアルカノールアミンとを反応させることにより得られる脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）としては、ドデカン酸（ラウリン酸）モノエタノールアミド、ドデカン酸ジエタノールアミド、オクタデカン酸ジエタノールアミド、オクタデカン酸モノエタノールアミド、オレイン酸ジエタノールアミド、オレイン酸モノエタノールアミド、ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド、ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド、テトラデカン酸（ミリスチン酸）ジエタノールアミド、テトラデカン酸モノエタノールアミド、ドデカン酸テトラデカン酸ジエタノールアミド、ヘキサデカン酸（パルミチン酸）ジエタノールアミド、ヘキサデカン酸モノエタノールアミド、ドデカン酸イソプロパノールアミド、イソ－オクタデカン酸ジエタノールアミド、イソ－オクタデカン酸モノエタノールアミド、パーム核油脂肪酸ジエタノールアミド、パーム核油脂肪酸モノエタノールアミド等を挙げることができる。 Examples of fatty acid alkanolamides (B1) obtained by reacting the above fatty acids with alkanolamines include dodecanoic acid (lauric acid) monoethanolamide, dodecanoic acid diethanolamide, octadecanoic acid diethanolamide, octadecanoic acid monoethanolamide, oleic acid diethanolamide, oleic acid monoethanolamide, coconut oil fatty acid diethanolamide, coconut oil fatty acid monoethanolamide, tetradecanoic acid (myristic acid) diethanolamide, tetradecanoic acid monoethanolamide, dodecanoic acid tetradecanoic acid diethanolamide, hexadecanoic acid (palmitic acid) diethanolamide, hexadecanoic acid monoethanolamide, dodecanoic acid isopropanolamide, iso-octadecanoic acid diethanolamide, iso-octadecanoic acid monoethanolamide, palm kernel oil fatty acid diethanolamide, palm kernel oil fatty acid monoethanolamide, etc.
本実施形態の洗浄剤組成物における脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）としては、上記の中でも、入手の容易さの点から、ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド、ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド、パーム核油脂肪酸ジエタノールアミド、パーム核油脂肪酸モノエタノールアミドが好ましく、ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミドがより好ましい。 As the fatty acid alkanolamide (B1) in the cleaning composition of this embodiment, among the above, coconut oil fatty acid diethanolamide, coconut oil fatty acid monoethanolamide, palm kernel oil fatty acid diethanolamide, and palm kernel oil fatty acid monoethanolamide are preferred from the viewpoint of ease of availability, with coconut oil fatty acid diethanolamide being more preferred.
上記脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）の製造方法としては、例えば、所定量の脂肪酸に対して２倍モル量のアルカノールアミン（例えば、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、又はモノイソ－プロパノールアミン）を添加し、窒素気流下で加熱、脱水縮合させる方法を用いることができる。なお、該脂肪酸は、１種単独で用いてもよいし、２種以上の混合物を用いてもよい。 As a method for producing the fatty acid alkanolamide (B1), for example, a method can be used in which twice the molar amount of an alkanolamine (e.g., diethanolamine, monoethanolamine, or monoiso-propanolamine) is added to a predetermined amount of fatty acid, and the mixture is heated under a nitrogen stream to cause dehydration condensation. The fatty acid may be used alone or in a mixture of two or more kinds.
本実施形態の洗浄剤組成物において、（Ｂ１）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 In the cleaning composition of this embodiment, the component (B1) may be used alone or in combination of two or more types.
本実施形態の洗浄剤組成物における（Ｂ１）成分の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、０．１質量％以上であることが好ましく、０．２質量％以上であることがより好ましく、０．２５質量％以上であることがさらに好ましい。
一方で、（Ｂ１）成分の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることがさらに好ましい。
The content of the component (B1) in the cleaning composition of this embodiment is preferably 0.1 mass % or more, more preferably 0.2 mass % or more, and further preferably 0.25 mass % or more, relative to 100 mass % of the total amount of the cleaning composition.
On the other hand, the content of the component (B1) is preferably 10 mass % or less, more preferably 5 mass % or less, and even more preferably 1 mass % or less, relative to 100 mass % of the total amount of the cleaning composition.
本実施形態における（Ｂ１）成分の含有量は、例えば、０．１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、０．２質量％以上５質量％以下であることがより好ましく、０．２５質量％以上１質量％以下であることがさらに好ましい。 In this embodiment, the content of component (B1) is, for example, preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or more and 5% by mass or less, and even more preferably 0.25% by mass or more and 1% by mass or less.
（Ｂ１）成分の含有量が上記の好ましい範囲の下限値以上であれば、洗浄性がより向上する。
（Ｂ１）成分の含有量が上記の好ましい範囲の上限値以下であれば、洗浄剤組成物の動粘度が適度となり、洗浄性が十分な洗浄剤組成物がより得られやすい。
When the content of the component (B1) is at least as large as the lower limit of the above preferred range, the cleaning properties are further improved.
When the content of the component (B1) is equal to or less than the upper limit of the above-mentioned preferred range, the kinetic viscosity of the detergent composition becomes appropriate, and a detergent composition having sufficient cleaning properties is more easily obtained.
≪Ｎ－アルキルトリメチレンジアミン脂肪酸塩（Ｂ２）≫
本実施形態の洗浄剤組成物におけるＮ－アルキルトリメチレンジアミン脂肪酸塩（Ｂ２）（以下、（Ｂ２）成分ともいう）は、例えば、トリメチレンジアミンの１つのアミノ基の水素原子が、アルキル基で置換された化合物と、脂肪酸とを反応させることにより得ることができる。
<N-alkyltrimethylenediamine fatty acid salt (B2)>
The N-alkyltrimethylenediamine fatty acid salt (B2) (hereinafter also referred to as component (B2)) in the cleaning composition of this embodiment can be obtained, for example, by reacting a compound in which a hydrogen atom of one amino group of trimethylenediamine is substituted with an alkyl group with a fatty acid.
本実施形態の洗浄剤組成物におけるＮ－アルキルトリメチレンジアミン脂肪酸塩（Ｂ２）として、具体的には、下記一般式（Ｂ２－１）で表される化合物が挙げられる。 Specific examples of the N-alkyltrimethylenediamine fatty acid salt (B2) in the cleaning composition of this embodiment include compounds represented by the following general formula (B2-1).
式（Ｂ２－１）中、Ｒ３は、炭素原子数７～２２のアルキル基であり、具体的には、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基等の直鎖状のアルキル基；１０－メチルオクタデシル基等の分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。 In formula (B2-1), R 3 is an alkyl group having 7 to 22 carbon atoms. Specific examples of such alkyl groups include linear alkyl groups such as a heptyl group, octyl group, nonyl group, decanyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, and docosyl group; and branched alkyl groups such as a 10-methyloctadecyl group.
式（Ｂ２－１）中、Ｒ３は、上記の中でも、炭素原子数１０～２０の直鎖状のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数１４～１８の直鎖状のアルキル基であることがより好ましい。 In formula (B2-1), R 3 is preferably a linear alkyl group having 10 to 20 carbon atoms, and more preferably a linear alkyl group having 14 to 18 carbon atoms, among the above.
式（Ｂ２－１）中、Ｒ４は、炭素原子数７～２２のアルキル基又はアルケニル基である。該炭素原子数７～２２のアルキル基としては、上記式（Ｂ２－１）中のＲ３と同様のものが挙げられる。 In formula (B2-1), R 4 is an alkyl group or alkenyl group having 7 to 22 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 7 to 22 carbon atoms include the same as those for R 3 in formula (B2-1) above.
炭素原子数７～２２のアルケニル基としては、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基、ヘンイコセニル基、ドコセニル基が挙げられる。なお、二重結合の位置は任意であり、例えば、８－トリデセニル基、８－ペンタデセニル基、８－ヘプタデセニル基、１０－ノナデセニル基等が挙げられる。 Examples of alkenyl groups having 7 to 22 carbon atoms include heptenyl, octenyl, nonenyl, decenyl, undecenyl, dodecenyl, tridecenyl, tetradecenyl, pentadecenyl, hexadecenyl, heptadecenyl, octadecenyl, nonadecenyl, icosenyl, henicosenyl, and docosenyl. The position of the double bond is arbitrary, and examples include 8-tridecenyl, 8-pentadecenyl, 8-heptadecenyl, and 10-nonadecenyl.
式（Ｂ２－１）中、Ｒ４は、上記の中でも、炭素原子数１０～２０のアルケニル基であることが好ましく、炭素原子数１４～１８のアルケニル基であることがより好ましく、炭素原子数１６～１８のアルケニル基であることがさらに好ましい。 In formula (B2-1), R 4 is preferably an alkenyl group having 10 to 20 carbon atoms, more preferably an alkenyl group having 14 to 18 carbon atoms, and even more preferably an alkenyl group having 16 to 18 carbon atoms.
本実施形態の洗浄剤組成物におけるＮ－アルキルトリメチレンジアミン脂肪酸塩（Ｂ２）として、好適な具体例としては、オクタデシルトリメチレンジアミンオレイン酸塩、ヘキサデシルトリメチレンジアミンオレイン酸塩、テトラデシルトリメチレンジアミンオレイン酸塩、牛脂トリメチレンジアミンジオレイン酸塩が挙げられ、その中でも、原料が安価であるという観点から、牛脂トリメチレンジアミンジオレイン酸塩が好ましい。 Specific examples of suitable N-alkyltrimethylenediamine fatty acid salts (B2) in the cleaning composition of this embodiment include octadecyltrimethylenediamine oleate, hexadecyltrimethylenediamine oleate, tetradecyltrimethylenediamine oleate, and beef tallow trimethylenediamine dioleate. Among these, beef tallow trimethylenediamine dioleate is preferred from the viewpoint that the raw materials are inexpensive.
上記Ｎ－アルキルトリメチレンジアミン脂肪酸塩（Ｂ２）の製造方法としては、例えば、相当するＮ－アルキル一級アミンとアクリロニトリルを窒素雰囲気下、１００～２００℃で触媒を用いて反応させ、さらに水素化し、得られたＮ－アルキルジアミンに窒素雰囲気下で脂肪酸を加える方法を採用することができる。なお、該Ｎ－アルキル一級アミン及び該脂肪酸は、それぞれ１種単独で用いてもよいし、それぞれ２種以上の混合物を用いてもよい。 As a method for producing the above-mentioned N-alkyl trimethylenediamine fatty acid salt (B2), for example, a method can be adopted in which the corresponding N-alkyl primary amine and acrylonitrile are reacted with a catalyst at 100 to 200°C under a nitrogen atmosphere, further hydrogenated, and a fatty acid is added to the obtained N-alkyl diamine under a nitrogen atmosphere. The N-alkyl primary amine and the fatty acid may each be used alone or in a mixture of two or more kinds.
本実施形態の洗浄剤組成物において、（Ｂ２）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 In the cleaning composition of this embodiment, the (B2) component may be used alone or in combination of two or more types.
本実施形態の洗浄剤組成物における（Ｂ２）成分の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、０．０１質量％以上であることが好ましく、０．５質量％以上であることがより好ましい。
一方で、（Ｂ２）成分の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましい。
The content of the component (B2) in the cleaning composition of this embodiment is preferably 0.01 mass % or more, and more preferably 0.5 mass % or more, relative to 100 mass % of the total amount of the cleaning composition.
On the other hand, the content of the component (B2) is preferably 5 mass % or less, and more preferably 3 mass % or less, relative to 100 mass % of the total amount of the cleaning composition.
本実施形態における（Ｂ２）成分の含有量は、例えば、０．０１質量％以上５質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以上３質量％以下であることがより好ましい。 In this embodiment, the content of component (B2) is, for example, preferably 0.01% by mass or more and 5% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or more and 3% by mass or less.
（Ｂ２）成分の含有量が上記の好ましい範囲の下限値以上であれば、洗浄性がより向上する。
（Ｂ２）成分の含有量が上記の好ましい範囲の上限値以下であれば、洗浄剤組成物の動粘度が適度となり、洗浄性が十分な洗浄剤組成物がより得られやすい。
When the content of the component (B2) is at least as large as the lower limit of the above preferred range, the cleaning properties are further improved.
When the content of the component (B2) is equal to or less than the upper limit of the above-mentioned preferred range, the kinetic viscosity of the detergent composition becomes appropriate, and a detergent composition having sufficient cleaning properties is more easily obtained.
本実施形態の洗浄剤組成物において、上記（Ｂ２）成分の含有量に対する上記（Ｂ１）成分の含有量は、上記（Ｂ２）成分の含有量に対して、上記（Ｂ１）成分を０．０１倍以上含有することが好ましく、０．１倍以上含有することがより好ましく、０．２倍以上含有することがさらに好ましい。
一方で、上記（Ｂ２）成分の含有量に対して、上記（Ｂ１）成分を２倍以下含有することが好ましく、１．５倍以下含有することがより好ましく、１．０倍以下含有することがさらに好ましい。
In the cleaning composition of the present embodiment, the content of the component (B1) relative to the content of the component (B2) is preferably 0.01 times or more, more preferably 0.1 times or more, and even more preferably 0.2 times or more, the content of the component (B1) relative to the content of the component (B2).
On the other hand, the content of the (B1) component is preferably 2 times or less, more preferably 1.5 times or less, and even more preferably 1.0 times or less, the content of the (B2) component.
本実施形態の洗浄剤組成物において、上記（Ｂ２）成分の含有量に対する上記（Ｂ１）成分の含有量は、例えば、上記（Ｂ２）成分の含有量に対して、上記（Ｂ１）成分を０．０１倍以上２倍以下含有することが好ましく、０．１倍以上１．５倍以下含有することがより好ましく、０．２倍以上１．０倍以下含有することがさらに好ましい。 In the cleaning composition of this embodiment, the content of the (B1) component relative to the content of the (B2) component is, for example, preferably 0.01 to 2 times, more preferably 0.1 to 1.5 times, and even more preferably 0.2 to 1.0 times the content of the (B2) component.
本実施形態の洗浄剤組成物における（Ｂ）成分は、上記（Ｂ１）成分及び上記（Ｂ２）成分以外の界面活性剤を含有してもよい。該界面活性剤としては非イオン性界面活性剤が好ましく、具体的には、高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。 Component (B) in the cleaning composition of this embodiment may contain a surfactant other than the above-mentioned components (B1) and (B2). The surfactant is preferably a nonionic surfactant, and specific examples thereof include higher alcohol ethylene oxide adducts, alkylphenol ethylene oxide adducts, fatty acid ethylene oxide adducts, higher alkylamine ethylene oxide adducts, fatty acid esters of sorbitol and sorbitan, sucrose fatty acid esters, silicone surfactants, and fluorine-based surfactants.
（Ｂ）成分中の（Ｂ１）成分と（Ｂ２）成分との合計割合は、（Ｂ）成分の総含有量に対し、２５質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、７５質量％以上がさらに好ましく、１００質量％であってもよい。
（Ｂ）成分中の（Ｂ１）成分と（Ｂ２）成分との合計割合が２５質量％以上であると、洗浄性がより向上する。
The combined proportion of the (B1) component and the (B2) component in the (B) component is preferably 25 mass % or more, more preferably 50 mass % or more, and even more preferably 75 mass % or more, relative to the total content of the (B) component, and may be 100 mass %.
When the combined amount of the components (B1) and (B2) in the component (B) is 25 mass% or more, the cleaning properties are further improved.
≪エステル化合物（Ｃ）≫
本実施形態の洗浄剤組成物におけるエステル化合物（Ｃ）（以下、（Ｃ）成分ともいう）は、脂肪酸等のモノカルボン酸と１価のアルコールとを反応させることにより得られるモノエステル、ジカルボン酸と１価のアルコールとを反応させることにより得られるジエステルである。
なお、ソルビトール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル等の多価アルコールとカルボン酸とを反応させることにより得られる化合物（界面活性剤）は、上記（Ｂ）成分に該当し、（Ｃ）成分には該当しない。
<Ester compound (C)>
The ester compound (C) (hereinafter also referred to as component (C)) in the cleaning composition of this embodiment is a monoester obtained by reacting a monocarboxylic acid such as a fatty acid with a monohydric alcohol, or a diester obtained by reacting a dicarboxylic acid with a monohydric alcohol.
In addition, compounds (surfactants) obtained by reacting polyhydric alcohols, such as sorbitol fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, and sucrose fatty acid esters, with carboxylic acids fall under the category of component (B) above, but do not fall under component (C).
・モノカルボン酸
エステル化合物（Ｃ）の原料として使用されるモノカルボン酸としては、メタン酸（ギ酸）、エタン酸（酢酸）、ｎ－プロパン酸、ｎ－ブタン酸（酪酸）、ｎ－ペンタン酸（吉草酸）、ｎ－ヘキサン酸、ｎ－ヘプタン酸、ｎ－オクタン酸（カプリル酸）、ｎ－ノナン酸、ｎ－デカン酸（カプリン酸）、ｎ－ウンデカン酸、ｎ－ドデカン酸（ラウリン酸）、ｎ－トリデカン酸、ｎ－テトラデカン酸（ミリスチン酸）、ｎ－ペンタデカン酸、ｎ－ヘキサデカン酸（パルミチン酸）、ｎ－ヘプタデカン酸、ｎ－オクタデカン酸（ステアリン酸）、ｎ－イコサン酸（アラキジン酸）等の直鎖状の飽和脂肪酸；２－メチルプロパン酸（イソ酪酸）、３－メチルブタン酸（イソ吉草酸）、イソヘプタン酸、イソオクタン酸、イソノナン酸、イソデカン酸、イソウンデカン酸、イソドデカン酸、イソトリデカン酸、イソテトラデカン酸、イソペンタデカン酸、イソヘキサデカン酸、イソヘプタデカン酸、イソオクタデカン酸、イソイコサン酸等の分岐鎖状の飽和脂肪酸；９－テトラデセン酸（ミリストレイン酸）、９－ヘキサデセン酸（パルミトレイン酸）、９－オクタデセン酸（オレイン酸）、エイコセン酸、リノール酸（９，１２－オクタデカジエン酸）等の不飽和脂肪酸；これらの混合物；これらの脂肪酸を１種以上含む天然由来の脂肪酸（例えば、牛脂、ヤシ油など）等が挙げられる。
Monocarboxylic acids used as raw materials for the ester compound (C) include linear saturated fatty acids such as methanoic acid (formic acid), ethanoic acid (acetic acid), n-propanoic acid, n-butanoic acid (butyric acid), n-pentanoic acid (valeric acid), n-hexanoic acid, n-heptanoic acid, n-octanoic acid (caprylic acid), n-nonanoic acid, n-decanoic acid (capric acid), n-undecanoic acid, n-dodecanoic acid (lauric acid), n-tridecanoic acid, n-tetradecanoic acid (myristic acid), n-pentadecanoic acid, n-hexadecanoic acid (palmitic acid), n-heptadecanoic acid, n-octadecanoic acid (stearic acid), and n-icosanoic acid (arachidic acid); 2-methylpropanoic acid (isobutyric acid), 3 ... branched-chain saturated fatty acids such as 1-methylbutanoic acid (isovaleric acid), isoheptanoic acid, isooctanoic acid, isononanoic acid, isodecanoic acid, isoundecanoic acid, isododecanoic acid, isotridecanoic acid, isotetradecanoic acid, isopentadecanoic acid, isohexadecanoic acid, isoheptadecanoic acid, isooctadecanoic acid, and isoicosanoic acid; unsaturated fatty acids such as 9-tetradecenoic acid (myristoleic acid), 9-hexadecenoic acid (palmitoleic acid), 9-octadecenoic acid (oleic acid), eicosenoic acid, and linoleic acid (9,12-octadecadienoic acid); mixtures thereof; and naturally occurring fatty acids containing one or more of these fatty acids (for example, beef tallow, coconut oil, etc.).
・ジカルボン酸
エステル化合物（Ｃ）の原料として使用されるジカルボン酸としては、エタン二酸（シュウ酸）、プロパン二酸（マロン酸）、ブタン二酸（コハク酸）、ペンタン二酸（グルタン酸）、ヘキサン二酸（アジピン酸）、ヘプタン二酸（ピメリン酸）、オクタン二酸（スベリン酸）、ノナン二酸、デカン二酸等が挙げられる。
Dicarboxylic Acids Examples of dicarboxylic acids used as raw materials for the ester compound (C) include ethanedioic acid (oxalic acid), propanedioic acid (malonic acid), butanedioic acid (succinic acid), pentanedioic acid (glutanic acid), hexanedioic acid (adipic acid), heptanedioic acid (pimelic acid), octanedioic acid (suberic acid), nonanedioic acid, and decanedioic acid.
・１価のアルコール
エステル化合物（Ｃ）の原料として使用されるアルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール等が挙げられる。
Monohydric Alcohol Examples of the alcohol used as a raw material for the ester compound (C) include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, pentanol, and hexanol.
本実施形態の洗浄剤組成物におけるエステル化合物（Ｃ）は、上記の中でも、下記一般式（Ｃ－１）で表される化合物（Ｃ１）（以下、（Ｃ１）成分ともいう）を含むことが好ましい。 Among the above, the ester compound (C) in the cleaning composition of this embodiment preferably contains a compound (C1) (hereinafter also referred to as component (C1)) represented by the following general formula (C-1).
式（Ｃ－１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、炭素原子数１～４の１価の脂肪族炭化水素基である。
該脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルカジエニル基及びアルカトリエニル基が挙げられる。
In formula (C-1), R 1 and R 2 each independently represent a monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
The aliphatic hydrocarbon group includes an alkyl group, an alkenyl group, an alkadienyl group, and an alkatrienyl group.
・炭素原子数１～４のアルキル基
式（Ｃ－１）中のＲ１及びＲ２における炭素原子数１～４のアルキル基は、直鎖状のアルキル基であっても、分岐鎖状のアルキル基であってもよい。
炭素原子数１～４の直鎖状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、及びブチル基が挙げられる。
炭素原子数３又は４の分岐鎖状のアルキル基としては、イソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基及びｔｅｒｔ－ブチル基が挙げられる。
Alkyl Group Having 1 to 4 Carbon Atoms The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms for R 1 and R 2 in formula (C-1) may be a linear alkyl group or a branched alkyl group.
Examples of the linear alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group.
Examples of branched alkyl groups having 3 or 4 carbon atoms include an isopropyl group, a sec-butyl group, an isobutyl group, and a tert-butyl group.
・炭素原子数２～４のアルケニル基
式（Ｃ－１）中のＲ１及びＲ２における炭素原子数２～４のアルケニル基は、直鎖状のアルケニル基であっても、分岐鎖状のアルケニル基であってもよい。
炭素原子数２～４の直鎖状のアルケニル基としては、エテニル基（ビニル基）、１－プロペニル基、２－プロペニル基（アリル基）、及びブチニル基が挙げられる。
炭素原子数３又は４の分岐鎖状のアルケニル基としては、１－メチルビニル基、１－メチルプロペニル基、及び２－メチルプロペニル基が挙げられる。
Alkenyl Group Having 2 to 4 Carbon Atoms The alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms for R 1 and R 2 in formula (C-1) may be a linear alkenyl group or a branched alkenyl group.
Examples of linear alkenyl groups having 2 to 4 carbon atoms include ethenyl groups (vinyl groups), 1-propenyl groups, 2-propenyl groups (allyl groups), and butynyl groups.
Examples of branched alkenyl groups having 3 or 4 carbon atoms include a 1-methylvinyl group, a 1-methylpropenyl group, and a 2-methylpropenyl group.
式（Ｃ－１）中のＲ１及びＲ２における炭素原子数３又は４のアルカジエニル基としては、プロパジエニル基及びブタジエニル基が挙げられ、炭素原子数４のアルカトリエニル基としては、ブタトリエニル基が挙げられる。 In the formula (C-1), the alkadienyl group having 3 or 4 carbon atoms for R 1 and R 2 includes a propadienyl group and a butadienyl group, and the alkatrieny group having 4 carbon atoms includes a butatrienyl group.
上記の中でも、式（Ｃ－１）中のＲ１及びＲ２における炭素原子数１～４の１価の脂肪族炭化水素基は、それぞれ独立に、炭素原子数１～４のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数１～４の直鎖状アルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることがさらに好ましく、メチル基であることが特に好ましい。 Among the above, the monovalent aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 4 carbon atoms in R 1 and R 2 in formula (C-1) are each independently preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a linear alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, further preferably a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group.
式（Ｃ－１）中、Ｘは、単結合又は炭素原子数１～８の２価の脂肪族炭化水素基である。
該脂肪族炭化水素基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アルカジエニレン基及びアルカトリエニレン基が挙げられる。
式（Ｃ－１）中のＸにおけるアルキレン基、アルケニレン基、アルカジエニレン基及びアルカトリエニレン基の好適な具体例としては、上記式（Ｃ－１）中のＲ１及びＲ２におけるアルキル基、アルケニル基、アルカジエニル基及びアルカトリエニル基からそれぞれ水素原子を一つ除いた基が挙げられる。
In formula (C-1), X is a single bond or a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
The aliphatic hydrocarbon group includes an alkylene group, an alkenylene group, an alkadienylene group, and an alkatrienylene group.
Preferable specific examples of the alkylene group, alkenylene group, alkadienylene group and alkatrienylene group for X in formula (C-1) include groups in which one hydrogen atom has been removed from each of the alkyl group, alkenyl group, alkadienyl group and alkatrienyl group for R 1 and R 2 in formula (C-1) above.
例えば、式（Ｃ－１）中のＸにおける炭素原子数１～８の直鎖状のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ２）３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ２）４－］、ペンタメチレン基［－（ＣＨ２）５－］、ヘキサメチレン基［－（ＣＨ２）６－］等が挙げられる。
式（Ｃ－１）中のＸにおける炭素原子数２～８の分岐鎖状のアルキレン基としては、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。
For example, examples of the linear alkylene group having 1 to 8 carbon atoms for X in formula (C-1) include a methylene group, an ethylene group [-(CH 2 ) 2 -], a trimethylene group [-(CH 2 ) 3 -], a tetramethylene group [-(CH 2 ) 4 -], a pentamethylene group [-(CH 2 ) 5 -], a hexamethylene group [-(CH 2 ) 6 -], and the like.
Examples of the branched alkylene group having 2 to 8 carbon atoms for X in formula (C-1) include alkylmethylene groups such as -CH( CH3 ) -, -CH( CH2CH3 )-, -C( CH3 ) 2- , -C(CH3)(CH2CH3)-, -C(CH3)(CH2CH2CH3)-, and -C(CH2CH3 ) 2- ; alkylethylene groups such as -CH ( CH3 ) CH2- , -CH( CH3 )CH( CH3 ) - , -C ( CH3 ) 2CH2- , -CH ( CH2CH3 ) CH2- , and -C( CH2CH3 ) 2 - CH2- ; Examples thereof include alkyl trimethylene groups such as CH(CH 3 )CH 2 --; and alkyl alkylene groups such as alkyl tetramethylene groups such as --CH (CH 3 )CH 2 CH 2 CH 2 -- and --CH 2 CH(CH 3 )CH 2 CH 2 --.
上記式（Ｃ－１）中のＸは、上記の中でも、単結合又は炭素原子数１～８のアルキレン基であることが好ましく、単結合又は炭素原子数１～４のアルキレン基であることがより好ましく、単結合、メチレン基、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ２）３－］、又はテトラメチレン基［－（ＣＨ２）４－］であることがさらに好ましい。 Among the above, X in the above formula (C-1) is preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and further preferably a single bond, a methylene group, an ethylene group [-(CH 2 ) 2 -], a trimethylene group [-(CH 2 ) 3 -], or a tetramethylene group [-(CH 2 ) 4 -].
本実施形態の洗浄剤組成物におけるエステル化合物（Ｃ）として、具体的には、シュウ酸ジメチル（下記化学式（Ｃ－１－１）で表される化合物）、マロン酸ジメチル（下記化学式（Ｃ－１－２）で表される化合物）、コハク酸ジメチル（下記化学式（Ｃ－１－３）で表される化合物）、グルタル酸ジメチル（下記化学式（Ｃ－１－４）で表される化合物）、アジピン酸ジメチル（下記化学式（Ｃ－１－５）で表される化合物）、マロン酸ジエチル（下記化学式（Ｃ－１－６）で表される化合物）、シュウ酸ジエチル（下記化学式（Ｃ－１－７）で表される化合物）が好ましく、コハク酸ジメチル（下記化学式（Ｃ－１－３）で表される化合物）、グルタル酸ジメチル（下記化学式（Ｃ－１－４）で表される化合物）、アジピン酸ジメチル（下記化学式（Ｃ－１－５）で表される化合物）、及びマロン酸ジエチル（下記化学式（Ｃ－１－６）で表される化合物）がより好ましい。 Specific examples of the ester compound (C) in the cleaning agent composition of this embodiment include dimethyl oxalate (a compound represented by the following chemical formula (C-1-1)), dimethyl malonate (a compound represented by the following chemical formula (C-1-2)), dimethyl succinate (a compound represented by the following chemical formula (C-1-3)), dimethyl glutarate (a compound represented by the following chemical formula (C-1-4)), dimethyl adipate (a compound represented by the following chemical formula (C-1-5)), diethyl malonate (a compound represented by the following chemical formula (C-1-6)), and diethyl oxalate (a compound represented by the following chemical formula (C-1-7)). Dimethyl succinate (a compound represented by the following chemical formula (C-1-3)), dimethyl glutarate (a compound represented by the following chemical formula (C-1-4)), dimethyl adipate (a compound represented by the following chemical formula (C-1-5)), and diethyl malonate (a compound represented by the following chemical formula (C-1-6)) are more preferred.
本実施形態の洗浄剤組成物において、（Ｃ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本実施形態の洗浄剤組成物において、（Ｃ）成分は、原料が安価であり、かつ、低融点であるという観点から、コハク酸ジメチルと、グルタル酸ジメチルと、アジピン酸ジメチルとの混合物を用いてもよい。
In the cleaning composition of the present embodiment, the component (C) may use one type alone, or two or more types in combination.
In the cleaning composition of this embodiment, the component (C) may be a mixture of dimethyl succinate, dimethyl glutarate, and dimethyl adipate, from the viewpoints that the raw materials are inexpensive and have a low melting point.
本実施形態の洗浄剤組成物における（Ｃ）成分の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、５質量％以上であることが好ましく、７質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることがさらに好ましい。 The content of component (C) in the cleaning composition of this embodiment is preferably 5% by mass or more, more preferably 7% by mass or more, and even more preferably 10% by mass or more, based on 100% by mass of the total amount of the cleaning composition.
一方で、（Ｃ）成分の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、３０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以下であることがさらに好ましい。 On the other hand, the content of component (C) is preferably 30% by mass or less, more preferably 25% by mass or less, and even more preferably 20% by mass or less, relative to 100% by mass of the total amount of the cleaning composition.
本実施形態における（Ｃ）成分の含有量は、例えば、５質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、７質量％以上２５質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以上２０質量％以下であることがより好ましい。 In this embodiment, the content of component (C) is, for example, preferably 5% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 7% by mass or more and 25% by mass or less, and even more preferably 10% by mass or more and 20% by mass or less.
（Ｃ）成分の含有量が上記の好ましい範囲の下限値以上であれば、洗浄性がより向上する。
（Ｃ）成分の含有量が上記の好ましい範囲の上限値以下であれば、洗浄剤組成物の動粘度が適度となり、洗浄性が十分な洗浄剤組成物がより得られやすい。
When the content of component (C) is at least the lower limit of the above preferred range, the cleaning properties are further improved.
When the content of component (C) is equal to or less than the upper limit of the above-mentioned preferred range, the kinetic viscosity of the detergent composition becomes appropriate, and it is easier to obtain a detergent composition having sufficient cleaning properties.
本実施形態の洗浄剤組成物における（Ｃ）成分は、上記（Ｃ１）成分以外のエステル化合物を含有してもよいが、（Ｃ）成分中の（Ｃ１）成分の割合が、（Ｃ）成分の総含有量に対し、２５質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、７５質量％以上であることがさらに好ましく、１００質量％であってもよい。
（Ｃ）成分中の（Ｃ１）成分の割合が２５質量％以上であると、洗浄性がより向上する。
The component (C) in the cleaning composition of this embodiment may contain an ester compound other than the component (C1). However, the proportion of the component (C1) in the component (C) is preferably 25 mass % or more, more preferably 50 mass % or more, and even more preferably 75 mass % or more, and may be 100 mass %, relative to the total amount of the component (C).
When the amount of the component (C1) in the component (C) is 25 mass % or more, the cleaning properties are further improved.
≪水（Ｗ）≫
本実施形態の洗浄剤組成物における水（Ｗ）（以下（Ｗ）成分ともいう）としては、蒸留水、イオン交換水、水道水等を用いることが好ましい。
<Water (W)>
As the water (W) (hereinafter also referred to as component (W)) in the cleaning composition of the present embodiment, it is preferable to use distilled water, ion-exchanged water, tap water, or the like.
本実施形態の洗浄剤組成物における（Ｗ）成分の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、５質量％以上であることが好ましく、７質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることがさらに好ましい。 The content of component (W) in the cleaning composition of this embodiment is preferably 5% by mass or more, more preferably 7% by mass or more, and even more preferably 10% by mass or more, based on 100% by mass of the total amount of the cleaning composition.
一方で、（Ｗ）成分の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、３０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以下であることがさらに好ましい。 On the other hand, the content of component (W) is preferably 30% by mass or less, more preferably 25% by mass or less, and even more preferably 20% by mass or less, based on 100% by mass of the total amount of the cleaning composition.
本実施形態における（Ｗ）成分の含有量は、例えば、５質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、７質量％以上２５質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以上２０質量％以下であることがより好ましい。 In this embodiment, the content of the (W) component is, for example, preferably 5% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 7% by mass or more and 25% by mass or less, and even more preferably 10% by mass or more and 20% by mass or less.
（Ｗ）成分の含有量が上記の好ましい範囲の下限値以上であれば、水溶性加工油と微粒子の洗浄性がより向上する。
（Ｗ）成分の含有量が上記の好ましい範囲の上限値以下であれば、不水溶性加工油の洗浄性がより向上する。
When the content of the component (W) is at least the lower limit of the above-mentioned preferred range, the cleaning properties for water-soluble processing oil and fine particles are further improved.
When the content of the component (W) is equal to or less than the upper limit of the above preferred range, the cleanability of the water-insoluble processing oil is further improved.
本実施形態の洗浄剤組成物は、炭化水素系溶剤（Ａ）と、界面活性剤（Ｂ）と、エステル化合物（Ｃ）と、水（Ｗ）とを含有し、炭化水素系溶剤（Ａ）、界面活性剤（Ｂ）及びエステル化合物（Ｃ）の総含有量が、水（Ｗ）の含有量より多いことが好ましく、（（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の総含有量）／水（Ｗ）の含有量が、２．１以上であることが好ましく、３．３以上であることがより好ましく、４．５以上であることがさらに好ましい。
上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の総含有量と、水（Ｗ）の含有量との比率が上記の範囲以上であれば、本発明の効果がより得られやすい。
The cleaning agent composition of the present embodiment contains a hydrocarbon solvent (A), a surfactant (B), an ester compound (C), and water (W). The total content of the hydrocarbon solvent (A), the surfactant (B), and the ester compound (C) is preferably greater than the content of the water (W). The ratio of (total content of components (A), (B), and (C))/the content of water (W) is preferably 2.1 or more, more preferably 3.3 or more, and even more preferably 4.5 or more.
When the ratio of the total content of the above components (A), (B) and (C) to the content of water (W) is equal to or greater than the above range, the effects of the present invention are more easily obtained.
＜任意成分＞
本実施形態の洗浄剤組成物は、上述した（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｗ）成分を含有し、本発明の効果を損なわない範囲で、これらの成分以外の成分（任意成分）をさらに含有してもよい。該任意成分としては、極性溶剤（Ｓ）、酸化防止剤、安定剤、紫外線吸収剤、防錆剤等が挙げられる。
<Optional ingredients>
The cleaning composition of the present embodiment contains the above-mentioned components (A), (B), (C) and (W), and may further contain components (optional components) other than these components within a range that does not impair the effects of the present invention. Examples of the optional components include a polar solvent (S), an antioxidant, a stabilizer, an ultraviolet absorber, and a rust inhibitor.
≪極性溶剤（Ｓ）≫
本実施形態の洗浄剤組成物は、上述した（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｗ）成分に加えて、極性溶剤（Ｓ）（以下、（Ｓ）成分ともいう）を含有することが好ましい。
本実施形態の洗浄剤組成物における極性溶剤（Ｓ）としては、グリコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、モノアルコール系溶剤等のプロトン性極性溶剤；アミド系溶剤、スルホキシド系溶剤、スルホン系溶剤、ニトリル系溶剤等の非プロトン性極性溶剤が挙げられる。
<Polar solvent (S)>
The cleaning agent composition of the present embodiment preferably contains a polar solvent (S) (hereinafter, also referred to as component (S)) in addition to the above-mentioned components (A), (B), (C), and (W).
Examples of the polar solvent (S) in the cleaning agent composition of the present embodiment include protic polar solvents such as glycol-based solvents, glycol ether-based solvents, and monoalcohol-based solvents; and aprotic polar solvents such as amide-based solvents, sulfoxide-based solvents, sulfone-based solvents, and nitrile-based solvents.
グリコール系溶剤として、具体的には、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等が挙げられる。
グリコールエーテル系溶剤として、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジイソプロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
モノアルコール系溶剤として、具体的には、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール等が挙げられる。
Specific examples of glycol solvents include ethylene glycol, propylene glycol, and hexylene glycol.
Specific examples of glycol ether solvents include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, and diisopropylene glycol monomethyl ether.
Specific examples of monoalcohol solvents include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, and tert-butanol.
アミド系溶剤として、具体的には、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン、Ｎ－ブチルプロルドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等が挙げられる。
スルホキシド系溶剤として、具体的には、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
スルホン系溶剤として、具体的には、スルホラン等が挙げられる。
ニトリル系溶剤として、具体的には、アセトニトリル等が挙げられる。
Specific examples of the amide solvent include N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, N-butylpyrrolidone, dimethylformamide, and dimethylacetamide.
A specific example of the sulfoxide solvent is dimethyl sulfoxide.
Specific examples of sulfone-based solvents include sulfolane.
A specific example of the nitrile solvent is acetonitrile.
本実施形態の洗浄剤組成物における極性溶剤（Ｓ）としては、上記の中でも、水溶性が低い極性溶剤であることが好ましい。ここで、水溶性が低い極性溶剤とは、水と極性溶剤とを１：１（質量比）で混合し、分液した場合、水層に含まれる該極性溶剤の含有量が、水層に含まれる溶液全量に対して、１０質量％未満である極性溶剤である。詳細な試験方法は下記に示す通りである。 Of the above, the polar solvent (S) in the cleaning composition of this embodiment is preferably a polar solvent with low water solubility. Here, a polar solvent with low water solubility is a polar solvent in which, when water and a polar solvent are mixed in a 1:1 (mass ratio) and separated, the content of the polar solvent in the aqueous layer is less than 10 mass% relative to the total amount of solution in the aqueous layer. Detailed test methods are as follows.
極性溶剤と蒸留水の２０℃における屈折率をアタゴ社製自動屈折計ＲＸ－５０００α－Ｐｌｕｓにて測定する。２０ｍＬスクリュー管瓶に、該極性溶剤５ｇと蒸留水５ｇを計量し、室温で一時間攪拌する。一晩静置後、上層と下層を採取し、２０℃における屈折率をアタゴ社製自動屈折計ＲＸ－５０００α－Ｐｌｕｓにて測定する。試料と蒸留水と上層または下層の屈折率から水層に含まれる該極性溶剤の濃度を算出する。 The refractive index of the polar solvent and distilled water at 20°C is measured using an Atago RX-5000α-Plus automatic refractometer. 5 g of the polar solvent and 5 g of distilled water are weighed into a 20 mL screw tube and stirred at room temperature for one hour. After leaving it to stand overnight, the upper and lower layers are collected and their refractive index at 20°C is measured using an Atago RX-5000α-Plus automatic refractometer. The concentration of the polar solvent contained in the water layer is calculated from the refractive index of the sample, distilled water, and the upper or lower layer.
上記水溶性が低い極性溶剤として、具体的には、グリコールエーテル系溶剤が好ましく、プロピレングリコールモノブチルエーテル又はエチレングリコールモノヘキシルエーテルがより好ましい。 Specific examples of the polar solvent with low water solubility include glycol ether solvents, and more preferably propylene glycol monobutyl ether or ethylene glycol monohexyl ether.
本実施形態の洗浄剤組成物における（Ｓ）成分１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 In the cleaning composition of this embodiment, one type of component (S) may be used alone, or two or more types may be used in combination.
本実施形態の洗浄剤組成物における（Ｓ）成分の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上であることがさらに好ましい。 The content of component (S) in the cleaning composition of this embodiment is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more, based on 100% by mass of the total amount of the cleaning composition.
一方で、（Ｓ）成分の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、３０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることがさらに好ましい。 On the other hand, the content of component (S) is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and even more preferably 10% by mass or less, relative to 100% by mass of the total amount of the cleaning composition.
本実施形態における（Ｓ）成分の含有量は、例えば、１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以上１０質量％以下であることがより好ましい。 In this embodiment, the content of the (S) component is, for example, preferably 1% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 3% by mass or more and 20% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or more and 10% by mass or less.
（Ｓ）成分の含有量が上記の好ましい範囲の下限値以上であれば、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｗ）成分のそれぞれの分散性をより向上させることができる。
（Ｓ）成分の含有量が上記の好ましい範囲の上限値以下であれば、他の成分とのバランスが取れ、洗浄性がより向上する。
When the content of the component (S) is at least the lower limit of the above-mentioned preferred range, the dispersibility of each of the components (A), (B), (C) and (W) can be further improved.
When the content of the component (S) is equal to or less than the upper limit of the above-mentioned preferred range, a good balance with the other components is achieved, and cleaning properties are further improved.
上記極性溶剤（Ｓ）以外の任意成分として、具体的には、フェノール系、アミン系、硫黄系、リン系等の酸化防止剤；ニトロ化合物、エポキシ化合物、フェノール類、イミダゾール類、アミン類、リン化合物類、硫黄化合物類、含窒素アルコール化合物等の安定剤；ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒンダードアミン系等の紫外線吸収剤、アルキル又はアルケニルコハク酸誘導体、多価アルコール部分エステル、金属スルフォネート、アミン類等の防錆剤などが挙げられる。 Specific examples of optional components other than the polar solvent (S) include antioxidants such as phenols, amines, sulfur compounds, and phosphorus compounds; stabilizers such as nitro compounds, epoxy compounds, phenols, imidazoles, amines, phosphorus compounds, sulfur compounds, and nitrogen-containing alcohol compounds; ultraviolet absorbers such as benzotriazoles, benzophenones, and hindered amines; and rust inhibitors such as alkyl or alkenyl succinic acid derivatives, partial esters of polyhydric alcohols, metal sulfonates, and amines.
本実施形態の洗浄剤組成物の製造方法としては、例えば、上述した炭化水素系溶剤（Ａ）、界面活性剤（Ｂ）、及びエステル化合物（Ｃ）を所定量計量し、混合、撹拌した後に水（Ｗ）を添加することにより製造することができる。なお、炭化水素系溶剤（Ａ）、界面活性剤（Ｂ）、及びエステル化合物（Ｃ）に加えて上述した任意成分を混合してもよい。
具体的には、炭化水素系溶剤（Ａ）、界面活性剤（Ｂ）、及びエステル化合物（Ｃ）を均一に撹拌混合した後に、水（Ｗ）を添加し、撹拌や超音波照射等の物理力を加えることで、本実施形態の洗浄剤組成物を製造することができる。
The cleaning composition of the present embodiment can be produced, for example, by weighing out predetermined amounts of the above-mentioned hydrocarbon solvent (A), surfactant (B), and ester compound (C), mixing and stirring the mixture, and then adding water (W). Note that the above-mentioned optional components may be mixed in addition to the hydrocarbon solvent (A), surfactant (B), and ester compound (C).
Specifically, the hydrocarbon solvent (A), the surfactant (B), and the ester compound (C) are uniformly mixed with stirring, and then water (W) is added thereto. Then, physical forces such as stirring or ultrasonic irradiation are applied to the mixture, thereby producing the cleaning composition of the present embodiment.
より具体的な、本実施形態の洗浄剤組成物の製造方法としては、炭化水素系溶剤（Ａ）、脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）、Ｎ－アルキルトリメチレンジアミン脂肪酸塩（Ｂ２）、及び上記一般式（Ｃ－１）で表される化合物（Ｃ１）を均一に撹拌混合した後に、水（Ｗ）を添加し、撹拌や超音波照射等の物理力を加えることで、Ｗ／Ｏ型のエマルションである洗浄剤組成物を製造することができる。 More specifically, the method for producing the cleaning composition of this embodiment is to uniformly mix and stir the hydrocarbon solvent (A), fatty acid alkanolamide (B1), N-alkyltrimethylenediamine fatty acid salt (B2), and compound (C1) represented by the above general formula (C-1), and then add water (W) and apply physical force such as stirring or ultrasonic irradiation to produce a cleaning composition that is a W/O type emulsion.
以上説明した本実施形態の洗浄剤組成物は、炭化水素系溶剤（Ａ）と、界面活性剤（Ｂ）と、エステル化合物（Ｃ）と、水（Ｗ）とを含有し、界面活性剤（Ｂ）は、脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）及びＮ－アルキルトリメチレンジアミン脂肪酸塩（Ｂ２）を含む。該洗浄剤組成物は、炭化水素系溶剤（Ａ）と水（Ｗ）と特定の界面活性剤（Ｂ１）成分及び（Ｂ２）成分とを含有するため、洗浄性が高く、極性の高低によらず様々な汚れを洗浄することができる。加えて、エステル化合物（Ｃ）を含有するため、従来の洗浄剤組成物では洗浄することが困難であった難洗浄性の汚れ（ステンレスの深絞り加工等の金属加工によって生じる、該金属表面に焼き付いた汚れ等）も洗浄することができる。
さらに、エステル化合物（Ｃ）が上記一般式（Ｃ－１）で表される化合物（Ｃ１）である場合、難洗浄性の汚れに対する洗浄性がさらに向上する。これは、該化合物（Ｃ１）がキレート剤として汚れを挟み込んで引き離すことができることによるものと推測される。
The cleaning composition of the present embodiment described above contains a hydrocarbon solvent (A), a surfactant (B), an ester compound (C), and water (W), and the surfactant (B) contains a fatty acid alkanolamide (B1) and an N-alkyltrimethylenediamine fatty acid salt (B2). Since the cleaning composition contains the hydrocarbon solvent (A), water (W), and the specific surfactants (B1) and (B2), it has high cleaning properties and can clean various stains regardless of their polarity. In addition, since the cleaning composition contains the ester compound (C), it can also clean difficult-to-clean stains (such as stains baked onto metal surfaces caused by metal processing such as deep drawing of stainless steel) that were difficult to clean with conventional cleaning compositions.
Furthermore, when the ester compound (C) is the compound (C1) represented by the above general formula (C-1), the cleaning ability against difficult-to-clean stains is further improved, which is presumably because the compound (C1) acts as a chelating agent to sandwich and separate the stains.
本実施形態の洗浄剤組成物は、特に金属加工によって被洗浄物の表面に焼き付いた汚れを除去するための洗浄剤として用いるのに有用である。 The cleaning composition of this embodiment is particularly useful as a cleaning agent for removing stains that have been baked onto the surface of an object to be cleaned due to metal processing.
（洗浄方法）
本発明の第２の態様は、上述した第１の態様に係る洗浄剤組成物を用いて、被洗浄物を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄剤組成物が付着した被洗浄物を、前記炭化水素系溶剤（Ａ）、前記界面活性剤（Ｂ）及び前記エステル化合物（Ｃ）を含有するすすぎ液、前記炭化水素系溶剤（Ａ）及び前記エステル化合物（Ｃ）からなるすすぎ液、又は、前記炭化水素系溶剤（Ａ）からなるすすぎ液ですすぐすすぎ工程と、前記すすぎ工程において、前記洗浄剤組成物中の水（Ｗ）が混入したすすぎ液から、少なくとも一部の水（Ｗ）を系外に排出する排出工程とを有する、洗浄方法である。
(Cleaning method)
A second aspect of the present invention is a cleaning method including: a cleaning step of cleaning an object to be cleaned with the cleaning composition according to the first aspect described above; a rinsing step of rinsing the object to be cleaned, to which the cleaning composition is attached, with a rinsing liquid containing the hydrocarbon solvent (A), the surfactant (B), and the ester compound (C), a rinsing liquid consisting of the hydrocarbon solvent (A) and the ester compound (C), or a rinsing liquid consisting of the hydrocarbon solvent (A); and a discharging step of discharging at least a part of the water (W) from the rinsing liquid mixed with the water (W) in the cleaning composition to the outside of a system in the rinsing step.
［洗浄工程］
洗浄工程は、上述した第１の態様に係る洗浄剤組成物を用いて、被洗浄物を洗浄する工程である。
洗浄工程として、具体的には、被洗浄物を上述した第１の態様に係る洗浄剤組成物に浸漬洗浄する方法が挙げられる。また、該浸漬洗浄の際に、洗浄効果を高めるために、撹拌、揺動、超音波照射、噴流、エアバブリング又はこれらの組み合わせを行うことが好ましい。
浸漬洗浄の際に、超音波を照射する場合、超音波の照射条件は、発振周波数２０～１００ＫＨｚ、発振出力０．１～２００Ｗ／Ｌが好ましい。
[Cleaning process]
The cleaning step is a step of cleaning an object to be cleaned with the cleaning agent composition according to the first aspect described above.
Specifically, the cleaning step may be a method of immersing the object to be cleaned in the cleaning composition according to the first aspect. In order to enhance the cleaning effect, it is preferable to perform stirring, shaking, ultrasonic irradiation, jet flow, air bubbling, or a combination thereof during the immersion cleaning.
When ultrasonic waves are irradiated during immersion cleaning, the ultrasonic irradiation conditions are preferably an oscillation frequency of 20 to 100 KHz and an oscillation output of 0.1 to 200 W/L.
上記洗浄工程の洗浄時間は、１５秒～３０分が好ましく、３０秒～１５分がより好ましい。
上記洗浄工程の洗浄温度は、２０～９０℃であることが好ましい。
The washing time in the washing step is preferably from 15 seconds to 30 minutes, and more preferably from 30 seconds to 15 minutes.
The washing temperature in the washing step is preferably 20 to 90°C.
被洗浄物としては、電子・電気部品、光学部品、精密機械部品、自動車部品等の各種部品が挙げられる。
電気・電子部品としては、プリント配線基板、セラミック配線基板等の配線基板；リードフレーム等の半導体パッケージ部材；リレー、コネクターなどの接点部材；液晶、プラズマディスプレイ等の表示部品；ハードディスク記憶媒体、磁気ヘッド等の磁気記憶部品；水晶振動子等の圧電部品；モータ、ソレノイド等の電動機部品；センサー部品；リチウムイオン電池等の電池缶などが挙げられる。
光学部品としては、眼鏡、カメラ用などのレンズ、その筐体などが挙げられる。
精密機械部品としては、航空機、工作機械等に用いられる精密ベアリングなどの部品が挙げられる。
自動車部品としては、自動車のエンジン部に使われる燃料噴射用のニードルや駆動部分のギヤなどが挙げられる。
The objects to be cleaned include various parts such as electronic/electrical parts, optical parts, precision machine parts, and automobile parts.
Examples of electric and electronic components include wiring boards such as printed wiring boards and ceramic wiring boards; semiconductor package components such as lead frames; contact components such as relays and connectors; display components such as liquid crystal and plasma displays; magnetic storage components such as hard disk storage media and magnetic heads; piezoelectric components such as quartz oscillators; electric motor components such as motors and solenoids; sensor components; and battery cans for lithium ion batteries, etc.
Examples of optical components include glasses, camera lenses, and housings thereof.
Examples of precision machine parts include precision bearings used in aircraft, machine tools, and the like.
Examples of automotive parts include fuel injection needles and drive gears used in automobile engines.
被洗浄物に付着している汚れとしては、鉱油等からなる加工油、機械油、植物油、ワックス、松脂、油脂、グリース、フラックス等が挙げられる。
本実施形態の洗浄方法は、特にステンレスの深絞り加工等の金属加工によって生じる、該金属表面に焼き付いた汚れを洗浄するのに有用な方法である。
Examples of dirt adhering to the object to be cleaned include processing oils such as mineral oil, machine oil, vegetable oil, wax, rosin, oils and fats, grease, flux, and the like.
The cleaning method of the present embodiment is particularly useful for cleaning stains that are baked onto the surface of a metal resulting from metal working such as deep drawing of stainless steel.
［すすぎ工程］
すすぎ工程は、前記洗浄剤組成物が付着した被洗浄物を、前記炭化水素系溶剤（Ａ）、前記界面活性剤（Ｂ）及び前記エステル化合物（Ｃ）を含有するすすぎ液、前記炭化水素系溶剤（Ａ）及び前記エステル化合物（Ｃ）からなるすすぎ液、又は、前記炭化水素系溶剤（Ａ）からなるすすぎ液ですすぐ工程である。
[Rinsing process]
The rinsing step is a step of rinsing the object to be cleaned, to which the cleaning agent composition is adhered, with a rinsing liquid containing the hydrocarbon solvent (A), the surfactant (B), and the ester compound (C), a rinsing liquid consisting of the hydrocarbon solvent (A) and the ester compound (C), or a rinsing liquid consisting of the hydrocarbon solvent (A).
すすぎ工程に用いられるすすぎ液としては、炭化水素系溶剤（Ａ）、界面活性剤（Ｂ）及びエステル化合物（Ｃ）を含有するすすぎ液、炭化水素系溶剤（Ａ）及びエステル化合物（Ｃ）からなるすすぎ液、又は、炭化水素系溶剤（Ａ）からなるすすぎ液が挙げられる。
具体的には、炭化水素系溶剤（Ａ）、脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）、Ｎ－アルキルトリメチレンジアミン脂肪酸塩（Ｂ２）、及び上述した化合物（Ｃ１）からなるすすぎ液、炭化水素系溶剤（Ａ）及び上述した化合物（Ｃ１）からなるすすぎ液、又は、炭化水素系溶剤（Ａ）からなるすすぎ液が挙げられる。
すすぎ液が含有する炭化水素系溶剤（Ａ）としては、炭素原子数９～１５の直鎖状の飽和炭化水素系溶剤（パラフィン系炭化水素）が好ましい。
Examples of the rinse liquid used in the rinsing step include a rinse liquid containing a hydrocarbon-based solvent (A), a surfactant (B), and an ester compound (C), a rinse liquid consisting of a hydrocarbon-based solvent (A) and an ester compound (C), or a rinse liquid consisting of a hydrocarbon-based solvent (A).
Specifically, examples of the rinse liquid include a rinse liquid composed of a hydrocarbon solvent (A), a fatty acid alkanolamide (B1), an N-alkyltrimethylenediamine fatty acid salt (B2), and the above-mentioned compound (C1); a rinse liquid composed of a hydrocarbon solvent (A) and the above-mentioned compound (C1); and a rinse liquid composed of a hydrocarbon solvent (A).
The hydrocarbon solvent (A) contained in the rinsing liquid is preferably a linear saturated hydrocarbon solvent having 9 to 15 carbon atoms (paraffinic hydrocarbon).
すすぎ工程に用いられるすすぎ液が含有する炭化水素系溶剤（Ａ）は、上記洗浄工程に用いられる洗浄剤組成物が含有する炭化水素系溶剤（Ａ）と同一であっても、異なっていてもよい。すすぎ液が含有する炭化水素系溶剤（Ａ）と、洗浄剤組成物が含有する炭化水素系溶剤（Ａ）とがそれぞれ異なる場合は、すすぎ液が含有する炭化水素系溶剤（Ａ）の方が、洗浄剤組成物が含有する炭化水素系溶剤（Ａ）よりも沸点が低いことが好ましい。 The hydrocarbon solvent (A) contained in the rinsing liquid used in the rinsing step may be the same as or different from the hydrocarbon solvent (A) contained in the cleaning composition used in the cleaning step. When the hydrocarbon solvent (A) contained in the rinsing liquid and the hydrocarbon solvent (A) contained in the cleaning composition are different from each other, it is preferable that the hydrocarbon solvent (A) contained in the rinsing liquid has a lower boiling point than the hydrocarbon solvent (A) contained in the cleaning composition.
また、すすぎ工程に用いられるすすぎ液は、上述した洗浄剤組成物から水（Ｗ）を除去した溶液でもよい。水を除去する方法として、具体的には、後述する比重差分離法、吸着分離法が挙げられる。 The rinsing liquid used in the rinsing step may be a solution obtained by removing water (W) from the above-mentioned cleaning composition. Specific examples of methods for removing water include the specific gravity separation method and the adsorption separation method described below.
上記すすぎ工程の際に、すすぎ効果を高めるために、撹拌、揺動、超音波照射、噴流、エアバブリング又はこれらの組み合わせを行うことが好ましい。
すすぎ工程の際に、超音波を照射する場合、超音波の照射条件は、発振周波数２０～１００ＫＨｚ、発振出力０．１～２００Ｗ／Ｌが好ましい。
During the rinsing step, in order to enhance the rinsing effect, it is preferable to carry out stirring, shaking, ultrasonic irradiation, jet flow, air bubbling, or a combination of these.
When ultrasonic waves are irradiated during the rinsing step, the ultrasonic irradiation conditions are preferably an oscillation frequency of 20 to 100 KHz and an oscillation output of 0.1 to 200 W/L.
上記すすぎ工程のすすぎ時間は、１５秒～３０分が好ましく、３０秒～１５分がより好ましい。
上記すすぎ工程のすすぎ温度は、２０～９０℃であることが好ましい。
The rinsing time in the rinsing step is preferably from 15 seconds to 30 minutes, and more preferably from 30 seconds to 15 minutes.
The rinsing temperature in the rinsing step is preferably 20 to 90°C.
すすぎ工程は、一回でもよく、複数回繰り返してもよい。また、すすぎ工程を繰り返す場合、すすぎ液の組成は、同一であっても、異なっていてもよい。
すすぎ工程を複数回行う方法としては、例えば、一回又は複数回上述したすすぎ液のいずれかのすすぎ液ですすぎ工程を行った後、最終的に炭化水素系溶剤（Ａ）からなるすすぎ液ですすぐ方法が挙げられる。
The rinsing step may be performed once or may be repeated several times. When the rinsing step is repeated, the composition of the rinsing liquid may be the same or different.
An example of a method for performing the rinsing step multiple times is a method in which the rinsing step is performed once or multiple times with any of the above-mentioned rinsing liquids, and then the final rinsing step is performed with a rinsing liquid comprising the hydrocarbon solvent (A).
［排出工程］
排出工程は、上記すすぎ工程において、上記洗浄剤組成物中の水（Ｗ）が混入したすすぎ液から、少なくとも一部の水（Ｗ）を系外に排出する工程である。該排出方法として、具体的には、比重差分離法、吸着分離法、気化除去法が挙げられる。
[Discharge process]
The discharge step is a step of discharging at least a part of the water (W) from the rinse liquid containing the water (W) in the cleaning agent composition in the rinsing step to the outside of the system. Specific examples of the discharge method include a specific gravity difference separation method, an adsorption separation method, and a vaporization removal method.
比重差分離法は、（Ｗ）成分と、（Ｗ）成分以外の成分（（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分等）との比重差を利用して分離する方法である。具体的には、静置分離、遠心分離等の分離方法を単独又は複数を組み合わせて、（Ｗ）成分と、（Ｗ）成分以外の成分とを分離する。
該遠心分離を行うために使用する装置としては、デカンター型、バスケット型、ディスク型、サイクロン型等の遠心分離機が挙げられる。その中でも、サイクロン型の遠心分離機は、構造が簡単で可動部を持たず小型化しやすいため好ましく、ディスク型の遠心分離機は、高遠心力を得やすく微細水滴を安定的に除去しやすいため好ましい。
The specific gravity difference separation method is a method of separating component (W) by utilizing the difference in specific gravity between the component (W) and components other than the component (W) (component (A), component (B), component (C), etc.). Specifically, the component (W) is separated from components other than the component (W) by using a single separation method, such as static separation or centrifugation, or a combination of multiple methods.
Apparatuses used for carrying out the centrifugation include centrifuges of the decanter type, basket type, disk type, cyclone type, etc. Among these, the cyclone type centrifuge is preferred because it has a simple structure, has no moving parts, and can be easily miniaturized, while the disk type centrifuge is preferred because it is easy to obtain a high centrifugal force and can stably remove fine water droplets.
吸着分離法は、（Ｗ）成分と、（Ｗ）成分以外の成分（（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分等）との親水性（疎水性）の違いを利用して分離する方法である。具体的には、油分吸着又は水分吸着フィルターによる油水分離や、吸水性ポリマー等の有機物による油水分離、活性炭や珪藻土などの無機物による油水分離等を単独又は複数を組み合わせて、（Ｗ）成分と、（Ｗ）成分以外の成分とを分離する。 The adsorption separation method is a method of separating component (W) by utilizing the difference in hydrophilicity (hydrophobicity) between the component (W) and components other than the component (W) (component (A), component (B), component (C), etc.). Specifically, the component (W) is separated from components other than the component (W) by using oil- or water-adsorption filters, oil- and water-adsorption filters using organic substances such as water-absorbent polymers, or inorganic substances such as activated carbon or diatomaceous earth, either alone or in combination.
気化除去法は、（Ｗ）成分を気化させることにより、（Ｗ）成分と、（Ｗ）成分以外の成分（（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分等）とを分離する方法である。具体的には、減圧、加温、気液接触、超音波照射などから単独又は複数を組み合わせて行い、水を気化させて排出し、（Ｗ）成分と、（Ｗ）成分以外の成分とを分離する。 The vaporization removal method is a method for separating the (W) component from components other than the (W) component (component (A), (B), (C), etc.) by vaporizing the (W) component. Specifically, the water is vaporized and discharged by one or a combination of the following methods: reducing pressure, heating, gas-liquid contact, and ultrasonic irradiation, and the like, and the (W) component is separated from the components other than the (W) component.
なお、本実施形態の洗浄方法において、上述したすすぎ工程と排出工程とは同一の槽で行ってもよい。但し、この場合は、すすぎ工程と排出工程とを行う槽の構造において、すすぎ工程に用いる物理力が、排出工程に影響を与えにくい構造にする必要がある。例えば、該槽の一部で超音波照射を行いすすぎ工程を行いながら、該槽の他の一部では超音波を当たりにくくし、（Ｗ）成分の除去、すなわち、すすぎ液中の（Ｗ）成分の合一を妨げにくい構造とするものが挙げられる。 In the cleaning method of this embodiment, the rinsing step and the discharge step described above may be performed in the same tank. In this case, however, the structure of the tank in which the rinsing step and the discharge step are performed must be such that the physical force used in the rinsing step is unlikely to affect the discharge step. For example, one example is a tank in which ultrasonic waves are irradiated in one part of the tank to perform the rinsing step, while other parts of the tank are made less susceptible to ultrasonic waves, resulting in a structure that is less likely to hinder the removal of the (W) component, i.e., the coalescence of the (W) component in the rinse liquid.
なお、本実施形態の洗浄方法は、上述した洗浄工程、すすぎ工程及び排出工程に加えて、被洗浄物を乾燥する仕上げ工程を有することが好ましい。 In addition to the above-mentioned cleaning, rinsing and discharging steps, the cleaning method of this embodiment preferably includes a finishing step of drying the object to be cleaned.
［仕上げ工程］
仕上げ工程は、すすぎ工程を行った後の被洗浄物を乾燥する工程である。乾燥方法としては、特に限定されず、温風、吸引及び減圧により乾燥する方法が挙げられる。また、加熱できない金属部品を乾燥する場合には、部品を回転させる液切り乾燥、高圧エアーでのブロー乾燥、ハロゲン系溶剤などの低沸点溶剤での置換乾燥を行うこともできる。
[Finishing process]
The finishing process is a process of drying the object to be washed after the rinsing process. The drying method is not particularly limited, and includes drying by hot air, suction, and reduced pressure. In addition, when drying metal parts that cannot be heated, it is also possible to perform liquid drainage drying by rotating the parts, blow drying with high-pressure air, and replacement drying with a low-boiling point solvent such as a halogen-based solvent.
以上説明した本実施形態の洗浄方法は、上述した洗浄剤組成物が用いられているため、ステンレスの深絞り加工等の金属加工によって生じる、該金属表面に焼き付いた汚れ等の難洗浄性の汚れを洗浄することができる。 The cleaning method of the present embodiment described above uses the above-mentioned cleaning agent composition, and is therefore capable of cleaning difficult-to-clean stains, such as stains that are baked onto the metal surface and are generated by metal processing such as deep drawing of stainless steel.
以下、本発明の効果を実施例及び比較例を用いて詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。 The effects of the present invention will be described in detail below using examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.
＜洗浄剤組成物の製造＞
表１及び表２に示す各成分を混合し、各例の洗浄剤組成物を調製した。
なお、該洗浄剤組成物が（Ｗ）成分を含有する場合は、（Ｗ）成分以外の成分を均一に撹拌混合した後、（Ｗ）成分を加え、超音波洗浄機（２８ｋＨｚ、１００Ｗ、３０分）を用いて超音波照射を行い、洗浄剤組成物を製造した。
<Production of cleaning composition>
The components shown in Tables 1 and 2 were mixed to prepare cleaning compositions of each example.
When the cleaning composition contained the component (W), the components other than the component (W) were mixed uniformly by stirring, and then the component (W) was added thereto. The mixture was then irradiated with ultrasonic waves using an ultrasonic cleaner (28 kHz, 100 W, 30 minutes) to produce the cleaning composition.
［清浄度の評価］
２種類のプレス加工油（商品名：Ｇ－７５１ＭＳ、日本工作油株式会社製、及び商品名：ハングスターファー オールドローＪ－１、日興キャスティ株式会社製）を用いて、ステンレス板（ＳＵＳ３０４）を深絞り加工し、プレス加工油がステンレス表面に焼き付いたものを被洗浄物とした。なお、洗浄を行う前の被洗浄物は図１に示す通りである。
該被洗浄物を各例の洗浄剤組成物に浸漬し、超音波洗浄器（商品名：Ｗ－１１３、本多電子社製）を用いて、４５ｋＨｚ、室温（２７℃）で１０分間洗浄した。次いで、洗浄後の被洗浄物を該洗浄剤組成物から（Ｗ）成分を除いた洗浄剤組成物に浸漬し、上記と同じ超音波洗浄器を用いて、４５ｋＨｚ、室温（２７℃）で１０分間すすぎ洗浄した。さらに、すすぎ洗浄後の被洗浄物をｎ－デカンに浸漬し、上記と同じ超音波洗浄器を用いて、２８ｋＨｚ、室温（２７℃）で１０分間すすぎ洗浄した。次いで、すすぎ洗浄を行った被洗浄物を８０℃で６０分間乾燥した。乾燥後の被洗浄物を目視で観察し、以下の基準で評価した。また、下記の評価基準の参考図を図１に示す。
Ａ：被洗浄物の表面に汚れが観察されない
Ｂ：被洗浄物の表面に汚れが多少観察される
Ｃ：被洗浄物の表面に多くの汚れが観察される
[Evaluation of cleanliness]
Using two types of press processing oil (product name: G-751MS, manufactured by Nippon Kogyo Oil Co., Ltd., and product name: Hangsterfer All Draw J-1, manufactured by Nikko Casting Co., Ltd.), a stainless steel plate (SUS304) was deep drawn, and the press processing oil was baked onto the stainless steel surface to form the object to be cleaned. The object to be cleaned before cleaning is as shown in Figure 1.
The object to be cleaned was immersed in the cleaning composition of each example, and cleaned for 10 minutes at 45 kHz and room temperature (27° C.) using an ultrasonic cleaner (product name: W-113, manufactured by Honda Electronics Co., Ltd.). Next, the object to be cleaned after cleaning was immersed in a cleaning composition obtained by removing the (W) component from the cleaning composition, and rinsed for 10 minutes at 45 kHz and room temperature (27° C.) using the same ultrasonic cleaner as above. Furthermore, the object to be cleaned after rinsing was immersed in n-decane, and rinsed for 10 minutes at 28 kHz and room temperature (27° C.) using the same ultrasonic cleaner as above. Next, the object to be cleaned after rinsing was dried at 80° C. for 60 minutes. The object to be cleaned after drying was visually observed and evaluated according to the following criteria. A reference diagram for the following evaluation criteria is also shown in FIG. 1.
A: No dirt is observed on the surface of the object to be cleaned. B: Some dirt is observed on the surface of the object to be cleaned. C: A lot of dirt is observed on the surface of the object to be cleaned.
表１中、各略号はそれぞれ以下の意味を有する。［ ］内の数値は洗浄剤組成物全量１００質量％に対する含有量（質量％）である。 In Table 1, the abbreviations have the following meanings. The numbers in brackets [ ] are the contents (% by mass) relative to 100% by mass of the total amount of the cleaning composition.
（Ａ）－１：ノルマルデカン
（Ａ）－２：ノルマルドデカン
（Ｂ１）－１：ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド
（Ｂ２）－１：牛脂トリメチレンジアミンジオレイン酸塩
(A)-1: normal decane (A)-2: normal dodecane (B1)-1: coconut oil fatty acid diethanolamide (B2)-1: beef tallow trimethylenediamine dioleate
（Ｃ）－１：コハク酸ジメチル、グルタミン酸ジメチル、及びアジピン酸ジメチルの混合物（商品名：４１４ソルベント、大伸化学社製）
（Ｃ）－２：マロン酸ジエチル
（Ｃ）－３：コハク酸ジメチル
（Ｗ）－１：蒸留水
(C)-1: A mixture of dimethyl succinate, dimethyl glutamate, and dimethyl adipate (product name: 414 Solvent, manufactured by Taishin Chemical Industry Co., Ltd.)
(C)-2: Diethyl malonate (C)-3: Dimethyl succinate (W)-1: Distilled water
（Ｓ）－１：エチレングリコールモノヘキシルエーテル
（Ｓ）－２：プロピレングリコールモノブチルエーテル
(S)-1: Ethylene glycol monohexyl ether (S)-2: Propylene glycol monobutyl ether
Ａｄｄ－１：ソルビタンセスキオレアート
Ａｄｄ－２：ポリオキシエチレン（２０）ソルビタントリステアレート
Ａｄｄ－３：ソルビタントリオレアート
Ａｄｄ－４：ポリオキシエチレン（２０）ソルビタントリオレエート
Add-1: Sorbitan sesquioleate Add-2: Polyoxyethylene (20) sorbitan tristearate Add-3: Sorbitan trioleate Add-4: Polyoxyethylene (20) sorbitan trioleate
表１及び２に示すように、実施例の洗浄剤組成物は、ステンレスの深絞り加工によって生じる、該ステンレス表面に焼き付いた汚れの洗浄性が非常に高いことが確認できる。 As shown in Tables 1 and 2, it can be confirmed that the cleaning compositions of the examples have extremely high cleaning properties for stains that are baked onto the stainless steel surface and are generated by deep drawing of the stainless steel.
Claims (6)
前記炭化水素系溶剤（Ａ）は、炭素原子数７～２２の脂肪族飽和炭化水素系溶剤を含み、
前記界面活性剤（Ｂ）は、脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）及びＮ－アルキルトリメチレンジアミン脂肪酸塩（Ｂ２）を含み、
前記エステル化合物（Ｃ）は、下記一般式（Ｃ－１）で表される化合物（Ｃ１）を含み、
前記炭化水素系溶剤（Ａ）の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、１０質量％以上９０質量％以下であり、
前記脂肪酸アルカノールアミド（Ｂ１）の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、０．１質量％以上１０質量％以下であり、
前記Ｎ－アルキルトリメチレンジアミン脂肪酸塩（Ｂ２）の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、０．０１質量％以上５質量％以下であり、
前記エステル化合物（Ｃ）の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、５質量％以上３０質量％以下であり、
前記水（Ｗ）の含有量は、洗浄剤組成物全量１００質量％に対して、５質量％以上３０質量％以下である、洗浄剤組成物。
The hydrocarbon solvent (A) contains an aliphatic saturated hydrocarbon solvent having 7 to 22 carbon atoms,
The surfactant (B) contains a fatty acid alkanolamide (B1) and an N-alkyltrimethylenediamine fatty acid salt (B2),
The ester compound (C) includes a compound (C1) represented by the following general formula (C-1):
The content of the hydrocarbon solvent (A) is 10% by mass or more and 90% by mass or less, based on 100% by mass of the total amount of the cleaning agent composition,
the content of the fatty acid alkanolamide (B1) is 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, based on 100% by mass of the total amount of the detergent composition;
the content of the N-alkyltrimethylenediamine fatty acid salt (B2) is 0.01% by mass or more and 5% by mass or less, based on 100% by mass of the total amount of the detergent composition;
the content of the ester compound (C) is 5% by mass or more and 30% by mass or less, based on 100% by mass of the total amount of the cleaning agent composition;
a content of the water (W) in the cleaning agent composition is 5% by mass or more and 30% by mass or less, relative to 100% by mass of a total amount of the cleaning agent composition.
前記洗浄剤組成物が付着した被洗浄物を、前記炭化水素系溶剤（Ａ）、前記界面活性剤（Ｂ）及び前記エステル化合物（Ｃ）を含有するすすぎ液、前記炭化水素系溶剤（Ａ）及び前記エステル化合物（Ｃ）からなるすすぎ液、又は、前記炭化水素系溶剤（Ａ）からなるすすぎ液ですすぐすすぎ工程と、
前記すすぎ工程において、前記洗浄剤組成物中の水（Ｗ）が混入したすすぎ液から、少なくとも一部の水（Ｗ）を系外に排出する排出工程とを有する、洗浄方法。 A cleaning step of cleaning an object to be cleaned with the cleaning composition according to any one of claims 1 to 5 ;
a rinsing step of rinsing the object to be cleaned, to which the cleaning agent composition is attached, with a rinsing liquid containing the hydrocarbon solvent (A), the surfactant (B), and the ester compound (C), a rinsing liquid consisting of the hydrocarbon solvent (A) and the ester compound (C), or a rinsing liquid consisting of the hydrocarbon solvent (A);
and a discharging step of discharging at least a part of the water (W) from the rinsing liquid having the water (W) in the cleaning agent composition mixed therein, to the outside of the system in the rinsing step.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019236218A JP7506975B2 (en) | 2019-12-26 | 2019-12-26 | Cleaning composition and cleaning method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019236218A JP7506975B2 (en) | 2019-12-26 | 2019-12-26 | Cleaning composition and cleaning method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021105097A JP2021105097A (en) | 2021-07-26 |
| JP7506975B2 true JP7506975B2 (en) | 2024-06-27 |
Family
ID=76918598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019236218A Active JP7506975B2 (en) | 2019-12-26 | 2019-12-26 | Cleaning composition and cleaning method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7506975B2 (en) |
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| JP2017031326A (en) | 2015-07-31 | 2017-02-09 | Ｊｘエネルギー株式会社 | Method for evaluating detergency of w/o microemulsion-type detergent, cleaning method by w/o microemulsion-type detergent, and method for forming film |
| JP2017179287A (en) | 2016-03-31 | 2017-10-05 | Ｊｘｔｇエネルギー株式会社 | Detergent composition |
| WO2019009142A1 (en) | 2017-07-05 | 2019-01-10 | Ｊｘｔｇエネルギー株式会社 | W/o emulsion detergent composition, washing method using w/o emulsion detergent composition, and production method for w/o emulsion detergent composition |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0459985A (en) * | 1990-06-29 | 1992-02-26 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Detergent for degreasing |
| JPH08231993A (en) * | 1995-02-24 | 1996-09-10 | Lion Corp | Detergent composition |
-
2019
- 2019-12-26 JP JP2019236218A patent/JP7506975B2/en active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005048000A (en) | 2003-07-31 | 2005-02-24 | Sanyo Chem Ind Ltd | Detergent |
| JP2015074777A (en) | 2013-10-11 | 2015-04-20 | Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 | Detergent liquid composition |
| JP2017031326A (en) | 2015-07-31 | 2017-02-09 | Ｊｘエネルギー株式会社 | Method for evaluating detergency of w/o microemulsion-type detergent, cleaning method by w/o microemulsion-type detergent, and method for forming film |
| JP2017179287A (en) | 2016-03-31 | 2017-10-05 | Ｊｘｔｇエネルギー株式会社 | Detergent composition |
| WO2019009142A1 (en) | 2017-07-05 | 2019-01-10 | Ｊｘｔｇエネルギー株式会社 | W/o emulsion detergent composition, washing method using w/o emulsion detergent composition, and production method for w/o emulsion detergent composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2021105097A (en) | 2021-07-26 |
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